JP2017026686A - 調光装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】一方から他方への視認性に優れ、他方から一方への視認性が悪くプライバシー性が高い調光装置を提供する。
【解決手段】調光装置１０は、第１の偏光子２０と、第１の偏光子２０と離間して配置された第２の偏光子２２と、第１の偏光子２０と第２の偏光子２２の間に間隔をあけて配置された２枚以上の、同一面内に複数の遅相軸方向を有するパターン位相差膜３０ａ，３０ｂとを備えている調光部１２と、２枚以上のパターン位相差膜のうち、少なくとも１枚を、他のパターン位相差膜に対して非直線に相対的に移動させる移動部１４とを有する。調光部１２は湾曲しており、曲率半径が０．１〜３０ｍである。
【選択図】図１
【解決手段】調光装置１０は、第１の偏光子２０と、第１の偏光子２０と離間して配置された第２の偏光子２２と、第１の偏光子２０と第２の偏光子２２の間に間隔をあけて配置された２枚以上の、同一面内に複数の遅相軸方向を有するパターン位相差膜３０ａ，３０ｂとを備えている調光部１２と、２枚以上のパターン位相差膜のうち、少なくとも１枚を、他のパターン位相差膜に対して非直線に相対的に移動させる移動部１４とを有する。調光部１２は湾曲しており、曲率半径が０．１〜３０ｍである。
【選択図】図１
Description
本発明は、偏光子とパターン位相差膜を用い、パターン位相差膜を非直線的に移動させる調光装置に関し、特に、一方から他方への視認性に優れ、他方から一方への視認性が悪くプライバシー性が高い調光装置に関する。
従来から、ロビー、オフィスおよび会議室等において、内部のプライバシーを保つために、すりガラスを配置したり、視線を遮るためのフィルムを貼り付ける等の対策がなされている。また、自動車等の車両、船舶、航空機等においても、内部のプライバシーを保つために、フィルムを貼る等の対策がなされており、自動車の場合には自動車窓ガラス用フィルム（ＪＩＳ Ｓ３１０７）を設ける等の対策がなされている。これ以外にも、自動車用、建材用に実用化されているプライバシーガラスがある。プライバシーガラスとしては、ＳＰＤ（suspended particle device）方式を利用したものが特許文献１に提案され、ＥＣ（electrochromic）方式を利用したものが特許文献２に提案されている。
上述のように従来から、プライバシーを保つために特許文献１、２を含め種々のものが提案されている。プライバシーガラスを例にして説明する。プライバシーガラスは透過光量を少なくすることで視認性を悪くしてプライバシーが保たれる。この場合、一方から他方を視認できないが、他方から一方も視認できないという問題点がある。また、プライバシーガラスでは、透過光量を変えない場合、一般的なガラスと同じく一方からも他方からも視認することができ、視認性は同じである。一方から他方を視認でき、他方から一方を視認し難くして一方のプライバシー性を確保するような利用には不向きである。この点については、すりガラス、フィルムの貼り付けについても同様に不向きである。
本発明の目的は、前述の従来技術に基づく問題点を解消し、一方から他方への視認性に優れ、他方から一方への視認性が悪くプライバシー性が高い調光装置を提供することにある。
上述の目的を達成するために、本発明は、第１の偏光子と、第１の偏光子と離間して配置された第２の偏光子と、第１の偏光子と第２の偏光子の間に、間隔をあけて配置された２枚以上の、同一面内に複数の遅相軸方向を有するパターン位相差膜とを備えている調光部と、２枚以上のパターン位相差膜のうち、少なくとも１枚を、他のパターン位相差膜に対して非直線に相対的に移動させる移動部とを有し、調光部は湾曲しており、曲率半径が０．１〜３０ｍであることを特徴とする調光装置を提供するものである。
曲率半径は、０．１〜２０ｍであることが好ましく、曲率半径は、０．１〜１０ｍであることがより好ましい。
パターン位相差膜の間隔は、０．０００１〜４００ｍｍであることが好ましく、パターン位相差膜の間隔は、０．００１〜１００ｍｍであることがより好ましい。
曲率半径をＲメートルとし、パターン位相差膜の間隔をＴミリメートルとするとき、Ｔ＞１／（１００×Ｒ２）を満たすことが好ましい。
パターン位相差膜の間隔は、０．０００１〜４００ｍｍであることが好ましく、パターン位相差膜の間隔は、０．００１〜１００ｍｍであることがより好ましい。
曲率半径をＲメートルとし、パターン位相差膜の間隔をＴミリメートルとするとき、Ｔ＞１／（１００×Ｒ２）を満たすことが好ましい。
本発明によれば、一方から他方への視認性に優れ、他方から一方への視認性が悪くプライバシー性が高い調光装置を得ることができる。
以下に、添付の図面に示す好適実施形態に基づいて、本発明の調光装置を詳細に説明する。
なお、以下において数値範囲を示す「〜」とは両側に記載された数値を含む。例えば、εが数値α〜数値βとは、εの範囲は数値αと数値βを含む範囲であり、数学記号で示せばα≦ε≦βである。
「４５°」、「平行」、「垂直」および「直交」等の角度は、特に記載がなければ、厳密な角度との差異が５°未満の範囲内であることを意味する。厳密な角度との差異は、４°未満であることが好ましく、３°未満であることがより好ましい。
また、「同一」とは、技術分野で一般的に許容される誤差範囲を含み、例えば、９９％以上、９５％以上、または９０％以上である場合を含むものとする。また、「全部」、「いずれも」または「全面」等は、１００％である場合のほか、技術分野で一般的に許容される誤差範囲を含み、例えば、９９％以上、９５％以上、または９０％以上である場合を含むものとする。
なお、以下において数値範囲を示す「〜」とは両側に記載された数値を含む。例えば、εが数値α〜数値βとは、εの範囲は数値αと数値βを含む範囲であり、数学記号で示せばα≦ε≦βである。
「４５°」、「平行」、「垂直」および「直交」等の角度は、特に記載がなければ、厳密な角度との差異が５°未満の範囲内であることを意味する。厳密な角度との差異は、４°未満であることが好ましく、３°未満であることがより好ましい。
また、「同一」とは、技術分野で一般的に許容される誤差範囲を含み、例えば、９９％以上、９５％以上、または９０％以上である場合を含むものとする。また、「全部」、「いずれも」または「全面」等は、１００％である場合のほか、技術分野で一般的に許容される誤差範囲を含み、例えば、９９％以上、９５％以上、または９０％以上である場合を含むものとする。
光学的透明および単に透明とは、いずれも光透過率が、波長３８０〜７５０ｎｍの可視光波長域において、少なくとも６０％以上のことであり、好ましくは８０％以上であり、より好ましくは８５％以上、さらにより好ましくは９０％以上のことである。
光透過率は、例えば、ＪＩＳ Ｋ ７３７５：２００８に規定される「プラスチック--全光線透過率および全光線反射率の求め方」を用いて測定されるものである。
なお、面内レタデーションの値Ｒｅ、厚さ方向レタデーションの値Ｒｔｈおよび屈折率について特に測定波長が付記されていない場合は、測定波長は５５０ｎｍである。面内レタデーションは、単にレタデーションともいう。
光透過率は、例えば、ＪＩＳ Ｋ ７３７５：２００８に規定される「プラスチック--全光線透過率および全光線反射率の求め方」を用いて測定されるものである。
なお、面内レタデーションの値Ｒｅ、厚さ方向レタデーションの値Ｒｔｈおよび屈折率について特に測定波長が付記されていない場合は、測定波長は５５０ｎｍである。面内レタデーションは、単にレタデーションともいう。
図１（ａ）は本発明の実施形態の調光装置を示す模式的斜視図であり、（ｂ）は本発明の実施形態の調光装置の第１の偏光子、第２の偏光子および調光部の配置を示す模式図である。図２（ａ）は第１の偏光子および第２の偏光子の構成を示す模式的断面図であり、（ｂ）は本発明の実施形態の調光装置を示す模式的平面図である。
調光装置１０は、調光部１２と移動部１４と制御部１６とを有する。移動部１４は制御部１６に制御される。
調光部１２は、第１の偏光子２０と、第１の偏光子２０と離間して配置された第２の偏光子２２と、第１の偏光子２０と第２の偏光子２２の間に配置された位相差部２４とを備える。調光部１２は、例えば、第１の偏光子２０の表面２０ａを凸、第２の偏光子２２の裏面２２ｂを凹にして全体が湾曲している。調光装置１０では第１の偏光子２０の表面２０ａ側を、単に外側といい、第２の偏光子２２の裏面２２ｂ側を単に内側という。
ここで、湾曲とは、調光部１２の形状を示す曲線において、変曲点がないことをいう。例えば、サイン波のように上と凸と下に凸を有するものは、湾曲には含まれない。
調光部１２は、第１の偏光子２０と、第１の偏光子２０と離間して配置された第２の偏光子２２と、第１の偏光子２０と第２の偏光子２２の間に配置された位相差部２４とを備える。調光部１２は、例えば、第１の偏光子２０の表面２０ａを凸、第２の偏光子２２の裏面２２ｂを凹にして全体が湾曲している。調光装置１０では第１の偏光子２０の表面２０ａ側を、単に外側といい、第２の偏光子２２の裏面２２ｂ側を単に内側という。
ここで、湾曲とは、調光部１２の形状を示す曲線において、変曲点がないことをいう。例えば、サイン波のように上と凸と下に凸を有するものは、湾曲には含まれない。
図１（ａ）に示す調光装置１０は、入射光Ｌｉの透過率を調節し、透過光Ｌｔの光量を調節するものであり、「明の状態」および「暗の状態」を得ることができる。調光装置１０では、内側から外側を見た場合と、外側から内側を見た場合とで視認性が異なり、外側から内側を見た場合の方が視認性が悪い。視認性に方向性、すなわち、視認性に異方性がある。これにより、調光装置１０の内側でのプライバシー性を高くすることができる。このように、調光装置１０は、一方から他方への視認性に優れ、他方から一方への視認性が悪くプライバシー性が高い。
調光装置１０は、例えば、ロビー、オフィスおよび会議室の窓、パーテーション等、自動車等の車両、船舶、航空機等に利用することができる。入射光Ｌｉは、特に限定されるものではなく、調光装置１０のおかれる環境に応じて変わるものであり、太陽光でも、室内環境では蛍光灯等の光であってもよい。
第１の偏光子２０および第２の偏光子２２は、入射光Ｌｉから偏光を得るものである。なお、第１の偏光子２０および第２の偏光子２２については後に詳細に説明する。
第１の偏光子２０および第２の偏光子２２は、単体で用いることもできるが、図２（ａ）に示すように、例えば、光透過性基板２６に設けてもよい。さらに、第１の偏光子２０および第２の偏光子２２は、保護フィルム２８を有してもよい。
ここで、光透過性基板２６とは、光透過率が、波長３８０〜７５０ｎｍの可視光波長域において、少なくとも６０％以上のことであり、好ましくは７５％以上であり、より好ましくは８０％以上、更により好ましくは８５％以上のことである。
光透過率は、例えば、ＪＩＳ Ｋ ７３７５：２００８に規定される「プラスチック--全光線透過率および全光線反射率の求め方」を用いて測定されるものである。
第１の偏光子２０および第２の偏光子２２は、単体で用いることもできるが、図２（ａ）に示すように、例えば、光透過性基板２６に設けてもよい。さらに、第１の偏光子２０および第２の偏光子２２は、保護フィルム２８を有してもよい。
ここで、光透過性基板２６とは、光透過率が、波長３８０〜７５０ｎｍの可視光波長域において、少なくとも６０％以上のことであり、好ましくは７５％以上であり、より好ましくは８０％以上、更により好ましくは８５％以上のことである。
光透過率は、例えば、ＪＩＳ Ｋ ７３７５：２００８に規定される「プラスチック--全光線透過率および全光線反射率の求め方」を用いて測定されるものである。
光透過性基板２６としては、通常の窓に用いられるガラス板、ならびにアクリル板、ポリカーボネート板およびポリスチレン板等のプラスチック基板を用いることができる。光透過性基板２６の厚みの好ましい範囲は、用途によって異なるが、建物用の窓では、一般的には０．１〜２０ｍｍであり、自動車等の乗り物用の窓では、一般的には１〜１０ｍｍである。
第１の偏光子２０および第２の偏光子２２が塗布によって形成される層である態様では、保護フィルム２８が、第１の偏光子および第２の偏光子の支持体として利用されていてもよい。保護フィルム２８としては、特に制限はなく、種々の高分子材料（重合体および樹脂の双方を含む意味で用いる）を主成分として含む高分子フィルムを用いることができる。光透過性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、等方性等に優れる重合体または樹脂を主成分とするフィルムが好ましい。
第１の偏光子２０および第２の偏光子２２が塗布によって形成される層である態様では、保護フィルム２８が、第１の偏光子および第２の偏光子の支持体として利用されていてもよい。保護フィルム２８としては、特に制限はなく、種々の高分子材料（重合体および樹脂の双方を含む意味で用いる）を主成分として含む高分子フィルムを用いることができる。光透過性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、等方性等に優れる重合体または樹脂を主成分とするフィルムが好ましい。
保護フィルムとしては、セルロースアシレート、ポリオレフィン、環状オレフィンポリマー、アクリル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、およびポリカーボネート樹脂から選択される少なくとも１種を主成分として含むフィルムを用いることが好ましい。
また、市販品を用いてもよく、例えば、日本ゼオン（株）製のゼオネックス（登録商標）、ゼオノア（登録商標）、ＪＳＲ（株）製のアートン（登録商標）等を用いることができる。また、種々の市販のセルロースアシレートフィルムを用いることもできる。
また、保護フィルムとしては、溶液製膜法および溶融製膜法のいずれの方法で製膜されたフィルムも用いることもできる。フィルムの厚みは、１０〜１０００μｍであることが好ましく、４０〜５００μｍであることがより好ましく、４０〜２００μｍであることが特に好ましい。
保護フィルムの光学特性については特に制限はない。斜め方向から観察した際の色味変化または光漏れの軽減の観点では、光学等方性のフィルムであることが好ましいが、ただし、この態様に限定されるものではない。具体的には、面内レタデーションの値Ｒｅが０〜２０ｎｍであり、かつＲｔｈの絶対値が４０ｎｍ以下のフィルムが好ましい。
第１の偏光子２０および第２の偏光子２２は、太陽光による劣化を防止するため、光透過性基板２６、保護フィルム２８を含め偏光子よりも外側に位置するいずれかの層が、紫外線吸収剤を含有していることが好ましい。紫外線吸収剤は、上述のいずれの層中に添加されていてもよく、さらに別の層として形成されていてもよい。一例は、保護フィルム２８が紫外線吸収剤を含む態様である。紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ光透過性の点より波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が可及的に少ないものを用いることが好ましい。特に、波長３７０ｎｍでの透過率が、２０％以下であることが望ましく、好ましくは１０％以下、より好ましくは５％以下である。このような紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物、前述のような紫外線吸収性基を含有する高分子紫外線吸収化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。紫外線吸収剤は２種以上用いてもよい。
例えば、紫外線吸収剤の使用量は、保護フィルムの主成分１００質量部に対し０．１〜５．０質量部、好ましくは０．５〜２．０質量部、より好ましくは０．８〜２．０質量部である。
図１（ａ）に示す位相差部２４は、第１の偏光子２０または第２の偏光子２２を通過した光に対して、位相差を与えるものである。位相差部２４では、第１の偏光子２０の透過軸２１と第２の偏光子２２の透過軸２３との配置状態により、第１の偏光子２０を通過した光に対して与える位相差が決定される。例えば、第１の偏光子２０の透過軸２１と第２の偏光子２２の透過軸２３とが直交していれば、第１の偏光子２０を通過した光に対して位相差部２４でゼロ〜λ／２の範囲で、例えば、２段階に位相差を与える。なお、直交の定義は、上述の通りである。
また、例えば、第１の偏光子２０が円偏光子、第２の偏光子２２が円偏光子の場合、第１の偏光子２０を透過した光に対してλ／２の位相差を与えれば、第１の偏光子２０を透過した光が第２の偏光子２２を透過する。このため、位相差部２４では第１の偏光子２０を通過した光に対してゼロ〜λ／２の範囲で多段階に位相差を与えることが好ましい。
また、例えば、第１の偏光子２０が円偏光子、第２の偏光子２２が円偏光子の場合、第１の偏光子２０を透過した光に対してλ／２の位相差を与えれば、第１の偏光子２０を透過した光が第２の偏光子２２を透過する。このため、位相差部２４では第１の偏光子２０を通過した光に対してゼロ〜λ／２の範囲で多段階に位相差を与えることが好ましい。
位相差部２４は、例えば、一定の間隔Ｔ離されて積層して配置された、２枚のパターン位相差膜３０ａ、３０ｂを備える。
上述のように調光部１２は全体が湾曲しており、第１の偏光子２０、パターン位相差膜３０ａ、３０ｂおよび第２の偏光子２２が積層された積層構造である。各パターン位相差膜３０ａ、３０ｂは曲面状である。第１の偏光子２０および第２の偏光子２２も曲面状である。
調光部１２は、曲率半径Ｒ（図１（ｂ）参照）が０．１〜３０ｍである。
調光部１２は積層構造であるため、上側の第１の偏光子２０と下側の第２の偏光子２２とでは曲率半径Ｒが異なるが、第１の偏光子２０、パターン位相差膜３０ａ、３０ｂおよび第２の偏光子２２は曲率半径Ｒが上述の０．１〜３０ｍの範囲にある。
上述のように調光部１２は全体が湾曲しており、第１の偏光子２０、パターン位相差膜３０ａ、３０ｂおよび第２の偏光子２２が積層された積層構造である。各パターン位相差膜３０ａ、３０ｂは曲面状である。第１の偏光子２０および第２の偏光子２２も曲面状である。
調光部１２は、曲率半径Ｒ（図１（ｂ）参照）が０．１〜３０ｍである。
調光部１２は積層構造であるため、上側の第１の偏光子２０と下側の第２の偏光子２２とでは曲率半径Ｒが異なるが、第１の偏光子２０、パターン位相差膜３０ａ、３０ｂおよび第２の偏光子２２は曲率半径Ｒが上述の０．１〜３０ｍの範囲にある。
曲率半径Ｒは小さければ小さい程、視野角が大きくなるため、プライバシー性が高くなり、曲率半径Ｒ（図１（ｂ）参照）が０．１〜３０ｍであれば、高いプライバシー性が得られる。曲率半径Ｒは０．１〜２０ｍであることが好ましく、０．１〜１０ｍがより好ましい。なお、曲率半径Ｒは、設計値である。
曲率半径Ｒが３０ｍを超えると、外側から見た時の視認性が良くなり、内側から見た時の視認性が悪くなる。曲率半径Ｒが０．１ｍ未満であると、内側から見た時の視認性が悪くなる。
なお、調光部１２において、曲率半径Ｒは一定であることに限定されるものではなく、曲率半径Ｒが０．１〜３０ｍの範囲にあれば場所毎で違ってもよい。
曲率半径Ｒが３０ｍを超えると、外側から見た時の視認性が良くなり、内側から見た時の視認性が悪くなる。曲率半径Ｒが０．１ｍ未満であると、内側から見た時の視認性が悪くなる。
なお、調光部１２において、曲率半径Ｒは一定であることに限定されるものではなく、曲率半径Ｒが０．１〜３０ｍの範囲にあれば場所毎で違ってもよい。
上述のように、パターン位相差膜３０ａ、３０ｂは間隔Ｔをあけて配置されている。間隔Ｔは大きい程、パターン位相差膜３０ｂと外側のパターン位相差膜３０ａの第１位相差領域３１および第２位相差領域３３のズレが大きくなるため、視認性が悪くなり、プライバシー性が高くなる。しかしながら、その分、調光装置１０も大きくなる。プライバシー性の観点から、間隔Ｔは、例えば、０．０００１〜４００ｍｍであることが好ましく、０．００１〜１００ｍｍであることが好ましい。
パターン位相差膜３０ａと第１の偏光子２０とも間隔Ｔをあけて配置してもよく、パターン位相差膜３０ｂと第２の偏光子２２とも間隔Ｔをあけて配置してもよい。
パターン位相差膜３０ａ、３０ｂは間隔Ｔあいているが、パターン位相差膜３０ａとパターン位相差膜３０ｂとの間は何もない形態に限定されるものではない。例えば、間隔Ｔに、ガラス層、ハードコートポリエチレンテレフタレート層を設けてもよく、また、潤滑液を満たしてもよい。これにより、摺動性を向上させることができる。潤滑剤については、液体であっても固体であってもよく、パターン位相差膜３０ａ、３０ｂを劣化させるものでなければ、特に限定されるものではない。
パターン位相差膜３０ａと第１の偏光子２０とも間隔Ｔをあけて配置してもよく、パターン位相差膜３０ｂと第２の偏光子２２とも間隔Ｔをあけて配置してもよい。
パターン位相差膜３０ａ、３０ｂは間隔Ｔあいているが、パターン位相差膜３０ａとパターン位相差膜３０ｂとの間は何もない形態に限定されるものではない。例えば、間隔Ｔに、ガラス層、ハードコートポリエチレンテレフタレート層を設けてもよく、また、潤滑液を満たしてもよい。これにより、摺動性を向上させることができる。潤滑剤については、液体であっても固体であってもよく、パターン位相差膜３０ａ、３０ｂを劣化させるものでなければ、特に限定されるものではない。
上述のように、間隔Ｔが大きければ大きい程、パターン位相差膜３０ａとパターン位相差膜３０ｂとの第１位相差領域３１、第２位相差領域３３のズレが大きくなり、曲率半径Ｒは小さければ小さい程、視野角が大きくなるため、プライバシー性が高くなる。上述の曲率半径Ｒ（ｍ）と、間隔Ｔ（ｍｍ）とは、Ｔ＞１／（１００×Ｒ２）を満たすことが好ましい。Ｔ＞１／（１００×Ｒ２）を満たす範囲は、上述の曲率半径Ｒ（ｍ）と間隔Ｔ（ｍｍ）との好ましい範囲である。
間隔Ｔは、パターン位相差膜３０ａ、３０ｂ間の距離のことであり、間隔Ｔは設置誤差は許容される。また、パターン位相差膜３０ａ、３０ｂ間にスペーサーがあれば、スペーサーの厚みが間隔Ｔである。間隔Ｔは、例えば、すきまゲージを用いて測定することができる。
間隔Ｔは、パターン位相差膜３０ａ、３０ｂ間の距離のことであり、間隔Ｔは設置誤差は許容される。また、パターン位相差膜３０ａ、３０ｂ間にスペーサーがあれば、スペーサーの厚みが間隔Ｔである。間隔Ｔは、例えば、すきまゲージを用いて測定することができる。
調光装置１０において、パターン位相差膜３０ａ、３０ｂは、入射した光に対して位相差を与えるものである。各パターン位相差膜３０ａ、３０ｂは、位相差板として機能するものである。パターン位相差膜３０ａとパターン位相差膜３０ｂは同じ位相差を与えるものである。なお、位相差は、各パターン位相差膜３０ａ、３０ｂのレタデーションの値により決定される。
第１位相差領域３１および第２位相差領域３３は、それぞれ偏光子（第１の偏光子２０および第２の偏光子２２）を透過した光に対して予め定められた位相差の位相差領域である。第１位相差領域３１および第２位相差領域３３は、遅相軸の向きが異なるが、λ／２位相差領域である。
偏光子を透過した光に対するλ／２位相差領域とは、制御波長域内の波長、好ましくは制御波長域の中心波長の１／２の長さ、または「中心波長×ｎ±中心波長の１／２（ｎは０または１以上の整数）」の面内レタデーション（位相差値）を有する領域を意図する。例えば、制御波長域の中心波長が１０００ｎｍであれば、５００ｎｍ、１５００ｎｍ、２５００ｎｍ等の位相差の位相差板をλ／２位相差板として用いることができる。
偏光子を透過した光に対するλ／２位相差領域とは、制御波長域内の波長、好ましくは制御波長域の中心波長の１／２の長さ、または「中心波長×ｎ±中心波長の１／２（ｎは０または１以上の整数）」の面内レタデーション（位相差値）を有する領域を意図する。例えば、制御波長域の中心波長が１０００ｎｍであれば、５００ｎｍ、１５００ｎｍ、２５００ｎｍ等の位相差の位相差板をλ／２位相差板として用いることができる。
より具体的には、例えば、偏光子を透過した光が可視光領域の光である場合、測定波長５５０ｎｍで測定した第１位相差領域３１および第２位相差領域３３の面内レタデーションの値であるＲｅ（５５０）は、２２０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦３２０ｎｍであることが好ましく、より好ましくは、２３０≦Ｒｅ（５５０）≦３００ｎｍであり、特に好ましくは２４０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦２８０ｎｍである。
なお、レタデーションの測定方法については、後に詳細に説明する。
なお、レタデーションの測定方法については、後に詳細に説明する。
以下、パターン位相差膜３０ａ、３０ｂについて説明するが、パターン位相差膜３０ａを例にして説明し、他のパターン位相差膜３０ｂの説明は省略する。
パターン位相差膜３０ａは、第１位相差領域３１と第２位相差領域３３とを有し、第１位相差領域３１と第２位相差領域３３とは同じ面内に交互にストライプ状に配置されている。第１位相差領域３１には遅相軸３２があり、第２位相差領域３３には遅相軸３４がある。パターン位相差膜３０ａは同一面内に複数の遅相軸方向を有する。パターン位相差膜３０ａは、第１位相差領域３１と第２位相差領域３３とを有するが、同じ位相差を与えるものとして機能する。なお、「遅相軸」とは、屈折率が最大となる方向を示す軸である。
パターン位相差膜３０ａは、第１位相差領域３１と第２位相差領域３３とを有し、第１位相差領域３１と第２位相差領域３３とは同じ面内に交互にストライプ状に配置されている。第１位相差領域３１には遅相軸３２があり、第２位相差領域３３には遅相軸３４がある。パターン位相差膜３０ａは同一面内に複数の遅相軸方向を有する。パターン位相差膜３０ａは、第１位相差領域３１と第２位相差領域３３とを有するが、同じ位相差を与えるものとして機能する。なお、「遅相軸」とは、屈折率が最大となる方向を示す軸である。
上述のように、位相差はレタデーションの値により決定される。このため、第１位相差領域３１と第２位相差領域３３とはレタデーションの値が同じである。
第１位相差領域３１の遅相軸３２と第２位相差領域３３の遅相軸３４とは、７０〜１１０°の角度差を有することが好ましく、８０〜１００°の角度差を有することがより好ましく、９０°の角度差を有すること、すなわち、直交することがさらに好ましい。なお、直交の定義は上述の通りである。
第１位相差領域３１の遅相軸３２と第２位相差領域３３の遅相軸３４とが直交する場合、第１の偏光子２０側から全てのパターン位相差膜３０ａ、３０ｂを見た場合、全てのパターン位相差膜３０ａ、３０ｂが遅相軸３２、３４を直交または平行にして積層して配置されることが好ましい。
この場合、全てのパターン位相差膜３０ａ、３０ｂを積層方向において第１位相差領域３１と第２位相差領域３３とを揃えて配置すると、第１の偏光子２０側から全てのパターン位相差膜３０ａ、３０ｂを見た場合、遅相軸３２、３４は平行に配置される。また、パターン位相差膜３０ａ、３０ｂのうち、少なくとも１枚を相対的に移動させた後では、第１の偏光子２０側から見た場合、遅相軸３２と遅相軸３４とが直交する。
第１位相差領域３１の遅相軸３２と第２位相差領域３３の遅相軸３４とは、７０〜１１０°の角度差を有することが好ましく、８０〜１００°の角度差を有することがより好ましく、９０°の角度差を有すること、すなわち、直交することがさらに好ましい。なお、直交の定義は上述の通りである。
第１位相差領域３１の遅相軸３２と第２位相差領域３３の遅相軸３４とが直交する場合、第１の偏光子２０側から全てのパターン位相差膜３０ａ、３０ｂを見た場合、全てのパターン位相差膜３０ａ、３０ｂが遅相軸３２、３４を直交または平行にして積層して配置されることが好ましい。
この場合、全てのパターン位相差膜３０ａ、３０ｂを積層方向において第１位相差領域３１と第２位相差領域３３とを揃えて配置すると、第１の偏光子２０側から全てのパターン位相差膜３０ａ、３０ｂを見た場合、遅相軸３２、３４は平行に配置される。また、パターン位相差膜３０ａ、３０ｂのうち、少なくとも１枚を相対的に移動させた後では、第１の偏光子２０側から見た場合、遅相軸３２と遅相軸３４とが直交する。
図１（ａ）に示す調光装置１０では、第１の偏光子２０および第２の偏光子２２は、いずれも直線偏光子で構成されており、第１の偏光子２０の透過軸２１と第２の偏光子２２の透過軸２３は直交している。この場合、上述のように位相差部２４では、第１の偏光子２０を通過した光に対して、ゼロ〜λ／２の範囲で位相差を与えることが好ましい。
なお、第１の偏光子２０の透過軸２１と第２の偏光子２２の透過軸２３は直交することに限定されるものではなく、第１の偏光子２０の透過軸２１と第２の偏光子２２の透過軸２３は平行であってもよい。なお、平行の定義は、上述の通りである。
なお、第１の偏光子２０の透過軸２１と第２の偏光子２２の透過軸２３は直交することに限定されるものではなく、第１の偏光子２０の透過軸２１と第２の偏光子２２の透過軸２３は平行であってもよい。なお、平行の定義は、上述の通りである。
調光装置１０では、透過軸２１、２３、および遅相軸３２、３４は、例えば、図２（ｃ）に示す構成で配置される。
なお、位相差部２４に配置されるパターン位相差膜は、２枚に限定されるものではなく、２枚以上であればよく、３枚でも４枚でもよい。位相差部２４に配置されるパターン位相差膜の枚数は、調光装置１０の仕様等に応じて適宜決定されるものであり、後述するように枚数が多いほど階調数が多くなる。上限については、４枚である。パターン位相差膜の枚数が多すぎると、上述の間隔Ｔを大きくした場合、調光装置１０が大型化してしまう。また、パターン位相差膜の枚数が多いとパターン位相差膜を別々に動かす必要があり、移動部１４が複雑化する。さらには、移動部１４でのパターン位相差膜の移動の制御が煩雑になる。
移動部１４は、位相差部２４の２枚の各パターン位相差膜３０ａ、３０ｂのうち、少なくとも１枚のパターン位相差膜を、他のパターン位相差膜に対して非直線に相対的に移動させるものである。
ここで、非直線とは、パターン位相差膜の移動軌跡が直線でないことをいい、パターン位相差膜自体を平行移動させることは非直線には含まれない。具体的には、移動軌跡の接線の向きが変わることをいう。なお、非直線には折れ線も含まれる。
移動部１４では、例えば、パターン位相差膜の曲面に沿った移動軌跡で、パターン位相差膜を移動させる。
移動部１４での移動方法は特に限定されるものではない。例えば、ガイド溝にパターン位相差膜を配置して、ガイド溝に沿ってパターン位相差膜を移動させる。これ以外にも、パターン位相差膜を回動させてもよい。また、１対のローラの間にパターン位相差膜を渡し、ローラを回転させることで、パターン位相差膜を非直線に移動させることもできる。この場合でも、パターン位相差膜の移動軌跡は、パターン位相差膜の曲面に沿うため、非直線になる。この中で、好ましい移動方法は、パターン位相差膜を回動させる方法である。
ここで、非直線とは、パターン位相差膜の移動軌跡が直線でないことをいい、パターン位相差膜自体を平行移動させることは非直線には含まれない。具体的には、移動軌跡の接線の向きが変わることをいう。なお、非直線には折れ線も含まれる。
移動部１４では、例えば、パターン位相差膜の曲面に沿った移動軌跡で、パターン位相差膜を移動させる。
移動部１４での移動方法は特に限定されるものではない。例えば、ガイド溝にパターン位相差膜を配置して、ガイド溝に沿ってパターン位相差膜を移動させる。これ以外にも、パターン位相差膜を回動させてもよい。また、１対のローラの間にパターン位相差膜を渡し、ローラを回転させることで、パターン位相差膜を非直線に移動させることもできる。この場合でも、パターン位相差膜の移動軌跡は、パターン位相差膜の曲面に沿うため、非直線になる。この中で、好ましい移動方法は、パターン位相差膜を回動させる方法である。
移動部１４により、２枚のパターン位相差膜３０ａ、３０ｂのうち、少なくとも１枚のパターン位相差膜を、他のパターン位相差膜に対して非直線に相対的に移動させることで、第１の偏光子２０または第２の偏光子２２から入射される入射光Ｌｉの透過率を変えることができる。
２枚のパターン位相差膜３０ａ、３０ｂのいずれかを非直線に相対的に移動させる手順、移動量およびタイミングは、透過光Ｌｔの光量に対応して制御部１６に記憶されており、制御部１６により、移動部１４が制御されて、パターン位相差膜３０ａ、３０ｂの移動がなされる。これにより、透過光Ｌｔの光量が調節される。
また、各パターン位相差膜は、上述した階調数を増やす観点から、波長５５０ｎｍにおけるレタデーションの値がそれぞれ異なることが好ましく、全てのパターン位相差膜のレタデーションの値の和が、２２０ｎｍ〜３２０ｎｍであるのが好ましく、２３０〜３００ｎｍであるのがより好ましく、２４０ｎｍ〜２８０ｎｍであることが特に好ましい。
なお、各パターン位相差膜３０ａ、３０ｂについては後に詳細に説明する。
２枚のパターン位相差膜３０ａ、３０ｂのいずれかを非直線に相対的に移動させる手順、移動量およびタイミングは、透過光Ｌｔの光量に対応して制御部１６に記憶されており、制御部１６により、移動部１４が制御されて、パターン位相差膜３０ａ、３０ｂの移動がなされる。これにより、透過光Ｌｔの光量が調節される。
また、各パターン位相差膜は、上述した階調数を増やす観点から、波長５５０ｎｍにおけるレタデーションの値がそれぞれ異なることが好ましく、全てのパターン位相差膜のレタデーションの値の和が、２２０ｎｍ〜３２０ｎｍであるのが好ましく、２３０〜３００ｎｍであるのがより好ましく、２４０ｎｍ〜２８０ｎｍであることが特に好ましい。
なお、各パターン位相差膜３０ａ、３０ｂについては後に詳細に説明する。
図３（ａ）および（ｂ）は本発明の実施形態の調光装置の視野角を説明するための模式図であり、（ｃ）は本発明の実施形態の調光装置での見え方を説明するための模式図である。図４（ａ）および（ｂ）はパターン位相差膜が平面の場合の視野角を説明するための模式図である。
図３（ａ）および（ｂ）に示すように、２枚のパターン位相差膜３０ａ、３０ｂが積層されており、パターン位相差膜３０ａの表面３５側を外側とし、パターン位相差膜３０ｂの裏面３７側を内側とする。図４（ａ）および（ｂ）に示すように、２枚のパターン位相差膜１００、１０２が積層されており、パターン位相差膜１００の表面１０１側を外側とし、パターン位相差膜１０２の裏面１０３側を内側とする。
図３（ａ）および（ｂ）に示すように、２枚のパターン位相差膜３０ａ、３０ｂが積層されており、パターン位相差膜３０ａの表面３５側を外側とし、パターン位相差膜３０ｂの裏面３７側を内側とする。図４（ａ）および（ｂ）に示すように、２枚のパターン位相差膜１００、１０２が積層されており、パターン位相差膜１００の表面１０１側を外側とし、パターン位相差膜１０２の裏面１０３側を内側とする。
図３（ａ）および（ｂ）、図４（ａ）および（ｂ）において、符号Ｏｉは、内側の視点を示し、符号Ｏｏは、外側の視点を示す。なお、内側の視点Ｏｉと外側の視点Ｏｏは同一直線上にある。なお、２枚のパターン位相差膜３０ａ、３０ｂでは、第１位相差領域３１の組合せ、第２位相差領域３３の組合せで光が透過し、第１位相差領域３１と第２位相差領域３３の組合せでは光が透過しないとする。図３（ａ）および（ｂ）、図４（ａ）および（ｂ）に示す状態は、パターン位相差膜３０ａとパターン位相差膜３０ｂを重ねた際、第１位相差領域３１同士、第２位相差領域３３同士が重なるようにしており、いずれも明の状態である。
図３（ａ）に示すように、内側から外側を見る場合、角度γでは視点Ｏｉから内側のパターン位相差膜３０ｂの表面での視野角はγ１である。図３（ｂ）に示すように、外側から内側を見る場合、角度γでは視点Ｏｉから内側のパターン位相差膜３０ｂの表面での視野角はγ２である。
外側からの視野角γ２は内側からの視野角γ１よりも小さい。視野角が小さくなると、内側のパターン位相差膜３０ｂと外側のパターン位相差膜３０ａの第１位相差領域３１および第２位相差領域３３にズレが生じる。このため、内側から外側に透過する光の位相差が局所的に変わり、外側から見た場合、内側から見た場合に比して、「明の状態」であっても図３（ｃ）に示すように暗の帯４０が常時観察される。すなわち、外側からみると常時縞々が観察され、内側を視認し難くなる。その結果、内側から外側を見た場合に比して、外側から内側を見た場合の方が視認性が悪くなる。
このため、プライバシー性を確保したい領域に内側、すなわち、曲面の凹側を向けて調光装置１０を配置する。
なお、暗の状態では、内側から外側は視認できない。しかしながら、外側から内側を見た場合、部分的に位相差が異なる領域が生じるため、図３（ｃ）とは逆に暗の状態で明の帯が常時観察される。
外側からの視野角γ２は内側からの視野角γ１よりも小さい。視野角が小さくなると、内側のパターン位相差膜３０ｂと外側のパターン位相差膜３０ａの第１位相差領域３１および第２位相差領域３３にズレが生じる。このため、内側から外側に透過する光の位相差が局所的に変わり、外側から見た場合、内側から見た場合に比して、「明の状態」であっても図３（ｃ）に示すように暗の帯４０が常時観察される。すなわち、外側からみると常時縞々が観察され、内側を視認し難くなる。その結果、内側から外側を見た場合に比して、外側から内側を見た場合の方が視認性が悪くなる。
このため、プライバシー性を確保したい領域に内側、すなわち、曲面の凹側を向けて調光装置１０を配置する。
なお、暗の状態では、内側から外側は視認できない。しかしながら、外側から内側を見た場合、部分的に位相差が異なる領域が生じるため、図３（ｃ）とは逆に暗の状態で明の帯が常時観察される。
図４（ａ）および（ｂ）に示すパターン位相差膜１００とパターン位相差膜１０２が平行に配置された場合、内側から外側を見る場合も、外側から内側を見る場合も角度γが同じであれば、同じものを見ることになるため、パターン位相差膜が曲面のものに比して、見る角度による影響を受けにくい。その結果、内側から見たときと外側から見たときとで視認性の差が上述の曲面に比して小さく、プライバシー性が低い。すなわち、外側から内側への視認が制限されない。
次に、調光装置１０による調光について説明する。
図５（ａ）および（ｂ）は本発明の実施形態の調光装置の調光を示す模式的断面図である。
図５（ａ）および（ｂ）において、図１（ａ）、（ｂ）に示す調光装置１０と同一構成物には、同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。図５（ａ）および（ｂ）は、後述する第１の状態および第２の状態を示しているが、これは下記表１の第１の状態および第２の状態と対応する。
第１の偏光子２０の透過軸２１と第２の偏光子２２の透過軸２３とは直交しており、第１の偏光子２０側から入射光Ｌｉが入射され、第１の偏光子２０を通過した光が位相差部２４で、絶対値でλ／２の位相差が与えられると第２の偏光子２２からの透過光Ｌｔが最も明るい明の状態になる。
図５（ａ）および（ｂ）は本発明の実施形態の調光装置の調光を示す模式的断面図である。
図５（ａ）および（ｂ）において、図１（ａ）、（ｂ）に示す調光装置１０と同一構成物には、同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。図５（ａ）および（ｂ）は、後述する第１の状態および第２の状態を示しているが、これは下記表１の第１の状態および第２の状態と対応する。
第１の偏光子２０の透過軸２１と第２の偏光子２２の透過軸２３とは直交しており、第１の偏光子２０側から入射光Ｌｉが入射され、第１の偏光子２０を通過した光が位相差部２４で、絶対値でλ／２の位相差が与えられると第２の偏光子２２からの透過光Ｌｔが最も明るい明の状態になる。
位相差部２４で、上述の第１の偏光子２０を通過した光に位相差が与えられないと、すなわち、位相差がゼロの場合、第１の偏光子２０を通過した光は、原理的に第２の偏光子２２を透過することができず、暗の状態になる。
図５（ａ）および（ｂ）において、パターン位相差膜３０ａ、３０ｂに示す「＋」の符号と、「−」の符号は、遅相軸の向きが異なることを示し、「＋」の符号と、「−」の符号とでは遅相軸は直交する。また、「＋」の符号は第１位相差領域３１に対応し、「−」の符号は第２位相差領域３３に対応する。
図５（ａ）および（ｂ）において、パターン位相差膜３０ａ、３０ｂに示す「＋」の符号と、「−」の符号は、遅相軸の向きが異なることを示し、「＋」の符号と、「−」の符号とでは遅相軸は直交する。また、「＋」の符号は第１位相差領域３１に対応し、「−」の符号は第２位相差領域３３に対応する。
２枚のパターン位相差膜３０ａ、３０ｂについて、全てλ／４の位相差を与えるものと同じにした場合、図５（ａ）に示すようにパターン位相差膜３０ａ、３０ｂを、積層方向で「＋」の符号同士を揃え、「−」の符号同士を揃えて重ねた第１の状態のとき、第１の偏光子２０を通過した光に対して絶対値でλ／２の位相差を与えることができ、第２の偏光子２２からの透過光Ｌｔの光量を最も多くでき、明の状態にすることができる。この明の状態のことを、下記表１では「明るい」と表記している。
図５（ｂ）に示すように、移動部１４により、図５（ａ）の第１の状態からパターン位相差膜３０ｂを１つの位相差領域分、非直線に相対的に移動させて第２の状態にする。このとき、パターン位相差膜３０ａ、３０ｂでは重なる組合せが変わり、位相差部２４では位相差を与えない。すなわち、位相差がゼロである。位相差がゼロの場合、第１の偏光子２０を通過した光は、原理的に第２の偏光子２２を透過することができず、第２の状態では、原理的には透過光Ｌｔがゼロである。下記表１では「暗い」と表記している。
調光装置１０においては、下記表１に示すように、位相差がλ／２、ゼロの２段階となり、明の状態と、暗の状態の２階調に調光できる。しかも、上述のように、明の状態では、内側から外側の視認は制限されず、外側から内側の視認が一部制限され、内側のプライバシーが保たれる。
図５（ｂ）に示すように、移動部１４により、図５（ａ）の第１の状態からパターン位相差膜３０ｂを１つの位相差領域分、非直線に相対的に移動させて第２の状態にする。このとき、パターン位相差膜３０ａ、３０ｂでは重なる組合せが変わり、位相差部２４では位相差を与えない。すなわち、位相差がゼロである。位相差がゼロの場合、第１の偏光子２０を通過した光は、原理的に第２の偏光子２２を透過することができず、第２の状態では、原理的には透過光Ｌｔがゼロである。下記表１では「暗い」と表記している。
調光装置１０においては、下記表１に示すように、位相差がλ／２、ゼロの２段階となり、明の状態と、暗の状態の２階調に調光できる。しかも、上述のように、明の状態では、内側から外側の視認は制限されず、外側から内側の視認が一部制限され、内側のプライバシーが保たれる。
調光装置１０は、第１の偏光子２０の透過軸２１と第２の偏光子２２の透過軸２３とを直交させる構成としたが、これに限定されるものではなく、図６（ａ）に示すように、第１の偏光子２０および第２の偏光子２２がいずれも円偏光子である構成でもよい。円偏光子については後に詳細に説明する。
また、図６（ｂ）に示すように、第１の偏光子２０の透過軸２１と第２の偏光子２２の透過軸２３とを平行にして、第１の偏光子２０と、パターン位相差膜４２と、パターン位相差膜４６と、第２の偏光子２２とを積層してもよい。パターン位相差膜４２は、幅方向Ｈに並ぶ複数の位相差領域４４を有しており、遅相軸４５が幅方向Ｈにおいて隣接する位相差領域４４に対して回転して設定されている。パターン位相差膜４６は、幅方向Ｈに並ぶ複数の位相差領域４８を有しており、遅相軸４９は、パターン位相差膜４２と積層した状態で、パターン位相差膜４２の遅相軸４５と特定の角度、回転されている。なお、パターン位相差膜４２の遅相軸４５とパターン位相差膜４６の遅相軸４９とのなす角度は最大で９０°である。
また、図６（ｂ）に示すように、第１の偏光子２０の透過軸２１と第２の偏光子２２の透過軸２３とを平行にして、第１の偏光子２０と、パターン位相差膜４２と、パターン位相差膜４６と、第２の偏光子２２とを積層してもよい。パターン位相差膜４２は、幅方向Ｈに並ぶ複数の位相差領域４４を有しており、遅相軸４５が幅方向Ｈにおいて隣接する位相差領域４４に対して回転して設定されている。パターン位相差膜４６は、幅方向Ｈに並ぶ複数の位相差領域４８を有しており、遅相軸４９は、パターン位相差膜４２と積層した状態で、パターン位相差膜４２の遅相軸４５と特定の角度、回転されている。なお、パターン位相差膜４２の遅相軸４５とパターン位相差膜４６の遅相軸４９とのなす角度は最大で９０°である。
図１（ａ）、（ｂ）に示すパターン位相差膜３０ａ、３０ｂは、第１位相差領域３１と第２位相差領域３３とがストライプ状に配置された構成であるが、これに限定されるものではない。
ここで、図７（ａ）は本発明の実施形態の調光装置のパターン位相差膜の第１の例を示す模式図であり、（ｂ）は本発明の実施形態の調光装置のパターン位相差膜の第２の例を示す模式図である。
図７（ａ）、（ｂ）において、図１（ａ）、（ｂ）に示すパターン位相差膜３０ａと同一構成物には、同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。
例えば、図７（ａ）に示すように、パターン位相差膜３０ａは、第１位相差領域３１と第２位相差領域３３とが格子状に配置されていてもよい。また、図７（ｂ）に示すように第１位相差領域３１と第２位相差領域３３とが互い違いに配置されていてもよい。この場合でも、第１位相差領域３１の遅相軸３２と第２位相差領域３３の遅相軸３４とは直交することが好ましい。
図７（ａ）、（ｂ）に示すパターン位相差膜３０ａとした場合、他のパターン位相差膜３０ｂも同様の構成とする。
ここで、図７（ａ）は本発明の実施形態の調光装置のパターン位相差膜の第１の例を示す模式図であり、（ｂ）は本発明の実施形態の調光装置のパターン位相差膜の第２の例を示す模式図である。
図７（ａ）、（ｂ）において、図１（ａ）、（ｂ）に示すパターン位相差膜３０ａと同一構成物には、同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。
例えば、図７（ａ）に示すように、パターン位相差膜３０ａは、第１位相差領域３１と第２位相差領域３３とが格子状に配置されていてもよい。また、図７（ｂ）に示すように第１位相差領域３１と第２位相差領域３３とが互い違いに配置されていてもよい。この場合でも、第１位相差領域３１の遅相軸３２と第２位相差領域３３の遅相軸３４とは直交することが好ましい。
図７（ａ）、（ｂ）に示すパターン位相差膜３０ａとした場合、他のパターン位相差膜３０ｂも同様の構成とする。
なお、パターン位相差膜は、２枚に限定されるものではなく、２枚以上であれば、３枚でも４枚でもよい。
次に、パターン位相差膜が３枚の調光装置１０ａについて説明する。
図８は本発明の実施形態の調光装置の他の例を示す模式的平面図である。
図８に示す調光装置１０ａにおいて、図１（ａ）、（ｂ）、図２（ａ）、（ｂ）に示す調光装置１０と同一構成物には同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。
調光装置１０ａは、３枚のパターン位相差膜３０ａ〜３０ｃを有する点以外は、図１（ａ）、（ｂ）に示す調光装置１０と同じ構成であるため、その詳細な説明は省略する。パターン位相差膜３０ｃは、上述のパターン位相差膜３０ａ、３０ｂと同じ構成である。
調光装置１０ａは、調光装置１０と同様に、位相差部２４において第１の偏光子２０側からの入射光Ｌｉの透過率を変えることができ、多階調を実現することができる。調光装置１０ａは、調光装置１０に比して、パターン位相差膜の枚数が多いため、階調を多くすることができる。なお、調光装置１０ａにおいても、調光装置１０と同様に、内側から外側の視認は制限されず、外側から内側の視認が一部制限され、内側のプライバシーが保たれる。
次に、パターン位相差膜が３枚の調光装置１０ａについて説明する。
図８は本発明の実施形態の調光装置の他の例を示す模式的平面図である。
図８に示す調光装置１０ａにおいて、図１（ａ）、（ｂ）、図２（ａ）、（ｂ）に示す調光装置１０と同一構成物には同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。
調光装置１０ａは、３枚のパターン位相差膜３０ａ〜３０ｃを有する点以外は、図１（ａ）、（ｂ）に示す調光装置１０と同じ構成であるため、その詳細な説明は省略する。パターン位相差膜３０ｃは、上述のパターン位相差膜３０ａ、３０ｂと同じ構成である。
調光装置１０ａは、調光装置１０と同様に、位相差部２４において第１の偏光子２０側からの入射光Ｌｉの透過率を変えることができ、多階調を実現することができる。調光装置１０ａは、調光装置１０に比して、パターン位相差膜の枚数が多いため、階調を多くすることができる。なお、調光装置１０ａにおいても、調光装置１０と同様に、内側から外側の視認は制限されず、外側から内側の視認が一部制限され、内側のプライバシーが保たれる。
次に、調光装置１０ａによる調光について説明する。
図９（ａ）〜（ｄ）は本発明の実施形態の調光装置の調光の一例を示す模式的断面図である。
図９（ａ）〜（ｄ）は、後述するように第１の状態〜第４の状態を示しているが、これは下記表２〜表４の第１の状態〜第４の状態と対応している。
図９（ａ）〜（ｄ）は本発明の実施形態の調光装置の調光の一例を示す模式的断面図である。
図９（ａ）〜（ｄ）は、後述するように第１の状態〜第４の状態を示しているが、これは下記表２〜表４の第１の状態〜第４の状態と対応している。
図９（ａ）〜（ｄ）において、第１の偏光子２０の透過軸２１と第２の偏光子２２の透過軸２３とは直交しており、第１の偏光子２０側から入射光Ｌｉが入射され、第１の偏光子２０を通過した光が位相差部２４で、絶対値でλ／２の位相差が与えられると第２の偏光子２２からの透過光Ｌｔが最も明るい明の状態になる。
位相差部２４で、上述の第１の偏光子２０を通過した光に位相差が与えられないと、すなわち、位相差がゼロの場合、第１の偏光子２０を通過した光は、原理的に第２の偏光子２２を透過することができず、暗の状態になる。調光装置１０ａでは、位相差部２４により与える位相差の程度により、入射光Ｌｉの透過率を変えることができ、すなわち、透過光Ｌｔの光量を変えることができ、多階調を実現することができる。
図９（ａ）〜（ｄ）において、パターン位相差膜３０ａ〜３０ｃに示す「＋」の符号と、「−」の符号は、遅相軸の向きが異なることを示し、「＋」の符号と、「−」の符号とでは遅相軸は直交する。また、「＋」の符号は第１位相差領域３１に対応し、「−」の符号は第２位相差領域３３に対応する。
位相差部２４で、上述の第１の偏光子２０を通過した光に位相差が与えられないと、すなわち、位相差がゼロの場合、第１の偏光子２０を通過した光は、原理的に第２の偏光子２２を透過することができず、暗の状態になる。調光装置１０ａでは、位相差部２４により与える位相差の程度により、入射光Ｌｉの透過率を変えることができ、すなわち、透過光Ｌｔの光量を変えることができ、多階調を実現することができる。
図９（ａ）〜（ｄ）において、パターン位相差膜３０ａ〜３０ｃに示す「＋」の符号と、「−」の符号は、遅相軸の向きが異なることを示し、「＋」の符号と、「−」の符号とでは遅相軸は直交する。また、「＋」の符号は第１位相差領域３１に対応し、「−」の符号は第２位相差領域３３に対応する。
図９（ａ）〜（ｄ）において、パターン位相差膜３０ａをλ／４の位相差を与えるもの、パターン位相差膜３０ｂをλ／６の位相差を与えるもの、パターン位相差膜３０ｃをλ／１２の位相差を与えるものとした場合、図９（ａ）に示すようにパターン位相差膜３０ａ〜３０ｃを、積層方向で「＋」の符号同士を揃え、「−」の符号同士を揃えて重ねた第１の状態のとき、第１の偏光子２０を通過した光に対して絶対値でλ／２の位相差を与えることができ、第２の偏光子２２からの透過光Ｌｔの光量を最も多くでき、明の状態にすることができる。この明の状態のことを、下記表２では「かなり明るい」と表記している。
図９（ｂ）に示すように、移動部１４により、図９（ａ）の第１の状態からパターン位相差膜３０ｃを１つの位相差領域分、非直線に移動させて第２の状態にする。このとき、パターン位相差膜３０ａ〜３０ｃでは重なる組合せが変わり、位相差部２４では絶対値でλ／３の位相差を与える。第２の状態は、第１の状態に比して、透過光Ｌｔの光量が減る。下記表２では「明るい」と表記している。
図９（ｂ）に示すように、移動部１４により、図９（ａ）の第１の状態からパターン位相差膜３０ｃを１つの位相差領域分、非直線に移動させて第２の状態にする。このとき、パターン位相差膜３０ａ〜３０ｃでは重なる組合せが変わり、位相差部２４では絶対値でλ／３の位相差を与える。第２の状態は、第１の状態に比して、透過光Ｌｔの光量が減る。下記表２では「明るい」と表記している。
図９（ｃ）に示すように、移動部１４により、図９（ａ）の第１の状態からパターン位相差膜３０ｂを１つの位相差領域分、非直線に移動させて第３の状態にする。このとき、パターン位相差膜３０ａ〜３０ｃでは重なる組合せが変わり、位相差部２４では絶対値でλ／６の位相差を与える。第３の状態は、第２の状態に比して、透過光Ｌｔの光量が減る。下記表２では「やや暗い」と表記している。
図９（ｄ）に示すように、移動部１４により、図９（ａ）の第１の状態からパターン位相差膜３０ｂ、３０ｃを１つの位相差領域分、非直線に移動させて第４の状態にする。このとき、パターン位相差膜３０ａ〜３０ｃでは重なる組合せが変わり、位相差部２４では位相差を与えない。すなわち、位相差がゼロである。位相差がゼロの場合、第１の偏光子２０を通過した光は、原理的に第２の偏光子２２を透過することができず、第４の状態では、原理的には透過光Ｌｔがゼロである。下記表２では「暗い」と表記している。
図９（ｄ）に示すように、移動部１４により、図９（ａ）の第１の状態からパターン位相差膜３０ｂ、３０ｃを１つの位相差領域分、非直線に移動させて第４の状態にする。このとき、パターン位相差膜３０ａ〜３０ｃでは重なる組合せが変わり、位相差部２４では位相差を与えない。すなわち、位相差がゼロである。位相差がゼロの場合、第１の偏光子２０を通過した光は、原理的に第２の偏光子２２を透過することができず、第４の状態では、原理的には透過光Ｌｔがゼロである。下記表２では「暗い」と表記している。
このように、パターン位相差膜３０ａ〜３０ｃを移動させて、パターン位相差膜３０ａ〜３０ｃの重なる組合せを変えることで、位相差を４段階とすることができ、明の状態と暗の状態と含む４段階の多階調を実現することができる。すなわち、調光装置１０では４階調が得られる。また、駆動時の明暗のコントラストが低くなるので、縞模様が見えにくくなる。
図９（ａ）〜（ｄ）に示す第１の状態〜第４の状態の位相差および階調を下記表２に示す。図９（ａ）〜（ｄ）に示す第１の状態から第４の状態に変化するにつれて、透過光Ｌｔの光量が少なくなる。すなわち、暗くなる。なお、下記表２に示す位相差は、図９（ａ）〜（ｄ）に示す領域Ｘ１における位相差である。領域Ｘ１に隣接する領域Ｘ２の位相差は、領域Ｘ１の位相差と絶対値で同じである。
図９（ａ）〜（ｄ）に示す第１の状態〜第４の状態の位相差および階調を下記表２に示す。図９（ａ）〜（ｄ）に示す第１の状態から第４の状態に変化するにつれて、透過光Ｌｔの光量が少なくなる。すなわち、暗くなる。なお、下記表２に示す位相差は、図９（ａ）〜（ｄ）に示す領域Ｘ１における位相差である。領域Ｘ１に隣接する領域Ｘ２の位相差は、領域Ｘ１の位相差と絶対値で同じである。
図９（ａ）〜（ｄ）において、パターン位相差膜３０ａをλ／４の位相差を与えるもの、パターン位相差膜３０ｂをλ／８の位相差を与えるもの、パターン位相差膜３０ｃをλ／８の位相差を与えるものとした場合、下記表３に示すように、位相差をλ／２、λ／４、ゼロの３段階とすることができ、多階調を実現することができる。この場合、パターン位相差膜３０ａ〜３０ｃのうち、パターン位相差膜３０ｂとパターン位相差膜３０ｃが同じ位相差を与えるものである。第２の状態と第３の状態とは同じ透過光Ｌｔの光量であるため、調光装置１０ａの動作としては、第２の状態および第３の状態のうち、いずれか一方とすればよい。
図９（ａ）〜（ｄ）において、パターン位相差膜３０ａ〜３０ｃを全てλ／６の位相差を与えるものと同じにした場合、下記表４に示すように、位相差がλ／２、λ／６の２段階であり、２階調となる。
次に、パターン位相差膜が４枚の調光装置１０ｂについて説明する。
図１０は、本発明の実施形態の調光装置の他の例を示す模式的平面図である。図１１（ａ）〜（ｄ）および図１２（ａ）〜（ｄ）は本発明の実施形態の調光装置の調光の他の例を示す模式的断面図である。
図１０ならびに図１１（ａ）〜（ｄ）および図１２（ａ）〜（ｄ）において、図１（ａ）、（ｂ）に示す調光装置１０と同一構成物には、同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。
図１０は、本発明の実施形態の調光装置の他の例を示す模式的平面図である。図１１（ａ）〜（ｄ）および図１２（ａ）〜（ｄ）は本発明の実施形態の調光装置の調光の他の例を示す模式的断面図である。
図１０ならびに図１１（ａ）〜（ｄ）および図１２（ａ）〜（ｄ）において、図１（ａ）、（ｂ）に示す調光装置１０と同一構成物には、同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。
図１０に示す調光装置１０ｂは、４枚のパターン位相差膜３０ａ〜３０ｄを有する点以外は、図１（ａ）、（ｂ）に示す調光装置１０と同じ構成であるため、その詳細な説明は省略する。パターン位相差膜３０ｃ、３０ｄは、上述のパターン位相差膜３０ａ、３０ｂと同じ構成である。
調光装置１０ｂは、上述の調光装置１０ａと同様に、位相差部２４において第１の偏光子２０側からの入射光Ｌｉの透過率を変えることができ、多階調を実現することができる。調光装置１０ｂは、調光装置１０ａに比して、パターン位相差膜の枚数が多いため、階調を多くすることができる。なお、調光装置１０ｂにおいても、調光装置１０と同様に、内側から外側の視認は制限されず、外側から内側の視認が一部制限され、内側のプライバシーが保たれる。
調光装置１０ｂは、上述の調光装置１０ａと同様に、位相差部２４において第１の偏光子２０側からの入射光Ｌｉの透過率を変えることができ、多階調を実現することができる。調光装置１０ｂは、調光装置１０ａに比して、パターン位相差膜の枚数が多いため、階調を多くすることができる。なお、調光装置１０ｂにおいても、調光装置１０と同様に、内側から外側の視認は制限されず、外側から内側の視認が一部制限され、内側のプライバシーが保たれる。
次に、調光装置１０ｂによる調光について説明する。
図１１（ａ）〜（ｄ）および図１２（ａ）〜（ｄ）において、第１の偏光子２０の透過軸２１と第２の偏光子２２の透過軸２３とは直交しており、第１の偏光子２０側から入射された入射光Ｌｉは、位相差部２４で、絶対値でλ／２の位相差が与えられると第２の偏光子２２からの透過光Ｌｔが最も多くなり、最も明るい明の状態になる。
また、位相差部２４で、位相差が与えられないと、すなわち、位相差がゼロの場合、第１の偏光子２０を通過した光は、原理的に第２の偏光子２２を透過することができず、暗の状態になる。調光装置１０では、位相差部２４により与える位相差の程度により、入射光Ｌｉの透過率を変えることができ、すなわち、透過光Ｌｔの光量を変えることができ、多階調を実現することができる。
図１１（ａ）〜（ｄ）および図１２（ａ）〜（ｄ）において、パターン位相差膜３０ａ〜３０ｄに示す「＋」の符号と、「−」の符号は、遅相軸の向きが異なることを示し、「＋」の符号と、「−」の符号とでは遅相軸は直交する。「＋」の符号は第１位相差領域３１に対応し、「−」の符号は第２位相差領域３３に対応する。
図１１（ａ）〜（ｄ）および図１２（ａ）〜（ｄ）において、第１の偏光子２０の透過軸２１と第２の偏光子２２の透過軸２３とは直交しており、第１の偏光子２０側から入射された入射光Ｌｉは、位相差部２４で、絶対値でλ／２の位相差が与えられると第２の偏光子２２からの透過光Ｌｔが最も多くなり、最も明るい明の状態になる。
また、位相差部２４で、位相差が与えられないと、すなわち、位相差がゼロの場合、第１の偏光子２０を通過した光は、原理的に第２の偏光子２２を透過することができず、暗の状態になる。調光装置１０では、位相差部２４により与える位相差の程度により、入射光Ｌｉの透過率を変えることができ、すなわち、透過光Ｌｔの光量を変えることができ、多階調を実現することができる。
図１１（ａ）〜（ｄ）および図１２（ａ）〜（ｄ）において、パターン位相差膜３０ａ〜３０ｄに示す「＋」の符号と、「−」の符号は、遅相軸の向きが異なることを示し、「＋」の符号と、「−」の符号とでは遅相軸は直交する。「＋」の符号は第１位相差領域３１に対応し、「−」の符号は第２位相差領域３３に対応する。
図１１（ａ）〜（ｄ）および図１２（ａ）〜（ｄ）において、パターン位相差膜３０ａをλ／４の位相差を与えるもの、パターン位相差膜３０ｂをλ／７の位相差を与えるもの、パターン位相差膜３０ｃをλ／１４の位相差を与えるもの、パターン位相差膜３０ｄをλ／２８の位相差を与えるものとした場合、図７（ａ）に示すようにパターン位相差膜３０ａ〜３０ｄを、積層方向で「＋」の符号同士を揃え、「−」の符号同士を揃えて重ねた第１の状態のとき、第１の偏光子２０を通過した光に対して絶対値でλ／２の位相差を与えることができ、第２の偏光子２２から透過光Ｌｔを最も多くできる。下記表５では「かなり明るい」と表記している。
図１１（ｂ）に示すように、移動部１４により、図１１（ａ）の第１の状態からパターン位相差膜３０ｄを１つの位相差領域分、非直線に移動させて第２の状態にする。このとき、パターン位相差膜３０ａ〜３０ｄでは重なる組合せが変わり、位相差部２４では絶対値で３λ／７の位相差を与える。第２の状態は、第１の状態に比して、透過光Ｌｔの光量が減る。下記表５では「明るい」と表記している。
図１１（ｂ）に示すように、移動部１４により、図１１（ａ）の第１の状態からパターン位相差膜３０ｄを１つの位相差領域分、非直線に移動させて第２の状態にする。このとき、パターン位相差膜３０ａ〜３０ｄでは重なる組合せが変わり、位相差部２４では絶対値で３λ／７の位相差を与える。第２の状態は、第１の状態に比して、透過光Ｌｔの光量が減る。下記表５では「明るい」と表記している。
図１１（ｃ）に示すように、移動部１４により、図１１（ａ）の第１の状態からパターン位相差膜３０ｂを１つの位相差領域分、非直線に移動させて第３の状態にする。このとき、パターン位相差膜３０ａ〜３０ｄでは重なる組合せが変わり、位相差部２４では絶対値で５λ／１４の位相差を与える。第３の状態は、第２の状態に比して、透過光Ｌｔの光量が減る。下記表５では「明るい」と表記している。
図１１（ｄ）に示すように、移動部１４により、図１１（ａ）の第１の状態からパターン位相差膜３０ｂ、３０ｄを１つの位相差領域分、非直線に移動させて第４の状態にする。このとき、パターン位相差膜３０ａ〜３０ｄでは重なる組合せが変わり、位相差部２４では絶対値で２λ／７の位相差を与える。第４状態は、第３の状態に比して、透過光Ｌｔの光量が減る。下記表５では「やや暗い」と表記している。
図１１（ｄ）に示すように、移動部１４により、図１１（ａ）の第１の状態からパターン位相差膜３０ｂ、３０ｄを１つの位相差領域分、非直線に移動させて第４の状態にする。このとき、パターン位相差膜３０ａ〜３０ｄでは重なる組合せが変わり、位相差部２４では絶対値で２λ／７の位相差を与える。第４状態は、第３の状態に比して、透過光Ｌｔの光量が減る。下記表５では「やや暗い」と表記している。
図１２（ａ）に示すように、移動部１４により、図１１（ａ）の第１の状態からパターン位相差膜３０ｂ、３０ｃを１つの位相差領域分、非直線に移動させて第５の状態にする。ここのとき、パターン位相差膜３０ａ〜３０ｄでは重なる組合せが変わり、位相差部２４では絶対値で３λ／１４の位相差を与える第５の状態は、第４の状態に比して、透過光Ｌｔの光量が減る。下記表５では「やや暗い」と表記している。
図１２（ｂ）に示すように、移動部１４により、図１１（ａ）の第１の状態からパターン位相差膜３０ｂ、３０ｄを１つの位相差領域分、非直線に移動させて第６の状態にする。このとき、パターン位相差膜３０ａ〜３０ｄでは重なる組合せが変わり、位相差部２４では絶対値でλ／７の位相差を与える。第６の状態は、第５の状態に比して、透過光Ｌｔの光量が減る。下記表５では「やや暗い」と表記している。
図１２（ｃ）に示すように、移動部１４により、図１１（ａ）の第１の状態からパターン位相差膜３０ｂ、３０ｃを１つの位相差領域分、非直線に移動させて第７の状態にする。このとき、パターン位相差膜３０ａ〜３０ｄでは重なる組合せが変わり、位相差部２４では絶対値でλ／１４の位相差を与える。第７の状態は、第６の状態に比して、透過光Ｌｔの光量が減る。下記表５では「暗い」と表記している。
図１２（ｄ）に示すように、移動部１４により、図１１（ａ）の第１の状態からパターン位相差膜３０ｂ、３０ｃ、３０ｄを１つの位相差領域分、非直線に移動させて第８の状態にする。このとき、パターン位相差膜３０ａ〜３０ｄでは重なる組合せが変わり、位相差部２４では位相差を与えない。すなわち、位相差がゼロである。位相差がゼロの場合、第１の偏光子２０を通過した光は、原理的に第２の偏光子２２を透過することができず、第８の状態では、原理的には透過光Ｌｔがゼロである。下記表５では「暗い」と表記している。
図１２（ｂ）に示すように、移動部１４により、図１１（ａ）の第１の状態からパターン位相差膜３０ｂ、３０ｄを１つの位相差領域分、非直線に移動させて第６の状態にする。このとき、パターン位相差膜３０ａ〜３０ｄでは重なる組合せが変わり、位相差部２４では絶対値でλ／７の位相差を与える。第６の状態は、第５の状態に比して、透過光Ｌｔの光量が減る。下記表５では「やや暗い」と表記している。
図１２（ｃ）に示すように、移動部１４により、図１１（ａ）の第１の状態からパターン位相差膜３０ｂ、３０ｃを１つの位相差領域分、非直線に移動させて第７の状態にする。このとき、パターン位相差膜３０ａ〜３０ｄでは重なる組合せが変わり、位相差部２４では絶対値でλ／１４の位相差を与える。第７の状態は、第６の状態に比して、透過光Ｌｔの光量が減る。下記表５では「暗い」と表記している。
図１２（ｄ）に示すように、移動部１４により、図１１（ａ）の第１の状態からパターン位相差膜３０ｂ、３０ｃ、３０ｄを１つの位相差領域分、非直線に移動させて第８の状態にする。このとき、パターン位相差膜３０ａ〜３０ｄでは重なる組合せが変わり、位相差部２４では位相差を与えない。すなわち、位相差がゼロである。位相差がゼロの場合、第１の偏光子２０を通過した光は、原理的に第２の偏光子２２を透過することができず、第８の状態では、原理的には透過光Ｌｔがゼロである。下記表５では「暗い」と表記している。
このように、パターン位相差膜３０ａ〜３０ｄを移動させて、パターン位相差膜３０ａ〜３０ｄの重なる組合せを変えることで、位相差を８段階とすることができ、明の状態と暗の状態と含む８段階の多階調、８階調を実現することができる。また、駆動時の明暗のコントラストが低くなるので、縞模様がより一層見えにくくなる。
図１１（ａ）〜（ｄ）および図１２（ａ）〜（ｄ）に示す第１の状態〜第６の状態の位相差および階調を下記表５に示す。図１１（ａ）〜（ｄ）および図１２（ａ）〜（ｄ）に示す第１の状態から第６の状態に変化するにつれて、透過光Ｌｔの光量が少なくなる。すなわち、暗くなる。なお、下記表５に示す位相差は、図１１（ａ）〜（ｄ）および図１２（ａ）〜（ｄ）に示す領域Ｘ１における位相差である。領域Ｘ１に隣接する領域Ｘ２の位相差は、領域Ｘ１の位相差と絶対値で同じである。
図１１（ａ）〜（ｄ）および図１２（ａ）〜（ｄ）に示す第１の状態〜第６の状態の位相差および階調を下記表５に示す。図１１（ａ）〜（ｄ）および図１２（ａ）〜（ｄ）に示す第１の状態から第６の状態に変化するにつれて、透過光Ｌｔの光量が少なくなる。すなわち、暗くなる。なお、下記表５に示す位相差は、図１１（ａ）〜（ｄ）および図１２（ａ）〜（ｄ）に示す領域Ｘ１における位相差である。領域Ｘ１に隣接する領域Ｘ２の位相差は、領域Ｘ１の位相差と絶対値で同じである。
図１１（ａ）〜（ｄ）および図１２（ａ）〜（ｄ）において、パターン位相差膜３０ａをλ／４の位相差を与えるもの、パターン位相差膜３０ｂをλ／８の位相差を与えるもの、パターン位相差膜３０ｃをλ／１２の位相差を与えるもの、パターン位相差膜３０ｄをλ／２４の位相差を与えるものとした場合、下記表６に示すように、位相差をλ／２、５λ／１２、λ／３、λ／４、λ／６、λ／１２、ゼロの７段階とすることができ、多階調を実現することができる。第４の状態と第５の状態とは同じ透過光Ｌｔの光量であるため、調光装置１０ｂの動作としては、第４の状態および第５の状態のうち、いずれか一方とすればよい。
図１１（ａ）〜（ｄ）および図１２（ａ）〜（ｄ）において、パターン位相差膜３０ａをλ／４の位相差を与えるもの、パターン位相差膜３０ｂをλ／８の位相差を与えるもの、パターン位相差膜３０ｃ、３０ｄをλ／１６の位相差を与えるものとした場合、下記表７に示すように、位相差をλ／２、３λ／８、λ／４、λ／８、ゼロの５段階とすることができ、多階調を実現することができる。この場合、パターン位相差膜３０ａ〜３０ｄのうち、パターン位相差膜３０ｃとパターン位相差膜３０ｄが同じ位相差を与えるものである。
第２の状態と第３の状態とは同じ透過光Ｌｔの光量であり、第４の状態と第５の状態とは同じ透過光Ｌｔの光量である。また、第６の状態と第７の状態とは同じ透過光Ｌｔの光量である。このため、調光装置１０ｂの動作としては、第２の状態および第３の状態のうち、いずれか一方とすればよく、第４の状態および第５の状態のうち、いずれか一方とすればよい。また、第６の状態および第７の状態のうち、いずれか一方とすればよい。
第２の状態と第３の状態とは同じ透過光Ｌｔの光量であり、第４の状態と第５の状態とは同じ透過光Ｌｔの光量である。また、第６の状態と第７の状態とは同じ透過光Ｌｔの光量である。このため、調光装置１０ｂの動作としては、第２の状態および第３の状態のうち、いずれか一方とすればよく、第４の状態および第５の状態のうち、いずれか一方とすればよい。また、第６の状態および第７の状態のうち、いずれか一方とすればよい。
図１１（ａ）〜（ｄ）および図１２（ａ）〜（ｄ）において、パターン位相差膜３０ａをλ／４の位相差を与えるもの、パターン位相差膜３０ｂ〜３０ｄを全てλ／１２の位相差を与えるものと同じにした場合、下記表８に示すように、位相差をλ／２、λ／３、λ／６、ゼロの４段階とすることができ、多階調を実現することができる。この場合、パターン位相差膜３０ａ〜３０ｄのうち、パターン位相差膜３０ｂ〜パターン位相差膜３０ｄが同じ位相差を与えるものである。第２の状態、第３の状態および第５の状態は同じ透過光Ｌｔの光量である。また、第４の状態、第６の状態および第７の状態は同じ透過光Ｌｔの光量である。このため、調光装置１０ｂの動作としては、第２の状態、第３の状態および第５の状態のうち、いずれか一方とすればよい。また、第４の状態、第６の状態および第７の状態のうち、いずれか一方とすればよい。
（第１の偏光子および第２の偏光子）
第１の偏光子２０および第２の偏光子２２としては、自然光を特定の直線偏光に変換する機能を有するいわゆる直線偏光子が用いられる。特に、図１（ａ）、（ｂ）においては、第１の偏光子２０および第２の偏光子２２としては、吸収型の直線偏光子が用いられる。
吸収型の直線偏光子の種類は特に制限はなく、公知の吸収型偏光子を用いることができ、例えば、ヨウ素系偏光膜、二色性染料（二色性有機染料）を利用した染料系偏光膜、および、ポリエン系偏光膜のいずれも用いることができる。ヨウ素系偏光膜、および、染料系偏光膜は、一般に、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸することで作製される。
なお、第１の偏光子２０および第２の偏光子２２としては、吸収型の直線偏光子以外にも、反射型の直線偏光子を用いてもよい。
反射型の直線偏光子としては、公知のものを使用することができ、例えば、複屈折の異なる薄膜を積層した偏光子（特表平９−５０６８３７号公報等に記載されたもの。市販品としては、３Ｍ社製の商品名：ＤＢＥＦ）、ワイヤーグリッド型偏光子（市販品としては、例えば、エドモンドオプティクス社製のワイヤーグリッド偏光フィルター５０×５０、ＮＴ４６−６３６等）等が使用される。
なお、反射型の直線偏光子とは、入射光のうち、第１の方向の偏光成分を透過し、第１の方向と直交する方向の偏光成分を反射する性質を持つ。つまり、第１の偏光子２０および第２の偏光子２２の片側から非偏光が入射された時、他方側から直線偏光が得られる。このような反射型偏光子を使用することにより、所定の偏光成分を反射させて、光吸収を抑制し、遮熱性、耐久性、および遮光性を高めている。
第１の偏光子２０および第２の偏光子２２としては、自然光を特定の直線偏光に変換する機能を有するいわゆる直線偏光子が用いられる。特に、図１（ａ）、（ｂ）においては、第１の偏光子２０および第２の偏光子２２としては、吸収型の直線偏光子が用いられる。
吸収型の直線偏光子の種類は特に制限はなく、公知の吸収型偏光子を用いることができ、例えば、ヨウ素系偏光膜、二色性染料（二色性有機染料）を利用した染料系偏光膜、および、ポリエン系偏光膜のいずれも用いることができる。ヨウ素系偏光膜、および、染料系偏光膜は、一般に、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸することで作製される。
なお、第１の偏光子２０および第２の偏光子２２としては、吸収型の直線偏光子以外にも、反射型の直線偏光子を用いてもよい。
反射型の直線偏光子としては、公知のものを使用することができ、例えば、複屈折の異なる薄膜を積層した偏光子（特表平９−５０６８３７号公報等に記載されたもの。市販品としては、３Ｍ社製の商品名：ＤＢＥＦ）、ワイヤーグリッド型偏光子（市販品としては、例えば、エドモンドオプティクス社製のワイヤーグリッド偏光フィルター５０×５０、ＮＴ４６−６３６等）等が使用される。
なお、反射型の直線偏光子とは、入射光のうち、第１の方向の偏光成分を透過し、第１の方向と直交する方向の偏光成分を反射する性質を持つ。つまり、第１の偏光子２０および第２の偏光子２２の片側から非偏光が入射された時、他方側から直線偏光が得られる。このような反射型偏光子を使用することにより、所定の偏光成分を反射させて、光吸収を抑制し、遮熱性、耐久性、および遮光性を高めている。
第１の偏光子２０および第２の偏光子２２により透過または反射される光の波長域（以後、「制御波長域」ともいう）は特に制限されず、赤外光の波長域内であっても、可視光の波長域内であっても、紫外光の波長域内であってもよく、赤外光および可視光の波長域、可視光および紫外光の波長域、または、赤外光、可視光および紫外光の波長域にまたがる波長域であってもよい。特に、調光装置の遮熱性および耐久性がより優れる点からは、可視光、または近赤外光の波長域にあることが好ましい。
なお、赤外線（赤外光）は可視光線より長く電波より短い波長域電磁波である。近赤外光とは一般的に７５０ｎｍ超２５００ｎｍ以下の波長域の電磁波である。可視光線は電磁波のうち、ヒトの目で見える波長の光であり、３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの波長域の光を示す。紫外線は、可視光線より短くＸ線より長い波長域電磁波である。紫外線は可視光線およびＸ線と区別される波長領域の光であればよく、例えば、波長１０ｎｍ以上３８０ｎｍ未満の範囲の光である。
なお、赤外線（赤外光）は可視光線より長く電波より短い波長域電磁波である。近赤外光とは一般的に７５０ｎｍ超２５００ｎｍ以下の波長域の電磁波である。可視光線は電磁波のうち、ヒトの目で見える波長の光であり、３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの波長域の光を示す。紫外線は、可視光線より短くＸ線より長い波長域電磁波である。紫外線は可視光線およびＸ線と区別される波長領域の光であればよく、例えば、波長１０ｎｍ以上３８０ｎｍ未満の範囲の光である。
第１の偏光子２０および第２の偏光子２２としては、右円偏光子および左円偏光子を用いることができる。以下では、主として右円偏光子について説明する。
右円偏光子とは、特定の波長域において右円偏光を選択的に透過させる機能を有する偏光子である。つまり、第１の偏光子２０および第２の偏光子２２は、片側面から入射した特定の波長域の光（自然光、非偏光）のうち右円偏光を選択的に他側面側に透過させることができる。
ここで、円偏光のうち、光の進行方向から見て、右回りのものを右円偏光といい、左周りのものを左円偏光という。右円偏光と左円偏光とでは向きが異なる点が以外は同じである。左円偏光子は、特定の波長域において左円偏光を選択的に透過させる機能を有する偏光子である。
右円偏光子とは、特定の波長域において右円偏光を選択的に透過させる機能を有する偏光子である。つまり、第１の偏光子２０および第２の偏光子２２は、片側面から入射した特定の波長域の光（自然光、非偏光）のうち右円偏光を選択的に他側面側に透過させることができる。
ここで、円偏光のうち、光の進行方向から見て、右回りのものを右円偏光といい、左周りのものを左円偏光という。右円偏光と左円偏光とでは向きが異なる点が以外は同じである。左円偏光子は、特定の波長域において左円偏光を選択的に透過させる機能を有する偏光子である。
右円偏光子および左円偏光子が選択的に透過させる特定の波長域は、上述の第１の偏光子２０および第２の偏光子２２において制御波長域として説明したものと同様であればよい。
右円偏光子および左円偏光子としては、公知のものを使用することができ、例えば、コレステリック液晶または強誘電性液晶による選択反射特性を利用した反射型円偏光子等が使用される。
なお、コレステリック液晶を用いた円偏光子は、重合性の液晶性化合物に対し、右捩れまたは左捩れを誘起するカイラル剤を所定量添加することで、コレステリック性を発現させ、左右の円偏光成分を選択的に反射し、残りの円偏光成分を透過させる円偏光子とすることができる。
右円偏光子および左円偏光子としては、公知のものを使用することができ、例えば、コレステリック液晶または強誘電性液晶による選択反射特性を利用した反射型円偏光子等が使用される。
なお、コレステリック液晶を用いた円偏光子は、重合性の液晶性化合物に対し、右捩れまたは左捩れを誘起するカイラル剤を所定量添加することで、コレステリック性を発現させ、左右の円偏光成分を選択的に反射し、残りの円偏光成分を透過させる円偏光子とすることができる。
以下、円偏光子を用いた場合に光が透過するメカニズムについて、右円偏光子を例に説明する。
第１の偏光子２０および第２の偏光子２２のいずれも右円偏光子とした場合に、図１（ａ）に示す調光装置１０の構成で、パターン位相差膜３０ａおよびパターン位相差膜３０ｂがいずれもλ／４の位相差を与えるものである場合では、第１の偏光子２０へと入射された光のうち、右円偏光のみが第１の偏光子２０を透過する。次に、第１の偏光子２０を透過した右円偏光は、パターン位相差膜３０ａによって直線偏光に変換される。次に、パターン位相差膜３０ａを透過した直線偏光は、パターン位相差膜３０ｂによって再び右円偏光に変換される。次に、パターン位相差膜３０ｂを透過した右円偏光は、第２の偏光子２２を透過する。
第１の偏光子２０および第２の偏光子２２は、いずれも右円偏光子を用いる構成に限定されるものではなく、いずれも左円偏光子を用いてもよく、さらには右円偏光子と左円偏光子との組合せでもよい。つまり、本発明においては、第１の偏光子および第２の偏光子として、いわゆる円偏光子（右円偏光子および左円偏光子）を用いてもよい。
第１の偏光子２０および第２の偏光子２２のいずれも右円偏光子とした場合に、図１（ａ）に示す調光装置１０の構成で、パターン位相差膜３０ａおよびパターン位相差膜３０ｂがいずれもλ／４の位相差を与えるものである場合では、第１の偏光子２０へと入射された光のうち、右円偏光のみが第１の偏光子２０を透過する。次に、第１の偏光子２０を透過した右円偏光は、パターン位相差膜３０ａによって直線偏光に変換される。次に、パターン位相差膜３０ａを透過した直線偏光は、パターン位相差膜３０ｂによって再び右円偏光に変換される。次に、パターン位相差膜３０ｂを透過した右円偏光は、第２の偏光子２２を透過する。
第１の偏光子２０および第２の偏光子２２は、いずれも右円偏光子を用いる構成に限定されるものではなく、いずれも左円偏光子を用いてもよく、さらには右円偏光子と左円偏光子との組合せでもよい。つまり、本発明においては、第１の偏光子および第２の偏光子として、いわゆる円偏光子（右円偏光子および左円偏光子）を用いてもよい。
上述の構成以外に、例えば、第１の偏光子２０を直線偏光子、第２の偏光子２２を円偏光子とすることもでき、第１の偏光子２０を円偏光子、第２の偏光子２２を直線偏光子とすることもできる。この場合、円偏光子は、右円偏光子であっても左円偏光子であってもよい。
上述の直線偏光子と円偏光子を用いた構成では、第１の偏光子２０を透過した光に対してλ／４の位相差を与えれば、第１の偏光子２０を透過した光が第２の偏光子２２を透過する。このため、位相差部２４では第１の偏光子２０を通過した光に対してゼロ〜λ／４の範囲で、例えば、２段階に位相差を与える。このとき、第１位相差領域３１および第２位相差領域３３は、遅相軸の向きが異なるが、λ／４位相差領域である。
なお、第１の偏光子２０および第２の偏光子２２のうち一方が直線偏光子であり、もう一方が円偏光子である場合は、全てのパターン位相差膜のレタデーションの値の和が、１１０ｎｍ〜１６０ｎｍであるのが好ましく、１１５ｎｍ〜１５０ｎｍであるのがより好ましく、１２０ｎｍ〜１４０ｎｍであることが特に好ましい。
上述の直線偏光子と円偏光子を用いた構成では、第１の偏光子２０を透過した光に対してλ／４の位相差を与えれば、第１の偏光子２０を透過した光が第２の偏光子２２を透過する。このため、位相差部２４では第１の偏光子２０を通過した光に対してゼロ〜λ／４の範囲で、例えば、２段階に位相差を与える。このとき、第１位相差領域３１および第２位相差領域３３は、遅相軸の向きが異なるが、λ／４位相差領域である。
なお、第１の偏光子２０および第２の偏光子２２のうち一方が直線偏光子であり、もう一方が円偏光子である場合は、全てのパターン位相差膜のレタデーションの値の和が、１１０ｎｍ〜１６０ｎｍであるのが好ましく、１１５ｎｍ〜１５０ｎｍであるのがより好ましく、１２０ｎｍ〜１４０ｎｍであることが特に好ましい。
次に、パターン位相差膜３０ａ〜３０ｄについて説明する。
パターン位相差膜３０ａ〜３０ｄは、面内遅相軸方向が互いに異なる、第１位相差領域３１および第２位相差領域３３を含み、第１位相差領域３１および第２位相差領域３３が同じ面内において交互に同じ幅（ピッチ）でストライプ状に配置されている。
図１（ａ）、（ｂ）には、第１位相差領域３１および第２位相差領域３３について、いずれも同じ幅（ピッチ）のストライプ状に配置された態様を示すが、この態様に限定されるものではない。
パターン位相差膜３０ａ〜３０ｄは、面内遅相軸方向が互いに異なる、第１位相差領域３１および第２位相差領域３３を含み、第１位相差領域３１および第２位相差領域３３が同じ面内において交互に同じ幅（ピッチ）でストライプ状に配置されている。
図１（ａ）、（ｂ）には、第１位相差領域３１および第２位相差領域３３について、いずれも同じ幅（ピッチ）のストライプ状に配置された態様を示すが、この態様に限定されるものではない。
パターン位相差膜３０ａ〜３０ｄを構成する材料は特に制限されず、例えば、液晶性化合物が挙げられる。より具体的には、低分子液晶性化合物を液晶状態においてネマチック配向に形成後、光架橋または熱架橋によって固定化して得られる光学異方性層、高分子液晶性化合物を液晶状態においてネマチック配向に形成後、冷却することによって配向を固定化して得られる光学異方性層を用いることもできる。パターン位相差膜３０ａ〜３０ｄは、ディスコティック液晶性化合物を含む組成物で形成されていることが好ましい。
一般的に、液晶性化合物はその形状から、棒状タイプ（棒状液晶性化合物）と円盤状タイプ（ディスコティック液晶性化合物）に分類できる。さらにそれぞれ低分子タイプと高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶性化合物を用いることもできる。２種以上の棒状液晶性化合物、２種以上のディスコティック液晶性化合物、または棒状液晶性化合物とディスコティック液晶性化合物との混合物を用いてもよい。
なお、棒状液晶性化合物としては、例えば、特表平１１−５１３０１９号公報の請求項１および特開２００５−２８９９８０号公報の段落［００２６］〜［００９８］に記載のものを好ましく用いることができ、ディスコティック液晶性化合物としては、例えば、特開２００７−１０８７３２号公報の段落［００２０］〜［００６７］および特開２０１０−２４４０３８号公報の段落［００１３］〜［０１０８］に記載のものを好ましく用いることができるが、これらに限定されない。
なお、棒状液晶性化合物としては、例えば、特表平１１−５１３０１９号公報の請求項１および特開２００５−２８９９８０号公報の段落［００２６］〜［００９８］に記載のものを好ましく用いることができ、ディスコティック液晶性化合物としては、例えば、特開２００７−１０８７３２号公報の段落［００２０］〜［００６７］および特開２０１０−２４４０３８号公報の段落［００１３］〜［０１０８］に記載のものを好ましく用いることができるが、これらに限定されない。
パターン位相差膜は、温度変化または湿度変化を小さくできることから、重合性基を有する棒状液晶性化合物またはディスコティック液晶性化合物を用いて形成することがより好ましい。液晶性化合物は２種類以上の混合物でもよく、その場合少なくとも１つが２以上の重合性基を有していることが好ましい。
つまり、パターン位相差膜は、重合性基を有する棒状液晶性化合物またはディスコティック液晶性化合物が重合等によって固定されて形成された層であることが好ましく、この場合、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。
ディスコティック液晶性化合物および棒状液晶性化合物に含まれる重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基が好ましい。より具体的には、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等が好ましく挙げられ、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。
つまり、パターン位相差膜は、重合性基を有する棒状液晶性化合物またはディスコティック液晶性化合物が重合等によって固定されて形成された層であることが好ましく、この場合、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。
ディスコティック液晶性化合物および棒状液晶性化合物に含まれる重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基が好ましい。より具体的には、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等が好ましく挙げられ、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。
上述のパターン位相差膜の形成方法としては、以下の好適な態様が例示されるが、これらに限定されることなく、公知の方法を採用でき、例えば、特開２０１４−８９４３１号公報に記載の方法が挙げられる。また、光配向膜を使用する形態も好適に挙げられる。
光配向膜とは、偏光または無偏光の照射により膜に異方性を生じ、液晶に配向規制力を生ずる性質を有する膜のことである。例えば、光反応性基を有するポリマーまたはモノマーと、溶剤とを含む組成物（以下、場合により「光配向膜形成用組成物」という）を基材に塗布し、偏光（好ましくは、偏光ＵＶ）を照射することによって配向規制力を付与した光配向膜を得ることができる。光反応性基とは、光を照射すること（光照射）により液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光を照射することで生じる分子の配向誘起又は異性化反応、二量化反応、光架橋反応、あるいは光分解反応のような、液晶配向能の起源となる光反応を生じるものである。光反応性基としては、具体的には、アゾベンゼン構造（骨格）を有する基、ヒドラゾノ−β−ケトエステル構造（骨格）を有する基、スチルベン構造（骨格）を有する基、スピロピラン構造（骨格）を有する基等が挙げられる。
光配向膜とは、偏光または無偏光の照射により膜に異方性を生じ、液晶に配向規制力を生ずる性質を有する膜のことである。例えば、光反応性基を有するポリマーまたはモノマーと、溶剤とを含む組成物（以下、場合により「光配向膜形成用組成物」という）を基材に塗布し、偏光（好ましくは、偏光ＵＶ）を照射することによって配向規制力を付与した光配向膜を得ることができる。光反応性基とは、光を照射すること（光照射）により液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光を照射することで生じる分子の配向誘起又は異性化反応、二量化反応、光架橋反応、あるいは光分解反応のような、液晶配向能の起源となる光反応を生じるものである。光反応性基としては、具体的には、アゾベンゼン構造（骨格）を有する基、ヒドラゾノ−β−ケトエステル構造（骨格）を有する基、スチルベン構造（骨格）を有する基、スピロピラン構造（骨格）を有する基等が挙げられる。
次に、面内レタデーションの値Ｒｅ（以下、単にＲｅという）、厚さ方向レタデーションの値Ｒｔｈ（以下、単にＲｔｈという）の測定方法について説明する。
ＲｅはＡｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製ＡｘｏＳｃａｎにおいて測定波長（ｎｍ）の光をフィルム法線方向に入射させて測定される。
ＲｅはＡｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製ＡｘｏＳｃａｎにおいて測定波長（ｎｍ）の光をフィルム法線方向に入射させて測定される。
測定されるフィルムが１軸または２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈは算出される。
ＲｔｈはＲｅを、面内の遅相軸および進相軸を傾斜軸（回転軸）として−４５°〜＋４５°を５°ステップで各々その傾斜した方向から測定波長（ｎｍ）の光を入射させて全部で１９点測定し、その測定されたレタデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にＡｘｏＳｃａｎが算出する。遅相軸および進相軸に対して算出された値の平均値をそのフィルムのＲｔｈと定義する。
ＲｔｈはＲｅを、面内の遅相軸および進相軸を傾斜軸（回転軸）として−４５°〜＋４５°を５°ステップで各々その傾斜した方向から測定波長（ｎｍ）の光を入射させて全部で１９点測定し、その測定されたレタデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にＡｘｏＳｃａｎが算出する。遅相軸および進相軸に対して算出された値の平均値をそのフィルムのＲｔｈと定義する。
なお、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレタデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基に、以下の式（２１）および数式（２２）よりＲｔｈを算出することもできる。
上述の式（２１）中、Ｒｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向における面内レタデーション値を表す。また、上述の式（２１）、（２２）中、ｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘおよびｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄはフィルムの膜厚を表す。
上述の測定において、平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＡｘｏＳｃａｎはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＡｘｏＳｃａｎはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。
なお、第１の偏光子２０、第２の偏光子２２、パターン位相差膜３０ａ〜３０ｄは、上述の構成に加えて、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム上に形成されていてもよい。
本発明は、基本的に以上のように構成されるものである。以上、本発明の調光装置について詳細に説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良または変更をしてもよいのはもちろんである。
以下に実施例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、使用量、物質量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
本実施例では、パターン位相差膜を２枚有する実施例１〜１０および比較例１〜４の調光装置について、耐摩耗性、外側から見た時の視認性、および内側から見た時の視認性を評価した。
以下、耐摩耗性、外側から見た時の視認性、および内側から見た時の視認性について、それぞれの評価方法を評価基準と合わせて説明する。
本実施例では、パターン位相差膜を２枚有する実施例１〜１０および比較例１〜４の調光装置について、耐摩耗性、外側から見た時の視認性、および内側から見た時の視認性を評価した。
以下、耐摩耗性、外側から見た時の視認性、および内側から見た時の視認性について、それぞれの評価方法を評価基準と合わせて説明する。
＜耐摩耗性＞
「明の状態」と「暗の状態」を手動にて１０００回切り替え、「暗の状態」の時の内側の視認性を以下の指標で評価した。
変化なし ・・・４
僅かにくもりが生じた ・・・３
線幅１ｍｍ未満の光漏れが生じた・・・２
線幅１ｍｍ以上の光漏れが生じた・・・１
線幅については、光漏れが生じた部位を光学顕微鏡で観察し、光漏れが生じた部位の線幅を光学顕微鏡を用いて測定した。
「明の状態」と「暗の状態」を手動にて１０００回切り替え、「暗の状態」の時の内側の視認性を以下の指標で評価した。
変化なし ・・・４
僅かにくもりが生じた ・・・３
線幅１ｍｍ未満の光漏れが生じた・・・２
線幅１ｍｍ以上の光漏れが生じた・・・１
線幅については、光漏れが生じた部位を光学顕微鏡で観察し、光漏れが生じた部位の線幅を光学顕微鏡を用いて測定した。
＜外側から見た時の視認性＞
実施例１〜７、９〜１０、比較例１〜３は、「明の状態」の時、外側のパターン位相差膜から外側に２ｍ離れたところから内側の視認性を以下の指標で評価した。
実施例８と比較例４は、「明の状態」の時、外側のパターン位相差膜から外側に０．１ｍ離れたところから内側の視認性を以下の指標で評価した。
視認領域が６０％未満であった ・・・３
視認領域が６０％以上８０％未満であった・・・２
視認領域が８０％以上であった ・・・１
視野領域については、上述の視認性を評価する位置で調光装置を撮影し、調光装置の撮影画像を得た。そして、撮影画像に画像処理を施し、撮影画像中の調光装置の面積から黒の部分を引き算することにより、視野領域を求めた。
実施例１〜７、９〜１０、比較例１〜３は、「明の状態」の時、外側のパターン位相差膜から外側に２ｍ離れたところから内側の視認性を以下の指標で評価した。
実施例８と比較例４は、「明の状態」の時、外側のパターン位相差膜から外側に０．１ｍ離れたところから内側の視認性を以下の指標で評価した。
視認領域が６０％未満であった ・・・３
視認領域が６０％以上８０％未満であった・・・２
視認領域が８０％以上であった ・・・１
視野領域については、上述の視認性を評価する位置で調光装置を撮影し、調光装置の撮影画像を得た。そして、撮影画像に画像処理を施し、撮影画像中の調光装置の面積から黒の部分を引き算することにより、視野領域を求めた。
＜内側から見た時の視認性＞
実施例１〜７、９〜１０、比較例１〜３は、「明の状態」の時、内側のパターン位相差膜から内側に２ｍ離れたところから外側の視認性を以下の指標で評価した。
実施例８と比較例４は、「明の状態」の時、内側のパターン位相差膜から内側に０．１ｍ離れたところから外側の視認性を以下の指標で評価した。
視認領域は８０％以上であった ・・・３
視認領域は８０％未満６０％以上であった・・・２
視認領域は６０％未満であった ・・・１
視野領域については、上述の視認性を評価する位置で調光装置を撮影し、調光装置の撮影画像を得た。そして、撮影画像に画像処理を施し、撮影画像中の調光装置の面積から黒の部分を引き算することにより、視野領域を求めた。
実施例１〜７、９〜１０、比較例１〜３は、「明の状態」の時、内側のパターン位相差膜から内側に２ｍ離れたところから外側の視認性を以下の指標で評価した。
実施例８と比較例４は、「明の状態」の時、内側のパターン位相差膜から内側に０．１ｍ離れたところから外側の視認性を以下の指標で評価した。
視認領域は８０％以上であった ・・・３
視認領域は８０％未満６０％以上であった・・・２
視認領域は６０％未満であった ・・・１
視野領域については、上述の視認性を評価する位置で調光装置を撮影し、調光装置の撮影画像を得た。そして、撮影画像に画像処理を施し、撮影画像中の調光装置の面積から黒の部分を引き算することにより、視野領域を求めた。
以下、実施例１〜１０および比較例１〜４について詳細に説明する。
（実施例１）
＜透明支持体Ａの作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液Ａを調製した。
────────────────────────────────────
セルロースアシレート溶液Ａの組成
────────────────────────────────────
置換度２．８６のセルロースアセテート １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ３００質量部
メタノール（第２溶媒） ５４質量部
１−ブタノール １１質量部
────────────────────────────────────
（実施例１）
＜透明支持体Ａの作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液Ａを調製した。
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セルロースアシレート溶液Ａの組成
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置換度２．８６のセルロースアセテート １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ３００質量部
メタノール（第２溶媒） ５４質量部
１−ブタノール １１質量部
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別のミキシングタンクに、下記の組成物を投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、添加剤溶液Ｂを調製した。
────────────────────────────────────
添加剤溶液Ｂの組成
────────────────────────────────────
下記化合物Ｂ１（Ｒｅ低下剤） ４０質量部
下記化合物Ｂ２（波長分散制御剤） ４質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ８０質量部
メタノール（第２溶媒） ２０質量部
────────────────────────────────────
────────────────────────────────────
添加剤溶液Ｂの組成
────────────────────────────────────
下記化合物Ｂ１（Ｒｅ低下剤） ４０質量部
下記化合物Ｂ２（波長分散制御剤） ４質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ８０質量部
メタノール（第２溶媒） ２０質量部
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＜＜セルロースアセテート透明支持体の作製＞＞
セルロースアシレート溶液Ａを４７７質量部に、添加剤溶液Ｂの４０質量部を添加し、充分に攪拌して、ドープを調製した。ドープを流延口から０℃に冷却したドラム上に流延した。溶媒含有率７０質量％の場外で剥ぎ取り、フィルムの巾方向の両端をピンテンター（特開平４−１００９号公報の図３に記載のピンテンター）で固定し、溶媒含有率が３〜５質量％の状態で、横方向（機械方向に垂直な方向）の延伸率が３％となる間隔を保ちつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み６０μｍのセルロースアセテート保護フィルム（以下、透明支持体Ａという）を作製した。透明支持体Ａは紫外線吸収剤を含有しておらず、Ｒｅ（５５０）は０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は１２．３ｎｍであった。
セルロースアシレート溶液Ａを４７７質量部に、添加剤溶液Ｂの４０質量部を添加し、充分に攪拌して、ドープを調製した。ドープを流延口から０℃に冷却したドラム上に流延した。溶媒含有率７０質量％の場外で剥ぎ取り、フィルムの巾方向の両端をピンテンター（特開平４−１００９号公報の図３に記載のピンテンター）で固定し、溶媒含有率が３〜５質量％の状態で、横方向（機械方向に垂直な方向）の延伸率が３％となる間隔を保ちつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み６０μｍのセルロースアセテート保護フィルム（以下、透明支持体Ａという）を作製した。透明支持体Ａは紫外線吸収剤を含有しておらず、Ｒｅ（５５０）は０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は１２．３ｎｍであった。
＜＜アルカリ鹸化処理＞＞
セルロースアセテート透明支持体Ａを、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ２で塗布し、１１０℃に加熱し、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ２塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアセテート透明支持体Ａを作製した。
セルロースアセテート透明支持体Ａを、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ２で塗布し、１１０℃に加熱し、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ２塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアセテート透明支持体Ａを作製した。
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アルカリ溶液の組成（質量部）
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水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．８質量部
イソプロパノール ６３．７質量部
界面活性剤
ＳＦ−１：Ｃ１４Ｈ２９Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）２０Ｈ １．０質量部
プロピレングリコール １４．８質量部
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アルカリ溶液の組成（質量部）
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水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．８質量部
イソプロパノール ６３．７質量部
界面活性剤
ＳＦ−１：Ｃ１４Ｈ２９Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）２０Ｈ １．０質量部
プロピレングリコール １４．８質量部
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＜ラビング配向膜付透明支持体の作製＞
上述の作製した支持体の、鹸化処理を施した面に、下記の組成のラビング配向膜塗布液を＃８のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、配向膜を形成した。次に、透過部の横ストライプ幅５．７ｍｍ、遮蔽部の横ストライプ幅５．７ｍｍのストライプマスクをラビング配向膜上に配置し、室温空気下にて、ＵＶ−Ｃ領域における照度２．５ｍＷ／ｃｍ２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を４秒間照射して、光酸発生剤を分解し酸性化合物を発生させることにより第１位相差領域用配向層を形成した。その後に、ストライプマスクのストライプに対して４５°の角度を保持して５００ｒｐｍで一方向に１往復、ラビング処理を行い、ラビング配向膜付透明支持体を作製した。なお、配向膜の膜厚は、０．５μｍであった。
上述の作製した支持体の、鹸化処理を施した面に、下記の組成のラビング配向膜塗布液を＃８のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、配向膜を形成した。次に、透過部の横ストライプ幅５．７ｍｍ、遮蔽部の横ストライプ幅５．７ｍｍのストライプマスクをラビング配向膜上に配置し、室温空気下にて、ＵＶ−Ｃ領域における照度２．５ｍＷ／ｃｍ２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を４秒間照射して、光酸発生剤を分解し酸性化合物を発生させることにより第１位相差領域用配向層を形成した。その後に、ストライプマスクのストライプに対して４５°の角度を保持して５００ｒｐｍで一方向に１往復、ラビング処理を行い、ラビング配向膜付透明支持体を作製した。なお、配向膜の膜厚は、０．５μｍであった。
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配向膜形成用塗布液の組成
────────────────────────────────────
配向膜用ポリマー材料 ３．９質量部
（ＰＶＡ１０３、クラレ（株）製ポリビニルアルコール）
光酸発生剤（Ｓ−２） ０．１質量部
メタノール ３６質量部
水 ６０質量部
────────────────────────────────────
配向膜形成用塗布液の組成
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配向膜用ポリマー材料 ３．９質量部
（ＰＶＡ１０３、クラレ（株）製ポリビニルアルコール）
光酸発生剤（Ｓ−２） ０．１質量部
メタノール ３６質量部
水 ６０質量部
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＜パターン化された光学異方性層Ａの作製＞
下記の光学異方性層用塗布液を、バーコーターを用いて塗布量４ｍｌ／ｍ２で塗布した。次いで、膜面温度１１０℃で２分間加熱熟成した後、８０℃まで冷却し空気下にて２０ｍＷ／ｃｍ２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を２０秒間照射して、その配向状態を固定化することによりパターン光学異方性層Ａを形成した。マスク露光部分（第１位相差領域）は、ラビング方向に対し遅相軸方向が平行にディスコティック液晶が垂直配向しており、未露光部分（第２位相差領域）は直交に垂直配向していた。なお、光学異方性層の膜厚は、０．９μｍであった。
下記の光学異方性層用塗布液を、バーコーターを用いて塗布量４ｍｌ／ｍ２で塗布した。次いで、膜面温度１１０℃で２分間加熱熟成した後、８０℃まで冷却し空気下にて２０ｍＷ／ｃｍ２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を２０秒間照射して、その配向状態を固定化することによりパターン光学異方性層Ａを形成した。マスク露光部分（第１位相差領域）は、ラビング方向に対し遅相軸方向が平行にディスコティック液晶が垂直配向しており、未露光部分（第２位相差領域）は直交に垂直配向していた。なお、光学異方性層の膜厚は、０．９μｍであった。
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光学異方性層用塗布液の組成
────────────────────────────────────
ディスコティック液晶Ｅ−１ １００質量部
配向膜界面配向剤（ＩＩ−１） ３．０質量部
空気界面配向剤（Ｐ−１） ０．４質量部
光重合開始剤 ３．０質量部
（イルガキュア（登録商標）９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．０質量部
メチルエチルケトン ４００質量部
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光学異方性層用塗布液の組成
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ディスコティック液晶Ｅ−１ １００質量部
配向膜界面配向剤（ＩＩ−１） ３．０質量部
空気界面配向剤（Ｐ−１） ０．４質量部
光重合開始剤 ３．０質量部
（イルガキュア（登録商標）９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．０質量部
メチルエチルケトン ４００質量部
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形成されたパターン光学異方性層Ａの第１位相差領域および第２位相差領域をそれぞれＴＯＦ−ＳＩＭＳ（飛行時間型二次イオン質量分析法、）を用いて、ＩＯＮ−ＴＯＦ社製ＴＯＦ−ＳＩＭＳ Ｖにより分析したところ、第１位相差領域と第２位相差領域では、対応する配向層中における光酸発生剤Ｓ−２の存在比が８対９２であり、第１位相差領域ではＳ−２がほとんど分解していることがわかった。また、光学異方性層においては、第１位相差領域の空気界面に、ＩＩ−１のカチオンおよび光酸発生剤Ｓ−２から発生した酸ＨＢＦ４のアニオンＢＦ４ −が存在していることが確認された。第２位相差領域の空気界面には、これらのイオンはほとんど観測されず、ＩＩ−１のカチオンおよびＢｒ−が配向膜界面近傍に存在していることがわかった。空気界面におけるそれぞれのイオンの存在比は、ＩＩ−１のカチオンは９３対７、ＢＦ４ −は９０対１０であった。このことから、第２位相差領域中、配向膜界面配向剤（ＩＩ−１）は配向膜界面に偏在しているが、第１位相差領域では偏在性が減少し、空気界面にも拡散していること、および第１位相差領域においては、発生した酸ＨＢＦ４とＩＩ−１がアニオン交換することによってＩＩ−１カチオンの拡散が促進されていることが理解できる。
＜偏光板Ａの作製＞
ＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム社製、５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ＝２／４０）を偏光板Ａ用保護フィルムＡとして使用し、この表面をアルカリ鹸化処理した。１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に５５℃で２分間浸漬し、室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．１規定の硫酸を用いて中和した。再度、水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。
続いて、厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光膜を得た。ポリビニルアルコール（クラレ製、ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、前記のアルカリ鹸化処理したＴＤ８０ＵＬと、同様のアルカリ鹸化処理したＶＡ用位相差フィルム（富士フイルム社製、５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ＝５０／１２５）を、これらの鹸化した面が偏光膜側となるようして偏光膜の間に挟んで貼り合せ、ＴＤ８０ＵＬとＶＡ用位相差フィルムが偏光膜の保護フィルムとなっている偏光板Ａを作製した。このとき位相差フィルムの遅相軸と偏光膜の透過軸のなす角度を４５°にした。
ＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム社製、５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ＝２／４０）を偏光板Ａ用保護フィルムＡとして使用し、この表面をアルカリ鹸化処理した。１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に５５℃で２分間浸漬し、室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．１規定の硫酸を用いて中和した。再度、水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。
続いて、厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光膜を得た。ポリビニルアルコール（クラレ製、ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、前記のアルカリ鹸化処理したＴＤ８０ＵＬと、同様のアルカリ鹸化処理したＶＡ用位相差フィルム（富士フイルム社製、５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ＝５０／１２５）を、これらの鹸化した面が偏光膜側となるようして偏光膜の間に挟んで貼り合せ、ＴＤ８０ＵＬとＶＡ用位相差フィルムが偏光膜の保護フィルムとなっている偏光板Ａを作製した。このとき位相差フィルムの遅相軸と偏光膜の透過軸のなす角度を４５°にした。
＜パターン化された光学異方性層Ａ付偏光板Ａの作製＞
上述の作製したパターン化された光学異方性層Ａの透明支持体Ａ面と偏光板ＡのＴＤ８０ＵＬ面を接着剤で貼り合せ、パターン化された光学異方性層Ａ付偏光板Ａを作製した。このときパターン化された光学異方性層の遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度を±４５°にした。
上述の作製したパターン化された光学異方性層Ａの透明支持体Ａ面と偏光板ＡのＴＤ８０ＵＬ面を接着剤で貼り合せ、パターン化された光学異方性層Ａ付偏光板Ａを作製した。このときパターン化された光学異方性層の遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度を±４５°にした。
＜調光装置の作製＞
曲率半径Ｒが４ｍで、縦１ｍ×横１ｍ×厚み２ｍｍのポリカーボネートフィルムにパターン化された光学異方性層Ａ付偏光板Ａを粘着材を用いて貼り合わせて、パターン位相差膜５０（図１３参照）を２枚作製した。その後、パターン位相差膜５０のうち、一方に上端と下端に厚み１ｍｍのスペーサー５２（図１３参照）を設置した。スペーサー５２は、ガラスビーズ製である。ポリカーボネートの平板５４（図１３参照）に曲率半径Ｒが４ｍの溝５６（図１３参照）を作製し、２枚のパターン位相差膜を溝５６に設置して、調光装置を作製した。
２枚のパターン位相差膜５０の両端を揃えて積層した状態で、「明の状態」となり、第１位相差領域分、非直線に移動させると「暗の状態」になる。
実施例１では、スペーサー５２の厚みが間隔Ｔとなる。
２枚のパターン位相差膜のうち、１枚が相対的に非直線に移動可能であり、「明の状態」と「暗の状態」を切り替えることができる。曲率半径を有する溝としたものについては、表９の「駆動方式」の欄に「回転式スライド」と示す。１枚のパターン位相差膜の非直線の移動は、手動によりなされる。１枚のパターン位相差膜を７ｍｍスライドさせることで「明の状態」と「暗の状態」を切り替えることができた。
曲率半径Ｒが４ｍで、縦１ｍ×横１ｍ×厚み２ｍｍのポリカーボネートフィルムにパターン化された光学異方性層Ａ付偏光板Ａを粘着材を用いて貼り合わせて、パターン位相差膜５０（図１３参照）を２枚作製した。その後、パターン位相差膜５０のうち、一方に上端と下端に厚み１ｍｍのスペーサー５２（図１３参照）を設置した。スペーサー５２は、ガラスビーズ製である。ポリカーボネートの平板５４（図１３参照）に曲率半径Ｒが４ｍの溝５６（図１３参照）を作製し、２枚のパターン位相差膜を溝５６に設置して、調光装置を作製した。
２枚のパターン位相差膜５０の両端を揃えて積層した状態で、「明の状態」となり、第１位相差領域分、非直線に移動させると「暗の状態」になる。
実施例１では、スペーサー５２の厚みが間隔Ｔとなる。
２枚のパターン位相差膜のうち、１枚が相対的に非直線に移動可能であり、「明の状態」と「暗の状態」を切り替えることができる。曲率半径を有する溝としたものについては、表９の「駆動方式」の欄に「回転式スライド」と示す。１枚のパターン位相差膜の非直線の移動は、手動によりなされる。１枚のパターン位相差膜を７ｍｍスライドさせることで「明の状態」と「暗の状態」を切り替えることができた。
（実施例２）
実施例２は、実施例１に比して、パターン位相差膜に設置したスペーサーの厚みを０．００１ｍｍに変更した以外は実施例１と同様に調光装置を作製した。
（実施例３）
実施例３は、実施例１に比して、パターン位相差膜に設置したスペーサーの厚みを０．０００１ｍｍに変更した以外は実施例１と同様に調光装置を作製した。
（実施例４）
実施例４は、実施例１に比して、パターン位相差膜に設置したスペーサーの厚みを０．００００５ｍｍに変更した以外は実施例１と同様に調光装置を作製した。
実施例２は、実施例１に比して、パターン位相差膜に設置したスペーサーの厚みを０．００１ｍｍに変更した以外は実施例１と同様に調光装置を作製した。
（実施例３）
実施例３は、実施例１に比して、パターン位相差膜に設置したスペーサーの厚みを０．０００１ｍｍに変更した以外は実施例１と同様に調光装置を作製した。
（実施例４）
実施例４は、実施例１に比して、パターン位相差膜に設置したスペーサーの厚みを０．００００５ｍｍに変更した以外は実施例１と同様に調光装置を作製した。
（実施例５）
実施例５は、実施例１に比して、曲率半径Ｒが４ｍで、縦１ｍ×横１ｍ×厚さ２ｍｍのポリカーボネートフィルムにパターン化された光学異方性層Ａ付偏光板Ａを粘着材を用いて貼り合わせ、パターン位相差膜を２枚作製した。ポリカーボネートに曲率半径Ｒ４ｍの溝を１００ｍｍの間隔で２箇所作製し、パターン位相差膜２枚をそれぞれ溝に設置して、調光装置を作製した。実施例５では溝の間隔が間隔Ｔである。
（実施例６）
実施例６は、実施例５に比して、溝の間隔を４００ｍｍに変更した以外は実施例５と同様に調光装置を作製した。実施例６では溝の間隔が間隔Ｔである。
実施例５は、実施例１に比して、曲率半径Ｒが４ｍで、縦１ｍ×横１ｍ×厚さ２ｍｍのポリカーボネートフィルムにパターン化された光学異方性層Ａ付偏光板Ａを粘着材を用いて貼り合わせ、パターン位相差膜を２枚作製した。ポリカーボネートに曲率半径Ｒ４ｍの溝を１００ｍｍの間隔で２箇所作製し、パターン位相差膜２枚をそれぞれ溝に設置して、調光装置を作製した。実施例５では溝の間隔が間隔Ｔである。
（実施例６）
実施例６は、実施例５に比して、溝の間隔を４００ｍｍに変更した以外は実施例５と同様に調光装置を作製した。実施例６では溝の間隔が間隔Ｔである。
（実施例７）
実施例６は、実施例１に比して、パターン位相差膜のポリカーボネートフィルムの曲率半径Ｒを１０ｍに変更し、溝の曲率半径Ｒを１０ｍに変更した以外は実施例１と同様に調光装置を作製した。
（実施例８）
実施例８は、実施例１に比して、パターン位相差膜のポリカーボネートフィルム（縦０．１ｍ×横０．１ｍ×厚み２ｍｍ）の曲率半径Ｒを０．１ｍに変更し、溝の曲率半径Ｒを０．１ｍｍに変更した以外は実施例１と同様に調光装置を作製した。
実施例６は、実施例１に比して、パターン位相差膜のポリカーボネートフィルムの曲率半径Ｒを１０ｍに変更し、溝の曲率半径Ｒを１０ｍに変更した以外は実施例１と同様に調光装置を作製した。
（実施例８）
実施例８は、実施例１に比して、パターン位相差膜のポリカーボネートフィルム（縦０．１ｍ×横０．１ｍ×厚み２ｍｍ）の曲率半径Ｒを０．１ｍに変更し、溝の曲率半径Ｒを０．１ｍｍに変更した以外は実施例１と同様に調光装置を作製した。
（実施例９）
実施例９は、実施例１に比して、パターン位相差膜のポリカーボネートフィルムの曲率半径Ｒを２０ｍに変更し、溝の曲率半径Ｒを２０ｍに変更した以外は実施例１と同様に調光装置を作製した。
（実施例１０）
実施例１０は、実施例１に比して、パターン位相差膜のポリカーボネートフィルムの曲率半径Ｒを３０ｍに変更し、溝の曲率半径Ｒを３０ｍに変更した以外は実施例１と同様に調光装置を作製した。
実施例９は、実施例１に比して、パターン位相差膜のポリカーボネートフィルムの曲率半径Ｒを２０ｍに変更し、溝の曲率半径Ｒを２０ｍに変更した以外は実施例１と同様に調光装置を作製した。
（実施例１０）
実施例１０は、実施例１に比して、パターン位相差膜のポリカーボネートフィルムの曲率半径Ｒを３０ｍに変更し、溝の曲率半径Ｒを３０ｍに変更した以外は実施例１と同様に調光装置を作製した。
（比較例１）
比較例１は、実施例７に比して、溝を直線状に変更した以外は実施例７と同様に調光装置を作製した。溝を直線状にしたものについては、表９の「駆動方式」の欄に「直線式」と示す。
（比較例２）
比較例２は、実施例１０に比して、溝を直線状に変更した以外は実施例１０と同様に調光装置を作製した。
比較例１は、実施例７に比して、溝を直線状に変更した以外は実施例７と同様に調光装置を作製した。溝を直線状にしたものについては、表９の「駆動方式」の欄に「直線式」と示す。
（比較例２）
比較例２は、実施例１０に比して、溝を直線状に変更した以外は実施例１０と同様に調光装置を作製した。
（比較例３）
比較例３は、実施例１に比して、パターン位相差膜のポリカーボネートフィルムの曲率半径Ｒを４０ｍに変更し、溝の曲率半径Ｒを４０ｍに変更した以外は実施例１と同様に調光装置を作製した。
（比較例４）
比較例４は、実施例１に比して、パターン位相差膜のポリカーボネートフィルム（縦０．５ｍ×横０．５ｍ×厚み２ｍｍ）の曲率半径Ｒを０．０５ｍに変更し、溝の曲率半径Ｒを０．０５ｍｍに変更した以外は実施例１と同様に調光装置を作製した。
比較例３は、実施例１に比して、パターン位相差膜のポリカーボネートフィルムの曲率半径Ｒを４０ｍに変更し、溝の曲率半径Ｒを４０ｍに変更した以外は実施例１と同様に調光装置を作製した。
（比較例４）
比較例４は、実施例１に比して、パターン位相差膜のポリカーボネートフィルム（縦０．５ｍ×横０．５ｍ×厚み２ｍｍ）の曲率半径Ｒを０．０５ｍに変更し、溝の曲率半径Ｒを０．０５ｍｍに変更した以外は実施例１と同様に調光装置を作製した。
表９に示すように、実施例１〜１０は、いずれも外側から見た時の視認性、および内側から見た時の視認性が良好であった。耐摩耗性についても概ね良好であった。
比較例１、２は、パターン位相差膜を直線に移動させており、パターン位相差膜同士が衝突してしまい、耐摩耗性、外側から見た時の視認性、および内側から見た時の視認性については評価することができなかった。
比較例３は、曲率半径Ｒが大きく、外側から見た時の視認性、および内側から見た時の視認性が悪かった。比較例４は、曲率半径Ｒが小さく、内側から見た時の視認性が悪かった。
比較例１、２は、パターン位相差膜を直線に移動させており、パターン位相差膜同士が衝突してしまい、耐摩耗性、外側から見た時の視認性、および内側から見た時の視認性については評価することができなかった。
比較例３は、曲率半径Ｒが大きく、外側から見た時の視認性、および内側から見た時の視認性が悪かった。比較例４は、曲率半径Ｒが小さく、内側から見た時の視認性が悪かった。
１０、１０ａ、１０ｂ 調光装置
１２ 調光部
１４ 移動部
１６ 制御部
２０ 第１の偏光子
２２ 第２の偏光子
２４ 位相差部
３０ａ、３０ｂ、３０ｃ、３０ｄ、５０、１００、１０２ パターン位相差膜
３１ 第１位相差領域
３２、３４ 遅相軸
３３ 第２位相差領域
１２ 調光部
１４ 移動部
１６ 制御部
２０ 第１の偏光子
２２ 第２の偏光子
２４ 位相差部
３０ａ、３０ｂ、３０ｃ、３０ｄ、５０、１００、１０２ パターン位相差膜
３１ 第１位相差領域
３２、３４ 遅相軸
３３ 第２位相差領域
Claims (6)
- 第１の偏光子と、前記第１の偏光子と離間して配置された第２の偏光子と、前記第１の偏光子と前記第２の偏光子の間に、間隔をあけて配置された２枚以上の、同一面内に複数の遅相軸方向を有するパターン位相差膜とを備えている調光部と、
前記２枚以上のパターン位相差膜のうち、少なくとも１枚を、前記他のパターン位相差膜に対して非直線に相対的に移動させる移動部とを有し、
前記調光部は湾曲しており、曲率半径が０．１〜３０ｍであることを特徴とする調光装置。 - 前記曲率半径は、０．１〜２０ｍである請求項１に記載の調光装置。
- 前記曲率半径は、０．１〜１０ｍである請求項１または２に記載の調光装置。
- 前記パターン位相差膜の間隔は、０．０００１〜４００ｍｍである請求項１〜３のいずれか１項に記載の調光装置。
- 前記パターン位相差膜の間隔は、０．００１〜１００ｍｍである請求項１〜４のいずれか１項に記載の調光装置。
- 前記曲率半径をＲメートルとし、前記パターン位相差膜の間隔をＴミリメートルとするとき、Ｔ＞１／（１００×Ｒ２）を満たす請求項１〜５のいずれか１項に記載の調光装置。
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ID=57946457
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