JP2017040628A - 磁気センサ - Google Patents

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敏史 矢野
Satoshi Yano
敏史 矢野
建一 青
Jian Yi Qing
青  建一
康夫 安藤
Yasuo Ando
康夫 安藤
幹彦 大兼
Mikihiko Okane
幹彦 大兼
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Abstract

【課題】磁気抵抗素子に対して新たに磁性膜を追加しなくてもピン層からの漏れ磁界を抑制できる構造の磁気センサを提供する。
【解決手段】センサ領域50と対向するヨーク領域60を備え、ヨーク領域60に備えたピン層60aの磁化方向を、ヨーク領域60と対応するセンサ領域50に備えられたピン層20の磁化方向と同方向とする。これにより、ヨーク領域60のピン層60aとセンサ領域50のピン層20との間で磁気回路が形成される。このため、ヨーク領域60のピン層60aが発生させる磁界の影響で、センサ領域50のピン層20の漏れ磁界の経路が変化し、漏れ磁界がヨーク領域60側に導かれる。よって、ピン層20の漏れ磁界が中間層30を超えて更にフリー層40に至ることを抑制できる。
【選択図】図1

Description

本発明は、ピン層、中間層およびフリー層を有する磁気抵抗素子を備えた磁気センサに関するものである。
従来より、磁化固定層に相当するピン層、中間層および磁界検出層に相当するフリー層を有する磁気抵抗素子を備えた磁気センサがある。磁気センサでは、ピン層からの漏れ磁界が検出精度を悪化させる要因の一つとなっている。具体的には、ピン層からの漏れ磁界が計測磁界を検知するフリー層に影響し、フリー層の磁化が変化することによって磁気センサの検出精度を悪化させている。
これを解決する構造として、特許文献1において、磁気抵抗素子に新たな磁性膜を追加する構造が提案されている。すなわち、ピン層、中間層およびフリー層を有する磁気抵抗素子のうちのピン層側の一面およびフリー層側の一面に、磁性膜として垂直材料層を配置した構造としている。このような構造とすることで、追加した磁性膜の磁界によって漏れ磁界を打ち消し、漏れ磁界に起因する磁気センサの検出精度の悪化を抑制している。
特開2014−130946号公報
しかしながら、新たに磁性膜を追加することになることから、磁気抵抗素子を構成する膜全体の結晶性を変化させてしまい、抵抗変化率等のセンサ特性の悪化につながるという懸念がある。また、新たに磁性膜を追加することによる成膜工程の複雑化、および、それに伴うコストアップを招く。
本発明は上記点に鑑みて、磁気抵抗素子に対して新たに磁性膜を追加しなくてもピン層からの漏れ磁界を抑制できる構造の磁気センサを提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、請求項1に記載の発明では、基板(10)と、基板の上に薄膜状に形成され、基板の面方向に対して平行な一方向を磁化方向として固定された磁化固定層(20)と、磁化固定層の上に形成された薄膜状の中間層(30)と、中間層の上に薄膜状に形成され、外部磁界によって磁化方向が変化する磁界検出層(40)と、を有するセンサ領域(50)と、平面状とされ、磁化固定層の側面と対向する側面を有し、磁化固定層における磁化方向と同方向もしくは反対方向の少なくとも一方に配置され、空気よりも高透磁率で構成された高透磁率膜(60a)を有するヨーク領域(60)と、を備えていることを特徴としている。
このように、センサ領域と対応するヨーク領域を備え、ヨーク領域の高透磁率膜をセンサ領域の磁化固定層と磁化方向を一致させている。これにより、磁化固定層の漏れ磁界が中間層を超えて更に磁界検出層に至ることを抑制でき、漏れ磁界が磁界検出層に与える影響を抑制することが可能となる。よって、磁気抵抗素子に対して新たに磁性膜を追加しなくても、磁化固定層からの漏れ磁界を抑制できる構造の磁気センサとすることが可能となる。
なお、上記各手段の括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係の一例を示すものである。
本発明の第1実施形態にかかる磁気抵抗素子を備えた磁気センサの斜視図である。 図1中の破線で囲んだ領域IIの部分の拡大正面図である。 本発明の第2実施形態にかかる磁気抵抗素子を備えた磁気センサの斜視図である。 複数のセンサ領域を挟むようにヨーク領域を備える場合の漏れ磁界の様子を示した斜視図である。 本発明の第3実施形態にかかる磁気抵抗素子を備えた磁気センサの斜視図である。 本発明の第4実施形態にかかる磁気抵抗素子を備えた磁気センサの斜視図である。 本発明の第5実施形態にかかる磁気抵抗素子を備えた磁気センサの上面図である。 図7に示す磁気センサの斜視図である。 本発明の第6実施形態にかかる磁気抵抗素子を備えた磁気センサの正面図である。
以下、本発明の実施形態について図に基づいて説明する。なお、以下の各実施形態相互において、互いに同一もしくは均等である部分には、同一符号を付して説明を行う。
(第1実施形態)
本発明の第1実施形態について図面を参照しつつ説明する。本実施形態にかかる磁気抵抗素子を備えた磁気センサは、図1に示されるように、表面が平坦面とされたシリコン等で構成される基板10上に、ピン層20、中間層30、フリー層40を順に積層した磁気抵抗素子にて構成されるセンサ領域50を備えている。本実施形態の場合、センサ領域50は、磁気センサを4つの領域R1〜R4に区画した場合のそれぞれの領域に複数個ずつ備えられている。また、磁気センサは、各領域R1〜R4それぞれにおいて、センサ領域50を挟んだ両側にヨーク領域60を備えている。すなわち、各領域R1〜R4それぞれに1組のヨーク領域60を備え、1組のヨーク領域60の間にセンサ領域50が配置されるようにしている。
センサ領域50は、複数個ずつ、例えば図1に示すように4つずつが4つの領域R1〜R4それぞれに備えられ、各領域R1〜R4において各センサ領域50が一列に並べられて配置されている。各領域R1〜R4に備えられるセンサ領域50の個数については任意であり、1つであっても構わない。ただし、センサ領域50の個数を多くするほど、センサ領域50の抵抗値変化を大きくできることから、磁気検出に必要とされる消費電流を小さくできて好ましい。そして、4つの領域R1〜R4に区画された各センサ領域50が図示しない配線部を通じてブリッジ状、例えばホイートストンブリッジ状に電気的に接続されることで、ブリッジ回路を有する磁気センサが構成されている。
ピン層20は、第1磁化固定層に相当し、磁化方向が固定される磁化固定層を構成するものであり、上面形状が四角形状にパターニングされている。ピン層20は、Co、Fe、Niのうちの少なくとも1つ以上の元素を含む合金等で構成されており、基板10の上に薄膜状に形成されている。ピン層20の磁化の強さは、ピン層20の構成材料の物性によって決まることから、要求する磁化の強さを満たす構成材料を選択してピン層20を構成している。
各領域R1〜R4において、ピン層20の磁化方向はそれぞれ基板10の平面方向と平行な一方向に固定されている。本実施形態の場合、ピン層20の磁化方向は、各領域R1〜R4に備えられたセンサ領域50の配列方向に対する垂直方向とされている。具体的には、図1中に矢印で示したように、領域R1では紙面右方向、領域R2では紙面左方向、領域R3では紙面左方向、領域R4では紙面右方向が磁化方向とされている。つまり、領域R1と領域R2では、紙面逆方向かつ互いに離れる方向が磁化方向とされ、領域R3と領域R4では、紙面逆方向かつ互いに向かい合う方向が磁化方向とされている。そして、各領域R1〜R4のセンサ領域50が図示しない配線部を介してブリッジ状に接続されてブリッジ回路が構成されている。
中間層30は、第1中間層に相当し、ピン層20の上に薄膜状に構成されたものであり、ピン層20と同形状にパターニングされている。例えば、中間層30をMgO、AlO等で構成した場合には、磁気抵抗素子としてトンネル磁気抵抗(以下、TMR(Tunneling Magneto Resistance)という)素子が構成される。また、中間層30をCu、Ag等で構成した場合には、磁気抵抗素子として巨大磁気抵抗(以下、GMR(Giant Magneto Resistance)という)素子が構成される。
フリー層40は、第1磁界検出層に相当し、中間層30上に薄膜状に形成されており、ピン層20および中間層30と同形状にパターニングされている。フリー層40は、外部磁界によって磁化方向が変化する磁界検出層としての機能を発揮する。フリー層40についても、ピン層20と同材料によって構成することができるが、外部磁界によって磁化方向が変化する構成となるように、フリー層40の構成材料の特性を選択している。
このように、ピン層20、中間層30およびフリー層40の積層構造によってセンサ領域50が構成されている。
なお、図1は、ピン層20を基板10の上に直接形成した図となっているが、例えばTMR素子の場合、ピン層20の下に配線部を構成するパターン配線が形成されることで電気的接続が行われる。また、TMR素子の場合、フリー層50については、図示しないボンディングワイヤなどの配線部を通じて電気的接続が行われる。GMR素子の場合、TMR素子と同様の構成とすることもできるし、金属によって構成される中間層30自体を電極として、中間層30に配線部を電気的に接続する構造とすることもできる。
また、図1に示すように、各領域R1〜R4それぞれの領域において、センサ領域50を挟んだ両側にヨーク領域60が備えられている。 本実施形態では、各領域R1〜R4それぞれにおいて、2つのヨーク領域60が備えられており、2つのヨーク領域60の間に複数個のセンサ領域50が配置されている。センサ領域50に対して2つのヨーク領域60が配置された方向は、センサ領域50におけるピン層20の磁化方向と同方向および反対方向であり、ピン層20の磁化方向の両側においてセンサ領域50がヨーク領域60に挟まれた構造とされている。
ヨーク領域60は、基板10の上に平面状に構成されたものであり、本実施形態の場合には、センサ領域50と同じ構成材料によって構成されている。すなわち、ヨーク領域60は、ピン層60a、中間層60bおよびフリー層60cを有した構成とされており、各層60a〜60cがセンサ領域50を構成するピン層20、中間層30およびフリー層40と同じ厚み、同じ材質で構成されている。これらヨーク領域60に備えられるピン層60a、中間層60bおよびフリー層60cがそれぞれ第2磁化固定層、第2中間層、第2磁界検出層に相当する。各ヨーク領域60は、上面形状が四角形状とされ、上面形状が四角形状とされたセンサ領域50の一辺を構成する側面と対向する側面を有している。そして、対向する各側面の間に所定距離のギャップが設けられるように、各ヨーク領域60と各センサ領域50とが離れされて配置されている。そして、ピン層60aは、磁化固定層とされており、対応するセンサ領域50に備えられたピン層20と同方向に磁場固定されている。
このようにして、本実施形態にかかる磁気抵抗素子を備えた磁気センサが構成されている。このように構成された磁気センサは、次のようにして製造可能である。例えば、基板10の上に、ピン層20、60aの構成材料と、中間層30、60bの構成材料と、フリー層40、60cの構成材料を順に成膜する。そして、フリー層40、60cの構成材料の上に図示しないマスクを配置したのち、マスクを用いて各構成材料を一括してエッチングする。これにより、図1に示すレイアウトにパターニングされた磁気センサを製造することができる。
このように構成された磁気センサは、例えば電流センサや回転角センサなどに用いられる。すなわち、磁気センサは、電流変化や回転角変化に応じて外部磁界が変化すると、その変化に応じたセンサ信号を出力する。具体的には、各領域R1〜R4に備えられたセンサ領域50は、それぞれ、外部磁界の磁界強度に応じてセンサ信号がリニア(線形的)に変化する。そして、各領域R1〜R4において、ピン層20の磁化方向が上記した方向とされ、各領域R1〜R4のセンサ領域50によってブリッジ回路が構成されている。このため、ブリッジ回路の中点電位をセンサ信号として出力することで、磁気センサを通る外部磁界の変化を検出することが可能となる。例えば、領域R1、R2のセンサ領域50を接続したハーフブリッジ回路と領域R3、R4のセンサ領域50を接続したハーフブリッジ回路によってホイートストンブリッジ回路を構成する。そして、各ハーフブリッジ回路が各センサ領域50の合成抵抗によって構成され、各センサ領域50の抵抗値が印加される外部磁界に応じて変化することから、各ハーフブリッジ回路の中点電位の電位差をセンサ信号として出力することで、磁気センサを通る外部磁界の変化を検出することが可能となる。
このように構成された磁気センサにおいて、本実施形態では、センサ領域50の両側にヨーク領域60を備え、ヨーク領域60に備えたピン層60aの磁化方向を、ヨーク領域60と対応するセンサ領域50に備えられたピン層20の磁化方向と同方向にしている。このため、ヨーク領域60に備えたピン層60aと、当該ヨーク領域60と対応するセンサ領域50に備えられたピン層20との間で磁気回路が形成される。このため、図2に示すように、ヨーク領域60のピン層60aが発生させる磁界の影響で、センサ領域50のピン層20の漏れ磁界の経路が変化し、漏れ磁界がヨーク領域60側に導かれる。
したがって、図2中に破線矢印で示したようなピン層20の漏れ磁界が中間層30を超えて更にフリー層40に至ることを抑制でき、漏れ磁界がフリー層40に与える影響を抑制することが可能となる。これにより、磁気抵抗素子に対して新たに磁性膜を追加しなくても、ピン層20からの漏れ磁界を抑制できる。そして、ピン層20からの漏れ磁界がフリー層40に与える影響を抑制できることから、磁気センサの検出精度の悪化を抑制することが可能となる。
このように、センサ領域50と対応するヨーク領域60を備え、ヨーク領域60のピン層60aをセンサ領域50のピン層20と磁化方向を一致させることで、磁気抵抗素子に対して新たに磁性膜を追加しなくても、ピン層20からの漏れ磁界を抑制できる構造の磁気センサとすることが可能となる。
(第2実施形態)
本発明の第2実施形態について説明する。本実施形態は、第1実施形態に対してヨーク領域60の構成を変更したものであり、その他については第1実施形態と同様であるため、第1実施形態と異なる部分についてのみ説明する。
図3に示すように、本実施形態では、各領域R1〜R4に備えられたヨーク領域60を短冊状に分割し、複数個のセンサ領域50のそれぞれに対して1組ずつヨーク領域60が備えられるようにし、各組のヨーク領域60の間に各センサ領域50が配置されるようにしている。すなわち、1つのセンサ領域50を挟んだ両側に1つずつ短冊状のヨーク領域60が配置されるようにしている。そして、好ましくは、短冊状のヨーク領域60の側面(センサ領域50と対向する先端面)がセンサ領域50の側面と同じ面積となるようにしている。
図4に示すように、第1実施形態のような複数個のセンサ領域50を1組のヨーク領域60の間に配置する構造の場合、ヨーク領域60のうちセンサ領域50と対向していない部分から発生する漏れ磁界がセンサ領域50を通ってもう一方のヨーク領域60に導かれることとなる。この場合、ヨーク領域60からの漏れ磁界は、抑制したいセンサ領域50の漏れ磁界の方向と違う方向となることから、できるだけ少ない方が好ましい。
したがって、本実施形態のように、ヨーク領域60を短冊状として各センサ領域50の両側に配置することで、ヨーク領域60が発生させる漏れ磁界を低減することが可能となる。
(第3実施形態)
本発明の第3実施形態について説明する。本実施形態は、第1実施形態に対してセンサ領域50およびヨーク領域60の構成を変更したものであり、その他については第1実施形態と同様であるため、第1実施形態と異なる部分についてのみ説明する。
図5に示すように、本実施形態では、基板10の各領域R1〜R4にセンサ領域50を備えつつ、ヨーク領域60については、センサ領域50が形成された基板10を第1基板として、第1基板とは異なる第2基板となる基板70の上に形成している。つまりセンサ領域50を形成したチップとヨーク領域60を形成したチップとを別チップとしている。
そして、ヨーク領域60が形成された基板70をセンサ領域50が形成された基板10に隣り合わせて配置し、ヨーク領域60がセンサ領域50に対向して配置されるようにしている。
このように、ヨーク領域60をセンサ領域50とは別チップに形成しても、第1実施形態と同様の効果を得ることができる。なお、この場合、各領域R1〜R4のセンサ領域50の一方側にしかヨーク領域60が配置されていない構造になるが、少なくともセンサ領域50の一方側にヨーク領域60が備えられていれば、センサ領域50の漏れ磁界を所定方向に導くことができる。したがって、本実施形態の構造としても第1実施形態の効果を得ることができる。
(第4実施形態)
本発明の第4実施形態について説明する。本実施形態は、第1実施形態に対してヨーク領域60の構成を変更したものであり、その他については第1実施形態と同様であるため、第1実施形態と異なる部分についてのみ説明する。
図6に示すように、本実施形態では、ヨーク領域60を空気よりも高透磁率を有する膜によって構成された単層構造の膜によって構成している。
このように、ヨーク領域60を高透磁率の単層構造の膜としても、センサ領域50の漏れ磁界を所定方向に導くことができる。したがって、本実施形態の構造としても第1実施形態の効果を得ることができる。
(第5実施形態)
本発明の第5実施形態について説明する。本実施形態も、第1実施形態に対してヨーク領域60の構成を変更したものであり、その他については第1実施形態と同様であるため、第1実施形態と異なる部分についてのみ説明する。
図7および図8に示すように、本実施形態では、領域R1〜R4毎に、ヨーク領域60がセンサ領域50を囲むように配置されている。このように、ヨーク領域60の内側にセンサ領域50が配置される構造であっても、第1実施形態と同様の効果を得ることができる。
(第6実施形態)
本発明の第6実施形態について説明する。本実施形態は、第1実施形態に対して磁気センサの構造を変更したものであり、その他については第1実施形態と同様であるため、第1実施形態と異なる部分についてのみ説明する。
図9に示すように、本実施形態では、基板10を第1基板11と第2基板12とに分割し、第1基板11側に領域R2、R3の構成のセンサ領域50およびヨーク領域60を形成すると共に、第2基板12側に領域R1、R4の構成のセンサ領域50およびヨーク領域60を形成している。そして、第1基板11と第2基板12をセンサ領域50およびヨーク領域60側を向かい合わせて配置している。具体的には、領域R1と領域R3とが向かい合わされ、領域R2と領域R4とが向かい合わされるようにして配置されている。そして、第1基板11と第2基板12の外縁部などにおいて、はんだバンプなどの接続部材13を介して各センサ領域50が電気的に接続され、ブリッジ回路が構成されている。
このように、第1、第2基板11、12を向かい合わせて貼り合せることで、上下のセンサ領域50におけるピン層20の磁化方向が逆方向となるため、上下の磁気抵抗素子同士で閉磁ループを形成することができ、漏れ磁界をキャンセルする効果を向上させることが可能となる。また、閉磁ループとされることで、ヨーク領域60からの漏れ磁界を抑制することが可能となる。
これにより、閉磁ループを形成することで、より漏れ磁界を抑制することが可能となって、さらに第1実施形態に示した効果を得ることが可能となる。
(他の実施形態)
本発明は上記した第1実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載した範囲内において適宜変更が可能である。
例えば、上記第1、第2、第4〜第6実施形態において、ヨーク領域60をセンサ領域50におけるピン層20の磁化方向と同方向および反対方向の両方に配置するようにしたが、少なくとも一方に配置されていれば良い。
また、第1〜第6実施形態において、ピン層20、中間層30、フリー層40を構成する材質は、上記第1実施形態に記載の内容を満たすものであれば適宜変更可能である。また、ピン層20やフリー層40を単層構造とするのではなく、多層構造とするなど、適宜変更可能である。
また、第1〜第3、第5、第6実施形態において、ヨーク領域60を多層構造で構成したが、単層構造としても良い。ただし、ヨーク領域60をセンサ領域50と同構造とすることで、センサ領域50の形成時に同時にヨーク領域60を形成できることから、磁気センサの製造工程の簡略化を加味すると、ヨーク領域60をセンサ領域50と同構造の多層構造とするのが好ましい。
また、第1〜第3、第5、第6実施形態において、ヨーク領域60に含まれるピン層60aを磁化が固定される磁化固定層によって構成しているが、高透磁率膜で構成されていればよい。
10 基板
13 接続部材
20、60a ピン層
30、60b 中間層
40、60c フリー層
50 センサ領域
50 フリー層
60 ヨーク領域
70 基板

Claims (8)

  1. 基板(10)と、
    前記基板の上に薄膜状に形成され、前記基板の面方向に対して平行な一方向を磁化方向として固定された磁化固定層(20)と、前記磁化固定層の上に形成された薄膜状の中間層(30)と、前記中間層の上に薄膜状に形成され、外部磁界によって磁化方向が変化する磁界検出層(40)と、を有するセンサ領域(50)と、
    平面状とされ、前記磁化固定層の側面と対向する側面を有し、前記磁化固定層における磁化方向と同方向もしくは反対方向の少なくとも一方に配置され、空気よりも高透磁率で構成された高透磁率膜(60a)を有するヨーク領域(60)と、を備えていることを特徴とする磁気センサ。
  2. 前記ヨーク領域は、前記基板の上に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の磁気センサ。
  3. 前記センサ領域に備えられる前記磁化固定層を第1磁化固定層、前記中間層を第1中間層、前記磁界検出層を第1磁界検出層として、
    前記ヨーク領域は、前記高透磁率膜が前記第1磁化固定層と同じ材料および同じ厚みで形成された第2磁化固定層とされるとともに、前記第1中間層と同じ材料および同じ厚みで形成された第2中間層と、前記第1電界検出層と同じ材料および同じ厚みで形成された第2磁界検出層と、を有した構成とされていることを特徴とする請求項2に記載の磁気センサ。
  4. 前記ヨーク領域は、前記第1磁化固定層における磁化方向と同方向および反対方向の両側に配置されていることを特徴とする請求項3に記載の磁気センサ。
  5. 前記ヨーク領域は、前記センサ領域の周囲を囲んで配置されることで、前記第1磁化固定層における磁化方向と同方向および反対方向の両側に配置されていることを特徴とする請求項3に記載の磁気センサ。
  6. 前記センサ領域は、複数個備えられており、
    前記ヨーク領域は、短冊状とされているとともに、複数個の前記センサ領域に対応して複数個備えられていることを特徴とする請求項3または4に記載の磁気センサ。
  7. 前記センサ領域が形成された前記基板を第1基板として、
    前記ヨーク領域は、前記第1基板とは別の第2基板(70)に形成されており、
    前記第2基板が前記第1基板に対して隣り合って配置されることで、前記ヨーク領域が前記センサ領域に対向して配置されていることを特徴とする請求項1に記載の磁気センサ。
  8. 前記基板は、第1基板(11)と第2基板(12)を有し、
    前記第1基板および前記第2基板のそれぞれに、前記センサ領域および前記ヨーク領域が形成されており、
    前記第1基板と前記第2基板とが、該第1基板および第2基板それぞれに形成された前記センサ領域および前記ヨーク領域側が向かい合わされるように配置され、前記第1基板に形成された前記センサ領域における前記磁化固定層の磁化方向と前記第2基板に形成された前記センサ領域における前記磁化固定層の磁化方向とが逆方向となって、閉磁ループが構成されていることを特徴とする請求項1に記載の磁気センサ。
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