JP2017049548A - 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、および電子写真装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】電子写真装置を高温多湿環境時で稼働した際に、発生する画像流れを解決する。
【解決手段】電子写真感光体が、連鎖重合性官能基を有する正孔輸送性化合物、及び、連鎖重合性官能基を有するウレア化合物を重合させて得られる重合物を含有する表面層を有する。
【選択図】なし
Description
本発明は電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び電子写真装置に関する。または、ウレア化合物、新規な縮合多環芳香族化合物に関する。
電子写真装置に搭載される電子写真感光体には、有機光導電性物質(電荷発生物質)を含有する有機電子写真感光体(以下、「電子写真感光体」という)があり、これまで幅広い検討がなされてきた。特に、電子写真感光体の長寿命化や高画質化を目的として、電子写真感光体の耐久性を向上させることが試みられている。
感光体の耐久性の向上には、磨耗や傷に対する機械的耐久性および帯電と除電の繰り返し使用に対する電位安定性の向上、放電生成物による画像流れの発生の抑制が挙げられる。そして、画像安定性に優れた電子写真感光体を得るために、機械的耐久性および電位安定性の向上と、画像流れの抑制とを両立した電子写真感光体が求められている。
特許文献1では、表面層に2つ以上の連鎖重合性官能基を有する電荷輸送性化合物を重合させて得られる重合物を含有させる技術が開示されている。この技術は、電子写真感光体の機械的耐久性(耐摩耗性)と電位安定性を向上させることができる。しかし、特許文献1に記載の耐摩耗性が高い電子写真感光体は、放電生成物(オゾン、窒素酸化物)が蓄積しやすいため、電荷輸送性化合物の構造によっては、高温高湿環境下において画像流れが発生する場合があった。
その要因としては、耐摩耗性が向上して、表面層が摩耗しにくくなることにより、表面層の表面がリフレッシュされにくくなり、表面に化学的な劣化が蓄積した為と思われる。
化学的な劣化とは、帯電、露光、現像、転写、クリーニングといった一連の電子写真プロセスによるストレスにより、正孔輸送性物質(正孔輸送性化合物)が化学的変化を起こす現象である。
画像流れを抑制する技術として、電子写真感光体に添加剤を含有させる方法が挙げられる。
その要因としては、耐摩耗性が向上して、表面層が摩耗しにくくなることにより、表面層の表面がリフレッシュされにくくなり、表面に化学的な劣化が蓄積した為と思われる。
化学的な劣化とは、帯電、露光、現像、転写、クリーニングといった一連の電子写真プロセスによるストレスにより、正孔輸送性物質(正孔輸送性化合物)が化学的変化を起こす現象である。
画像流れを抑制する技術として、電子写真感光体に添加剤を含有させる方法が挙げられる。
特許文献2には、尿素化合物を感光層に含有させることで、画像流れを改善する技術が開示されている。特許文献3には、重合性官能基を有する特定のフッ素原子含有モノマーを表面層に添加することによって、画像流れを改善する技術が開示されている。特許文献4〜6には、特定のアミン化合物を表面層に添加することにより、画像流れを改善する技術が開示されている。
特許文献2に記載の尿素化合物では、画像流れの抑制効果があるものの十分ではなく、さらに、電位安定性が低下しやすい。特許文献3〜6の添加剤を用いた技術は、電荷輸送性化合物の構造によっては、画像流れの抑制効果があるものの十分ではない。
したがって、本発明の目的は、耐摩耗性と電気特性を満足し、さらに、画像流れが改善した電子写真感光体、ならびに該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供することである。
したがって、本発明の目的は、耐摩耗性と電気特性を満足し、さらに、画像流れが改善した電子写真感光体、ならびに該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供することである。
本発明は、導電性支持体上に感光層を有する電子写真感光体において、
該電子写真感光体が、連鎖重合性官能基を有する正孔輸送性化合物、及び、連鎖重合性官能基を有するウレア化合物を重合させて得られる重合物を含有する表面層を有し、
該正孔輸送性化合物が、
炭素原子、水素原子およびハロゲン原子のみからなる化合物、または、
炭素原子、水素原子、酸素原子およびハロゲン原子のみからなる化合物であり、
該ウレア化合物が式(1)または(2)のいずれかで示されることを
特徴とする電子写真感光体である。
(式(1)および式(2)中、R1〜R5は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、ジアルキルアミノ基又はハロゲン原子を示す。X21〜X24、およびX41〜X46は、それぞれ独立に、アルキレン基を示す。P11〜P14、およびP31〜P36は、それぞれ独立に、水素原子、アクリロイルオキシ基、又はメタクリロイルオキシ基を示し、P11〜P14のうち少なくとも1つ、P31〜P36のうち少なくとも1つはアクリロイルオキシ基、又はメタクリロイルオキシ基である。a、b、gおよびhは、0〜5の整数を示し、iは0〜4の整数を示す。c、d、jおよびkは、0又は1を示す。)
該電子写真感光体が、連鎖重合性官能基を有する正孔輸送性化合物、及び、連鎖重合性官能基を有するウレア化合物を重合させて得られる重合物を含有する表面層を有し、
該正孔輸送性化合物が、
炭素原子、水素原子およびハロゲン原子のみからなる化合物、または、
炭素原子、水素原子、酸素原子およびハロゲン原子のみからなる化合物であり、
該ウレア化合物が式(1)または(2)のいずれかで示されることを
特徴とする電子写真感光体である。
以上説明したように、本発明によれば、耐摩耗性、電気特性および画像流れが改善した電子写真感光体、ならびに電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ、および電子写真装置を提供することができる。また、本発明によれば、化合物の化学的安定性の高い縮合多環芳香族化合物を提供することができる。さらに、オゾン、窒素酸化物(NOx)、硝酸などの活性物質による劣化を抑えるウレア化合物を提供することができる。
本発明者らは、鋭意検討の結果、上述の本発明に係る正孔輸送性物質の重合物、及び、ウレア化合物を重合させて得られる重合物を表面層に用いることで、耐摩耗性、電気特性を満足し、さらに画像流れを抑制する電子写真感光体を得られるという効果を見出した。
この理由としては、本発明に係る正孔輸送性物質は、アリールアミン構造を有していない、具体的には窒素原子を有していないため、化学的変化の受けやすさがアリールアミン化合物より低減されているからであると考えられる。
また他の理由としては、本発明に係るウレア化合物は式(1)および式(2)で示される化合物であり、ウレア部位にアリール基が隣接し、さらに、窒素原子に、アルキレン基、またはアルキル基を有する構造を有する。このような構造を有することにより、ウレア部位に隣接するアリール基が、放電生成物由来の硝酸と比較的短寿命のイオン対を形成しやすい。
式(1)および式(2)中、R1〜R5は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、ジアルキルアミノ基又はハロゲン原子を示す。X21〜X24、およびX41〜X46は、それぞれ独立に、アルキレン基を示す。P11〜P14、およびP31〜P36は、それぞれ独立に、水素原子、アクリロイルオキシ基、又はメタクリロイルオキシ基を示し、P11〜P14のうち少なくとも1つ、P31〜P36のうち少なくとも1つはアクリロイルオキシ基、又はメタクリロイルオキシ基である。a、b、gおよびhは、0〜5の整数を示し、iは0〜4の整数を示す。c、d、jおよびkは、0又は1を示す。
放電生成物由来の硝酸が本発明に係るウレア化合物に捕捉される為に、正孔輸送性物質の化学的変化が受けにくくなると思われる。
この理由としては、本発明に係る正孔輸送性物質は、アリールアミン構造を有していない、具体的には窒素原子を有していないため、化学的変化の受けやすさがアリールアミン化合物より低減されているからであると考えられる。
また他の理由としては、本発明に係るウレア化合物は式(1)および式(2)で示される化合物であり、ウレア部位にアリール基が隣接し、さらに、窒素原子に、アルキレン基、またはアルキル基を有する構造を有する。このような構造を有することにより、ウレア部位に隣接するアリール基が、放電生成物由来の硝酸と比較的短寿命のイオン対を形成しやすい。
放電生成物由来の硝酸が本発明に係るウレア化合物に捕捉される為に、正孔輸送性物質の化学的変化が受けにくくなると思われる。
また、本発明に係る正孔輸送性物質は、ハロゲン原子を含有する。ハロゲン原子を含有することにより、放電生成物等との相互作用が小さくなり、より化学的変化が抑制されると思われる。ハロゲン原子がフッ素原子の場合、炭素−フッ素結合エネルギーが高く、耐劣化性が優れることから正孔輸送性物質としての安定性が高くなるものと推測される。正孔輸送物質は、フッ素原子、またはフッ化アルキル基を有することが化学的変化の抑制効果が高く、好ましい。
また、本発明に係るウレア化合物の上述した構造(ウレア部位にアリール基が隣接し、さらに、窒素原子に、アルキレン基、またはアルキルを有する構造)は、重合(連鎖重合性)の重合阻害をすることが低減されている。したがって、本発明に係るウレア化合物のアクリロイルオキシ基、又はメタクリロイルオキシ基の部位と、連鎖重合性官能基を有する電荷輸送性化合物との共重合が効率よく進むことにより、重合度の高い重合物を形成することができると考えられる。
本発明に係る正孔輸送性物質は、正孔輸送能の観点から、連鎖重合性官能基以外の構造が、24個以上のsp2軌道を有する炭素原子(sp2炭素原子)を含む共役構造を有し、共役構造中に12個以上のsp2炭素原子を含む縮合多環構造を有することが好ましい。より好ましくは、sp2炭素原子を28個以上有する共役構造を有することである。共役構造とは、sp2炭素原子が連続して結合する構造を意味する。共役構造は分子内の電子の非局在化を促進し、分子間での電荷の授受を行い易くする性質を有する。本発明で述べる縮合多環構造とは、ベンゼン環のような環状構造が2個以上隣接する構造を意味する。
膜形成能、周辺材料との相溶性、膜強度などの観点から、sp2炭素原子の数は120個以下であることが好ましい。より好ましくは60個以下である。
よりよい正孔輸送能を発現するためには、1つの縮合多環構造を形成するsp2炭素原子の個数は、14個以上であることが好ましく、16個以上がさらに好ましい。
縮合多環構造を形成するsp2炭素原子の個数は、膜形成能、周辺材料との相溶性の観点から、20個以下が好ましく、より好ましくは18個以下である。
よりよい正孔輸送能を発現するためには、1つの縮合多環構造を形成するsp2炭素原子の個数は、14個以上であることが好ましく、16個以上がさらに好ましい。
縮合多環構造を形成するsp2炭素原子の個数は、膜形成能、周辺材料との相溶性の観点から、20個以下が好ましく、より好ましくは18個以下である。
縮合多環構造を形成する環構造に関しては、共役構造が平面的に広がることが好適である。したがって、平面構造を形成するため、縮合多環構造が5員環または6員環で構成されていることが好ましい。縮合多環構造を形成する環構造の数は、2環以上であるが、正孔輸送能をより発現するためには3環以上がより好ましい。
また、縮合多環構造を形成する環構造の数は、製膜性、分子のフレキシビリティーの観点から、6環以下で構成されることが好ましく、より好ましくは5環以下で構成されることが好ましい。さらに、3環もしくは4環から構成される縮合多環構造が最も好ましい。
また、縮合多環構造を形成する環構造の数は、製膜性、分子のフレキシビリティーの観点から、6環以下で構成されることが好ましく、より好ましくは5環以下で構成されることが好ましい。さらに、3環もしくは4環から構成される縮合多環構造が最も好ましい。
本発明に係る正孔輸送性物質は、縮合多環構造を部分構造として、1単位(1つ)以上有する。よりよい正孔輸送能を発現させるという観点から、縮合多環構造を2単位以上有することが好ましく、3単位以上有することがさらに好ましい。また、正孔輸送性物質1分子中の縮合多環構造は、好ましくは10単位以下、より好ましくは4単位以下である。
これら縮合多環構造を2つ以上有する場合、化学的変化に対する安定性の観点から、多環構造同士が単結合で結合(縮合多環構造同士が直結)している構造を有することが好ましい。
これら縮合多環構造を2つ以上有する場合、化学的変化に対する安定性の観点から、多環構造同士が単結合で結合(縮合多環構造同士が直結)している構造を有することが好ましい。
また、上記縮合多環構造は、フルオレン、アントラセン、フェナントレン、フルオランテン、またはピレンであると、正孔輸送能と画像流れ抑制効果が高く、好ましい。より好ましくは、フルオレン、アントラセンまたはピレンである。これらの多環構造は、置換基を有してもよい。
なお、本発明に係る正孔輸送性物質のsp2炭素原子の個数には、連鎖重合性官能基に含まれるsp2炭素原子を含めない。例えば、連鎖重合性官能基の一例であるアクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基の二重結合やカルボニル基に含まれるsp2炭素原子を含めない。また、連鎖重合性フェノール基に含まれるsp2炭素原子も含めない。
連鎖重合性官能基とは、連鎖重合性官能基を有する分子間で反応を起こした場合に、分子間を共有結合で結合することができる官能基を意味する。連鎖重合性官能基は、重合性官能基であることが好ましい。例えば、以下に示す連鎖重合性官能基が挙げられる。
表面層の耐摩耗性の観点から、連鎖重合性官能基はアクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基が好ましい。
また、正孔輸送性物質の一分子内あるいは分子間で異なる連鎖重合性官能基を有しても構わない。
連鎖重合性官能基を重合反応させる手段としては、紫外線、電子線、熱などのエネルギーを付与する手段、あるいは、重合開始剤などの補助剤、酸、アルカリ、錯体などの化合物を共存させる手段を用いることができる。
また、正孔輸送性物質の一分子内あるいは分子間で異なる連鎖重合性官能基を有しても構わない。
連鎖重合性官能基を重合反応させる手段としては、紫外線、電子線、熱などのエネルギーを付与する手段、あるいは、重合開始剤などの補助剤、酸、アルカリ、錯体などの化合物を共存させる手段を用いることができる。
本発明に係る正孔輸送性物質は、正孔輸送性物質の連鎖重合性官能基を水素原子に置き換えた化合物が式(3)で示される化合物であることが好ましい。
本発明に係る正孔輸送性物質の分子構造は、連鎖重合性官能基の構造と連鎖重合性官能基以外の構造に大別することができる。連鎖重合性官能基の構造とは、例えば前記に例示した連鎖重合性官能基の構造である。連鎖重合性官能基以外の構造とは、正孔輸送性物質の分子構造から連鎖重合性官能基の構造を差し引いた構造を意味する。ここで、単純に正孔輸送性物質の分子構造から連鎖重合性官能基の構造を差し引くと、連鎖重合性官能基と連鎖重合性官能基以外の構造との連結部において共有結合が余ることになる。この余った共有結合に水素原子を結合させた構造が、連鎖重合性官能基を水素原子に置き換えた式(3)で示される化合物を意味する。
式(3)のR11〜R16で示される基は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアラルキル基、または、置換もしくは無置換のアリール基である。R17は、置換もしくは無置換のアレーンから6個の水素原子を除いて導かれる基である。nは1〜10の整数である。nが2〜10のときは、式(3)中の式(4)で示される部分構造のそれぞれは、同一でも異なってもよい。
式(1)〜式(4)で示される化合物及び構造において、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
本発明に係る正孔輸送性物質の分子構造は、連鎖重合性官能基の構造と連鎖重合性官能基以外の構造に大別することができる。連鎖重合性官能基の構造とは、例えば前記に例示した連鎖重合性官能基の構造である。連鎖重合性官能基以外の構造とは、正孔輸送性物質の分子構造から連鎖重合性官能基の構造を差し引いた構造を意味する。ここで、単純に正孔輸送性物質の分子構造から連鎖重合性官能基の構造を差し引くと、連鎖重合性官能基と連鎖重合性官能基以外の構造との連結部において共有結合が余ることになる。この余った共有結合に水素原子を結合させた構造が、連鎖重合性官能基を水素原子に置き換えた式(3)で示される化合物を意味する。
式(1)〜式(4)で示される化合物及び構造において、アルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、シクロペンチル基、n−ヘキシル基、1−メチルペンチル基、4−メチル−2−ペンチル基、3,3−ジメチルブチル基、2−エチルブチル基、シクロヘキシル基、1−メチルヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、4−tert−ブチルシクロヘキシル基、n−ヘプチル基、シクロヘプチル基、n−オクチル基、シクロオクチル基、tert−オクチル基、1−メチルヘプチル基、2−エチルヘキシル基、2−プロピルペンチル基、n−ノニル基、2,2−ジメチルヘプチル基、2,6−ジメチル−4−ヘプチル基、3,5,5−トリメチルヘキシル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、1−メチルデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、1−ヘキシルヘプチル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基、n−エイコシル基等が挙げられる。
式(1)〜式(4)で示される化合物及び構造において、上記アルキル基が置換基としてハロゲン原子を有したハロゲン置換アルキル基としては、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3,2,2−ペンタフルオロプロピル基、ヘプタフルオロプロピル基、2,2,2−トリフルオロ−1,1−ジメチルエチル基、2,2,2−トリフルオロ−1,1−ビス(トリフルオロメチル)エチル基、4,4,4−トリフルオロブチル基、5,5,5−トリフルオロペンチル基、6,6,6−トリフルオロヘキシル基、6,6,6,5,5−ペンタフルオロヘキシル基、6,6,6,5,5,4,4−ヘプタフルオロヘキシル基、6,6,6,5,5,4,4,3,3−ノナフルオロヘキシル基等、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、2,2,2−トリクロロエチル基、ペンタクロロエチル基、3,3,3−トリクロロプロピル基、3,3,3,2,2−ペンタクロロプロピル基、3,3,3−トリフルオロ−2−クロロプロピル基等、ヘプタクロロプロピル基、2,2,2−トリクロロ−1,1−ジメチルエチル基、2,2,2−トリクロロ−1,1−ビス(トリフルオロメチル)エチル基、4,4,4−トリクロロブチル基、5,5,5−トリクロロペンチル基、6,6,6−トリクロロヘキシル基等、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、2−ヨードエチル基、3−ヨードプロピル基、4−ヨードブチル基等が挙げられる。これらの中でも、フッ素原子を置換基として有するフッ化アルキル基が好ましい。
式(1)〜式(4)で示される化合物及び構造において、アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基等が挙げられる。
式(1)〜式(4)で示される化合物及び構造において、上記アルコキシ基が置換基としてハロゲン原子を有したハロゲン置換アルコキシ基としては、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2−フルオロエトキシ基、2,2−ジフルオロエトキシシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、3,3,3−トリフルオロプロポキシ基、4,4,4−トリフルオロブトキシ基、5,5,5−トリフルオロペンチルオキシ基、5,5,5,4,4−ペンタフルオロペンチルオキシ基等が挙げられる。
式(3)および式(4)で示される化合物及び構造において、アラルキル基としては、ベンゼン、ビフェニル、ナフタレン、フルオレン、アントラセン、フェナントレン、フルオランテン、ピレン、トリフェニレン、テトラセン、クリセン、ペンタセン、アセナフテン、アセナフチレン、ペリレン、コラニュレン、コロネン等のアリール化合物にメチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、へキシレン、ヘプチレン、オクチレン等のアルキレン基が置換した基であり、例えば、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、α,α−ジメチルベンジル基、1−ナフチルメチル基、2−ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基、フェナントレニルメチル基、ピレニルメチル基、フルフリル基、2−メチルベンジル基、3−メチルベンジル基、4−メチルベンジル基、4−エチルベンジル基、4−イソプロピルベンジル基、4−tert−ブチルベンジル基、4−n−ヘキシルベンジル基、4−n−ノニルベンジル基、3,4−ジメチルベンジル基、3−メトキシベンジル基、4−メトキシベンジル基、4−エトキシベンジル基、4−n−ブトキシベンジル基、4−n−ヘキシルオキシベンジル基、4−n−ノニルオキシベンジル基などが挙げられる。
式(3)および式(4)で示される化合物及び構造において、上記アラルキル基が、置換基としてハロゲン原子を有したハロゲン置換アラルキル基とは、上記アラルキル基の1または2以上の水素原子が、同じまたはそれぞれ異なったフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子で置換された基である。例えば、2,2−ジフルオロ−2−フェネチル基、2,2,1,1−テトラフルオロ−2−フェネチル基、3,3−ジフルオロ−3−フェニルプロピル基、4,4−ジフルオロ−4−フェニルブチル基などが挙げられる。
式(3)および式(4)で示される化合物及び構造において、アリール基としては、フェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基、フルオレニル基、アントラセニル基、フェナントレニル基、フルオランテニル基、ピレニル基、トリフェニレニル基、テトラセンから誘導される1価の基、クリセンから誘導される1価の基、ペンタセンから誘導される1価の基、アセナフテンから誘導される1価の基、アセナフチレニル基、ペリレンから誘導される1価の基、コラニュレンから誘導される1価の基、コロネンから誘導される1価の基等が挙げられる。さらに、アリール基は、これら共役構造を有する多環構造が直接、または炭素−炭素二重結合もしくは二以上の炭素−炭素二重結合が連続した基を介して連なった構造の化合物であってもよい。前記アリール基は、可能な位置にフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン置換基を有しても良い。
式(3)および式(4)で示される化合物及び構造において、R17は、置換もしくは無置換のアレーンから6個の水素原子を除いで導かれる基を示す。R17中の前記アレーンの構造としては、ベンゼン構造をはじめとしてさらに複数の環が連なった構造のアレーンを適用することができる。それらアレーン構造の中でも上記でも述べたとおり共役構造を有し、平面構造を有する縮合多環構造が好適である。アレーンの構造としては、ベンゼン構造、ナフタレン構造、フルオレン構造、アントラセン構造、フェナントレン構造、フルオランテン構造、ピレン構造、トリフェニレン構造、テトラセン構造、クリセン構造、ペンタセン構造、アセナフテン構造、アセナフチレン構造、ペリレン構造、コラニュレン構造、コロネン構造等が好ましい。さらに、これらアレーン同士が直接、または炭素−炭素二重結合もしくは二以上の炭素−炭素二重結合が連続した基を介して連なった構造でもよい。これらの中でも、特にフルオレン構造、アントラセン構造、フェナントレン構造、フルオランテン構造、ピレン構造が好適である。前記アレーンも、置換基として、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン置換基を有しても良い。
式(3)のnは、1〜10の整数を表す。正孔輸送能の観点からは、共役系が広がっていることが好ましく、nは適度な範囲であることが好ましい。具体的には、nは1以上6以下が好ましく、さらには1以上4以下の範囲が好ましい。分子量としての好適な値は、分子量300以上3000以下の化合物であることが好ましい。この範囲内であると、分子内の共役が広がり、正孔輸送能が向上する。
また、nが2以上の場合、R17が連なった構造をとる。このとき、R17のアレーン構造はアレーン構造同士で直接結合していてもよいし、炭素原子を介して結合していてもよい。アレーン構造同士で直接結合していることが好ましい。
また、nが2以上の場合、R17が連なった構造をとる。このとき、R17のアレーン構造はアレーン構造同士で直接結合していてもよいし、炭素原子を介して結合していてもよい。アレーン構造同士で直接結合していることが好ましい。
前記R11〜R17のうち少なくとも1つは縮合多環構造であることが好ましく、さらに好ましくは2つ以上が縮合多環構造であることが好ましい。
nが2〜10のときは、式(3)中の式(4)で示される部分構造は、同一でも異なってもよい。
R11〜R17が有してもよい置換基として、ハロゲン原子、直鎖状または分岐状のアルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシアルキル基が挙げられる。
化学的安定性の高い縮合多環芳香族化合物としては、アクリロイルオキシ基、またはメタクリロイルオキシ基を有する縮合多環芳香族化合物が挙げられる。さらに好ましくは、縮合多環芳香族化合物が、炭素原子、水素原子およびハロゲン原子のみからなる化合物、または、炭素原子、水素原子、酸素原子およびハロゲン原子のみからなる化合物である。
本発明に係る正孔輸送性物質において、上記の置換基を適宜選択することでsp3炭素原子を適度な割合で存在させてもよい。
本発明に係る正孔輸送性物質の化合物例(No.1〜No.104)を以下に示す。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。下記の例示化合物の連鎖重合性官能基は、上述の連鎖重合性官能基のいずれかに置き換えられてもよい。置換基についても同様に上述の置換基に書き換えてもよい。
本発明に用いられる正孔輸送性物質の代表的な合成例を以下に示す。
反応式(1)で示される反応により前記化合物No.45の合成を行った。反応出発物質であるジヒドロキシ化合物8部と、テトラヒドロフラン84部及びトリエチルアミン3.1部を三つ口フラスコに投入し混合物を溶解させた後、混合物を氷水で冷却した。次に、塩化アクリルの2.3部を5℃以下に冷却した状態で温度上昇に注意しながらゆっくり滴下した。滴下終了後、反応混合物を内部温度が50℃になるまで徐々に昇温させ、30分間反応を続けた。
反応終了後、反応混合物に10%水酸化ナトリウム水溶液72部を加えた。その混合物に対し、酢酸エチルを70部添加し、有機層を分液して生成物を抽出した。さらに2回、酢酸エチル70部で抽出操作を行った。得られた有機層を、純水70部で3回程度水洗浄操作を行った。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムを用いて脱水を行い、硫酸マグネシウムをろ過して除去した後、有機層を濃縮し粗生成物を得た。
得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで不純物を除去し、目的物を含有するフラクションを収集した。得られた混合溶液から溶媒を除去し、目的とする化合物No.45(反応式(1)の右側の化合物)を精製し、収量=7.1部、収率=78%で得た。
反応式(1)
反応式(1)で示される反応により前記化合物No.45の合成を行った。反応出発物質であるジヒドロキシ化合物8部と、テトラヒドロフラン84部及びトリエチルアミン3.1部を三つ口フラスコに投入し混合物を溶解させた後、混合物を氷水で冷却した。次に、塩化アクリルの2.3部を5℃以下に冷却した状態で温度上昇に注意しながらゆっくり滴下した。滴下終了後、反応混合物を内部温度が50℃になるまで徐々に昇温させ、30分間反応を続けた。
反応終了後、反応混合物に10%水酸化ナトリウム水溶液72部を加えた。その混合物に対し、酢酸エチルを70部添加し、有機層を分液して生成物を抽出した。さらに2回、酢酸エチル70部で抽出操作を行った。得られた有機層を、純水70部で3回程度水洗浄操作を行った。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムを用いて脱水を行い、硫酸マグネシウムをろ過して除去した後、有機層を濃縮し粗生成物を得た。
得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで不純物を除去し、目的物を含有するフラクションを収集した。得られた混合溶液から溶媒を除去し、目的とする化合物No.45(反応式(1)の右側の化合物)を精製し、収量=7.1部、収率=78%で得た。
反応式(1)
本発明の電子写真感光体の表面層は、本発明に係る連鎖重合性官能基を有する正孔輸送性物質と、連鎖重合性官能基を有し正孔輸送性構造を有さない化合物とを含む組成物の重合物を含有することができる。得られた重合物の機械的強度をさらに向上することができる。より好ましくは、本発明に係る正孔輸送性物質が連鎖重合性官能基を1個以上有し、正孔輸送性構造を有さない化合物が連鎖重合性官能基を2個以上有する。
連鎖重合性官能基を有し正孔輸送性を有さない化合物が有する連鎖重合性官能基は、上述の反応性官能基でも良い。好ましくは、スチリル基、ビニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等のラジカル重合性の官能基が好ましい。さらに好ましくは、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基のラジカル重合性反応基であることが好ましい。
以下で述べる、官能基数の1官能とは、連鎖重合性官能基を1つ有することを意味する。
連鎖重合性官能基を有し正孔輸送性構造を有さない化合物としては以下のようなものがあげられる。以下は連鎖重合性官能基として、アクリロイルオキシ基を有する反応性官能基の例を示す。
連鎖重合性官能基を有し正孔輸送性構造を有さない化合物としては以下のようなものがあげられる。以下は連鎖重合性官能基として、アクリロイルオキシ基を有する反応性官能基の例を示す。
1官能の重合性モノマーとして、例えばエチルアクリレート、n−プロピルアクリレート、n−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、エトキシ−ジエチレングリコールアクリレート、イソアミルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、エトキシ化o−フェニルフェノールアクリレート、等があげられる。2官能の重合性モノマーとして、1,4−ブタンジオールアクリレート、1,5−ペンタンジオールジアクリレート、3−メチル−1,5−ペンタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールアクリレート、1,9−ノナンジオールジアクリレート、1,10−デカンジオールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、等があげられる。3官能の重合性モノマーとしては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート、等があげられる。4官能の重合性モノマーとしては、例えばペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジメチロールプロパンテトラアクリレート、等があげられる。6官能の重合性モノマーとしては、例えばジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、等があげられる。
上述のとおり、アクリレートモノマーをあげたが、必要に応じてアクリロイルオキシ基をメタクリロイルオキシ基、またはそれ以外の連鎖重合性官能基に置き換えて合成された連鎖重合性官能基を有する化合物を使用してもよい。また、2官能より多くの反応性官能基を有する重合性モノマーの場合、複数ある反応性官能基は、それぞれ同じでも異なっていても良い。
連鎖重合性官能基を有し正孔輸送性を有さない化合物の分子量は、100以上1000以下であることが好ましい。
本発明の電子写真感光体の表面層は、式(1)で示される化合物、および式(2)で示されるウレア化合物の少なくとも一種を重合させて得られる重合物を含むことを特徴とする。
該重合物は、電荷輸送性化合物の連鎖重合性官能基と、ウレア化合物の連鎖重合性官能基(アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基)とが重合することにより得られる。式(1)、および式(2)の置換もしくは無置換のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などの無置換のアルキル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基などのアルコキシ置換アルキル基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基などのハロゲン置換アルキル基が挙げられる。置換もしくは無置換のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基などの無置換のアルコキシ基、メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基などのアルコキシ置換アルコキシ基、トリフルオロメトキシ基、トリクロロメトキシ基などのハロゲン置換アルコキシ基が挙げられる。ジアルキルアミノ基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基などが挙げられる。アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基などが挙げられる。
該重合物は、電荷輸送性化合物の連鎖重合性官能基と、ウレア化合物の連鎖重合性官能基(アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基)とが重合することにより得られる。式(1)、および式(2)の置換もしくは無置換のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などの無置換のアルキル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基などのアルコキシ置換アルキル基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基などのハロゲン置換アルキル基が挙げられる。置換もしくは無置換のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基などの無置換のアルコキシ基、メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基などのアルコキシ置換アルコキシ基、トリフルオロメトキシ基、トリクロロメトキシ基などのハロゲン置換アルコキシ基が挙げられる。ジアルキルアミノ基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基などが挙げられる。アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基などが挙げられる。
本発明に係るウレア化合物は、式(1)、および式(2)中のa、b、g,hおよびiが0であると、好ましい。また、ウレア化合物は、式(1)、および式(2)中のc、d、jおよびkが0であると好ましい。さらに、ウレア化合物は、式(1)、および式(2)中の、X21〜X24、X41〜X46のうち、少なくとも1つがエチレン基またはn−プロピレン基であると、重合反応が行われやすくなり好ましい。
以下に、式(1)で示される例示化合物(1−1)〜(1−15)、式(2)で示される例示化合物(2−1)〜(2−12)を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
上記例示化合物のうち、本発明においては、好ましくは、(1−1)、(1−3)、(1−5)、(1−15)、(2−1)、(2−4)、(2−8)、(2−9)、(2−10)、(2−11)で示される化合物である。
前記ウレア化合物は、水酸基を有するウレア化合物を塩化アクリロイル又は塩化メタクリロイルなどのアクリル化剤でエステル化して合成することができる。
前記水酸基を有するウレア化合物は、水酸基を有するアニリン誘導体と尿素とを縮合反応させて水酸基を有するウレア誘導体を得る。その後、ウレア誘導体の水酸基をテトラヒドロピラニルエーテルなどで保護し、ウレア部位のNHをN−アルキル化し、さらに脱保護することにより得られる。また、水酸基を有するアニリン誘導体とイソシアン酸フェニル誘導体又はジイソシアン酸フェニレン誘導体との付加反応で得られるウレア化合物を上述の記載と同様に水酸基を保護し、ウレア部位のNHをN−アルキル化し、さらに脱保護することにより得られる。
前記水酸基を有するウレア化合物は、水酸基を有するアニリン誘導体と尿素とを縮合反応させて水酸基を有するウレア誘導体を得る。その後、ウレア誘導体の水酸基をテトラヒドロピラニルエーテルなどで保護し、ウレア部位のNHをN−アルキル化し、さらに脱保護することにより得られる。また、水酸基を有するアニリン誘導体とイソシアン酸フェニル誘導体又はジイソシアン酸フェニレン誘導体との付加反応で得られるウレア化合物を上述の記載と同様に水酸基を保護し、ウレア部位のNHをN−アルキル化し、さらに脱保護することにより得られる。
本発明の電子写真感光体の表面層において、式(1)または式(2)で示されるウレア化合物の含有量は、表面層用塗布液の全固形分質量に対して1質量%以上60質量%以下の範囲が好ましく、更に好ましくは5質量%以上40質量%以下の範囲である。1質量%以上60質量%以下の範囲であると、画像流れの抑制効果と電位安定性に優れる。
本発明の電子写真感光体の表面層において、機械的耐久性の観点からは、連鎖重合性官能基を有する電荷輸送性化合物、および連鎖重合性官能基を有するウレア化合物が、合計して3つ以上の連鎖重合性官能基(アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基)を有することが好ましい。
このような連鎖重合性官能基を有する化合物を重合することによって、立体的な網目構造(3次元網目構造)が形成される。これにより、表面層に十分な機械的耐久性が付与される。重合(連鎖重合性)とは、重合反応形態がラジカルあるいはイオンの中間体を経由して反応が進行する不飽和重合、開環重合、または異性化重合のことをいう。そして、連鎖重合性官能基は、前述の重合反応形態が可能な官能基を意味する。
また、十分な3次元網目構造を形成する観点から、連鎖重合性官能基を有する電荷輸送性化合物は、同一分子内に2つ以上の連鎖重合性官能基を有する電荷輸送性化合物であることが好ましい。また、多官能モノマー(同一分子内に2つ以上の連鎖重合性官能基を有し、電荷輸送能を有さない化合物)を併用することで機械的強度を向上させられる場合には、同一分子内に連鎖重合性官能基を1つだけ有する電荷輸送性化合物を用いることもできる。
本発明に係る式(1)または(2)で示されるウレア化合物のうち、式(5)または、式(6)で示されるウレア化合物は、本発明の電子写真感光体のオゾン、窒素酸化物(NOx)、および硝酸などの活性物質による劣化を抑えるウレア化合物として挙げられる。
式(5)および式(6)中、R51〜R55は、それぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ置換アルキル基、ハロゲン置換アルキル基、アルコキシ基、アルコキシ置換アルコキシ基、ハロゲン置換アルコキシ基、ジアルキルアミノ基又はハロゲン原子を示す。X61〜X64、およびX81〜X86は、それぞれ独立に、アルキレン基を示す。P71〜P74、P91〜P96は、それぞれ独立に、水素原子、アクリロイルオキシ基、又はメタクリロイルオキシ基を示し、P71〜P74のうち少なくとも1つ、P91〜P96の少なくとも1つはアクリロイルオキシ基、又はメタクリロイルオキシ基である。l、m、pおよびqは、0〜5の整数を示し、rは0〜4の整数を示し、n、o、sおよびtは、0又は1を示す。
式(5)および式(6)で示される化合物において、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
式(5)および式(6)で示される化合物において、アルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、シクロペンチル基、n−ヘキシル基、1−メチルペンチル基、4−メチル−2−ペンチル基、3,3−ジメチルブチル基、2−エチルブチル基、シクロヘキシル基、1−メチルヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、4−tert−ブチルシクロヘキシル基、n−ヘプチル基、シクロヘプチル基、n−オクチル基、シクロオクチル基、tert−オクチル基、1−メチルヘプチル基、2−エチルヘキシル基、2−プロピルペンチル基、n−ノニル基、2,2−ジメチルヘプチル基、2,6−ジメチル−4−ヘプチル基、3,5,5−トリメチルヘキシル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、1−メチルデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、1−ヘキシルヘプチル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基、n−エイコシル基等が挙げられる。
式(5)および式(6)で示される化合物において、ハロゲン置換アルキル基は、前記アルキル基に、1または2以上の前記ハロゲン原子が置換したものであり、例えばフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3,2,2−ペンタフルオロプロピル基、ヘプタフルオロプロピル基、2,2,2−トリフルオロ−1,1−ジメチルエチル基、2,2,2−トリフルオロ−1,1−ビス(トリフルオロメチル)エチル基、4,4,4−トリフルオロブチル基、5,5,5−トリフルオロペンチル基、6,6,6−トリフルオロヘキシル基、6,6,6,5,5−ペンタフルオロヘキシル基、6,6,6,5,5,4,4−ヘプタフルオロヘキシル基、6,6,6,5,5,4,4,3,3−ノナフルオロヘキシル基等、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、2,2,2−トリクロロエチル基、ペンタクロロエチル基、3,3,3−トリクロロプロピル基、3,3,3,2,2−ペンタクロロプロピル基、3,3,3−トリフルオロ−2−クロロプロピル基等、ヘプタクロロプロピル基、2,2,2−トリクロロ−1,1−ジメチルエチル基、2,2,2−トリクロロ−1,1−ビス(トリフルオロメチル)エチル基、4,4,4−トリクロロブチル基、5,5,5−トリクロロペンチル基、6,6,6−トリクロロヘキシル基等、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、2−ヨードエチル基、3−ヨードプロピル基、4−ヨードブチル基等が挙げられる。これらの中でも、フッ素原子を置換基として有するフッ化アルキル基が好ましい。
式(5)および式(6)で示される化合物において、アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基等が挙げられる。
式(5)および式(6)で示される化合物において、ハロゲン置換アルコキシ基は、前記アルキル基に、1または2以上の前記ハロゲン原子が置換したものであり、例えばフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、3,3,3−トリフルオロプロポキシ基、3,3,3,2,2−ペンタフルオロプロポキシル基、ヘプタフルオロプロポキシ基、2,2,2−トリフルオロ−1,1−ジメチルエトキシ基、2,2,2−トリフルオロ−1,1−ビス(トリフルオロメチル)エトキシ基、4,4,4−トリフルオロブトキシ基、5,5,5−トリフルオロペンチルオキシ基、6,6,6−トリフルオロヘキシルオキシ基、6,6,6,5,5−ペンタフルオロヘキシルオキシ基、6,6,6,5,5,4,4−ヘプタフルオロヘキシルオキシ基、6,6,6,5,5,4,4,3,3−ノナフルオロヘキシルオキシ基等、クロロメトキシ基、ジクロロメトキシ基、トリクロロメトキシ基、2,2,2−トリクロロエトキシ基、ペンタクロロエトキシ基、3,3,3−トリクロロプロピル基、3,3,3,2,2−ペンタクロロプロポキシ基、3,3,3−トリフルオロ−2−クロロプポキシ等、ヘプタクロロプロポキシ基、2,2,2−トリクロロ−1,1−ジメチルエトキシ基、2,2,2−トリクロロ−1,1−ビス(トリフルオロメチル)エトキシ基、4,4,4−トリクロロブトキシ基、5,5,5−トリクロロペンチル基、6,6,6−トリクロロヘキシルオキシ基等、ブロモメトキシ基、ジブロモメトキシ基、トリブロモメトキシ基、2−ヨードエトキシ基、3−ヨードプロポキシ基、4−ヨードブトキシ基等が挙げられる。
式(5)および式(6)で示される化合物において、アルコキシ置換アルキル基としては、前記アルキル基に、1または2以上の前記アルコキシ基が置換したものが挙げられる。
式(5)および式(6)で示される化合物において、アルコキシ置換アルコキシ基としては、前記アルコキシ基に、1または2以上の前記アルコキシ基が置換したものが挙げられる。
本発明に係るウレア化合物は、式(5)、および式(6)中のl、m、p、qおよびrが0であると、好ましい。
また、本発明に係るウレア化合物は、式(5)、および式(6)中のn、o、sおよびtが0であると好ましい。
さらに、本発明に係るウレア化合物は、式(5)、および式(6)中の、X61〜X64、X81〜X86のうち、少なくとも1つがエチレン基またはn−プロピレン基であると、好ましい。
また、本発明に係るウレア化合物は、式(5)、および式(6)中のn、o、sおよびtが0であると好ましい。
さらに、本発明に係るウレア化合物は、式(5)、および式(6)中の、X61〜X64、X81〜X86のうち、少なくとも1つがエチレン基またはn−プロピレン基であると、好ましい。
表面層には、耐摩耗性の観点から、各種微粒子を含有させてもよい。微粒子は無機微粒子でも良く、有機微粒子でも良い。好適には、無機微粒子としては、アルミナ、シリカ、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化チタン等を含む粒子が用いられる。また、有機微粒子としては各種の有機樹脂微粒子を使用することができる。ポリオレフィン樹脂、ポリテトラフルオロエチレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアクリル酸エステル樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂等が挙げられる。
表面層には、微粒子以外に、酸化防止剤や紫外線吸収剤などの劣化防止剤、重合反応開始剤や重合反応停止剤などの重合制御剤を添加しても良い。
表面層には、微粒子以外に、酸化防止剤や紫外線吸収剤などの劣化防止剤、重合反応開始剤や重合反応停止剤などの重合制御剤を添加しても良い。
表面層は、本発明に係る正孔輸送性物質および式(1)または式(2)で示されるウレア化合物の重合物を含有する表面層用塗布液の塗膜を形成し、この塗膜を乾燥および/または硬化させることによって表面層を形成することができる。
表面層用塗布液に用いられる溶剤としては、メタノール、エタノール、プロパノールなどのアルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶剤、1,1,2,2,3,3,4−ヘプタフルオロシクロペンタン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、脂肪族ハロゲン化炭化水素系溶剤、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳芳香族炭化水素系溶剤、クロロベンゼンなどの芳芳香族ハロゲン化炭化水素系溶剤、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなどのセロソルブ系溶剤等を用いることができる。これらの溶剤は、単独または2種以上を混合して用いてもよい。
表面層用塗布液に用いられる溶剤としては、メタノール、エタノール、プロパノールなどのアルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶剤、1,1,2,2,3,3,4−ヘプタフルオロシクロペンタン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、脂肪族ハロゲン化炭化水素系溶剤、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳芳香族炭化水素系溶剤、クロロベンゼンなどの芳芳香族ハロゲン化炭化水素系溶剤、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなどのセロソルブ系溶剤等を用いることができる。これらの溶剤は、単独または2種以上を混合して用いてもよい。
表面層の膜厚は、表面層が保護層である場合は、0.1μm以上15μm以下であることが好ましい。また、表面層が電荷輸送層である場合は、5μm以上40μm以下であることが好ましい。
表面層用塗布液の塗膜を硬化させる(本発明に係る正孔輸送性物質を重合させる)方法としては、熱、光(紫外線など)、または、放射線(電子線など)を用いて重合させる方法が挙げられる。これらの中でも、放射線が好ましく、放射線の中でも電子線がより好ましい。
電子線を用いて重合させると、非常に緻密(高密度)な3次元網目構造が得られ、耐摩耗性が向上するため好ましい。電子線を照射する場合、加速器としては、例えば、スキャニング型、エレクトロカーテン型、ブロードビーム型、パルス型、ラミナー型などが挙げられる。
電子線を用いる場合、電子線の加速電圧は、重合効率を損なわずに電子線による材料特性劣化を抑制できる観点から、150kV以下であることが好ましい。また、表面層用塗布液の塗膜の表面での電子線吸収線量は、5kGy以上50kGy以下であることが好ましく、1kGy以上10kGy以下であることがより好ましい。
電子線を用いて重合させると、非常に緻密(高密度)な3次元網目構造が得られ、耐摩耗性が向上するため好ましい。電子線を照射する場合、加速器としては、例えば、スキャニング型、エレクトロカーテン型、ブロードビーム型、パルス型、ラミナー型などが挙げられる。
電子線を用いる場合、電子線の加速電圧は、重合効率を損なわずに電子線による材料特性劣化を抑制できる観点から、150kV以下であることが好ましい。また、表面層用塗布液の塗膜の表面での電子線吸収線量は、5kGy以上50kGy以下であることが好ましく、1kGy以上10kGy以下であることがより好ましい。
また、電子線を用いて本発明に係る正孔輸送性物質を重合させる場合、酸素による重合阻害作用を抑制する目的で、不活性ガス雰囲気で電子線を照射した後、不活性ガス雰囲気で加熱することが好ましい。不活性ガスとしては、窒素、アルゴン、ヘリウムなどが挙げられる。
次に、本発明の電子写真感光体の全体的な構成について説明する。
<電子写真感光体>
本発明における電子写真感光体の好ましい構成は、導電性支持体上に、電荷発生層、正孔輸送層をこの順で積層した構成である。必要に応じて、電荷発生層と支持体の間に導電層や下引き層を、正孔輸送層上に保護層を設けても良い。尚、本発明においては電荷発生層と正孔輸送層とを併せて感光層と呼ぶ。
本発明に係る正孔輸送性物質、及び、ウレア化合物は表面層に含有させる。本発明における表面層とは、電子写真感光体が保護層を設ける場合には保護層を指し、保護層を設けない場合には正孔輸送層を指す。
<電子写真感光体>
本発明における電子写真感光体の好ましい構成は、導電性支持体上に、電荷発生層、正孔輸送層をこの順で積層した構成である。必要に応じて、電荷発生層と支持体の間に導電層や下引き層を、正孔輸送層上に保護層を設けても良い。尚、本発明においては電荷発生層と正孔輸送層とを併せて感光層と呼ぶ。
本発明に係る正孔輸送性物質、及び、ウレア化合物は表面層に含有させる。本発明における表面層とは、電子写真感光体が保護層を設ける場合には保護層を指し、保護層を設けない場合には正孔輸送層を指す。
<支持体>
本発明で用いられる支持体としては、導電性を有する材料からなる、導電性支持体であることが好ましい。支持体の材質としては、例えば、鉄、銅、金、銀、アルミニウム、亜鉛、チタン、鉛、ニッケル、スズ、アンチモン、インジウム、クロム、アルミニウム合金、ステンレス等の金属または合金が挙げられる。また、アルミニウム、アルミニウム合金、酸化インジウム−酸化スズ合金などを真空蒸着によって形成した被膜を有する金属製支持体や樹脂製支持体を用いることもできる。また、カーボンブラック、酸化スズ粒子、酸化チタン粒子、銀粒子などの導電性粒子をプラスチックや紙に含浸してなる支持体や、導電性樹脂を含有する支持体を用いることもできる。支持体の形状としては、円筒状、ベルト状、シート状または板状等が挙げられるが、円筒状が最も一般的である。
支持体の表面は、レーザー光の散乱による干渉縞の抑制、支持体表面欠陥の改良、支持体の導電性の改良などの観点から、切削処理、粗面化処理、アルマイト処理などの処理を施してもよい。
本発明で用いられる支持体としては、導電性を有する材料からなる、導電性支持体であることが好ましい。支持体の材質としては、例えば、鉄、銅、金、銀、アルミニウム、亜鉛、チタン、鉛、ニッケル、スズ、アンチモン、インジウム、クロム、アルミニウム合金、ステンレス等の金属または合金が挙げられる。また、アルミニウム、アルミニウム合金、酸化インジウム−酸化スズ合金などを真空蒸着によって形成した被膜を有する金属製支持体や樹脂製支持体を用いることもできる。また、カーボンブラック、酸化スズ粒子、酸化チタン粒子、銀粒子などの導電性粒子をプラスチックや紙に含浸してなる支持体や、導電性樹脂を含有する支持体を用いることもできる。支持体の形状としては、円筒状、ベルト状、シート状または板状等が挙げられるが、円筒状が最も一般的である。
支持体の表面は、レーザー光の散乱による干渉縞の抑制、支持体表面欠陥の改良、支持体の導電性の改良などの観点から、切削処理、粗面化処理、アルマイト処理などの処理を施してもよい。
支持体と、後述の下引き層または電荷発生層との間には、レーザー等の散乱による干渉縞の抑制、抵抗制御あるいは支持体の傷の被覆を目的として、導電層を設けてもよい。
導電層は、カーボンブラック、導電性顔料、抵抗調節顔料等を結着樹脂とともに分散処理することによって得られる導電層用塗布液を塗布し、得られた塗膜を乾燥させることによって形成することができる。導電層用塗布液には、加熱、紫外線照射、放射線照射などにより硬化重合する化合物を添加してもよい。導電性顔料や抵抗調節顔料を分散させてなる導電層は、その表面が粗面化される傾向にある。
導電層の膜厚は、0.1μm以上50μm以下であることが好ましく、さらには0.5μm以上40μm以下であることがより好ましく、さらには1μm以上30μm以下であることがより好ましい。
導電層に用いられる結着樹脂としては、ビニル化合物の重合体及び共重合体、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ケイ素樹脂、エポキシ樹脂およびイソシアネート樹脂が挙げられる。
導電性顔料および抵抗調節顔料としては、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀、ステンレス等の金属(合金)の粒子や、これらをプラスチックの粒子の表面に蒸着したものが挙げられる。また、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンやタンタルをドープした酸化スズ等の金属酸化物の粒子でもよい。これらは、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
導電層は、カーボンブラック、導電性顔料、抵抗調節顔料等を結着樹脂とともに分散処理することによって得られる導電層用塗布液を塗布し、得られた塗膜を乾燥させることによって形成することができる。導電層用塗布液には、加熱、紫外線照射、放射線照射などにより硬化重合する化合物を添加してもよい。導電性顔料や抵抗調節顔料を分散させてなる導電層は、その表面が粗面化される傾向にある。
導電層の膜厚は、0.1μm以上50μm以下であることが好ましく、さらには0.5μm以上40μm以下であることがより好ましく、さらには1μm以上30μm以下であることがより好ましい。
導電層に用いられる結着樹脂としては、ビニル化合物の重合体及び共重合体、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ケイ素樹脂、エポキシ樹脂およびイソシアネート樹脂が挙げられる。
導電性顔料および抵抗調節顔料としては、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀、ステンレス等の金属(合金)の粒子や、これらをプラスチックの粒子の表面に蒸着したものが挙げられる。また、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンやタンタルをドープした酸化スズ等の金属酸化物の粒子でもよい。これらは、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
支持体又は導電層と電荷発生層との間には、電荷発生層の接着性改良、支持体からの正孔注入性改良、電荷発生層の電気的破壊に対する保護などを目的として、下引き層(中間層)を設けてもよい。
下引き層は、結着樹脂を溶剤に溶解させることによって得られる下引き層用塗布液を塗布し、得られた塗膜を乾燥させることによって形成することができる。
下引き層に用いられる結着樹脂としては、ポリビニルアルコール樹脂、ポリ−N−ビニルイミダゾール、ポリエチレンオキシド樹脂、エチルセルロース、エチレン−アクリル酸共重合体、カゼイン、ポリアミド樹脂、N−メトキシメチル化6ナイロン樹脂、共重合ナイロン樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂あるいはポリエステル樹脂などが挙げられる。
下引き層には、さらに、金属酸化物粒子を含有させてもよい。金属酸化物粒子としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウムを含有する粒子が挙げられる。また、金属酸化物粒子は、金属酸化物粒子の表面がシランカップリング剤などの表面処理剤で処理されている金属酸化物粒子であってもよい。
下引き層の膜厚は、0.05μm以上30μm以下であることが好ましく、1μm以上25μm以下であることがより好ましい。下引き層には、さらに、有機樹脂微粒子、レべリング剤を含有させてもよい。
下引き層は、結着樹脂を溶剤に溶解させることによって得られる下引き層用塗布液を塗布し、得られた塗膜を乾燥させることによって形成することができる。
下引き層に用いられる結着樹脂としては、ポリビニルアルコール樹脂、ポリ−N−ビニルイミダゾール、ポリエチレンオキシド樹脂、エチルセルロース、エチレン−アクリル酸共重合体、カゼイン、ポリアミド樹脂、N−メトキシメチル化6ナイロン樹脂、共重合ナイロン樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂あるいはポリエステル樹脂などが挙げられる。
下引き層には、さらに、金属酸化物粒子を含有させてもよい。金属酸化物粒子としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウムを含有する粒子が挙げられる。また、金属酸化物粒子は、金属酸化物粒子の表面がシランカップリング剤などの表面処理剤で処理されている金属酸化物粒子であってもよい。
下引き層の膜厚は、0.05μm以上30μm以下であることが好ましく、1μm以上25μm以下であることがより好ましい。下引き層には、さらに、有機樹脂微粒子、レべリング剤を含有させてもよい。
次に電荷発生層について説明する。電荷発生層は、電荷発生物質を結着樹脂および溶剤とともに分散処理することによって得られた電荷発生層用塗布液を塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を乾燥させることによって形成することができる。また、電荷発生層は、電荷発生物質の蒸着膜としてもよい。
電荷発生層に用いられる電荷発生物質としては、アゾ顔料、フタロシアニン顔料、インジゴ顔料、ペリレン顔料、多環キノン顔料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、チアピリリウム塩、トリフェニルメタン色素、キナクリドン顔料、アズレニウム塩顔料、シアニン染料、アントアントロン顔料、ピラントロン顔料、キサンテン色素、キノンイミン色素、スチリル色素などが挙げられる。これら電荷発生物質は1種のみ用いてもよく、2種以上用いてもよい。これら電荷発生物質の中でも、感度の観点から、フタロシアニン顔料やアゾ顔料が好ましく、特にはフタロシアニン顔料がより好ましい。
フタロシアニン顔料の中でも、特にオキシチタニウムフタロシアニンあるいはクロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニンが優れた電荷発生効率を示す。さらに、ヒドロキシガリウムフタロシアニンの中でも、感度の観点から、CuKα特性X線回折におけるブラッグ角2θが7.4°±0.3°および28.2°±0.3°にピークを有する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶がより好ましい。
電荷発生層に用いられる結着樹脂としては、例えば、ビニル化合物の重合体や、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ケイ素樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。
電荷発生物質と、結着樹脂の質量比は、1:0.3〜1:4の範囲であることが好ましい。
電荷発生層の膜厚は、0.05μm以上1μm以下であることが好ましく、0.1μm以上0.5μm以下であることがより好ましい。
電荷発生層に用いられる電荷発生物質としては、アゾ顔料、フタロシアニン顔料、インジゴ顔料、ペリレン顔料、多環キノン顔料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、チアピリリウム塩、トリフェニルメタン色素、キナクリドン顔料、アズレニウム塩顔料、シアニン染料、アントアントロン顔料、ピラントロン顔料、キサンテン色素、キノンイミン色素、スチリル色素などが挙げられる。これら電荷発生物質は1種のみ用いてもよく、2種以上用いてもよい。これら電荷発生物質の中でも、感度の観点から、フタロシアニン顔料やアゾ顔料が好ましく、特にはフタロシアニン顔料がより好ましい。
フタロシアニン顔料の中でも、特にオキシチタニウムフタロシアニンあるいはクロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニンが優れた電荷発生効率を示す。さらに、ヒドロキシガリウムフタロシアニンの中でも、感度の観点から、CuKα特性X線回折におけるブラッグ角2θが7.4°±0.3°および28.2°±0.3°にピークを有する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶がより好ましい。
電荷発生層に用いられる結着樹脂としては、例えば、ビニル化合物の重合体や、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ケイ素樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。
電荷発生物質と、結着樹脂の質量比は、1:0.3〜1:4の範囲であることが好ましい。
電荷発生層の膜厚は、0.05μm以上1μm以下であることが好ましく、0.1μm以上0.5μm以下であることがより好ましい。
次に、正孔輸送層について説明する。正孔輸送層が表面層の場合は、上述の通り、本発明に係る正孔輸送性物質および式(1)または式(2)で示されるウレア化合物の重合物を含有する。
一方、正孔輸送層上に保護層を設ける場合は、正孔輸送層は、正孔輸送性物質と結着樹脂を溶剤に混合した正孔輸送層用塗布液の塗膜を形成し、この塗膜を乾燥させることによって形成することができる。以下に、正孔輸送層に用いられる正孔輸送性物質と結着樹脂について説明する。
正孔輸送性物質としては、カルバゾール化合物、ヒドラゾン化合物、N,N−ジアルキルアニリン化合物、ジフェニルアミン化合物、トリフェニルアミン化合物、トリフェニルメタン化合物、ピラゾリン化合物、スチリル化合物、スチルベン化合物などが挙げられる。
結着樹脂としては、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂等が挙げられる。また、硬化型フェノール樹脂、硬化型ウレタン樹脂、硬化型メラミン樹脂、硬化型エポキシ樹脂、硬化型アクリル樹脂、硬化型メタクリル樹脂等の硬化性樹脂を用いることもできる。
正孔輸送層用塗布液に用いられる溶剤としては、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、脂肪族ハロゲン化炭化水素系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤などが挙げられる。
正孔輸送層の膜厚は、1μm以上100μm以下であることが好ましく、さらに3μm以上50μm以下であることがより好ましく、さらには5μm以上40μm以下であることが好ましい。
一方、正孔輸送層上に保護層を設ける場合は、正孔輸送層は、正孔輸送性物質と結着樹脂を溶剤に混合した正孔輸送層用塗布液の塗膜を形成し、この塗膜を乾燥させることによって形成することができる。以下に、正孔輸送層に用いられる正孔輸送性物質と結着樹脂について説明する。
正孔輸送性物質としては、カルバゾール化合物、ヒドラゾン化合物、N,N−ジアルキルアニリン化合物、ジフェニルアミン化合物、トリフェニルアミン化合物、トリフェニルメタン化合物、ピラゾリン化合物、スチリル化合物、スチルベン化合物などが挙げられる。
結着樹脂としては、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂等が挙げられる。また、硬化型フェノール樹脂、硬化型ウレタン樹脂、硬化型メラミン樹脂、硬化型エポキシ樹脂、硬化型アクリル樹脂、硬化型メタクリル樹脂等の硬化性樹脂を用いることもできる。
正孔輸送層用塗布液に用いられる溶剤としては、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、脂肪族ハロゲン化炭化水素系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤などが挙げられる。
正孔輸送層の膜厚は、1μm以上100μm以下であることが好ましく、さらに3μm以上50μm以下であることがより好ましく、さらには5μm以上40μm以下であることが好ましい。
本発明の電子写真感光体の各層には、各種添加剤を添加することが可能である。具体的には、有機顔料、有機染料、塗膜表面調整剤、電子輸送剤、オイル、ワックス、酸化防止剤、光吸収剤、重合開始剤、ラジカル失活剤、有機樹脂微粒子、無機粒子などが挙げられる。
電子写真感光体の各層の表面には、研磨シート、形状転写型部材、ガラスビーズ、ジルコニアビーズなど用いて表面加工を施してもよい。また、塗布液の構成材料を使って表面に凹凸を形成させてもよい。
上記各層の塗布液を塗布する際には、例えば、浸漬塗布法、スプレー塗布法、円形量規制型(リング)塗布法、スピン塗布法、ローラー塗布法、マイヤーバー塗布法、ブレード塗布法のような公知の如何なる塗布方法も用いることができる。
電子写真感光体の各層の表面には、研磨シート、形状転写型部材、ガラスビーズ、ジルコニアビーズなど用いて表面加工を施してもよい。また、塗布液の構成材料を使って表面に凹凸を形成させてもよい。
上記各層の塗布液を塗布する際には、例えば、浸漬塗布法、スプレー塗布法、円形量規制型(リング)塗布法、スピン塗布法、ローラー塗布法、マイヤーバー塗布法、ブレード塗布法のような公知の如何なる塗布方法も用いることができる。
次に、本発明の電子写真感光体を備えたプロセスカートリッジ及び画像形成プロセスについて説明する。
本発明のプロセスカートリッジの構成の一例を図1に示す。図1において、円筒状の電子写真感光体1は、矢印方向に所定の周速度で回転駆動される。回転駆動される電子写真感光体1の周面は、帯電手段2により、正または負の所定電位に均一に帯電される。次いで、帯電された電子写真感光体1の周面は、スリット露光やレーザービーム走査露光などの露光手段(不図示)から出力される露光光(画像露光光)3を受ける。こうして電子写真感光体1の周面に、目的の画像に対応した静電潜像が順次形成されていく。帯電手段(帯電ローラなど)2に印加する電圧は、直流成分に交流成分を重畳した電圧、又は直流成分のみの電圧のどちらを用いてもよい。
電子写真感光体1の周面に形成された静電潜像は、現像手段4の現像剤に含まれるトナーにより現像されてトナー像となる。次いで、電子写真感光体1の周面に形成担持されているトナー像が、転写手段(転写ローラーなど)5からの転写バイアスによって、転写材(紙や中間転写体など)6に順次転写されていく。転写材6は電子写真感光体1の回転と同期して給送される。
トナー像転写後の電子写真感光体1の表面は、前露光手段(不図示)からの前露光光7により除電処理された後、クリーニング手段8によって転写残トナーの除去を受けて清浄面化され、電子写真感光体1は、画像形成に繰り返し使用される。なお、前露光手段はクリーニング工程の先でも後でもよいし、必ずしも前露光手段は必要ではない。
本発明のプロセスカートリッジの構成の一例を図1に示す。図1において、円筒状の電子写真感光体1は、矢印方向に所定の周速度で回転駆動される。回転駆動される電子写真感光体1の周面は、帯電手段2により、正または負の所定電位に均一に帯電される。次いで、帯電された電子写真感光体1の周面は、スリット露光やレーザービーム走査露光などの露光手段(不図示)から出力される露光光(画像露光光)3を受ける。こうして電子写真感光体1の周面に、目的の画像に対応した静電潜像が順次形成されていく。帯電手段(帯電ローラなど)2に印加する電圧は、直流成分に交流成分を重畳した電圧、又は直流成分のみの電圧のどちらを用いてもよい。
電子写真感光体1の周面に形成された静電潜像は、現像手段4の現像剤に含まれるトナーにより現像されてトナー像となる。次いで、電子写真感光体1の周面に形成担持されているトナー像が、転写手段(転写ローラーなど)5からの転写バイアスによって、転写材(紙や中間転写体など)6に順次転写されていく。転写材6は電子写真感光体1の回転と同期して給送される。
トナー像転写後の電子写真感光体1の表面は、前露光手段(不図示)からの前露光光7により除電処理された後、クリーニング手段8によって転写残トナーの除去を受けて清浄面化され、電子写真感光体1は、画像形成に繰り返し使用される。なお、前露光手段はクリーニング工程の先でも後でもよいし、必ずしも前露光手段は必要ではない。
電子写真感光体1を複写機やレーザービームプリンターなどの電子写真装置に装着してもよい。また、電子写真感光体1、帯電手段2、現像手段4およびクリーニング手段8などの構成要素のうち、複数のものを容器に納めて一体に支持して構成したプロセスカートリッジ9を、電子写真装置本体に対して着脱自在に構成してもよい。図1では、電子写真感光体1と、帯電手段2、現像手段4およびクリーニング手段8とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在なプロセスカートリッジ9としている。
次に、本発明の電子写真感光体を備えた電子写真装置について説明する。
本発明の電子写真装置の構成の一例を図2に示す。イエロー色用のプロセスカートリッジ17、マゼンタ色用のプロセスカートリッジ18、シアン色用のプロセスカートリッジ19、ブラック色用のプロセスカートリッジ20が、中間転写体10に沿って並置されている。図2に示す通り、電子写真感光体の径や構成材料、現像剤、帯電方式、およびその他の手段は、各色で必ずしも統一する必要はない。例えば、図2の電子写真装置では、電子写真感光体の径がカラー色(イエロー、マゼンタ、シアン)よりもブラック色の方が大きい。また、カラー色の帯電方式が直流成分に交流成分を重畳した電圧を印加する方式に対して、ブラック色ではコロナ放電を用いる方式を採用している。
画像形成動作が始まると、上述の画像形成プロセスに従って、中間転写体10に各色のトナー像が順次重ねられていく。並行して、転写紙11が給紙経路12によって給紙トレイ13から送り出され、中間転写体の回転動作とタイミングを合わせて、二次転写手段14へと給送される。二次転写手段14からの転写バイアスによって、中間転写体10上のトナー像が転写紙11に転写される。転写紙11上に転写されたトナー像は、給紙経路12に沿って搬送され、定着手段15によって転写紙上に定着され、排紙部16から排紙される。
本発明の電子写真装置の構成の一例を図2に示す。イエロー色用のプロセスカートリッジ17、マゼンタ色用のプロセスカートリッジ18、シアン色用のプロセスカートリッジ19、ブラック色用のプロセスカートリッジ20が、中間転写体10に沿って並置されている。図2に示す通り、電子写真感光体の径や構成材料、現像剤、帯電方式、およびその他の手段は、各色で必ずしも統一する必要はない。例えば、図2の電子写真装置では、電子写真感光体の径がカラー色(イエロー、マゼンタ、シアン)よりもブラック色の方が大きい。また、カラー色の帯電方式が直流成分に交流成分を重畳した電圧を印加する方式に対して、ブラック色ではコロナ放電を用いる方式を採用している。
画像形成動作が始まると、上述の画像形成プロセスに従って、中間転写体10に各色のトナー像が順次重ねられていく。並行して、転写紙11が給紙経路12によって給紙トレイ13から送り出され、中間転写体の回転動作とタイミングを合わせて、二次転写手段14へと給送される。二次転写手段14からの転写バイアスによって、中間転写体10上のトナー像が転写紙11に転写される。転写紙11上に転写されたトナー像は、給紙経路12に沿って搬送され、定着手段15によって転写紙上に定着され、排紙部16から排紙される。
以下、具体的な実施例を挙げて、本発明をより詳細に説明する。なお、実施例中の「部」は「質量部」を意味する。また、電子写真感光体を以下単に「感光体」ともいう。
<ウレア化合物の製造>
以下に、本発明に用いられるウレア化合物の製造例を示す。なお、製造例中の「%」は「質量%」を意味し、「部」は「質量部」を意味する。また、質量分析は、TraceDSQ−MASS SPECTROMETER(サーモエレクトロン(株)製)を用いて行った。また、IR(赤外分光法)の測定は、FT/IR−420(日本分光(株)製)を用いて行った。また、NMR(核磁気共鳴スペクトル)の測定は、R−90(日立(株)製)を用いて行った。
以下に、本発明に用いられるウレア化合物の製造例を示す。なお、製造例中の「%」は「質量%」を意味し、「部」は「質量部」を意味する。また、質量分析は、TraceDSQ−MASS SPECTROMETER(サーモエレクトロン(株)製)を用いて行った。また、IR(赤外分光法)の測定は、FT/IR−420(日本分光(株)製)を用いて行った。また、NMR(核磁気共鳴スペクトル)の測定は、R−90(日立(株)製)を用いて行った。
〔製造例1〕
例示化合物(1−1)の製造
式(A)で示される化合物(1,3−ビス[4−(2−ヒドロキシ−エチル)−フェニル]−ウレア)の合成を行った。3径フラスコに2−(4−アミノフェニル)エタノール200.0部を入れ、3Nの塩酸水溶液506.2部をゆっくり滴下し、その後30分間撹拌を行った。これに尿素58.4部とイオン交換水220部を注加した後、10時間リフラックスを行った。冷却後、析出した結晶を濾取した。得られた結晶をイオン交換水1300部にて分散洗浄後、濾取した。更にエタノール1000部で分散洗浄後、濾取し、30℃で減圧乾燥を行い微桃色結晶の式(A)で示される化合物171.1部を得た。以下に、IRスペクトルより得られた特徴的なピークおよびNMRのデータを示す。
IR(cm−1,KBr):3378,3309,1638,1554,1237,1054,1017
1H−NMR(ppm,DMSO−d6):δ=8.39(s,2H,NH)7.25(d,4H,J=8.6Hz)7.08(d,4H,J=8.6Hz)4.95(brs,2H,OH)3.55(t,4H,J=7.0Hz)2.63(t,4H,J=7.0Hz)。
例示化合物(1−1)の製造
式(A)で示される化合物(1,3−ビス[4−(2−ヒドロキシ−エチル)−フェニル]−ウレア)の合成を行った。3径フラスコに2−(4−アミノフェニル)エタノール200.0部を入れ、3Nの塩酸水溶液506.2部をゆっくり滴下し、その後30分間撹拌を行った。これに尿素58.4部とイオン交換水220部を注加した後、10時間リフラックスを行った。冷却後、析出した結晶を濾取した。得られた結晶をイオン交換水1300部にて分散洗浄後、濾取した。更にエタノール1000部で分散洗浄後、濾取し、30℃で減圧乾燥を行い微桃色結晶の式(A)で示される化合物171.1部を得た。以下に、IRスペクトルより得られた特徴的なピークおよびNMRのデータを示す。
IR(cm−1,KBr):3378,3309,1638,1554,1237,1054,1017
1H−NMR(ppm,DMSO−d6):δ=8.39(s,2H,NH)7.25(d,4H,J=8.6Hz)7.08(d,4H,J=8.6Hz)4.95(brs,2H,OH)3.55(t,4H,J=7.0Hz)2.63(t,4H,J=7.0Hz)。
次に、式(A)で示される化合物をもとにして、式(B)で示される化合物(1,3−ビス{4−[2−テトラヒドロ−ピラン−2−イルオキシ]−エチル}−フェニル}−ウレア)を合成した。3径フラスコに式(A)で示される化合物149.5部、およびN,N−ジメチルホルムアミド1500部を入れ、溶解させた。これにパラトルエンスルホン酸一水和物1.9部を加えた後、15℃まで冷却した。そこに3,4−ジヒドロ−2H−ピラン168部をゆっくり滴下し、その後、80〜85℃で2時間加熱撹拌を行った。冷却後、水2000部を加え、酢酸エチル1000部で2回抽出を行った。2回の抽出液を合わせ、水500部で分散洗浄、分液した。次に、飽和塩化ナトリウム水溶液500部で分散洗浄し、分液した有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。残渣をアルミナカラム(溶媒:トルエン:テトラヒドロフラン混合)に通し、減圧下で溶媒を留去した。得られた結晶を50〜60℃の80%メタノール水溶液で分散洗浄を行った後、結晶を濾取し、30℃で減圧乾燥を行いクリーム色結晶の式(B)で示される化合物を201.6部得た。以下に、IRスペクトルより得られた特徴的なピークおよびNMRのデータを示す。
IR(cm−1,KBr):3390,2948,1710,1595,1538,1514,1115
1H−NMR(ppm,CDCl3):δ=7.24(d,4H,J=8.6Hz)7.11(d,4H,J=8.6Hz)6.91(s,2H,NH)4.60(brs,2H)4.0〜3.4(m,8H)2.83(t,4H,J=6.9Hz)1.7〜1.4(m,12H)。
IR(cm−1,KBr):3390,2948,1710,1595,1538,1514,1115
1H−NMR(ppm,CDCl3):δ=7.24(d,4H,J=8.6Hz)7.11(d,4H,J=8.6Hz)6.91(s,2H,NH)4.60(brs,2H)4.0〜3.4(m,8H)2.83(t,4H,J=6.9Hz)1.7〜1.4(m,12H)。
次に、式(B)で示される化合物をもとにして、式(C)で示される化合物(1,3−ビス[4−(2−ヒドロキシ−エチル)−フェニル]−1,3−ジメチル−ウレア)の合成を行った。窒素雰囲気下で、3径フラスコに60%水素化ナトリウム29.8部および乾燥N,N−ジメチルホルムアミド800部を入れ、氷水で冷却した。その中に式(B)で示される化合物159.0部を乾燥N,N−ジメチルホルムアミド800部に溶解させた溶液を、液温が4〜7℃となるように制御しながら滴下した。その後、30分間撹拌した。次に、ヨウ化メチル144.5部を、液温が4〜11℃となるように制御しながら滴下した。その後、冷却を止め室温で1.5時間撹拌を行った後、水2500部を加え、酢酸エチル1000部で3回抽出を行った。3回の抽出液を合わせて、水500部で2回洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。残渣にメタノール1000部、およびテトラヒドロフラン200部を加え、さらにパラトルエンスルホン酸一水和物12.8部を加えた後、室温下で5時間撹拌を行った。そこに、水1000部を加え、酢酸エチル2000部で抽出を行った。抽出液を5%炭酸水素ナトリウム水溶液300部で分散洗浄、分液し、次に飽和塩化ナトリウム水溶液500部で分散洗浄し、分液した。分液した有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラム(溶媒:トルエン:テトラヒドロフラン混合)にて精製し、減圧下で溶媒を留去した。得られた結晶をn−ヘプタンで分散洗浄を行った後、結晶を濾取し、30℃で減圧乾燥を行い、淡いクリーム色結晶の式(C)で示される化合物51.6部を得た。以下に、質量分析値、IRスペクトルより得られた特徴的なピークおよびNMRのデータを示す。
MS(Direct Prove):328.14
Calculated Exact Mass:328.18
IR(cm−1,KBr):3406,2868,1622,1599,1514,1376,1055,568
1H−NMR(ppm,CDCl3):δ=6.89(d,4H,J=8.6Hz)6.71(d,4H,J=8.6Hz)3.74(t,4H,J=6.3Hz)3.19(s,6H,N−Me)2.70(t,4H,J=6.3Hz)2.09(s,2H,OH)。
MS(Direct Prove):328.14
Calculated Exact Mass:328.18
IR(cm−1,KBr):3406,2868,1622,1599,1514,1376,1055,568
1H−NMR(ppm,CDCl3):δ=6.89(d,4H,J=8.6Hz)6.71(d,4H,J=8.6Hz)3.74(t,4H,J=6.3Hz)3.19(s,6H,N−Me)2.70(t,4H,J=6.3Hz)2.09(s,2H,OH)。
次に、式(C)で示される化合物をもとにして例示化合物(1−1)を合成した。3径フラスコに式(C)で示される化合物41.5部と乾燥テトラヒドロフラン800部を加え、続いてトリエチルアミン48.6部を注加し、氷水で冷却し、液温が3〜12℃となるように制御しながら塩化アクリロイル34.3部をゆっくり滴下した。その後、冷却を止め、室温で2時間撹拌を行った。そこに、10%水酸化ナトリウム水溶液40部を加え、撹拌後、酢酸エチル400部で2回抽出を行った。2回の抽出液を合わせて、飽和塩化ナトリウム水溶液400部で分散洗浄し、分液した有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。残渣にトルエン500部を加え溶解し、活性炭2部を加え室温下で30分撹拌を行った後、ろ過し、ろ液に対して減圧下で溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラム(溶媒:トルエン:酢酸エチル混合)にて精製し、減圧下で溶媒を留去し、黄色粘性液体の例示化合物(1−1)を44.6部得た。以下に、質量分析値、IRスペクトルより得られた特徴的なピークおよびNMRのデータを示す。
MS(Direct Prove):436.26
Calculated Exact Mass:436.20
IR(cm−1,Neat):2956,1724,1656,1516,1356,1189,987,811
1H−NMR(ppm,CDCl3):δ=6.89(d,4H,J=8.6Hz)
6.71(d,4H,J=8.6Hz)6.6〜5.7(m,6H)4.24(t,4H,J=7.0Hz)3.15(s,6H,N−Me)2.82(t,4H,J=7.0Hz)。
MS(Direct Prove):436.26
Calculated Exact Mass:436.20
IR(cm−1,Neat):2956,1724,1656,1516,1356,1189,987,811
1H−NMR(ppm,CDCl3):δ=6.89(d,4H,J=8.6Hz)
6.71(d,4H,J=8.6Hz)6.6〜5.7(m,6H)4.24(t,4H,J=7.0Hz)3.15(s,6H,N−Me)2.82(t,4H,J=7.0Hz)。
〔製造例2〕
例示化合物(1−2)の製造
まず、式(D)で示される化合物(1−(2−ヒドロキシエチル)−3−メチル−1,3−ジフェニルウレア)を合成した。3径フラスコにN−(2−ヒドロキシエチル)アニリン5.5部とテトラヒドロフラン20部を加え、その溶液にフェニルイソシアネート4.8部をテトラヒドロフラン20部で溶解させた溶液を撹拌下ゆっくり滴下した。その後、室温で2時間撹拌を行い、更に1時間リフラックスを行った。減圧下で溶媒を留去し、更に500Paの減圧下、80℃で揮発成分を蒸発させ、クリーム色結晶を10.4部得た。3径フラスコに得られたクリーム色結晶4.3部、および乾燥テトラヒドロフラン40部を加え、溶解させた。その後、これにパラトルエンスルホン酸一水和物0.03部を加え、そこに3,4−ジヒドロ−2H−ピラン2.1部をゆっくり滴下し、その後、60℃で3時間加熱撹拌を行った。冷却後、水100部を加え、酢酸エチル50部で3回抽出を行った。3回の抽出液を合わせ、飽和塩化ナトリウム水溶液80部で分散洗浄し、分液した有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去し、褐色粘性液体を5.6部を得た。
窒素雰囲気下、3径フラスコに60%水素化ナトリウム0.7部、および乾燥N,N−ジメチルホルムアミド10部を入れ、氷水で冷却した。その中に得られた褐色粘性液体5.5部を乾燥N,N−ジメチルホルムアミド15部に溶解させた溶液を液温が2〜7℃となるように制御しながら滴下した。その後、30分間撹拌した。次に、ヨウ化メチル3.4部を液温が3〜11℃となるように制御しながら滴下した。その後、冷却を止め、室温で1.5時間撹拌を行った後、水50部を加え、酢酸エチル30部で3回抽出を行った。3回の抽出液を合わせ、水50部で2回洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた。減圧下で溶媒を留去し、オレンジ色粘性液体を5.4部得た。得られたオレンジ色粘性液体を5.3部に、メタノール25部を加え、さらにパラトルエンスルホン酸一水和物0.19部を加えた後、3時間リフラックスを行った。そこに水100部を加え、酢酸エチル100部で抽出を行った。抽出液を5%炭酸水素ナトリウム水溶液20部で分散洗浄して、分液した。次に、飽和塩化ナトリウム水溶液20部で分散洗浄し、分液した有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラム(溶媒:トルエン:酢酸エチル混合)にて精製し、減圧下で溶媒を留去した。得られた結晶をn−ヘプタンで分散洗浄を行った後、結晶を濾取し、30℃で減圧乾燥を行い白色結晶の式(D)で示される化合物を2.6部得た。以下に、IRスペクトルより得られた特徴的なピークおよびNMRのデータを示す。
IR(cm−1,KBr):3438,2942,1626,1497,1350,1029,754,694
1H−NMR(ppm,CDCl3):δ=7.1〜6.9(m,6H)6.8〜6.6(m,4H)4.41(t,1H,J=4.1Hz,OH)3.9〜3.6(m,4H)3.19(s,3H,N−Me)。
例示化合物(1−2)の製造
まず、式(D)で示される化合物(1−(2−ヒドロキシエチル)−3−メチル−1,3−ジフェニルウレア)を合成した。3径フラスコにN−(2−ヒドロキシエチル)アニリン5.5部とテトラヒドロフラン20部を加え、その溶液にフェニルイソシアネート4.8部をテトラヒドロフラン20部で溶解させた溶液を撹拌下ゆっくり滴下した。その後、室温で2時間撹拌を行い、更に1時間リフラックスを行った。減圧下で溶媒を留去し、更に500Paの減圧下、80℃で揮発成分を蒸発させ、クリーム色結晶を10.4部得た。3径フラスコに得られたクリーム色結晶4.3部、および乾燥テトラヒドロフラン40部を加え、溶解させた。その後、これにパラトルエンスルホン酸一水和物0.03部を加え、そこに3,4−ジヒドロ−2H−ピラン2.1部をゆっくり滴下し、その後、60℃で3時間加熱撹拌を行った。冷却後、水100部を加え、酢酸エチル50部で3回抽出を行った。3回の抽出液を合わせ、飽和塩化ナトリウム水溶液80部で分散洗浄し、分液した有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去し、褐色粘性液体を5.6部を得た。
窒素雰囲気下、3径フラスコに60%水素化ナトリウム0.7部、および乾燥N,N−ジメチルホルムアミド10部を入れ、氷水で冷却した。その中に得られた褐色粘性液体5.5部を乾燥N,N−ジメチルホルムアミド15部に溶解させた溶液を液温が2〜7℃となるように制御しながら滴下した。その後、30分間撹拌した。次に、ヨウ化メチル3.4部を液温が3〜11℃となるように制御しながら滴下した。その後、冷却を止め、室温で1.5時間撹拌を行った後、水50部を加え、酢酸エチル30部で3回抽出を行った。3回の抽出液を合わせ、水50部で2回洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた。減圧下で溶媒を留去し、オレンジ色粘性液体を5.4部得た。得られたオレンジ色粘性液体を5.3部に、メタノール25部を加え、さらにパラトルエンスルホン酸一水和物0.19部を加えた後、3時間リフラックスを行った。そこに水100部を加え、酢酸エチル100部で抽出を行った。抽出液を5%炭酸水素ナトリウム水溶液20部で分散洗浄して、分液した。次に、飽和塩化ナトリウム水溶液20部で分散洗浄し、分液した有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラム(溶媒:トルエン:酢酸エチル混合)にて精製し、減圧下で溶媒を留去した。得られた結晶をn−ヘプタンで分散洗浄を行った後、結晶を濾取し、30℃で減圧乾燥を行い白色結晶の式(D)で示される化合物を2.6部得た。以下に、IRスペクトルより得られた特徴的なピークおよびNMRのデータを示す。
IR(cm−1,KBr):3438,2942,1626,1497,1350,1029,754,694
1H−NMR(ppm,CDCl3):δ=7.1〜6.9(m,6H)6.8〜6.6(m,4H)4.41(t,1H,J=4.1Hz,OH)3.9〜3.6(m,4H)3.19(s,3H,N−Me)。
次に、式(D)で示される化合物をもとにして、例示化合物(1−2)を合成した。3径フラスコに式(D)で示される化合物2.5部と乾燥テトラヒドロフラン25部を加えた。続いて、トリエチルアミン1.4部を注加し、氷水で冷却し、液温が3〜15℃となるように制御しながら塩化アクリロイル1.0部をゆっくり滴下した。その後、冷却を止め、室温下で2時間撹拌を行った。そこに10%水酸化ナトリウム水溶液25部を加え、撹拌後、酢酸エチル80部で2回抽出を行った。2回の抽出液を合わせ、飽和塩化ナトリウム水溶液40部で分散洗浄し、分液した有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラム(溶媒:トルエン:酢酸エチル混合)にて精製し、減圧下で溶媒を留去し、淡黄色液体の例示化合物(1−2)を2.6部得た。以下に、質量分析値、IRスペクトルより得られた特徴的なピークおよびNMRのデータを示す。
MS(Direct Prove):324.12
Calculated Exact Mass:324.15
IR(cm−1,Neat):2954,1725,1658,1652,1596,1496,1188,754,694
1H−NMR(ppm,CDCl3):δ=7.0〜6.8(m,6H)6.8〜6.6(m,4H)6.3〜6.0(m,2H)5.9〜5.7(m,1H)4.41(t,2H,J=5.5Hz)3.88(t,2H,J=5.5Hz)3.17(s,3H,N−Me)。
MS(Direct Prove):324.12
Calculated Exact Mass:324.15
IR(cm−1,Neat):2954,1725,1658,1652,1596,1496,1188,754,694
1H−NMR(ppm,CDCl3):δ=7.0〜6.8(m,6H)6.8〜6.6(m,4H)6.3〜6.0(m,2H)5.9〜5.7(m,1H)4.41(t,2H,J=5.5Hz)3.88(t,2H,J=5.5Hz)3.17(s,3H,N−Me)。
〔製造例3〕
例示化合物(1−3)の製造
まず、式(E)で示される化合物(1,3−ビス(3−ヒドロキシメチル−フェニル)−ウレア)を合成した。3径フラスコに3−アミノベンジルアルコール50.0部を入れ、3N塩酸水溶液162部をゆっくり滴下、その後30分撹拌を行った。これに尿素16.3部とイオン交換水65部を注加した後、10時間リフラックスを行った。冷却後、析出した結晶を濾取した。得られた結晶をイオン交換水400部にて分散洗浄後、濾取した。更にエタノール400部で分散洗浄後、濾取し、30℃で減圧乾燥を行い白色結晶の式(E)で示される化合物を33.7部得た。以下に、NMRのデータを示す。
1H−NMR(ppm,DMSO−d6):δ=8.56(s,2H,NH)7.5〜6.8(m,8H)5.12(t,2H,J=5.8Hz,OH)4.46(d,4H,J=5.8Hz)。
例示化合物(1−3)の製造
まず、式(E)で示される化合物(1,3−ビス(3−ヒドロキシメチル−フェニル)−ウレア)を合成した。3径フラスコに3−アミノベンジルアルコール50.0部を入れ、3N塩酸水溶液162部をゆっくり滴下、その後30分撹拌を行った。これに尿素16.3部とイオン交換水65部を注加した後、10時間リフラックスを行った。冷却後、析出した結晶を濾取した。得られた結晶をイオン交換水400部にて分散洗浄後、濾取した。更にエタノール400部で分散洗浄後、濾取し、30℃で減圧乾燥を行い白色結晶の式(E)で示される化合物を33.7部得た。以下に、NMRのデータを示す。
1H−NMR(ppm,DMSO−d6):δ=8.56(s,2H,NH)7.5〜6.8(m,8H)5.12(t,2H,J=5.8Hz,OH)4.46(d,4H,J=5.8Hz)。
次に、式(E)で示される化合物をもとにして、式(F)で示される化合物(1,3−ビス[3−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシメチル)−フェニル]−ウレア)を合成した。3径フラスコに式(E)で示される化合物28.5部、およびN,N−ジメチルホルムアミド300部を入れ、溶解させた。これにパラトルエンスルホン酸一水和物0.4部を加えた後、80℃まで昇温した。そこに3,4−ジヒドロ−2H−ピラン35.2部をゆっくり滴下し、その後、80〜85℃で5時間加熱撹拌を行った。冷却後、水600部を加え、酢酸エチル500部で2回抽出を行った。2回の抽出液を合わせ、水300部で分散洗浄し、分液した有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。残渣を酢酸エチルで再結晶し、得られた結晶を50〜60℃の温水で分散洗浄を行った後、結晶を濾取し、30℃で減圧乾燥を行い白色結晶の式(F)で示される化合物33.8部を得た。以下に、IRスペクトルより得られた特徴的なピークおよびNMRのデータを示す。
IR(cm−1,KBr):3325,2952,1656,1567,1034
1H−NMR(ppm,DMSO−d6):δ=8.63(s,2H,NH)7.5〜6.9(m,8H)4.8〜4.3(m,6H)4.0〜3.3(m,4H)1.7〜1.4(Br,12H)。
IR(cm−1,KBr):3325,2952,1656,1567,1034
1H−NMR(ppm,DMSO−d6):δ=8.63(s,2H,NH)7.5〜6.9(m,8H)4.8〜4.3(m,6H)4.0〜3.3(m,4H)1.7〜1.4(Br,12H)。
次に、式(F)で示される化合物をもとにして、式(G)で示される化合物(1,3−ビス(3−ヒドロキシメチル−フェニル)−1,3−ジメチル−ウレア)を合成した。窒素雰囲気下、3径フラスコに60%水素化ナトリウム7.2部、および乾燥N,N−ジメチルホルムアミド360部を入れ、氷水で冷却した。その中に式(F)で示される化合物36.0部を液温が4〜7℃となるように制御しながら添加した。その後、室温下で30分間撹拌を行った。次に、氷水で冷却し、ヨウ化メチル34.8部を液温が4〜11℃となるように制御しながら滴下した。その後、冷却を止め、室温で1時間撹拌を行った後、水750部を加え、酢酸エチル300部で3回抽出を行った。3回の抽出液を合わせ、水200部で2回洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。残渣にエタノール400部を加え、さらにパラトルエンスルホン酸一水和物2.1部を加えた後、3.5時間リフラックスを行った。減圧下で溶媒を留去し、そこに酢酸エチル900部、5%炭酸水素ナトリウム水溶液180部を加え、抽出を行った。抽出液を飽和塩化ナトリウム水溶液100部で分散洗浄し、分液した有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラム(溶媒:トルエン:テトラヒドロフラン混合)にて精製し、減圧下で溶媒を留去した。得られた結晶をn−ヘプタンで分散洗浄を行った後、結晶を濾取し、30℃で減圧乾燥を行い白色結晶の式(G)で示される化合物19.4部を得た。以下に、IRスペクトルより得られた特徴的なピークおよびNMRのデータを示す。
IR(cm−1,KBr):3394,2855,1666,1634,1602,1439,1372,700
1H−NMR(ppm,CDCl3):δ=7.1〜6.6(m,8H)4.43(d,4H,CH2−OH)3.22(s,6H,N−Me)2.60(brs,2H,OH)。
IR(cm−1,KBr):3394,2855,1666,1634,1602,1439,1372,700
1H−NMR(ppm,CDCl3):δ=7.1〜6.6(m,8H)4.43(d,4H,CH2−OH)3.22(s,6H,N−Me)2.60(brs,2H,OH)。
次に、式(G)で示される化合物をもとにして、例示化合物(1−3)を合成した。3径フラスコに式(G)で示される化合物19.0部と乾燥テトラヒドロフラン600部を加えた。続いて、トリエチルアミン21.1部を注加し、氷水で冷却し、液温が4〜15℃となるように制御しながら塩化アクリロイル17.2部をゆっくり滴下した。その後、冷却を止め、室温下で2時間撹拌を行った。そこに10%水酸化ナトリウム水溶液150部を加え、撹拌後、酢酸エチル200部で2回抽出を行った。2回の抽出液を合わせ、飽和塩化ナトリウム水溶液200部で分散洗浄し、分液した有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。残渣にトルエン200部を加え溶解し、活性炭1部を加え室温下で30分撹拌を行った後、ろ過し、ろ液に対してい減圧下で溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラム(溶媒:トルエン:酢酸エチル混合)にて精製し、減圧下で溶媒を留去し、淡黄色粘性液体の例示化合物(1−3)15.7部を得た。以下に、質量分析値、IRスペクトルより得られた特徴的なピークおよびNMRのデータを示す。
MS(Direct Prove):408.03
Calculated Exact Mass:408.17
IR(cm−1,Neat):2958,1725,1659,1407,1354,1187,698
1H−NMR(ppm,CDCl3):δ=7.0〜6.7(m,8H)6.4〜5.8(m,6H)4.98(s,4H)
3.20(s,6H,N−Me)。
MS(Direct Prove):408.03
Calculated Exact Mass:408.17
IR(cm−1,Neat):2958,1725,1659,1407,1354,1187,698
1H−NMR(ppm,CDCl3):δ=7.0〜6.7(m,8H)6.4〜5.8(m,6H)4.98(s,4H)
3.20(s,6H,N−Me)。
〔製造例4〕
例示化合物(2−1)の合成
まず、式(H)で示される化合物(1−(2−ヒドロキシエチル)−3−{3−[3−(2−ヒドロキシエチル)−3−フェニルウレイド]−フェニル}−1−フェニルウレア)を合成した。3径フラスコにN−(2−ヒドロキシエチル)アニリン21.4部とテトラヒドロフラン110部を加え、その溶液に1,3−フェニレンジイソシアネート5.0部をテトラヒドロフラン50部に溶解させた溶液を撹拌下でゆっくり滴下した。その後、2時間リフラックスを行った後、減圧下で溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラム(溶媒:トルエン:テトラヒドロフラン混合)にて精製し、減圧下で溶媒を留去した。得られた結晶をトルエンで分散洗浄を行った後、結晶を濾取し、30℃で減圧乾燥を行い白色結晶の式(H)で示される化合物11.7部を得た。以下に、質量分析値、IRスペクトルより得られた特徴的なピークおよびNMRのデータを示す。
MS(Direct Prove):434.16
Calculated Exact Mass:434.20
IR(cm−1,KBr):3432,3318,1674,1642,1530,1488,1420,1292,1209,1051,700
1H−NMR(ppm,DMSO):δ=7.84(s,2H,NH)7.41(t,3H,J=7.7Hz)7.34〜7.25(m,7H)7.04〜7.00(m,3H)4.90(t,2H,J=5.0Hz,OH)3.71(t,4H,J=6.1Hz)3.53(q,4H)。
例示化合物(2−1)の合成
まず、式(H)で示される化合物(1−(2−ヒドロキシエチル)−3−{3−[3−(2−ヒドロキシエチル)−3−フェニルウレイド]−フェニル}−1−フェニルウレア)を合成した。3径フラスコにN−(2−ヒドロキシエチル)アニリン21.4部とテトラヒドロフラン110部を加え、その溶液に1,3−フェニレンジイソシアネート5.0部をテトラヒドロフラン50部に溶解させた溶液を撹拌下でゆっくり滴下した。その後、2時間リフラックスを行った後、減圧下で溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラム(溶媒:トルエン:テトラヒドロフラン混合)にて精製し、減圧下で溶媒を留去した。得られた結晶をトルエンで分散洗浄を行った後、結晶を濾取し、30℃で減圧乾燥を行い白色結晶の式(H)で示される化合物11.7部を得た。以下に、質量分析値、IRスペクトルより得られた特徴的なピークおよびNMRのデータを示す。
MS(Direct Prove):434.16
Calculated Exact Mass:434.20
IR(cm−1,KBr):3432,3318,1674,1642,1530,1488,1420,1292,1209,1051,700
1H−NMR(ppm,DMSO):δ=7.84(s,2H,NH)7.41(t,3H,J=7.7Hz)7.34〜7.25(m,7H)7.04〜7.00(m,3H)4.90(t,2H,J=5.0Hz,OH)3.71(t,4H,J=6.1Hz)3.53(q,4H)。
次に、式(H)で示される化合物をもとにして、式(I)で示される化合物(1−(2−ヒドロキシエチル)−3−{3−[3−(2−ヒドロキシエチル)−1−メチル−3−フェニルウレイド]−フェニル}−3−メチル−1−フェニルウレア)を合成した。3径フラスコに式(H)で示される化合物10.5部、乾燥テトラヒドロフラン100部、およびパラトルエンスルホン酸一水和物0.5部を加えた。そこに3,4−ジヒドロ−2H−ピラン6.1部をゆっくり滴下し、その後、5時間撹拌を行った。この反応液に水200部を加え、酢酸エチル80部で3回抽出を行った。3回の抽出液を合わせ、5%炭酸水素ナトリウム水溶液40部で分散洗浄し、分液した有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液60部で分散洗浄した。分液した有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去し、黄色粘性液体を16.0部得た。
窒素雰囲気下、3径フラスコに60%水素化ナトリウム2.1部、および乾燥N,N−ジメチルホルムアミド10部を入れ、氷水で冷却した。その中に、得られた黄色粘性液体16.0部を乾燥N,N−ジメチルホルムアミド50部に溶解させた溶液を液温が2〜12℃となるように制御しながら滴下した。その後、30分間撹拌した。次に、ヨウ化メチル10.3部を液温が2〜12℃となるように制御しながら滴下した。その後、冷却を止め、室温で1時間撹拌を行った後、水100部を加え、酢酸エチル70部で3回抽出を行った。3回の抽出液を合わせ、水50部で2回洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた。減圧下で溶媒を留去し、黄色粘性液体を16.2部得た。得られた黄色粘性液体を16.2部にエタノール80部を加え、さらにパラトルエンスルホン酸一水和物0.3部を加えた後、7時間リフラックスを行った。そこに5%炭酸水素ナトリウム水溶液40部を加え、酢酸エチル150部で抽出を行った。抽出液を飽和塩化ナトリウム水溶液40部で分散洗浄し、分液した有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラム(溶媒:トルエン:テトラヒドロフラン混合)にて精製し、減圧下で溶媒を留去した。得られた結晶をn−ヘキサンで分散洗浄を行った後、結晶を濾取し、30℃で減圧乾燥を行い白色結晶の式(I)で示される化合物7.4部を得た。以下に、質量分析値、IRスペクトルより得られた特徴的なピークおよびNMRのデータを示す。
MS(Direct Prove):462.37
Calculated Exact Mass:462.23
IR(cm−1,KBr):3408,2931,1619,1593,1385,1067,696
1H−NMR(ppm,DMSO):δ=7.04〜6.19(m,14H)4.67(br,2H,OH)3.51(brs,8H)2.8(s,6H,N−Me)。
窒素雰囲気下、3径フラスコに60%水素化ナトリウム2.1部、および乾燥N,N−ジメチルホルムアミド10部を入れ、氷水で冷却した。その中に、得られた黄色粘性液体16.0部を乾燥N,N−ジメチルホルムアミド50部に溶解させた溶液を液温が2〜12℃となるように制御しながら滴下した。その後、30分間撹拌した。次に、ヨウ化メチル10.3部を液温が2〜12℃となるように制御しながら滴下した。その後、冷却を止め、室温で1時間撹拌を行った後、水100部を加え、酢酸エチル70部で3回抽出を行った。3回の抽出液を合わせ、水50部で2回洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた。減圧下で溶媒を留去し、黄色粘性液体を16.2部得た。得られた黄色粘性液体を16.2部にエタノール80部を加え、さらにパラトルエンスルホン酸一水和物0.3部を加えた後、7時間リフラックスを行った。そこに5%炭酸水素ナトリウム水溶液40部を加え、酢酸エチル150部で抽出を行った。抽出液を飽和塩化ナトリウム水溶液40部で分散洗浄し、分液した有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラム(溶媒:トルエン:テトラヒドロフラン混合)にて精製し、減圧下で溶媒を留去した。得られた結晶をn−ヘキサンで分散洗浄を行った後、結晶を濾取し、30℃で減圧乾燥を行い白色結晶の式(I)で示される化合物7.4部を得た。以下に、質量分析値、IRスペクトルより得られた特徴的なピークおよびNMRのデータを示す。
MS(Direct Prove):462.37
Calculated Exact Mass:462.23
IR(cm−1,KBr):3408,2931,1619,1593,1385,1067,696
1H−NMR(ppm,DMSO):δ=7.04〜6.19(m,14H)4.67(br,2H,OH)3.51(brs,8H)2.8(s,6H,N−Me)。
次に、式(I)で示される化合物をもとにして、例示化合物(2−1)を合成した。3径フラスコに式(I)で示される化合物6.2部と乾燥テトラヒドロフラン120部を加えた。続いて、トリエチルアミン6.8部を注加し、氷水で冷却し、液温が3〜11℃となるように制御しながら塩化アクリロイル4.9部をゆっくり滴下した。その後、冷却を止め、室温下で1時間、続いて35℃で1時間撹拌を行った。そこに1%水酸化ナトリウム水溶液100部を加え、撹拌後、酢酸エチル100部で2回抽出を行った。2抽出液を合わせ、飽和塩化ナトリウム水溶液80部で分散洗浄し、分液した有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラム(溶媒:トルエン:酢酸エチル混合)にて精製し、減圧下で溶媒を留去し、淡黄色結晶を得た。この結晶をトルエン:ヘキサン混合溶媒で再結晶を行い、白色結晶の例示化合物(2−1)2.8部を得た。以下に、質量分析値、IRスペクトルより得られた特徴的なピークおよびNMRのデータを示す。
MS(Direct Prove):570.02
Calculated Exact Mass:570.25
IR(cm−1,Neat):1736,1652,1376,1207,985,762,696
1H−NMR(ppm,CDCl3):δ=6.99〜5.69(m,20H)4.36(t,4H,J=5.6Hz)3.81(t,4H,J=5.6Hz)2.91(s,6H,N−Me)。
MS(Direct Prove):570.02
Calculated Exact Mass:570.25
IR(cm−1,Neat):1736,1652,1376,1207,985,762,696
1H−NMR(ppm,CDCl3):δ=6.99〜5.69(m,20H)4.36(t,4H,J=5.6Hz)3.81(t,4H,J=5.6Hz)2.91(s,6H,N−Me)。
〔製造例5〕
例示化合物(2−4)の合成
前記式(I)で示される化合物をもとにして、例示化合物(2−4)を合成した。3径フラスコに式(I)で示される化合物1.0部と乾燥テトラヒドロフラン20部を加えた。続いて、トリエチルアミン1.1部を注加し、氷水で冷却し、液温が1〜5℃となるように制御しながら塩化メタクリロイル0.9部をゆっくり滴下した。その後、冷却を止め、室温下で3時間撹拌を行った。そこに10%水酸化ナトリウム水溶液10部を加え、撹拌後、酢酸エチル30部で2回抽出を行った。2回の抽出液を合わせ、飽和塩化ナトリウム水溶液20部で分散洗浄し、分液した有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラム(溶媒:n−ヘキサン:酢酸エチル混合)にて精製し、減圧下で溶媒を留去し、薄黄色結晶を得た。この結晶をトルエン:n−ヘキサン混合溶媒で再結晶を行い、白色結晶の例示化合物(2−4)0.6部を得た。以下に、質量分析値、IRスペクトルより得られた特徴的なピークおよびNMRのデータを示す。
MS(Direct Prove):598.32
Calculated Exact Mass:598.28
IR(cm−1,Neat):2954,1732,1719,1649,1597、1367,1166,764,698
1H−NMR(ppm,CDCl3):δ=6.99〜5.89(m,16H)5.49(t,4H,J=1.7Hz)4.34(t,4H,J=5.6Hz)3.83(t,4H,J=5.6Hz)2.90(s,6H,N−Me)1.85(s,6H)。
例示化合物(2−4)の合成
前記式(I)で示される化合物をもとにして、例示化合物(2−4)を合成した。3径フラスコに式(I)で示される化合物1.0部と乾燥テトラヒドロフラン20部を加えた。続いて、トリエチルアミン1.1部を注加し、氷水で冷却し、液温が1〜5℃となるように制御しながら塩化メタクリロイル0.9部をゆっくり滴下した。その後、冷却を止め、室温下で3時間撹拌を行った。そこに10%水酸化ナトリウム水溶液10部を加え、撹拌後、酢酸エチル30部で2回抽出を行った。2回の抽出液を合わせ、飽和塩化ナトリウム水溶液20部で分散洗浄し、分液した有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラム(溶媒:n−ヘキサン:酢酸エチル混合)にて精製し、減圧下で溶媒を留去し、薄黄色結晶を得た。この結晶をトルエン:n−ヘキサン混合溶媒で再結晶を行い、白色結晶の例示化合物(2−4)0.6部を得た。以下に、質量分析値、IRスペクトルより得られた特徴的なピークおよびNMRのデータを示す。
MS(Direct Prove):598.32
Calculated Exact Mass:598.28
IR(cm−1,Neat):2954,1732,1719,1649,1597、1367,1166,764,698
1H−NMR(ppm,CDCl3):δ=6.99〜5.89(m,16H)5.49(t,4H,J=1.7Hz)4.34(t,4H,J=5.6Hz)3.83(t,4H,J=5.6Hz)2.90(s,6H,N−Me)1.85(s,6H)。
〔製造例6〕
例示化合物(1−15)の合成
前記式(C)で示される化合物をもとにして例示化合物(1−15)を合成した。3径フラスコに式(C)で示される化合物5.0部と乾燥テトラヒドロフラン100部を加え、続いてトリエチルアミン7.7部を注加し、氷水で冷却し、液温が4〜10℃となるように制御しながら塩化メタクリロイル6.4部をゆっくり滴下した。その後、冷却を止め、室温で4時間撹拌を行った。そこに、10%水酸化ナトリウム水溶液50部を加え、撹拌後、酢酸エチル50部で2回抽出を行った。2回の抽出液を合わせて、飽和塩化ナトリウム水溶液60部で分散洗浄し、分液した有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラム(溶媒:n−ヘキサン:酢酸エチル混合)にて精製し、減圧下で溶媒を留去し、薄黄色結晶を得た。この結晶をn−ヘキサンで再結を行い、白色結晶の例示化合物(1−15)を3.1部得た。以下に、質量分析値、IRスペクトルより得られた特徴的なピークおよびNMRのデータを示す。
MS(Direct Prove):464.33
Calculated Exact Mass:464.23
IR(cm−1,Neat):2960,1710,1663,1517,1357、1324,1160
1H−NMR(ppm,CDCl3):δ=6.90(d,4H,J=8.5Hz)6.70(d,4H,J=8.5Hz)6.09(Brs,2H)5.55(t,2H,J=1.5Hz)4.22(t,4H,J=7.0Hz)3.15(s,6H,N−Me)2.82(t,4H,J=7.0Hz)1.94(s,6H)。
例示化合物(1−15)の合成
前記式(C)で示される化合物をもとにして例示化合物(1−15)を合成した。3径フラスコに式(C)で示される化合物5.0部と乾燥テトラヒドロフラン100部を加え、続いてトリエチルアミン7.7部を注加し、氷水で冷却し、液温が4〜10℃となるように制御しながら塩化メタクリロイル6.4部をゆっくり滴下した。その後、冷却を止め、室温で4時間撹拌を行った。そこに、10%水酸化ナトリウム水溶液50部を加え、撹拌後、酢酸エチル50部で2回抽出を行った。2回の抽出液を合わせて、飽和塩化ナトリウム水溶液60部で分散洗浄し、分液した有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラム(溶媒:n−ヘキサン:酢酸エチル混合)にて精製し、減圧下で溶媒を留去し、薄黄色結晶を得た。この結晶をn−ヘキサンで再結を行い、白色結晶の例示化合物(1−15)を3.1部得た。以下に、質量分析値、IRスペクトルより得られた特徴的なピークおよびNMRのデータを示す。
MS(Direct Prove):464.33
Calculated Exact Mass:464.23
IR(cm−1,Neat):2960,1710,1663,1517,1357、1324,1160
1H−NMR(ppm,CDCl3):δ=6.90(d,4H,J=8.5Hz)6.70(d,4H,J=8.5Hz)6.09(Brs,2H)5.55(t,2H,J=1.5Hz)4.22(t,4H,J=7.0Hz)3.15(s,6H,N−Me)2.82(t,4H,J=7.0Hz)1.94(s,6H)。
<電子写真感光体の作製>
〔実施例1〕
外径30.0mm、長さ357.5mm、肉厚0.7mmの円筒状アルミニウムシリンダーを支持体(導電性支持体)とした。
次に、酸化亜鉛粒子(比表面積:19m2/g、粉体抵抗率:4.7×106Ω・cm)10部をトルエン50部と撹拌混合し、これにシランカップリング剤0.08部を添加し、6時間攪拌した。その後、トルエンを減圧留去して、130℃で6時間加熱乾燥し、表面処理された酸化亜鉛粒子を得た。シランカップリング剤として、信越化学工業(株)製のKBM602(化合物名:N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン)を用いた。
次に、ポリビニルブチラール樹脂(重量平均分子量:40000、商品名:BM−1、積水化学工業(株)製)15部およびブロック化イソシアネート(商品名:スミジュール3175、住化バイエルウレタン(株)製)15部をメチルエチルケトン73.5部と1−ブタノール73.5部の混合溶液に溶解させた。この溶液に前記表面処理された酸化亜鉛粒子80.8部、および2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン(東京化成工業(株)製)0.8部を加え、これを直径0.8mmのガラスビーズを用いたサンドミル装置で23±3℃雰囲気下で3時間分散した。分散後、シリコーンオイル(商品名:SH28PA、東レダウコーニング(株)製)0.01部、架橋ポリメタクリル酸メチル(PMMA)粒子(商品名:TECHPOLYMER SSX−102、積水化成品工業(株)製、平均一次粒径2.5μm)を5.6部加えて攪拌し、下引き層用塗布液を調製した。
この下引き層用塗布液を前記支持体上に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を40分間160℃で乾燥させて、膜厚が18μmの下引き層を形成した。
〔実施例1〕
外径30.0mm、長さ357.5mm、肉厚0.7mmの円筒状アルミニウムシリンダーを支持体(導電性支持体)とした。
次に、酸化亜鉛粒子(比表面積:19m2/g、粉体抵抗率:4.7×106Ω・cm)10部をトルエン50部と撹拌混合し、これにシランカップリング剤0.08部を添加し、6時間攪拌した。その後、トルエンを減圧留去して、130℃で6時間加熱乾燥し、表面処理された酸化亜鉛粒子を得た。シランカップリング剤として、信越化学工業(株)製のKBM602(化合物名:N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン)を用いた。
次に、ポリビニルブチラール樹脂(重量平均分子量:40000、商品名:BM−1、積水化学工業(株)製)15部およびブロック化イソシアネート(商品名:スミジュール3175、住化バイエルウレタン(株)製)15部をメチルエチルケトン73.5部と1−ブタノール73.5部の混合溶液に溶解させた。この溶液に前記表面処理された酸化亜鉛粒子80.8部、および2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン(東京化成工業(株)製)0.8部を加え、これを直径0.8mmのガラスビーズを用いたサンドミル装置で23±3℃雰囲気下で3時間分散した。分散後、シリコーンオイル(商品名:SH28PA、東レダウコーニング(株)製)0.01部、架橋ポリメタクリル酸メチル(PMMA)粒子(商品名:TECHPOLYMER SSX−102、積水化成品工業(株)製、平均一次粒径2.5μm)を5.6部加えて攪拌し、下引き層用塗布液を調製した。
この下引き層用塗布液を前記支持体上に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を40分間160℃で乾燥させて、膜厚が18μmの下引き層を形成した。
次に、CuKα特性X線回折におけるブラッグ角2θ±0.2°の7.4°および28.2°にピークを有する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶(電荷発生物質)を用意した。このヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶2部、式(J)で示されるカリックスアレーン化合物0.02部、ポリビニルブチラール(商品名:エスレックBX−1、積水化学工業(株)製)1部、および、シクロヘキサノン60部を、直径1mmガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、4時間分散処理した。その後、酢酸エチル70部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調製した。この電荷発生層用塗布液を下引き層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を15分間80℃で乾燥させることによって、膜厚0.17μmの電荷発生層を形成した。
次に、式(K)で示される化合物6部、式(L)で示される化合物3部、下記式(M)で示される化合物1部、および、ビスフェノールZ型ポリカーボネート樹脂(商品名:ユーピロンZ400、三菱エンジニアリングプラスチックス(株)製)10部を、モノクロロベンゼン60部/ジメトキシメタン20部の混合溶剤に溶解させることによって、正孔輸送層用塗布液を調製した。この正孔輸送層用塗布液を電荷発生層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を50分間100℃で乾燥させることによって、膜厚18μmの正孔輸送層を形成した。
次に、No.36で示される化合物3部、および例示化合物(1−1)を0.3部、1−メトキシ−2−プロパノール5部およびエチレングリコールジメチルエーテル2部に溶解させて保護層用塗布液を調製した。この保護層用塗布液を正孔輸送層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を10分間50℃で乾燥させ、下記の条件で電子線照射と加熱による重合硬化処理を行った。なお、No.36で示される化合物の連鎖重合性官能基以外の構造は、28個のsp2炭素原子を含む共役構造を有する。また、この共役構造中には、16個のsp2炭素原子を含む縮合多環構造(ピレン構造)と12個のsp2炭素原子を含む縮合多環構造(フルオレン構造)を有している。
酸素濃度100ppm以下の雰囲気にて、アルミニウムシリンダーを300rpmの速度で回転させながら、電子線照射装置を用いて、照射距離30mm、加速電圧70kV、ビーム電流10mA、照射時間6.4秒、の条件で電子線照射をした。電子線照射後、誘導加熱装置を用いて保護層塗膜表面を20秒かけて130℃に到達させた。次に、上記アルミニウムシリンダーを大気雰囲気に取り出し、さらに10分間100℃で加熱することによって、膜厚3μmの保護層を形成し、実施例感光体1を作製した。
酸素濃度100ppm以下の雰囲気にて、アルミニウムシリンダーを300rpmの速度で回転させながら、電子線照射装置を用いて、照射距離30mm、加速電圧70kV、ビーム電流10mA、照射時間6.4秒、の条件で電子線照射をした。電子線照射後、誘導加熱装置を用いて保護層塗膜表面を20秒かけて130℃に到達させた。次に、上記アルミニウムシリンダーを大気雰囲気に取り出し、さらに10分間100℃で加熱することによって、膜厚3μmの保護層を形成し、実施例感光体1を作製した。
〔実施例2〕
No.51で示される化合物を4部、例示化合物(1−2)を0.4部を、エチレングリコールジメチルエーテル100部に溶解させて保護層用塗布液を調製した。この保護層用塗布液を正孔輸送層上にスプレー塗布し、得られた塗膜を10分間50℃で乾燥させ、実施例1と同様の条件で電子線照射と加熱により、重合硬化させた。次に、上記支持体を大気雰囲気に取り出し、さらに10分間100℃で加熱することによって、膜厚3μmの保護層を形成した。以上のようにして保護層の形成以外は実施例1と同様にして実施例感光体2を作製した。
なお、No.51で示される化合物の連鎖重合性官能基以外の構造は、34個のsp2炭素原子を含む共役構造を有する。また、この共役構造中には、16個のsp2炭素原子を含む縮合多環構造(フルオランテン構造)と12個のsp2炭素原子を含む縮合多環構造(フルオレン構造)を有している。
No.51で示される化合物を4部、例示化合物(1−2)を0.4部を、エチレングリコールジメチルエーテル100部に溶解させて保護層用塗布液を調製した。この保護層用塗布液を正孔輸送層上にスプレー塗布し、得られた塗膜を10分間50℃で乾燥させ、実施例1と同様の条件で電子線照射と加熱により、重合硬化させた。次に、上記支持体を大気雰囲気に取り出し、さらに10分間100℃で加熱することによって、膜厚3μmの保護層を形成した。以上のようにして保護層の形成以外は実施例1と同様にして実施例感光体2を作製した。
なお、No.51で示される化合物の連鎖重合性官能基以外の構造は、34個のsp2炭素原子を含む共役構造を有する。また、この共役構造中には、16個のsp2炭素原子を含む縮合多環構造(フルオランテン構造)と12個のsp2炭素原子を含む縮合多環構造(フルオレン構造)を有している。
〔実施例3〕
実施例2で使用したNo.51で示される化合物を、No.57に変更し、例示化合物(1−2)を(1−1)に変更した。それ以外は実施例感光体2と同様に電子写真感光体を作製した。作製した保護層の膜厚は3μmであった。
なお、No.57で示される化合物の連鎖重合性官能基以外の構造は、32個のsp2炭素原子を含む共役構造を有する。また、この共役構造中には、14個のsp2炭素原子を含む縮合多環構造(アントラセン構造)と12個のsp2炭素原子を含む縮合多環構造(フルオレン構造)を有している。
実施例2で使用したNo.51で示される化合物を、No.57に変更し、例示化合物(1−2)を(1−1)に変更した。それ以外は実施例感光体2と同様に電子写真感光体を作製した。作製した保護層の膜厚は3μmであった。
なお、No.57で示される化合物の連鎖重合性官能基以外の構造は、32個のsp2炭素原子を含む共役構造を有する。また、この共役構造中には、14個のsp2炭素原子を含む縮合多環構造(アントラセン構造)と12個のsp2炭素原子を含む縮合多環構造(フルオレン構造)を有している。
〔実施例4〕
No.36で示される化合物を、No.45に変更し、例示化合物(1−1)を(2−1)に変更した以外は実施例感光体1と同様にして、実施例感光体4を作製した。作製した保護層の膜厚は3μmであった。
なお、No.45で示される化合物の連鎖重合性官能基以外の構造は、34個のsp2炭素原子を含む共役構造を有する。また、この共役構造中には、16個のsp2炭素原子を含む縮合多環構造(ピレン構造)と12個のsp2炭素原子を含む縮合多環構造(フルオレン構造)を有している。
No.36で示される化合物を、No.45に変更し、例示化合物(1−1)を(2−1)に変更した以外は実施例感光体1と同様にして、実施例感光体4を作製した。作製した保護層の膜厚は3μmであった。
なお、No.45で示される化合物の連鎖重合性官能基以外の構造は、34個のsp2炭素原子を含む共役構造を有する。また、この共役構造中には、16個のsp2炭素原子を含む縮合多環構造(ピレン構造)と12個のsp2炭素原子を含む縮合多環構造(フルオレン構造)を有している。
〔実施例5〕
実施例2で使用したNo.51で示される化合物を、No.60に変更し、例示化合物(1−2)を(1−3)に変更した。それ以外は実施例感光体2と同様に電子写真感光体を作製した。作製した保護層の膜厚は3μmであった。
なお、No.60で示される化合物の連鎖重合性官能基以外の構造は、36個のsp2炭素原子を含む共役構造を有する。また、この共役構造中には、12個のsp2炭素原子を含む縮合多環構造(フルオレン構造)を3単位有している。
実施例2で使用したNo.51で示される化合物を、No.60に変更し、例示化合物(1−2)を(1−3)に変更した。それ以外は実施例感光体2と同様に電子写真感光体を作製した。作製した保護層の膜厚は3μmであった。
なお、No.60で示される化合物の連鎖重合性官能基以外の構造は、36個のsp2炭素原子を含む共役構造を有する。また、この共役構造中には、12個のsp2炭素原子を含む縮合多環構造(フルオレン構造)を3単位有している。
〔実施例6〕
実施例2で使用したNo.51で示される化合物を、No.92に変更し、例示化合物(1−2)を(2−4)を1.2部に変更した。それ以外は実施例感光体2と同様に電子写真感光体を作製した。作製した保護層の膜厚は3μmであった。
なお、No.92で示される化合物の連鎖重合性官能基以外の構造は、38個のsp2炭素原子を含む共役構造を有する。また、この共役構造中には、14個のsp2炭素原子を含む縮合多環構造(アントラセン構造)と12個のsp2炭素原子を含む縮合多環構造(フルオレン構造)を2単位有している。
実施例2で使用したNo.51で示される化合物を、No.92に変更し、例示化合物(1−2)を(2−4)を1.2部に変更した。それ以外は実施例感光体2と同様に電子写真感光体を作製した。作製した保護層の膜厚は3μmであった。
なお、No.92で示される化合物の連鎖重合性官能基以外の構造は、38個のsp2炭素原子を含む共役構造を有する。また、この共役構造中には、14個のsp2炭素原子を含む縮合多環構造(アントラセン構造)と12個のsp2炭素原子を含む縮合多環構造(フルオレン構造)を2単位有している。
〔実施例7〕
保護層を以下のように形成した以外は、実施例感光体1と同様にして電子写真感光体を製造した。
No.26で示される化合物20部、例示化合物(1−15)を2部、光重合開始剤として1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン2部、2,2−ビス(4,4−ジ−t−ブチルパーオキシシクロヘキシル)プロパン2部、テトラヒドロフラン580部を混合して保護層用塗布液を調製した。この保護層用塗布液を正孔輸送層上にスプレー塗布し、得られた塗膜を10分間45℃で乾燥させた後、下記条件で光硬化処理をした。
酸素濃度6000〜8000ppmの雰囲気下で、上記保護層用塗布液の塗膜が塗布されたアルミニウムシリンダーを100rpmの速度で回転させた。そして、出力160W/cmのメタルハライドランプを用いて、照射距離100mm、照射強度600mW/cm2、照射時間2分、の条件で光照射した。光照射後、30分間135℃で加熱することによって、膜厚3μmの保護層を形成した。以上のようにして実施例感光体7を製造した。なお、No.26で示される化合物の連鎖重合性官能基以外の構造は、32個のsp2炭素原子を含む共役構造を有する。また、この共役構造中には、14個のsp2炭素原子を含む縮合多環構造(アントラセン構造)と12個のsp2炭素原子を含む縮合多環構造(フルオレン構造)を有している。
保護層を以下のように形成した以外は、実施例感光体1と同様にして電子写真感光体を製造した。
No.26で示される化合物20部、例示化合物(1−15)を2部、光重合開始剤として1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン2部、2,2−ビス(4,4−ジ−t−ブチルパーオキシシクロヘキシル)プロパン2部、テトラヒドロフラン580部を混合して保護層用塗布液を調製した。この保護層用塗布液を正孔輸送層上にスプレー塗布し、得られた塗膜を10分間45℃で乾燥させた後、下記条件で光硬化処理をした。
酸素濃度6000〜8000ppmの雰囲気下で、上記保護層用塗布液の塗膜が塗布されたアルミニウムシリンダーを100rpmの速度で回転させた。そして、出力160W/cmのメタルハライドランプを用いて、照射距離100mm、照射強度600mW/cm2、照射時間2分、の条件で光照射した。光照射後、30分間135℃で加熱することによって、膜厚3μmの保護層を形成した。以上のようにして実施例感光体7を製造した。なお、No.26で示される化合物の連鎖重合性官能基以外の構造は、32個のsp2炭素原子を含む共役構造を有する。また、この共役構造中には、14個のsp2炭素原子を含む縮合多環構造(アントラセン構造)と12個のsp2炭素原子を含む縮合多環構造(フルオレン構造)を有している。
〔比較例1〕
保護層を以下のように形成した以外は、実施例感光体1と同様にして電子写真感光体を製造した。
下記比較化合物No.1で示される化合物10部、トリメチロールプロパントリアクリレート10部、重合開始剤として1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン2部、2,2−ビス(4,4−ジ−t−ブチルパーオキシシクロヘキシル)プロパン2部、およびテトラヒドロフラン580部を混合して保護層用塗布液を調製した。この保護層用塗布液を実施例感光体9と同様にして、電荷輸送層上に塗膜を形成し、加熱硬化することで比較例感光体1を作製した。
(比較化合物No.1)
保護層を以下のように形成した以外は、実施例感光体1と同様にして電子写真感光体を製造した。
下記比較化合物No.1で示される化合物10部、トリメチロールプロパントリアクリレート10部、重合開始剤として1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン2部、2,2−ビス(4,4−ジ−t−ブチルパーオキシシクロヘキシル)プロパン2部、およびテトラヒドロフラン580部を混合して保護層用塗布液を調製した。この保護層用塗布液を実施例感光体9と同様にして、電荷輸送層上に塗膜を形成し、加熱硬化することで比較例感光体1を作製した。
(比較化合物No.1)
〔比較例2〕
保護層を以下のように形成した以外は、実施例感光体1と同様にして電子写真感光体を製造した。
下記比較化合物No.2で示される化合物10部、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート10部、テトラヒドロフラン570部を混合して保護層用塗布液を調製した。この保護層用塗布液を正孔輸送層上にスプレー塗布し、得られた塗膜を実施例1と同様の方法で電子線照射しその後加熱処理することで膜厚3μmの保護層を形成し、比較例感光体2を作製した。
(比較化合物No.2)
保護層を以下のように形成した以外は、実施例感光体1と同様にして電子写真感光体を製造した。
下記比較化合物No.2で示される化合物10部、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート10部、テトラヒドロフラン570部を混合して保護層用塗布液を調製した。この保護層用塗布液を正孔輸送層上にスプレー塗布し、得られた塗膜を実施例1と同様の方法で電子線照射しその後加熱処理することで膜厚3μmの保護層を形成し、比較例感光体2を作製した。
(比較化合物No.2)
〔比較例3〕
保護層を以下のように形成した以外は、実施例感光体1と同様にして、電子写真感光体を製造した。
下記比較化合物No.3で示される化合物4部をテトラヒドロフラン100部に溶解させることによって保護層用塗布液を調製した。この保護層用塗布液を正孔輸送層上にスプレー塗布し、実施例1と同様の方法で電子線照射しその後加熱処理することで膜厚3μmの保護層を形成し、比較例感光体3を作製した。
(比較化合物No.3)
保護層を以下のように形成した以外は、実施例感光体1と同様にして、電子写真感光体を製造した。
下記比較化合物No.3で示される化合物4部をテトラヒドロフラン100部に溶解させることによって保護層用塗布液を調製した。この保護層用塗布液を正孔輸送層上にスプレー塗布し、実施例1と同様の方法で電子線照射しその後加熱処理することで膜厚3μmの保護層を形成し、比較例感光体3を作製した。
(比較化合物No.3)
〔比較例4〕
保護層を以下のように形成した以外は、実施例感光体14と同様にして電子写真感光体を製造した。
下記比較化合物No.4で示される化合物4部を、テトラヒドロフラン100部に溶解させることによって、保護層用塗布液を調製した。この保護層用塗布液を正孔輸送層上にスプレー塗布し、得られた塗膜を60分間150℃で乾燥および加熱硬化することによって、膜厚4μmの保護層を形成し、比較例感光体4を作製した。
(比較化合物No.4)
保護層を以下のように形成した以外は、実施例感光体14と同様にして電子写真感光体を製造した。
下記比較化合物No.4で示される化合物4部を、テトラヒドロフラン100部に溶解させることによって、保護層用塗布液を調製した。この保護層用塗布液を正孔輸送層上にスプレー塗布し、得られた塗膜を60分間150℃で乾燥および加熱硬化することによって、膜厚4μmの保護層を形成し、比較例感光体4を作製した。
(比較化合物No.4)
<評価:感度と残留電位>
作製した実施例感光体1〜7と比較例感光体1〜4について、以下の条件で感度と残電の評価を行った。
感光体試験装置(商品名:CYNTHIA59、ジェンテック(株)製)を用いて、まず、温度23℃/湿度50%RHの環境下で、電子写真感光体の表面が−700Vになるように帯電装置の条件を設定した。これに波長780nmの単色光を照射して−700Vの電位を−200Vまで下げるのに必要な光量を測定し、感度(mJ/m2)とした。さらに、20(mJ/m2)の光量を照射した場合の感光体の電位を測定し、残留電位(V)とした。
作製した実施例感光体1〜7と比較例感光体1〜4について、以下の条件で感度と残電の評価を行った。
感光体試験装置(商品名:CYNTHIA59、ジェンテック(株)製)を用いて、まず、温度23℃/湿度50%RHの環境下で、電子写真感光体の表面が−700Vになるように帯電装置の条件を設定した。これに波長780nmの単色光を照射して−700Vの電位を−200Vまで下げるのに必要な光量を測定し、感度(mJ/m2)とした。さらに、20(mJ/m2)の光量を照射した場合の感光体の電位を測定し、残留電位(V)とした。
<評価:画像流れ1>
作製した実施例感光体1〜7と比較例感光体1〜4を使用して、以下の条件で画像流れ1を評価した。
電子写真装置には、キヤノン(株)製の複写機、商品名iR−C3380Fの改造機を使用した。改造点としては、像露光レーザーパワー、帯電ローラーから電子写真感光体の支持体に流れる電流量(以降、総電流とも呼ぶ)、帯電ローラーへの印加電圧の、調節及び測定ができるように改造した。さらにカセットヒーターを取外した。
まず、電子写真装置及び電子写真感光体を、温度30℃湿度80%RHの環境に24時間以上放置した後に、実施例および比較例の電子写真感光体を電子写真装置のシアン色のカートリッジに装着した。
次に、A4サイズ普通紙でシアン単色にてベタ画像の出力を行い、紙上の濃度が分光濃度計(商品名:X−rite504、X−rite(株)製)にて1.45となるように像露光光量を設定した。
次に、印加電圧を−400Vから100V間隔で−1600Vまで印加し、それぞれの印加電圧における総電流を測定した。そして、横軸に印加電圧を、縦軸に総電流をとったグラフを作成し、印加電圧−400V〜−800Vにおける一次近似曲線から乖離する電流分(以降、放電電流とも呼ぶ)が100μAとなる印加電圧を求めた。放電電流100μAとなる印加電圧における総電流値に、総電流を設定した。
作製した実施例感光体1〜7と比較例感光体1〜4を使用して、以下の条件で画像流れ1を評価した。
電子写真装置には、キヤノン(株)製の複写機、商品名iR−C3380Fの改造機を使用した。改造点としては、像露光レーザーパワー、帯電ローラーから電子写真感光体の支持体に流れる電流量(以降、総電流とも呼ぶ)、帯電ローラーへの印加電圧の、調節及び測定ができるように改造した。さらにカセットヒーターを取外した。
まず、電子写真装置及び電子写真感光体を、温度30℃湿度80%RHの環境に24時間以上放置した後に、実施例および比較例の電子写真感光体を電子写真装置のシアン色のカートリッジに装着した。
次に、A4サイズ普通紙でシアン単色にてベタ画像の出力を行い、紙上の濃度が分光濃度計(商品名:X−rite504、X−rite(株)製)にて1.45となるように像露光光量を設定した。
次に、印加電圧を−400Vから100V間隔で−1600Vまで印加し、それぞれの印加電圧における総電流を測定した。そして、横軸に印加電圧を、縦軸に総電流をとったグラフを作成し、印加電圧−400V〜−800Vにおける一次近似曲線から乖離する電流分(以降、放電電流とも呼ぶ)が100μAとなる印加電圧を求めた。放電電流100μAとなる印加電圧における総電流値に、総電流を設定した。
次に、A4サイズ、線幅0.1mm、線間隔10mmの正方形格子画像を、スキャナーから読み込み、シアン単色にて連続で5000枚出力した。画像出力後、電子写真装置の主電源を切って三日間放置した。放置後、電子写真装置の主電源を入れてすぐに、上記の正方形格子画像を同様に1枚出力して、出力画像の画像流れを目視し、下記の基準で画像流れ1を評価した。
評価ランクは以下の通りとした。
ランク5:格子画像に異常は認められない。
ランク4:格子画像の横線が破断しているが、縦線には異常は認められない。
ランク3:格子画像の横線が消失しているが、縦線には異常は認められない。
ランク2:格子画像の横線が消失しており、縦線が破断している。
ランク1:格子画像の横線が消失しており、縦線も消失している。
このとき、格子画像における横線とは、感光体の円筒軸方向と平行な線を指し、縦線とは感光体円筒軸方向と垂直な線を指す。
評価ランクは以下の通りとした。
ランク5:格子画像に異常は認められない。
ランク4:格子画像の横線が破断しているが、縦線には異常は認められない。
ランク3:格子画像の横線が消失しているが、縦線には異常は認められない。
ランク2:格子画像の横線が消失しており、縦線が破断している。
ランク1:格子画像の横線が消失しており、縦線も消失している。
このとき、格子画像における横線とは、感光体の円筒軸方向と平行な線を指し、縦線とは感光体円筒軸方向と垂直な線を指す。
<評価:摩耗量>
製造した実施例感光体1〜7と比較例感光体1〜4を使用して、以下の条件で保護層の摩耗量を評価した。
電子写真装置には、キヤノン(株)製の複写機、iR ADVANCE C5051Fの改造機を使用した。改造点は、像露光レーザーパワーの調節ができるようにした。
まず、電子写真感光体の100000枚出力前における保護層膜厚を、干渉膜厚計(商品名:MCPD−3700、大塚電子(株)製)を用いて測定した。
次に、電子写真装置及び電子写真感光体を、温度23℃湿度50%RHの環境に24時間以上放置した後に、電子写真感光体を電子写真装置のシアン色のカートリッジに装着した。
次に、A4サイズ普通紙でシアン単色にてハーフトーン画像の出力を行い、出力画像の濃度が分光濃度計(商品名:X−rite504、X−rite(株)製)にて0.85となるように像露光レーザーパワーを設定し、連続で100000枚出力した。
製造した実施例感光体1〜7と比較例感光体1〜4を使用して、以下の条件で保護層の摩耗量を評価した。
電子写真装置には、キヤノン(株)製の複写機、iR ADVANCE C5051Fの改造機を使用した。改造点は、像露光レーザーパワーの調節ができるようにした。
まず、電子写真感光体の100000枚出力前における保護層膜厚を、干渉膜厚計(商品名:MCPD−3700、大塚電子(株)製)を用いて測定した。
次に、電子写真装置及び電子写真感光体を、温度23℃湿度50%RHの環境に24時間以上放置した後に、電子写真感光体を電子写真装置のシアン色のカートリッジに装着した。
次に、A4サイズ普通紙でシアン単色にてハーフトーン画像の出力を行い、出力画像の濃度が分光濃度計(商品名:X−rite504、X−rite(株)製)にて0.85となるように像露光レーザーパワーを設定し、連続で100000枚出力した。
次に、電子写真装置から電子写真感光体を取出して100000枚出力後の保護層膜厚を測定し、100000枚出力前後の保護層膜厚の差分(すなわち、摩耗量)を算出した。以上の評価結果を表1に示す。
実施例感光体1〜7は、保護層の正孔輸送性物質として、本発明に係る正孔輸送性物質を用いている。正孔輸送能に必要な共役構造を有し、ハロゲン原子を有しているため、十分な電子写真特性を有し、さらに画像流れ特性を改善できるという特性を有する。一方、比較例感光体1〜4は、保護層の正孔輸送性物質として、芳香族アミン系化合物を使用している。そのため、感光体の感度特性及び残留電位特性は良好であるが、感光体表面の劣化に起因すると考えられる画像流れの抑制が十分ではなかった。
表1の結果より、感度、残留電位、実施例感光体は比較例感光体と遜色ない性能を有していながら、画像流れと摩耗量については、実施例感光体の方が比較例感光体よりも一段と良好な性能を有していた。
1 電子写真感光体
2 帯電手段
3 露光光
4 現像手段
5 転写手段
6 転写材
7 前露光光
8 クリーニング手段
9 プロセスカートリッジ
10 中間転写体
11 転写紙
12 給紙経路
13 給紙トレイ
14 二次転写手段
15 定着手段
16 排紙部
17 イエロー色用のプロセスカートリッジ
18 マゼンタ色用のプロセスカートリッジ
19 シアン色用のプロセスカートリッジ
20 ブラック色用のプロセスカートリッジ
2 帯電手段
3 露光光
4 現像手段
5 転写手段
6 転写材
7 前露光光
8 クリーニング手段
9 プロセスカートリッジ
10 中間転写体
11 転写紙
12 給紙経路
13 給紙トレイ
14 二次転写手段
15 定着手段
16 排紙部
17 イエロー色用のプロセスカートリッジ
18 マゼンタ色用のプロセスカートリッジ
19 シアン色用のプロセスカートリッジ
20 ブラック色用のプロセスカートリッジ
Claims (9)
- 導電性支持体上に感光層を有する電子写真感光体において、
該電子写真感光体が、連鎖重合性官能基を有する正孔輸送性化合物、及び、連鎖重合性官能基を有するウレア化合物を重合させて得られる重合物を含有する表面層を有し、
該正孔輸送性化合物が、
炭素原子、水素原子およびハロゲン原子のみからなる化合物、または、
炭素原子、水素原子、酸素原子およびハロゲン原子のみからなる化合物であり、
該ウレア化合物が式(1)または(2)のいずれかで示されることを
特徴とする電子写真感光体。
- 前記正孔輸送性化合物の連鎖重合性官能基以外の構造が、24個以上のsp2軌道を有する炭素原子(sp2炭素原子)を含む共役構造を有する構造であり、該共役構造の中に12個以上のsp2炭素原子を含む縮合多環構造を有する請求項1に記載の電子写真感光体。
- 前記正孔輸送性化合物の連鎖重合性官能基を水素原子に置き換えた化合物が、式(3)で示される化合物である請求項1または2に記載の電子写真感光体。
- 前記式(3)中の、R17のアレーンが、フルオレン、アントラセン、フェナントレン、フルオランテン、又はピレンである請求項3に記載の電子写真感光体。
- 前記連鎖重合性官能基を有する正孔輸送性化合物が有するハロゲン原子が、フッ素原子である請求項1〜4の何れか1項に記載の電子写真感光体。
- 前記連鎖重合性官能基を有する正孔輸送性化合物がフッ化アルキル基を有する化合物である請求項1〜5の何れか1項に記載の電子写真感光体。
- 前記連鎖重合性官能基が、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基である請求項1〜6の何れか1項に記載の電子写真感光体。
- 請求項1〜7の何れか1項に記載の電子写真感光体と、帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段及びクリーニング手段から選択される手段を有することを特徴とする電子写真装置。
- 請求項1〜8の何れか1項に記載の電子写真感光体と、帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段及びクリーニング手段から選択される手段を一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
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JP2015174934A JP2017049548A (ja) | 2015-09-04 | 2015-09-04 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、および電子写真装置 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018194794A (ja) * | 2017-05-22 | 2018-12-06 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、電子写真装置、プロセスカートリッジおよび電子写真感光体の製造方法 |
-
2015
- 2015-09-04 JP JP2015174934A patent/JP2017049548A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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