JP2017066297A - プリプレグ及び配線板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】配線板を製造するためにコア材に重ねられる際に、コア材における導体配線の密度のばらつきに起因する厚み精度の悪化を抑制できると共に、導体配線の線間の隙間における樹脂組成物の充填性を向上させうるプリプレグを提供する。
【解決手段】本発明に係るプリプレグ1は、織布製の基材2と、前記基材2に含浸している樹脂組成物3とを備える。基材2の開口率は3〜35%の範囲内である。昇温速度0.5〜8℃/分の範囲内、周波数0.5Hzの条件の動的粘弾性試験で測定される、前記樹脂組成物3の粘度が、90〜180℃の範囲内のあらゆる温度において104〜107Pa・sの範囲内である。
【選択図】図1
【解決手段】本発明に係るプリプレグ1は、織布製の基材2と、前記基材2に含浸している樹脂組成物3とを備える。基材2の開口率は3〜35%の範囲内である。昇温速度0.5〜8℃/分の範囲内、周波数0.5Hzの条件の動的粘弾性試験で測定される、前記樹脂組成物3の粘度が、90〜180℃の範囲内のあらゆる温度において104〜107Pa・sの範囲内である。
【選択図】図1
Description
本発明は、プリプレグ及びこのプリプレグを用いた配線板の製造方法に関する。
電子機器の小型化及び薄型化に伴い、電子機器に備えられる電子部品として、表面実装型パッケージが用いられることが多くなってきている。このようなパッケージとしては、具体的には、COB(Chip On Board)等の、半導体チップを基板上に実装したパッケージが挙げられる。
さらに、電子機器を多機能化するためには、電子機器に搭載される電子部品の数を増加する必要がある。この要求を満たすために、複数のサブパッケージを積層して基板上に実装して、更にパッケージ化するパッケージ・オン・パッケージ(Package on Package:PoP)というパッケージの形態が採用されている。例えば、スマートフォンやタブレットコンピュータ等の携帯端末装置等に、このPoPが多く採用されている。
これらのパッケージを作製するために用いられる配線板は、例えば絶縁層及び導体配線を備えるコア材、プリプレグ等を積層することで、積層体を作製し、この積層体を加熱プレスする工程を含む方法で製造される。
加熱プレスの際には、導体配線における線間の隙間にプリプレグ中の樹脂組成物が十分に充填されるためには、加熱プレスの際の樹脂組成物の流動性が高いこと、並びにプリプレグにおける樹脂組成物の量が多いことが、必要とされている。
しかし、単にプリプレグ中の樹脂組成物の流動性が高く、或いは単にプリプレグ中の樹脂組成物の量が多いだけでは、配線板の厚み精度は十分に向上され得ない。これは、プレス成形時にはプリプレグの中央部よりも外周部の方が樹脂組成物が流動しやすいために、配線板の中央部よりも外周部の方が薄くなりやすいからである。これによる配線板の厚み精度の悪化は、配線板が多層化するほど顕著になって、配線板の加工精度のばらつき及び品質のばらつきを招き、配線板内に厚みの変化による場所ごとの性能の相違が生じるおそれがある。また、配線板への電子部品実装にも悪影響がおよんでしまう。さらに、配線板の製造時の歩留まり悪化も招いてしまう。さらに、近年、回路の信頼性及びその寸法精度への要求が一層厳しくなっており、配線板の厚み精度の、信号速度の精度やインピーダンスへの影響が、大きくなることが懸念される。
一方、プリプレグ中の樹脂組成物の流動性を低下させ、或いはプリプレグ中の樹脂組成物の量を少なくすると、配線板の厚み精度は改善される。しかし、この場合、導体配線における線間の隙間への樹脂組成物の充填性が悪くなり、線間の隙間に空隙(ボイド)が生じやすくなる。
そこで、配線板における良好な充填性と良好な厚み精度とを両立させるため、例えば特許文献1に開示されているように、プリプレグに対して中心部分が最も低温で周端部分にいくにしたがって高温となる予備熱処理を施すことで、プリプレグの周端部と中央部とで樹脂組成物の流動性を異ならせることが提案されている。
しかし、上記特許文献1に記載されている技術では、プリプレグの製造時に煩雑な予備熱処理が必要となってしまう。さらに、予備熱処理に起因してプリプレグ内の樹脂組成物の硬化の度合いが部分的に異なるため、配線板内の硬化の程度を均一にすることが困難であり、このため配線板内での品質のばらつきが生じるおそれがあった。
さらに、発明者は、コア材における導体配線の密度のばらつきに起因する配線板の厚み精度の悪化についても着目した。導体配線に密度のばらつきがあると、導体配線の密度が高い部分では厚みが大きくなり、導体配線の密度が低い部分では厚みが薄くなるという、配線板内の厚みのばらつきが生じやすくなる。このような導体配線の密度のばらつきに起因する厚み精度の悪化は、特許文献1に記載されている技術では十分に抑制できない。
本発明は上記事由に鑑みてなされたものであり、配線板を製造するためにコア材に重ねられる際に、コア材における導体配線の密度のばらつきに起因する厚み精度の悪化を抑制できるとともに、導体配線の線間の隙間における樹脂組成物の充填性を向上させうるプリプレグ、及びこのプリプレグを用いた配線板の製造方法を提供することを目的とする。
本発明に係るプリプレグは、織布製の基材と、前記基材に含浸している樹脂組成物とを備え、前記基材の開口率が3〜35%の範囲内であり、昇温速度6℃/分、周波数0.5Hzの条件の動的粘弾性試験で測定される、前記樹脂組成物の粘度が、90〜180℃の範囲内のあらゆる温度において104〜107Pa・sの範囲内である。
本発明に係る配線板の製造方法は、絶縁層及び前記絶縁層上にある導体配線を備えるコア材と、前記プリプレグとを、前記プリプレグが前記導体配線を覆うように積層して、前記コア材と前記プリプレグとを含む積層体を作製するステップと、前記積層体を加熱プレスするステップとを含む。
本発明によれば、配線板を製造するためにプリプレグをコア材に重ねる際に、コア材における導体配線の密度のばらつきに起因する厚み精度の悪化を抑制できるとともに、導体配線の線間の隙間における樹脂組成物の充填性を向上させることができる。
以下、本発明の実施の形態を説明する。
本実施形態は、プリプレグ1及びこのプリプレグ1を用いた配線板10の製造方法に関し、特に導体配線7を内装する配線板10を製造するために好適なプリプレグ1、並びにこのプリプレグ1から作製された、導体配線7を内装する配線板10に関する。
本実施形態に係るプリプレグ1は、図1Aに示すように、織布製の基材2と、基材2に含浸している樹脂組成物3とを備える。基材2の開口率は3〜35%の範囲内である。樹脂組成物3の粘度は、90〜180℃の範囲内のあらゆる温度において104〜107Pa・sの範囲内である。この樹脂組成物3の粘度は、周波数0.5Hz、昇温速度6℃/分の条件での動的粘弾性試験で測定される。特に、動的粘弾性試験における周波数が0.5Hz、昇温速度が0.5〜8℃/分の範囲内のいかなる値であっても、樹脂組成物3の粘度が、90〜180℃の範囲内のあらゆる温度において104〜107Pa・sの範囲内であることが好ましい。
本実施形態に係るプリプレグ1を用いると、配線板10を製造するためにプリプレグ1をコア材5に重ねて加熱プレスする際に、コア材5における導体配線7の密度のばらつきに起因する配線板10の厚みのばらつきが抑制される。さらに、配線板10に、中央部よりも外周部の方が薄くなるという厚みのばらつきも抑制される。これにより、配線板10の厚み精度が向上する。さらに、導体配線7の線間の隙間における樹脂組成物3の充填性を向上させうる。
より詳しくは、基材2の開口率が3%以上であることで、プリプレグ1内の樹脂組成物3が基材2を通り抜けやすくなるため、プリプレグ1内での樹脂組成物3の流動が阻害されにくくなる。このため、配線板10の製造のためにプリプレグ1とコア材5とを加熱プレスする際、導体配線7の線間の隙間に樹脂組成物3が流れ込みやすくなり、この隙間における樹脂組成物3の良好な充填性が確保できる。さらに、樹脂組成物3の流動がコア材5における導体配線7の密度のばらつきによる影響を受けにくくなって、導体配線7の密度のばらつきによる厚みの変化が生じにくくなり、厚み精度が向上する。また、基材2の開口率が35%以下であることで、プリプレグ1から作製される絶縁層にスルーホール、ビアホール等のための孔あけ加工を施す場合の良好な加工精度を確保できる。また樹脂組成物3の粘度が90〜180℃の範囲内のあらゆる温度において104Pa・s以上であることで、樹脂組成物3の過度な流動を抑えられ、配線板10の外周部において樹脂組成物3が外部に流出することが抑制され、外周部の厚みが薄くなることが抑制されて、厚み精度が更に向上する。また樹脂組成物3の粘度が90〜180℃の範囲内のあらゆる温度において107Pa・s以下であることで、樹脂組成物3の適度な流動性が確保され、導体配線7の線間の隙間における樹脂組成物3の充填性が特に高くなる。
特に、動的粘弾性試験における周波数が0.5Hz、昇温速度が0.5〜8℃/分の範囲内のいかなる値であっても、樹脂組成物3の粘度が、90〜180℃の範囲内のあらゆる温度において104〜107Pa・sの範囲内であれば、配線板10を製造する際のプリプレグの昇温速度が速く、或いは遅くても、厚み精度の向上及び充填性の向上の効果が得られる。
本実施形態に係るプリプレグ1について、更に詳しく説明する。
上述の通り、基材2は織布製である。基材2は、例えばガラスクロス、アラミドクロス又はポリエステルクロスである。特に基材2がガラスクロスであると、優れた機械的強度を有する配線板10が得られる。
基材2は、織布製であるため、開口43を備える。例えば図1Bに示すように、基材2は縦糸41、横糸42、並びに縦糸41と横糸42で囲まれた開口43を備え、この開口43はバスケットホールともよばれる。上記の通り、基材2の開口率は3〜35%の範囲内である。基材2の開口率は、基材2をその厚み方向に見た場合の、基材2の面積に対する基材2中の開口43の総面積の百分比である。基材2の開口率が10〜25%の範囲内であれば特に好ましい。
基材2の厚みは例えば10〜100μmの範囲内である。基材2の厚みが10μm以上であることによって、基材2の強度の低下を抑制することができる。基材2の厚みが100μm以下であることによって、配線板10の薄型化を実現しやすくなる。
樹脂組成物3は、例えば硬化性化合物を含有する。硬化性化合物とは、硬化反応によって高分子量化する化合物である。硬化性化合物は、モノマー、ダイマー等の低分子量の化合物であっても、オリゴマー、ポリマー等の高分子量の化合物であってもよい。
硬化性化合物は、例えばエポキシ樹脂、フェノール樹脂、イミド樹脂、シアネートエステル樹脂、ビニルエステル樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂及びメラミン−尿素共縮合樹脂からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有できる。硬化性化合物は、特にエポキシ樹脂、フェノール樹脂、イミド樹脂、シアネートエステル樹脂、及びビニルエステル樹脂からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有することが好ましい。
エポキシ樹脂は、例えばナフタレン型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、アルキルフェノールノボラック型エポキシ樹脂、アラルキル型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、フェノール類とフェノール性水酸基を有する芳香族アルデヒドとの縮合物のエポキシ化物、トリグリシジルイソシアヌレート及び脂環式エポキシ樹脂からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有できるが、これに限られない。
フェノール樹脂は、例えばフェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール付加型樹脂、フェノールアラルキル樹脂、クレゾールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、ビフェニル変性フェノールアラルキル樹脂、フェノールトリメチロールメタン樹脂、テトラフェニロールエタン樹脂、ナフトールノボラック樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック樹脂、ビフェニル変性フェノール樹脂及びアミノトリアジン変性フェノール樹脂からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有できるが、これに限られない。
イミド樹脂は、例えばポリアミドイミド樹脂及びポリマレイミド樹脂のうち少なくとも一方を含有できる。より具体的には、イミド樹脂は、例えばフェニルメタンマレイミド、ビスアリルナジイミド、マレイン酸N,N−エチレンビスイミド、マレイン酸N,N−ヘキサメチレンビスイミド、マレイン酸N,N−メタフェニレンビスイミド、マレイン酸N,N−パラフェニレンビスイミド、マレイン酸N,N−4,4−ジフェニルメタンビスイミド、マレイン酸N,N−4,4−ジフェニルエーテルビスイミド、マレイン酸N,N−4,4−ジフェニルスルホンビスイミド、マレイン酸N,N−4,4−ジシクロヘキシルメタンビスイミド、マレイン酸N,N−α,α−4,4−ジメチレンシクロヘキサンビスイミド、マレイン酸N,N−4,4−メタキシリレンビスイミド及びマレイン酸N,N−4,4−ジフェニルシクロヘキサンビスイミドからなる群から選択される少なくとも一種の成分から合成される。
シアネートエステル樹脂は、例えばビス(4−シアナトフェニル)エタン、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジメチル−4−シアナトフェニル)メタン、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、α,α’−ビス(4−シアナトフェニル)−m−ジイソプロピルベンゼン及びフェノール付加ジシクロペンタジエン重合体のシアネートエステル化物からなる群から選択される少なくとも一種の成分から合成される。
ビニルエステル樹脂は、例えばエポキシ樹脂に、不飽和一塩基酸、例えば、アクリル酸又はメタクリル酸を反応させることで合成される。
樹脂組成物3は、硬化性化合物と反応する硬化剤を含有してもよい。硬化剤は、例えばジシアンジアミド、フェノール系硬化剤、酸無水物系硬化剤、アミノトリアジンノボラック系硬化剤及びシアネート樹脂からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有する。
特に、硬化性化合物がエポキシ樹脂を含有する場合、硬化剤は例えば第1アミン、第2アミンなどのジアミン系硬化剤、フェノール系硬化剤、酸無水物系硬化剤、ジシアンジアミド及びポリフェニレンエーテル(PPE)からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有できる。特に硬化剤がフェノール系硬化剤を含有することが好ましい。フェノール系硬化剤は、例えばノボラック型フェノール樹脂、ナフタレン型フェノール樹脂、クレゾールノボラック樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール付加型樹脂、フェノールアラルキル樹脂、クレゾールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、ビフェニル変性フェノールアラルキル樹脂、フェノールトリメチロールメタン樹脂、テトラフェニロールエタン樹脂、ナフトールノボラック樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック樹脂、ビフェニル変性フェノール樹脂、アミノトリアジン変性フェノール樹脂、ビフェノール、グリオキザールテトラフェノール樹脂、ビスフェノールAノボラック樹脂及びビスフェノールFノボラック樹脂からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有できる。
硬化性化合物がシアネートエステル樹脂を含有する場合、硬化剤は金属系反応触媒類を含有することが好ましい。硬化性化合物がイミド樹脂を含有する場合、硬化剤がポリアミン等の架橋剤を含有することが好ましい。
硬化剤の量は、硬化性化合物と硬化剤の種類に応じて、樹脂組成物3が良好な硬化特性を有するように適宜調整される。例えば樹脂組成物3がエポキシ樹脂と水酸基を有する硬化剤とを含有する場合、エポキシ樹脂と硬化剤との当量比は0.8:1.2〜1.2:0.8の範囲内であることが好ましい。
樹脂組成物3は、無機充填材を含有してもよい。無機充填材は、例えば球状シリカ、硫酸バリウム、酸化ケイ素粉、破砕シリカ、焼成タルク、チタン酸バリウム、酸化チタン、クレー、アルミナ、マイカ、ベーマイト、ホウ酸亜鉛及びスズ酸亜鉛、並びに前記以外の各種金属酸化物及び金属水和物からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有できる。樹脂組成物3が無機充填材を含有すると、プリプレグ1から作製される配線板10の寸法安定性が高められる。無機充填材の含有量は、樹脂組成物3全量に対して80質量%以下であることが好ましく、20〜80質量%の範囲内であれば特に好ましい。
樹脂組成物3は上記以外の成分を含有していてもよい。例えば樹脂組成物3は硬化促進剤を含有してもよい。硬化促進剤は、例えばイミダゾール類及びその誘導体、有機リン系化合物、オクタン酸亜鉛等の金属石鹸類、第二級アミン類、第三級アミン類、並びに第四級アンモニウム塩からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有できる。
樹脂組成物3は、光安定剤、粘度調整剤、難燃剤等を含有していてもよい。
プリプレグ1を製造するためには、例えばまず樹脂組成物3の成分を含有する樹脂ワニスを調製する。樹脂ワニスは、例えば樹脂組成物3の成分と有機溶媒とを含有する。有機溶媒は、例えばアセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤、及びジメチルホルムアミド等の窒素含有溶剤からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有できる。
樹脂ワニスの調製の際には、例えばまず樹脂組成物3の成分のうち有機溶媒に溶解可能な成分と有機溶媒とを、必要に応じて加熱しながら混合して、混合物を得る。続いて、樹脂組成物3の成分のうち有機溶媒に不溶な無機充填材等の成分を混合物に加えてから、ボールミル、ビーズミル、プラネタリーミキサー、ロールミル等で無機充填材等を混合物中に分散させる。これにより、樹脂ワニスが得られる。
次に、樹脂ワニスを基材2に含浸させる。これは、浸漬法、塗布法等の適宜の方法で行われる。
続いて、樹脂ワニスを加熱することで、樹脂ワニスを半硬化状の樹脂組成物3にすることが好ましい。加熱条件は、例えば120〜190℃で3〜15分間であるが、これに限定されない。
これにより、基材2と基材2に含浸した樹脂組成物3とを備えるプリプレグ1が得られる。
プリプレグ1における樹脂組成物3の粘度は、上述の通り、90〜180℃の範囲内のあらゆる温度において、104〜107Pa・sの範囲内である。この樹脂組成物3の粘度は、樹脂組成物3の組成、樹脂ワニスを加熱して樹脂組成物3を得る際の加熱条件などを適宜調整することによって、達成できる。具体的には、例えば樹脂ワニスを加熱する際の昇温速度を上げることで樹脂組成物3の粘度を低めることができ、昇温速度を下げることで樹脂組成物3の粘度を高めることができる。
プリプレグ1全体の厚さは20〜150μmの範囲内であることが好ましい。また、プリプレグ1の樹脂量は、45〜85質量%の範囲内であることが好ましい。樹脂量が45質量%以上であれば良好な成形性を確保でき、樹脂量が85質量%以下であると配線板10の厚み精度が特に高くなる。なお、樹脂量は、プリプレグ1全体の質量に対するプリプレグ1中の樹脂組成物3の百分比である。
本実施形態に係るプリプレグ1から配線板10を作製する場合、絶縁層6及び絶縁層6上にある導体配線7を備えるコア材5と、本実施形態に係るプリプレグ1とを、プリプレグ1が導体配線7を覆うように積層して、コア材5とプリプレグ1とを含む積層体9を作製し、この積層体9を加熱プレスすることで、導体配線7を内装する配線板10を作製する。
本実施形態に係るプリプレグ1から製造される配線板10に関する第一態様を、図2A及び図2Bを参照して説明する。
第一態様では、まず本実施形態に係る二つのプリプレグ1(以下、第一態様においては第一プリプレグ11及び第二プリプレグ12という)、二つの金属箔8(以下、第一態様においては第一金属箔81及び第二金属箔82という)及びコア材5を用意する。
コア材5は、絶縁層6(以下、第一態様においては第一絶縁層61という)と第一絶縁層61上の導体配線7(以下、第一態様においては第一導体配線71という)とを備える。第一態様では、コア材5は更にもう一つの導体配線7(以下、第一態様においては第二導体配線72という)を備え、コア材5は第一導体配線71、第一絶縁層61及び第二導体配線72がこの順番に積層した構造を有する。第一絶縁層61は電気絶縁性を有する。第一絶縁層61は例えばガラス基材エポキシ樹脂プリプレグから作製される。第一絶縁層61の厚みは例えば0.02〜3.0mmの範囲内である。第一導体配線71及び第二導体配線72の各々は例えば銅製である。第一導体配線71及び第二導体配線72の各々の厚みは例えば2〜210μmの範囲内である。コア材5は、例えば両面金属張積層板における両面の金属箔をエッチング処理などでパターニングすることで作製される。
第一金属箔81と第二金属箔82の各々は例えば銅箔である。第一金属箔81と第二金属箔82の各々の厚みは、例えば12〜1000μmの範囲内である。
図2Aに示すように、第一金属箔81、第一プリプレグ11、コア材5、第二プリプレグ12及び第二金属箔82を、この順番に積層して、積層体9を作製する。この積層体9において、コア材5の第一導体配線71と第一金属箔81とは第一プリプレグ11を介して対向し、コア材5の第二導体配線72と第二金属箔82とは第二プリプレグ12を介して対向している。これにより、第一プリプレグ11はコア材5の第一導体配線71を覆っており、第二プリプレグ12はコア材5の第二導体配線72を覆っている。
なお、第一態様において、積層体9は、第一プリプレグ11と第一金属箔81との間に介在する少なくとも一つのプリプレグを更に含んでもよい。このプリプレグは本実施形態に係るプリプレグ1であることが好ましいが、そうでなくてもよい。また、積層体9は、第二プリプレグ12と第二金属箔82との間に介在する少なくとも一つのプリプレグを更に含んでもよい。このプリプレグも本実施形態に係るプリプレグ1であることが好ましいが、そうでなくてもよい。
この積層体9を加熱プレスすることによって、配線板10を作製する。加熱プレスにおける加熱温度は150〜280℃の範囲内、プレス圧は0.98〜4.90MPa(10Kgf/cm2〜50Kgf/cm2)の範囲内、処理時間は30〜180分の範囲内であることが好ましい。この加熱プレスにより第一プリプレグ11及び第二プリプレグ12が熱硬化することで、コア材5と第一金属箔81との間に介在する絶縁層6(以下、第一態様においては第二絶縁層62という)及びコア材5と第二金属箔82との間に介在する絶縁層6(以下、第一態様においては第三絶縁層63という)が形成される。
加熱プレスにより第二絶縁層62が形成される過程では、第一プリプレグ11内で、まず樹脂組成物3が軟化して第一導体配線71の線間の隙間に充填される。このとき、第一プリプレグ11中の基材2の開口率が3%以上であるため、第一プリプレグ11内での基材2の開口43を通じた樹脂組成物3の移動が促進される。このため、第一プリプレグ11内で樹脂組成物3が流動しやすくなり、第一導体配線71の線間の隙間に樹脂組成物3が十分に充填されやすくなる。さらに、第一導体配線71の密度のばらつきがあっても、それに起因する第二絶縁層62の厚み精度の悪化が抑制される。さらに、樹脂組成物3の粘度が90〜180℃の範囲内のあらゆる温度において104Pa・s以上であるため、軟化した樹脂組成物3の過度な流動が抑制される。このため、第二絶縁層62に、中央部の厚みよりも外周部の厚みの方が薄くなるような、厚み精度の悪化は生じにくくなる。このため、第一態様では、コア材5における第一導体配線71の密度のばらつきがあっても、厚み精度の悪化を抑制できるとともに、第一導体配線71の線間の隙間における樹脂組成物3の充填性を向上させることができる。なお、この場合の樹脂組成物3の充填性は、第二絶縁層62の充填性ともいえる。
上記と同じ理由により、第一態様では、コア材5における第二導体配線72の密度のばらつきがあっても、厚み精度の悪化を抑制できるとともに、第二導体配線72の線間の隙間における樹脂組成物3の充填性を向上させることができる。なお、この場合の樹脂組成物3の充填性は、第三絶縁層63の充填性ともいえる。
以上のようにして、図2Bに示すように、第一金属箔81、第二絶縁層62、第一導体配線71、第一絶縁層61、第二導体配線72、第三絶縁層63及び第二金属箔82が、この順番に積層した構造を有する配線板10が得られる。この配線板10の第一金属箔81及び第二金属箔82のうち少なくとも一方をサブトラクティブ法等でパターニングすることで、導体配線を形成してもよい。
本実施形態に係るプリプレグ1から製造される配線板10に関する第二態様を、図3A及び図3Bを参照して説明する。
第二態様では、まず本実施形態に係る二つのプリプレグ1(以下、第二態様においては第一プリプレグ101及び第二プリプレグ102という)及び二つのコア材5(以下、第二態様においては第一コア材501及び第二コア材502という)を用意する。
第一コア材501は、絶縁層6(以下、第二態様においては第一絶縁層601という)と第一絶縁層601上の導体配線7(以下、第二態様においては第一導体配線701という)とを備える。第二態様では、第一コア材501は更に金属層80(以下、第二態様においては第一金属層801という)を備え、第一コア材501は第一導体配線701、第一絶縁層601及び第一金属層801がこの順番に積層した構造を有する。第一絶縁層601は電気絶縁性を有する。第一絶縁層601は例えばガラス基材エポキシ樹脂プリプレグから作製される。第一絶縁層601の厚みは例えば0.02〜3.0mmの範囲内である。第一導体配線701は例えば銅製である。第一導体配線701の厚みは例えば2〜210μmの範囲内である。第一金属層801は例えば銅箔等の金属箔である。第一金属層801の厚みは例えば2〜210μmの範囲内である。第一コア材501は、例えば両面金属張積層板における片方の金属箔をエッチング処理などでパターニングすることで作製される。
第二コア材502は、絶縁層6(以下、第二態様においては第二絶縁層602という)と第二絶縁層602上の導体配線7(以下、第二態様においては第二導体配線702という)とを備える。第二態様では、第二コア材502は更に金属層80(以下、第二態様においては第二金属層802という)を備え、第一コア材501は第二導体配線702、第二絶縁層602及び第二金属層802がこの順番に積層した構造を有する。第二コア材502は、例えば第一コア材501と同じ構造を有する。
図3Aに示すように、第一コア材501、第一プリプレグ101、第二プリプレグ102及び第二コア材502を、この順番に積層して、積層体9を作製する。この積層体9において、第一コア材501の第一導体配線701と第二コア材502の第二導体配線702は第一プリプレグ101及び第二プリプレグ102を介して対向し、第一プリプレグ101は第一コア材501の第一導体配線701を覆っており、第二プリプレグ102は第二コア材502の第二導体配線702を覆っている。
なお、第二態様において、積層体9は、第一プリプレグ101と第二プリプレグ102との間に介在する少なくとも一つのプリプレグを更に含んでもよい。このプリプレグは本実施形態に係るプリプレグ1であることが好ましいが、そうでなくてもよい。
この積層体9を加熱プレスすることによって、配線板10を作製する。加熱プレスの条件は、第一態様と同じでよい。この加熱プレスにより第一プリプレグ101及び第二プリプレグ102が熱硬化することで、第一コア材501と第二コア材502との間に介在する絶縁層6(以下、第二態様においては第三絶縁層603という)が形成される。
加熱プレスにより第三絶縁層603が形成される過程では、第一態様の場合と同様に、第一プリプレグ101内及び第二プリプレグ102内で樹脂組成物3が流動しやすくなり、第一導体配線701の線間の隙間及び第二導体配線702の線間の隙間に樹脂組成物3が十分に充填されやすくなる。さらに、第一導体配線701及び第二導体配線702の密度のばらつきがあっても、それに起因する第三絶縁層603の厚み精度の悪化が抑制される。さらに、軟化した樹脂組成物3の過度な流動が抑制されるため、第三絶縁層603に、中央部の厚みよりも外周部の厚みの方が薄くなるような、厚み精度の悪化は生じにくくなる。このため、第二態様では、第一導体配線701及び第二導体配線702の密度のばらつきがあっても、厚み精度の悪化を抑制できるとともに、第一導体配線701の線間の隙間及び第二導体配線702の線間の隙間における樹脂組成物3の充填性を向上させることができる。なお、樹脂組成物3の充填性は、第三絶縁層603の充填性ともいえる。
以上のようにして、図3Aに示すように、第一金属層801、第一絶縁層601、第一導体配線701、第三絶縁層603、第二導体配線702、第二絶縁層602及び第二金属層802が、この順番に積層した構造を有する配線板10が得られる。この配線板10の第一金属層801及び第二金属層802のうち少なくとも一方にサブトラクティブ法等でパターニングすることで、導体配線を形成してもよい。
以下、本発明を実施例によって具体的に説明する。
(1)プリプレグの作製
次のようにして実施例及び比較例に係るプリプレグを作製した。
次のようにして実施例及び比較例に係るプリプレグを作製した。
まず、硬化剤とトルエンとを、硬化剤の濃度が50質量%になるように混合してから、80℃まで加熱することで、混合液を得た。この混合液にエポキシ樹脂を加えてから30分間攪拌することによって完全に溶解させた。続いて混合液に硬化促進剤及び無機充填材を加え、ボールミルを用いて分散させることによって、樹脂ワニスを得た。樹脂ワニス中の硬化剤、エポキシ樹脂、無機充填材及び硬化促進剤の割合は、表1〜3に示す通りである。また、表1〜3に示す成分の詳細は次の通りである。
・硬化剤:ポリフェニレンエーテル、SABICイノベーティブプラスチックス社製、品番SA90、数平均分子量1500、一分子あたりの水酸基数1.9個、水酸基当量790g/eq。
・エポキシ樹脂:ナフタレン型エポキシ樹脂、DIC株式会社製、品番HP6000、エポキシ当量250g/eq。
・無機充填材:エポキシシランによる表面処理が施された平均粒径0.5μmの球状シリカ、株式会社アドマテック製、品番SC2500−SEJ。
・硬化促進剤1:2−エチル−4−イミダゾール、四国化成工業株式会社製、2E4MZ。
・硬化促進剤2:オクタン酸亜鉛:DIC株式会社製、品番Zn−OCTOATE。
・硬化剤:ポリフェニレンエーテル、SABICイノベーティブプラスチックス社製、品番SA90、数平均分子量1500、一分子あたりの水酸基数1.9個、水酸基当量790g/eq。
・エポキシ樹脂:ナフタレン型エポキシ樹脂、DIC株式会社製、品番HP6000、エポキシ当量250g/eq。
・無機充填材:エポキシシランによる表面処理が施された平均粒径0.5μmの球状シリカ、株式会社アドマテック製、品番SC2500−SEJ。
・硬化促進剤1:2−エチル−4−イミダゾール、四国化成工業株式会社製、2E4MZ。
・硬化促進剤2:オクタン酸亜鉛:DIC株式会社製、品番Zn−OCTOATE。
基材としては、日東紡績株式会社製のガラスクロスを用意した。基材のIPC規格及び開口率は表1〜3に示す通りである。
基材に樹脂ワニスを含浸させてから130℃で3分間加熱することで、プリプレグを得た。このプリプレグの厚み及び樹脂量は表1〜3に示す通りである。
また、プリプレグ中の樹脂組成物の一部をサンプルとして採取し、このサンプルの粘度を、昇温速度6℃/分、周波数0.5Hzの条件の動的粘弾性試験で測定した。試験装置としては、株式会社ユービーエム製の型番Rheosol−G3000を用いた。これにより得られた90℃、120℃、150℃及び180℃でのサンプルの粘度、並びに90〜180℃の範囲内におけるサンプルの最低粘度の測定結果を表1〜3に示す。
(2)配線板の作製
厚み35μmの二つの銅箔(古河電気工業株式会社製GT−MP)を用意し、一方の銅箔、各実施例及び比較例に係る3枚のプリプレグ及び他方の銅箔をこの順番に積層して積層体を得た。この積層体を真空条件下、加熱温度220℃、プレス圧3.9MPa(40kgf/cm2)の条件で120分加熱プレスすることで、平面視寸法340mm×510mm、厚み0.18mmの両面銅張積層板を得た。
厚み35μmの二つの銅箔(古河電気工業株式会社製GT−MP)を用意し、一方の銅箔、各実施例及び比較例に係る3枚のプリプレグ及び他方の銅箔をこの順番に積層して積層体を得た。この積層体を真空条件下、加熱温度220℃、プレス圧3.9MPa(40kgf/cm2)の条件で120分加熱プレスすることで、平面視寸法340mm×510mm、厚み0.18mmの両面銅張積層板を得た。
両面銅張積層板における二つの銅箔の各々にエッチング処理を施すことでパターニングした。これにより第一導体配線、絶縁層及び第二導体配線がこの順に積層した構造を有するコア材を得た。コア材の第一導体配線側の面と第二導体配線側の面の各々には、残銅率が20%である二つの領域R20、残銅率が50%である二つの領域R50、及び残銅率が90%である二つの領域R90を、図4に示す位置関係で形成した。なお、残銅率とは、コア材を厚み方向に見た場合の、コア材の面積に対する導体配線の面積の百分比である。
厚み35μmの二つの銅箔(古河電気工業株式会社製GT−MP)及び各実施例及び比較例に係る2枚のプリプレグを用意し、銅箔、プリプレグ、コア材、プリプレグ及び銅箔を、この順番に積層して、積層体を作製した。
この積層体を、真空条件下、温度220℃、プレス圧3.9MPa(40kgf/cm2)の条件で120分加熱プレスすることで、配線板を作製した。
(3)評価試験
(3−1)厚み精度評価
配線板からその両面の金属箔をエッチング処理により全て除去することで評価用のサンプルを得た。このサンプルの厚みを、サンプルの対角線に沿って1.5cm間隔で並ぶ748箇所の各位置で、クイックビジョン法で測定した。これにより得られた748個の測定値のうち最大値と最小値との差を、厚み精度の指標として、表1〜3に示す。
(3−1)厚み精度評価
配線板からその両面の金属箔をエッチング処理により全て除去することで評価用のサンプルを得た。このサンプルの厚みを、サンプルの対角線に沿って1.5cm間隔で並ぶ748箇所の各位置で、クイックビジョン法で測定した。これにより得られた748個の測定値のうち最大値と最小値との差を、厚み精度の指標として、表1〜3に示す。
(3−2)成形性評価
配線板からその両面の金属箔をエッチング処理により全て除去することで評価用のサンプルを得た。このサンプルを目視で観察することで、ボイド及びカスレの有無を確認した。その結果、ボイド及びカスレが認められない場合を「良」、ボイド及びカスレのうち少なくとも一方が認められた場合を「不良」と評価し、これを表1〜3に示す。
配線板からその両面の金属箔をエッチング処理により全て除去することで評価用のサンプルを得た。このサンプルを目視で観察することで、ボイド及びカスレの有無を確認した。その結果、ボイド及びカスレが認められない場合を「良」、ボイド及びカスレのうち少なくとも一方が認められた場合を「不良」と評価し、これを表1〜3に示す。
1 プリプレグ
2 基材
3 樹脂組成物
5 コア材
6 絶縁層
7 導体配線
9 積層体
10 配線板
2 基材
3 樹脂組成物
5 コア材
6 絶縁層
7 導体配線
9 積層体
10 配線板
Claims (2)
- 織布製の基材と、前記基材に含浸している樹脂組成物とを備え、
前記基材の開口率が3〜35%の範囲内であり、
昇温速度6℃/分、周波数0.5Hzの条件の動的粘弾性試験で測定される、前記樹脂組成物の粘度が、90〜180℃の範囲内のあらゆる温度において104〜107Pa・sの範囲内であるプリプレグ。 - 絶縁層及び前記絶縁層上にある導体配線を備えるコア材と、請求項1に記載のプリプレグとを、前記プリプレグが前記導体配線を覆うように積層して、前記コア材と前記プリプレグとを含む積層体を作製するステップと、
前記積層体を加熱プレスするステップとを含む、
配線板の製造方法。
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JP2015194427A JP2017066297A (ja) | 2015-09-30 | 2015-09-30 | プリプレグ及び配線板の製造方法 |
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