JP2017026743A - 露光装置および露光方法、ならびに物品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】原版のパターンを基板に投影する投影光学系を有する露光装置であって、投影光学系の結像性能を評価する計測系を備え、計測系は、第1のマークおよび第2のマークが設けられた基準板と、基準板および投影光学系を通過する第1光束を出射する第1光源と、第2のマークを通過する第2光束を出射する第2光源と、原版と投影光学系との間に設けられ、第1光束を反射する反射部と、第1のマークと投影光学系とを順に通過した後、反射部により反射されることで再び投影光学系を通過した第1光束を受光することにより第1のマークを撮像し、第2光束を受光することにより第2のマークを撮像する撮像素子と、撮像素子により撮像された第1のマークと第2のマークとの相対位置を算出し、算出結果に基づいて評価を行う評価部とを備える。
【選択図】図1
Description
図1は、露光装置および計測系の構成の一例を示す図である。本実施形態では、マスク(原版)を照明して基板(プレート)にパターンを描画する例について説明するが、これに限定されない。レチクル(原版)に照明して基板(ウエハ)を描画する露光装置であってもよい。
第2実施形態では、投影光学系30のZ方向の位置計測も可能な露光装置について説明する。図8は、基準マーク515を傾けた計測系60を用いる露光装置の一例を示す図である。傾けた基準マーク515のデザインは、図1に示す基準板514と同じデザインとする。基準マーク515をX軸中心に回転させる方向に傾けた場合、基準マーク面の場所によって、Z位置が変化するため撮像素子500での各マークの強度が異なる。
第3実施形態は、投影光学系30の露光領域内の結像性能を直接計測可能な実施形態について説明する。図11および図12は、第1実施形態と比較して、対物レンズ51、ビームスプリッタ531、基準反射面532および波長板533が投影光学系30の露光領域内にまで駆動できる計測系70を有する露光装置を示す図である。なお、本実施形態においては、対物レンズ51、ビームスプリッタ531、基準反射面532および波長板533を導光部と呼ぶ。駆動制御系700(駆動部)は、導光部を駆動することで、投影光学系30の露光領域内に計測系70の計測領域を出し入れする。これにより、投影光学系30の露光領域内の結像性能を直接計測できる。
本発明の実施形態に係る物品の製造方法は、例えば、半導体デバイスや液晶表示装置などのマイクロデバイスや微細構造を有する素子などの物品を製造するのに好適である。該製造方法は、感光剤が塗布された基板(プレート、ウェハ等)の該感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程(基板に描画を行う工程)と、該工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含みうる。さらに、該製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージングなど)を含みうる。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
11 マスク
12 露光領域
20 プレートステージ
21 プレート
30 投影光学系
40 照明光学系
50 第1計測系
80 第2計測系
Claims (10)
- 原版のパターンを基板に投影する投影光学系を有する露光装置であって、
前記投影光学系の結像性能を評価する計測系を備え、
前記計測系は、
第1のマークおよび第2のマークが設けられた基準板と、
前記基準板および前記投影光学系を通過する第1光束を出射する第1光源と、
前記第2のマークを通過する第2光束を出射する第2光源と、
前記原版と前記投影光学系との間に設けられ、前記第1光束を反射する反射部と、
前記第1のマークと前記投影光学系とを順に通過した後、前記反射部により反射されることで再び前記投影光学系を通過した前記第1光束を受光することにより前記第1のマークを撮像し、前記第2光束を受光することにより前記第2のマークを撮像する撮像素子と、
前記撮像素子により撮像された、前記第1のマークと前記第2のマークとの相対位置を算出し、算出結果に基づいて前記評価を行う評価部と、を備える
ことを特徴とする露光装置。 - 前記反射部には、第3のマークが設けられ、
前記撮像素子は、前記第3のマークと前記投影光学系とを順に通過した前記第1光束を受光することにより前記第3のマークを撮像し、
前記評価部は、前記撮像素子により撮像された、前記第1のマークと前記第3のマークとの相対位置を算出し、算出結果に基づいて前記評価を行う
ことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記第1の光束および前記第2の光束はそれぞれ波長が異なる
ことを特徴とする請求項1または2に記載の露光装置。 - 前記第1のマークおよび前記第2のマークは、前記基準板の同一面上に構成されている
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の露光装置。 - 前記計測系は、前記投影光学系の露光領域の周囲に複数配置される
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の露光装置。 - 前記計測系は、前記露光領域を挟んで配置される
ことを特徴とする請求項5に記載の露光装置。 - 前記反射部は、前記基準板と共役な位置に設けられる
ことを特徴とする請求項2乃至6のいずれか1項に記載の露光装置。 - 前記計測系を駆動する駆動部を有し、
前記駆動部は、前記計測系を前記露光領域内まで駆動する
ことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の露光装置。 - 原版のパターンを基板に投影する投影光学系により、前記原版のパターンで前記基板を露光する露光方法であって
第1光源および第2光源により第1のマークおよび第2のマークを有する基準板を照明する照明工程と、
前記照明工程で照明された、前記第1のマークおよび前記第2のマークを撮像する撮像工程と、
前記撮像工程で撮像された、前記第1のマークと前記第2のマークとの相対位置を算出し、算出結果に基づいて前記投影光学系の結像性能を評価する評価工程とを有する
ことを特徴とする露光方法。 - 請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載の露光装置または請求項9に記載の露光方法を用いて基板に描画を行う工程と、
前記工程で描画を行われた前記基板を現像する工程とを含む
ことを特徴とする物品の製造方法。
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