JP2017050389A - 酸化装置 - Google Patents
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Abstract
Description
密閉可能なチャンバと、
チャンバ内に水蒸気を供給する供給部と、
チャンバの底部上に回転可能に設けられ、表面と裏面とを備えたウエハを保持するウエハ保持部と、
ウエハ保持部を回転させる回転機構と、
ウエハ保持部とチャンバの底部との間に、ウエハとは非接触に配置された加熱部と、を含み、
ウエハ保持部は、開口部が設けられた上面部と、上面部をチャンバの底部上に支持する側壁部と、ウエハの裏面が露出するようにウエハを開口部内に保持する庇部とを含み、加熱部によりウエハが裏面から加熱されることを特徴とする酸化装置である。
半導体層に上下が挟まれた導電層を含む面発光レーザのメサ部が表面に形成されたウエハを準備する工程と、
ウエハをウエハ保持部の開口部内に保持する工程と、
供給部からチャンバ内に水蒸気を導入する工程と、
回転機構を用いてウエハ保持部を回転させる工程と、
加熱部を用いてウエハを裏面から加熱し、ウエハを熱酸化温度に保持して、導電層を周囲から酸化し、中央部に残された導電層と、その周囲に形成された酸化層からなる電流狭窄層を形成する工程と、
ウエハの温度を下げて、導電層の酸化を停止する停止工程と、を含む製造方法である。
12 チャンバ
14 内部
16 底部
20 ウエハ保持部
30 カバー部
32 モータ
36 回転機構
40 加熱部
62 ノズル
64 冷却ノズル
66 排気口
68 排吸気口
72 水蒸気
78 N2ガス
82 低温N2ガス
86 真空ポンプ
94 N2ガス
96 真空ポンプ
100 酸化装置
Claims (6)
- 面発光レーザの電流狭窄層を形成するための酸化装置であって、
密閉可能なチャンバと、
該チャンバ内に水蒸気を供給する供給部と、
該チャンバの底部上に回転可能に設けられ、表面と裏面とを備えたウエハを保持するウエハ保持部と、
該ウエハ保持部を回転させる回転機構と、
該ウエハ保持部と該チャンバの底部との間に、該ウエハとは非接触に配置された加熱部と、を含み、
該ウエハ保持部は、開口部が設けられた上面部と、該上面部を該チャンバの底部上に支持する側壁部と、該ウエハの裏面が露出するように該ウエハを該開口部内に保持する庇部とを含み、該加熱部により該ウエハが裏面から加熱されることを特徴とする酸化装置。 - 上記加熱部は、該加熱部と上記ウエハ保持部との間に設けられた、密閉可能なカバー部で覆われたことを特徴とする請求項1に記載の酸化装置。
- 上記庇部は、上記開口部の側面に沿って設けられ、該側面から内方に向かって延びた環状の突起であることを特徴とする請求項1または2に記載の酸化装置。
- 上記庇部の上に、上記ウエハの裏面と接触する複数のスペーサが設けられたことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の酸化装置。
- 上記庇部の上に、上記ウエハの裏面と接触する環状のスペーサが設けられたことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の酸化装置。
- 上記ウエハ保持部の上面部、上記カバー部、および上記スペーサの少なくとも1つは、石英からなることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の酸化装置。
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