JP2017055013A - デバイスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】実施形態のデバイスの製造方法は、第1の面と第2の面を有する基板の第2の面上に非金属膜を形成し、第2の面が露出するよう非金属膜の一部を除去し、第2の面上及び非金属膜上に非金属膜よりも膜厚の薄い金属膜を形成し、非金属膜が露出するよう非金属膜上の金属膜を除去し、第2の面が露出するよう非金属膜を金属膜に対して選択的に除去し、露出した第2の面に沿って基板を切断する。
【選択図】図5
Description
12 支持基板
14 フォトレジスト膜(非金属膜)
16 金属膜
18 樹脂シート
20 フレーム
Claims (5)
- 第1の面と第2の面を有する基板の前記第2の面上に非金属膜を形成し、
前記第2の面が露出するよう前記非金属膜の一部を除去し、
前記第2の面上及び前記非金属膜上に前記非金属膜よりも膜厚の薄い金属膜を形成し、
前記非金属膜が露出するよう前記非金属膜上の前記金属膜を除去し、
前記第2の面が露出するよう前記非金属膜を前記金属膜に対して選択的に除去し、
露出した前記第2の面に沿って前記基板を切断するデバイスの製造方法。 - 前記非金属膜は、樹脂膜、酸化膜、又は、炭素膜である請求項1記載のデバイスの製造方法。
- 前記金属膜の除去は、機械的加工で行われる請求項1又は請求項2記載のデバイスの製造方法。
- 前記基板の切断は、前記基板の前記第1の面側からプラズマエッチングで行われる請求項1乃至請求項3いずれか一項に記載のデバイスの製造方法。
- 前記基板の切断は、前記金属膜をマスクとして前記第2の面側からプラズマエッチングで行われる請求項1乃至請求項3いずれか一項記載のデバイスの製造方法。
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JP2018018980A (ja) * | 2016-07-28 | 2018-02-01 | 株式会社ディスコ | デバイスウエーハの加工方法 |
JP2019169704A (ja) * | 2018-02-23 | 2019-10-03 | セミコンダクター・コンポーネンツ・インダストリーズ・リミテッド・ライアビリティ・カンパニー | バックメタルを備えた半導体装置及び関連する方法 |
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2015
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