JP2017039318A - 金型用離型剤組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
<1>分子内に、CnF2n+1(ただしnは、4、5または6である)のパーフルオロアルキル基を有する単量体に由来する構成単位(a)と、保護された架橋性官能基を有する単量体に由来する構成単位(b)と、構成単位(a)または構成単位(b)以外の構成単位とを有し、全構成単位を100モル%とした時に、構成単位(a)の割合が20〜60モル%であり、構成単位(b)の割合が20〜40モル%である、重合体を含む金型用離型剤組成物。
<2>前記CnF2n+1のパーフルオロアルキル基を有する単量体が下記式(1)で表わされる単量体である<1>に記載の金型用離型剤組成物。ただしnは、4、5または6であり、R1は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基であり、R2は炭素数1〜4のアルキレン基である。
<4>前記構成単位(a)または構成単位(b)以外の構成単位として、活性水素原子を有する官能基を有する単量体に由来する構成単位(c)を有する<1>〜<3>のいずれかに記載の金型用離型剤組成物。
<5>前記保護された架橋性官能基を有する単量体が下記式(2)で表わされる単量体であり、前記活性水素原子を有する官能基を有する単量体が下記式(3)で表わされる単量体である<4>に記載の金型用離型剤組成物。ただしR3およびR6はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子またはメチル基であり、R4およびR7はそれぞれ独立に炭素数1〜4のアルキレン基であり、R5は1価の有機基である。
<7><1>〜<6>のいずれかに記載の金型用離型剤組成物を金型に塗布し、150℃以上で加熱する金型の製造方法。
1H−NMRは、日本電子社製JNM−AL300を用いて測定した。
(分子量測定)
重量平均分子量(Mw)は、東ソー社製、HLC−8220を用いて、分子量既知の標準ポリメチルメタクリレート試料を用いて作成した検量線を用い、ゲルパーミエーションクロマトグラフィで測定した(ポリメチルメタクリレート換算)。
(原料等)
以下の略号で示す化合物を単量体を含む原料等として用いた。
MOI−BM:メタクリル酸2−(O−[1’−メチルプロピリデンアミノ]カルボキシアミノ)エチル。(昭和電工社製)(単量体(B))
MOI−BP:2−[(3,5−ジメチルピラゾリル)カルボニルアミノ]エチルメタクリレート。(昭和電工社製)(単量体(B))
HEMA:2−ヒドロキシエチルメタクリレート。(単量体(C))
OFPO:2,2,3,3,4,4,5,5−オクタフルオロ−1−ペンタノール
(重合例1)
C6FMAの1.2g、HEMAの0.7g、MOI−BMの1.3g、および、開始剤V65(和光純薬社製)0.05gをMEKの29gに溶解し、雰囲気を窒素置換した後、50℃で24時間振とうした。反応液をヘキサンの500mLに入れ、析出した固体を公称孔径3μmのポリテトラフルオロエチレン(PTFE)製フィルタで濾過し、重量平均分子量(Mw)が23,000の白色固体(重合体)を得た。反応に用いた原料等の量(g)、単量体の割合(モル%)と得られた重合体の分子量(Mw)を表1に示す。
(重合例2〜9)
重合例1と同様に重合を行った。反応に用いた原料等の量(g)と得られた重合体の分子量(Mw)を表1、2に示す。
1H−NMR(300.4MHz、溶媒:d−アセトン、基準:TMS)δ(ppm):2.8(br、1H)、3.6(br、2.3H)、3.8(br、2.4H)、4.1(br、5.5H)、4.3(br、1H)、7.2(br、1H)。
1H−NMR(300.4MHz、溶媒:d−アセトン、基準:TMS)δ(ppm):2.7(br、1.8H)、3.6(br、0.7H)、3.8(br、0.6H)、4.1(br、1.5H)、4.3(br、1H)、7.1(br、0.3H)。
1H−NMR(300.4MHz、溶媒:ヘキサフルオロベンゼン、基準:ヘキサフルオロキシレン(8.0))δ(ppm):2.9(br、1H)、3.8(br、0.36H)、4.1(br、0.6H)、4.1(br、0.23H)、4.4(br、0.5H)、4.7(br、1H)、6.9(br、0.08H)。
1H−NMR(300.4MHz、溶媒:d−アセトン、基準:TMS)δ(ppm):2.7(br、1H)、3.6(br、2.7H)、3.8(br、2.6H)、4.1(br、5.9H)、4.4(br、0.5H)、7.1(br、1H)。
1H−NMR(300.4MHz、溶媒:d−アセトン、基準:TMS)δ(ppm):2.7(br、1H)、3.5(br、0.9H)、3.8(br、0.8H)、4.1(br、1.8H)、4.3(br、1H)、7.1(br、0.3H)。
1H−NMR(300.4MHz、溶媒:d−アセトン、基準:TMS)δ(ppm):2.7(br、1H)、3.7(br、0.4H)、3.8(br、0.5H)、4.1(br、0.6H)、4.2(br、0.5H)、4.3(br、1H)、7.9(br、1H)。
1H−NMR(300.4MHz、溶媒:ヘキサフルオロベンゼン、基準:ヘキサフルオロキシレン(8.0))δ(ppm):2.9(br、1H)、3.8(br、0.2H)、4.1(br、0.2H)、4.4(br、0.3H)、4.7(br、1H)、6.9(br、0.05H)。
1H−NMR(300.4MHz、溶媒:d−アセトン、基準:TMS)δ(ppm):2.7(br、1H)、3.6(br、6H)、3.8(br、6H)、4.1(br、13.8H)、4.3(br、1H)、7.2(br、2.7H)。
1H−NMR(300.4MHz、溶媒:d−アセトン、基準:TMS)δ(ppm):2.7(br、1H)、3.6(br、20H)、3.8(br、20H)、4.1(br、40H)、4.3(br、1H)、7.2(br、8H)。
重合例1で得られた重合体の0.50g、溶媒OFPOの4.5gをガラスバイアル(20mL)に入れ、充分に撹拌し均一の溶液とした。得られた溶液を公称孔径0.20μmのPTFE製フィルタで濾過して、離型剤組成物を調製した。
表3に示す重合体を用いた以外は、実施例1と同様の方法で離型剤組成物を調製した。
重合体溶液としてCYTOP(CTL−809M(旭硝子社製))を用い、離型剤組成物とした。
(離型性と耐久性)
洗浄した10cm角のステンレス鋼(SUS)板上にスピンコート法により膜厚1μmの塗布膜を形成し、ホットプレートを用いて200℃で30分加熱し金型モデルを作製した。この金型の離型剤を塗布した面における水の接触角を測定した。水の接触角が100度以上のものを離型性が良好であると判定した。洗浄したSUS板の表面における水の接触角は57度であった。
(密着性と膜硬度)
金型モデルの離型剤を塗布した面に対して碁盤目剥離試験(JIS5600−5−6)を行った。剥離の見られないものを密着性が良好であると判定した。
Claims (7)
- 分子内に、CnF2n+1(ただしnは、4、5または6である)のパーフルオロアルキル基を有する単量体に由来する構成単位(a)と、保護された架橋性官能基を有する単量体に由来する構成単位(b)と、構成単位(a)または構成単位(b)以外の構成単位とを有し、全構成単位を100モル%とした時に、構成単位(a)の割合が20〜60モル%であり、構成単位(b)の割合が20〜40モル%である、重合体を含む金型用離型剤組成物。
- 前記保護された架橋性官能基がブロックイソシアネート基である、請求項1または2に記載の金型用離型剤組成物。
- 前記構成単位(a)または構成単位(b)以外の構成単位として、活性水素原子を有する官能基を有する単量体に由来する構成単位(c)を有する請求項1〜3のいずれか一項に記載の金型用離型剤組成物。
- 前記重合体が、全構成単位を100モル%とした時に、構成単位(a)の割合が20〜60モル%であり、構成単位(b)の割合が20〜40モル%であり、構成単位(c)の割合が20〜40モル%である請求項4または5に記載の金型用離型剤組成物。
- 請求項1〜6のいずれか一項に記載の金型用離型剤組成物を金型に塗布し、150℃以上で加熱する金型の製造方法。
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