JP2017069362A - 窒化物半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
A−1.半導体装置の構成
図1は、第1実施形態における半導体装置10の構成を模式的に示す断面図である。図1には、相互に直交するXYZ軸が図示されている。半導体装置10は、窒化物半導体層120を備える窒化物半導体装置である。
図2は、半導体装置10の製造方法を示す工程図である。半導体装置10を製造する際には、製造者は、工程P110において、エピタキシャル成長によって基板110の上に窒化物半導体層120を形成する。本実施形態では、製造者は、有機金属気相成長法(MOCVD:Metal Organic Chemical Vapor Deposition)を実現するMOCVD装置を用いたエピタキシャル成長によって、基板110上に窒化物半導体層120を形成する。
図8は、第2実施形態における半導体装置10Aの製造方法を示す工程図である。第1実施形態における半導体装置10の製造方法(図2参照)と比較して、第2実施形態における半導体装置10Aの製造方法は、熱処理工程(P135A)を第2の膜形成工程(工程P130)と異なる装置で行う点が異なるが、それ以外は同じである。つまり、第1実施形態における半導体装置10の製造方法(図2参照)と比較して、第2実施形態における半導体装置10Aの製造方法は、イオン注入工程(P120)の後の工程から、第3の膜形成工程(P145)より前の工程までが異なるが、それ以外は同じである。
本発明は、上述の実施形態や実施例、変形例に限られるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲において種々の構成で実現することができる。例えば、発明の概要の欄に記載した各形態中の技術的特徴に対応する実施形態、実施例、変形例中の技術的特徴は、上述の課題の一部または全部を解決するために、あるいは、上述の効果の一部または全部を達成するために、適宜、差し替えや、組み合わせを行うことが可能である。また、その技術的特徴が本明細書中に必須なものとして説明されていなければ、適宜、削除することが可能である。
10A…半導体装置
110…基板
120…窒化物半導体層
125…P型半導体領域
130…第1の膜
140…第2の膜
140A…第2の膜
150…第3の膜
Claims (14)
- 窒化物半導体層の上に第1の膜を形成する第1の膜形成工程と、
前記第1の膜を介して前記窒化物半導体層にP型不純物をイオン注入するイオン注入工程と、
前記イオン注入工程の後、前記第1の膜の上に第2の膜を形成する第2の膜形成工程と、
前記第2の膜形成工程の後、前記窒化物半導体層を熱処理する熱処理工程と、
を備える、窒化物半導体装置の製造方法。 - 請求項1に記載の窒化物半導体装置の製造方法であって、
前記第1の膜の厚みは1nmから100nmである、窒化物半導体装置の製造方法。 - 請求項1または請求項2に記載の窒化物半導体装置の製造方法であって、
前記第2の膜は、有機金属気相成長法によって300℃以上800℃以下で形成される、窒化物半導体装置の製造方法。 - 請求項1から請求項3までのいずれか1項に記載の窒化物半導体装置の製造方法であって、
前記P型不純物は、マグネシウムまたはベリリウムである、窒化物半導体装置の製造方法。 - 請求項1から請求項4までのいずれか1項に記載の窒化物半導体装置の製造方法であって、
前記熱処理は、900℃以上1600℃以下で行なわれる、窒化物半導体装置の製造方法。 - 請求項1から請求項5までのいずれか1項に記載の窒化物半導体装置の製造方法であって、
前記第1の膜は、アルミニウムとインジウムとの少なくとも一つを含む窒化物半導体により形成されている、窒化物半導体装置の製造方法。 - 請求項1から請求項6までのいずれか1項に記載の窒化物半導体装置の製造方法であって、
前記第2の膜は、窒化物半導体により形成されている、窒化物半導体装置の製造方法。 - 請求項1から請求項7までのいずれか1項に記載の窒化物半導体装置の製造方法であって、
前記第2の膜は、アルミニウムとインジウムとの少なくとも一つを含む窒化物半導体により形成されている、窒化物半導体装置の製造方法。 - 請求項1から請求項8までのいずれか1項に記載の窒化物半導体装置の製造方法であって、
前記第2の膜形成工程と、前記熱処理工程とは、同一の装置内にて行なわれる、窒化物半導体装置の製造方法。 - 請求項1から請求項9までのいずれか1項に記載の窒化物半導体装置の製造方法であって、
前記第1の膜は、実質的にケイ素を含まない、窒化物半導体装置の製造方法。 - 請求項1から請求項10までのいずれか1項に記載の窒化物半導体装置の製造方法であって、
前記熱処理工程は、アンモニアを含む雰囲気下において900℃以上1200℃以下で行なわれる、窒化物半導体装置の製造方法。 - 請求項1から請求項11までのいずれか1項に記載の窒化物半導体装置の製造方法であって、
前記第2の膜は、ケイ素を含む、窒化物半導体装置の製造方法。 - 請求項1から請求項12までのいずれか1項に記載の窒化物半導体装置の製造方法であって、さらに、
前記熱処理工程の後、前記第1の膜と前記第2の膜とを除去する膜除去工程を備える、窒化物半導体装置の製造方法。 - 請求項13に記載の窒化物半導体装置の製造方法であって、
前記膜除去工程は、ウェットエッチングを行う工程を含む、窒化物半導体装置の製造方法。
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