JP2017025014A - ベンゾオキサゾール化合物の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】式（１）で表されるベンゾオキサゾール化合物の新たな製造方法の提供。（Ｒは鎖式炭化水素基；ｎは０〜３；Ｘはハロゲン原子、−ＳＲ１又は−Ｓ（Ｏ）２Ｒ１；Ｒ１は鎖式炭化水素基等）【解決手段】式（２）と式（３）とで表される化合物を酸化剤の存在下で反応させる。【選択図】なし
Description
本発明は、ベンゾオキサゾール化合物の製造方法に関する。
特許文献１には、有害生物に対して防除効力を有する化合物が記載されており、その製造方法として、２−ホルミル−３−エチルスルホニルピリジンや２−カルボキシ−３−エチルスルホニルピリジン等と、２−アミノフェノール等とを反応させる方法が記載されている。
式（１）
（式中、Ｒはハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６の鎖式炭化水素基を表し、ｎは０、１、２または３を表し、Ｘはハロゲン原子、−ＳＲ1または−Ｓ（Ｏ）2Ｒ1を表し、Ｒ1はハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６の鎖式炭化水素基またはハロゲン原子を有していてもよい炭素数３〜６の脂環式炭化水素基を表す。）
で表される化合物の新たな製造方法を提供することである。
で表される化合物の新たな製造方法を提供することである。
本発明は、以下のとおりである。
［１］ 式（２）
（式中、Ｒはハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６の鎖式炭化水素基を表し、ｎは０、１、２または３を表し、Ｘはハロゲン原子、−ＳＲ1または−Ｓ（Ｏ）2Ｒ1を表し、Ｒ1はハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６の鎖式炭化水素基またはハロゲン原子を有していてもよい炭素数３〜６の脂環式炭化水素基を表す。）
で表される化合物（以下、化合物（２）とも記す）と式（３）
（式中、Ａは窒素原子またはＣＨを表し、Ｒ2はハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６の鎖式炭化水素基またはハロゲン原子を有していてもよい炭素数３〜６の脂環式炭化水素基を表し、ｍは０、１または２を表す。）
で表される化合物（以下、化合物（３）とも記す）とを酸化剤の存在下で反応させることにより、式（１）
（式中、Ｒ、Ｘ、Ａ、Ｒ2及びｎ、ｍは、前記と同じ意味を表す。）
で表されるベンゾオキサゾール化合物を得る工程を含む、式（１）で表されるベンゾオキサゾール化合物（以下、化合物（１）とも記す）の製造方法。
［２］ 式（４）
（式中、Ｒはハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６の鎖式炭化水素基を表し、ｎは０、１、２または３を表し、Ｘ1はハロゲン原子を表す。）
で表される化合物（以下、化合物（４）とも記す）と、塩基とを反応させたのち、得られた化合物とホルミル化剤とを反応させることにより、式（２−１）
（式中、Ｘ1、Ｒおよびｎは、前記と同じ意味を表す。）
で表される化合物（以下、化合物（２−１）とも記す）を得る工程：及び
式（２−１）で表される化合物と式（３）
（式中、Ａは窒素原子またはＣＨを表し、Ｒ2はハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６の鎖式炭化水素基またはハロゲン原子を有していてもよい炭素数３〜６の脂環式炭化水素基を表し、ｍは０、１または２を表す。）
で表される化合物とを、酸化剤の存在下で反応させることにより、式（１−１）
（式中、Ｒ、Ｘ1、Ａ、Ｒ2及びｎ、ｍは、前記と同じ意味を表す。）
で表されるベンゾオキサゾール化合物を得る工程を含む、式（１−１）で表されるベンゾオキサゾール化合物の製造方法。
［３］ 式（５）
（式中、Ｒはハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６の鎖式炭化水素基を表し、ｎは０、１、２または３を表す。）
で表される化合物（以下、化合物（５）とも記す）のホルミル基を保護したのち、得られた化合物と塩基とを反応させ、続いて得られた化合物と求電子剤とを反応させたのち、脱保護することにより、式（２）
（式中、Ｒおよびｎは前記と同じ意味を表し、Ｘはハロゲン原子、−ＳＲ1または−Ｓ（Ｏ）2Ｒ1を表し、Ｒ1はハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６の鎖式炭化水素基またはハロゲン原子を有していてもよい炭素数３〜６の脂環式炭化水素基を表す。）で表される化合物を得る工程；および
式（２）で表される化合物と、式（３）
（式中、Ａは窒素原子またはＣＨを表し、Ｒ2はハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６の鎖式炭化水素基またはハロゲン原子を有していてもよい炭素数３〜６の脂環式炭化水素基を表し、ｍは０、１または２を表す。）
で表される化合物とを酸化剤の存在下で反応させることにより、式（１）
（式中、Ｒ、Ｘ、Ａ、Ｒ2及びｎ、ｍは、前記と同じ意味を表す。）
で表される化合物を得る工程
を含む、式（１）で表されるベンゾオキサゾール化合物の製造方法。
［４］ 式（２Ａ）
（式中、Ｚは、エチルチオ基、またはエチルスルホニル基を表す。）
で表される化合物。
［１］ 式（２）
で表される化合物（以下、化合物（２）とも記す）と式（３）
で表される化合物（以下、化合物（３）とも記す）とを酸化剤の存在下で反応させることにより、式（１）
で表されるベンゾオキサゾール化合物を得る工程を含む、式（１）で表されるベンゾオキサゾール化合物（以下、化合物（１）とも記す）の製造方法。
［２］ 式（４）
で表される化合物（以下、化合物（４）とも記す）と、塩基とを反応させたのち、得られた化合物とホルミル化剤とを反応させることにより、式（２−１）
で表される化合物（以下、化合物（２−１）とも記す）を得る工程：及び
式（２−１）で表される化合物と式（３）
で表される化合物とを、酸化剤の存在下で反応させることにより、式（１−１）
で表されるベンゾオキサゾール化合物を得る工程を含む、式（１−１）で表されるベンゾオキサゾール化合物の製造方法。
［３］ 式（５）
で表される化合物（以下、化合物（５）とも記す）のホルミル基を保護したのち、得られた化合物と塩基とを反応させ、続いて得られた化合物と求電子剤とを反応させたのち、脱保護することにより、式（２）
式（２）で表される化合物と、式（３）
で表される化合物とを酸化剤の存在下で反応させることにより、式（１）
で表される化合物を得る工程
を含む、式（１）で表されるベンゾオキサゾール化合物の製造方法。
［４］ 式（２Ａ）
で表される化合物。
本発明により、式（１）で表される化合物の新たな製造方法が提供される。
本発明において、ハロゲン原子はフッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表す。
本発明において、炭素数１〜６の鎖式炭化水素基とは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ヘキシル基等の炭素数１〜６のアルキル基；ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、１−ヘキセニル基等の炭素数１〜６のアルケニル基；及びエチニル基、プロパルギル基、１−ペンチニル基、１−ヘキシニル基等の炭素数１〜６のアルキニル基を表す。
本発明において、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６の鎖式炭化水素基とは、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ヨードメチル基、ジフルオロメチル基、ジクロロメチル基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、２−フルオロエチル基、２−クロロエチル基、２，２−ジフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基等の、ハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基；ビニル基、２−プロペニル基、１−メチルビニル基、２−メチル−１−プロペニル基、３−ブテニル基、１−ヘキセニル基、１，１−ジフルオロアリル基、及びペンタフルオロアリル基等の、ハロゲン原子を有していてもよいＣ２−Ｃ６アルケニル基；及びエチニル基、プロパルギル基、３−ブチニル基、１−ヘキシニル基、及び４，４，４−トリフルオロ−２−ブチニル基等の、ハロゲン原子を有していてもよいＣ２−Ｃ６アルキニル基を表す。
本発明において、炭素数３〜６の脂環式炭化水素基とは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３〜６のシクロアルキル基；及び１−シクロヘキセニル基、３−シクロヘキセニル基等の炭素数が３〜６のシクロアルケニル基を表す。
本発明において、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数３〜６の脂環式炭化水素基とは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、２−フルオロシクロプロピル基、２−クロロシクロプロピル基、２−ブロモシクロプロピル基、２−ヨードシクロプロピル基、２−フルオロシクロブチル基、２−フルオロシクロヘキシル基、２，２，３，３−テトラフルオロシクロプロピル基等のハロゲン原子を有していてもよい炭素数３〜６のシクロアルキル基；及び１−シクロヘキセニル基、３−シクロヘキセニル基、２−フルオロ−１−シクロヘキセニル基、２−クロロ−１−シクロヘキセニル基、２−ブロモ−１−シクロヘキセニル基、２−ヨード−１−シクロヘキセニル基、３−フルオロ−１−シクロヘキセニル基、３−クロロ−１−シクロヘキセニル基、３−ブロモ−１−シクロヘキセニル基、３−ヨード−１−シクロヘキセニル基等のハロゲン原子を有していてもよい炭素数が３〜６のシクロアルケニル基を表す。
本発明において、炭素数１〜６の鎖式炭化水素基とは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ヘキシル基等の炭素数１〜６のアルキル基；ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、１−ヘキセニル基等の炭素数１〜６のアルケニル基；及びエチニル基、プロパルギル基、１−ペンチニル基、１−ヘキシニル基等の炭素数１〜６のアルキニル基を表す。
本発明において、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６の鎖式炭化水素基とは、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ヨードメチル基、ジフルオロメチル基、ジクロロメチル基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、２−フルオロエチル基、２−クロロエチル基、２，２−ジフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基等の、ハロゲン原子を有していてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基；ビニル基、２−プロペニル基、１−メチルビニル基、２−メチル−１−プロペニル基、３−ブテニル基、１−ヘキセニル基、１，１−ジフルオロアリル基、及びペンタフルオロアリル基等の、ハロゲン原子を有していてもよいＣ２−Ｃ６アルケニル基；及びエチニル基、プロパルギル基、３−ブチニル基、１−ヘキシニル基、及び４，４，４−トリフルオロ−２−ブチニル基等の、ハロゲン原子を有していてもよいＣ２−Ｃ６アルキニル基を表す。
本発明において、炭素数３〜６の脂環式炭化水素基とは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３〜６のシクロアルキル基；及び１−シクロヘキセニル基、３−シクロヘキセニル基等の炭素数が３〜６のシクロアルケニル基を表す。
本発明において、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数３〜６の脂環式炭化水素基とは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、２−フルオロシクロプロピル基、２−クロロシクロプロピル基、２−ブロモシクロプロピル基、２−ヨードシクロプロピル基、２−フルオロシクロブチル基、２−フルオロシクロヘキシル基、２，２，３，３−テトラフルオロシクロプロピル基等のハロゲン原子を有していてもよい炭素数３〜６のシクロアルキル基；及び１−シクロヘキセニル基、３−シクロヘキセニル基、２−フルオロ−１−シクロヘキセニル基、２−クロロ−１−シクロヘキセニル基、２−ブロモ−１−シクロヘキセニル基、２−ヨード−１−シクロヘキセニル基、３−フルオロ−１−シクロヘキセニル基、３−クロロ−１−シクロヘキセニル基、３−ブロモ−１−シクロヘキセニル基、３−ヨード−１−シクロヘキセニル基等のハロゲン原子を有していてもよい炭素数が３〜６のシクロアルケニル基を表す。
（製造法１）
化合物（２）と化合物（３）とを酸化剤の存在下で反応させて、化合物（１）を製造することができる。
化合物（３）は特許文献１に記載の方法によって合成することができる。
該反応は、通常溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類、１，４−ジオキサン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦと記す）、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、トルエン、ベンゼン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族化合物類、酢酸等のカルボン酸類及びこれらの混合物が挙げられる。
溶媒の使用量は、化合物（３）１質量部に対して、通常１〜１００質量部であり、好ましくは１〜２０質量部である。
反応に用いられる酸化剤としては、例えば空気、酸素、過酸化水素、過酸化ｔ−ブチル、塩化銅（ＩＩ）、塩化鉄（ＩＩＩ）、フェリシアン化カリウム、二酸化マンガン、四酢酸鉛、次亜塩素酸ナトリウム、ペルオキソ二硫酸カリウム、オキソン（登録商標）、ヨウ素、ベンゾキノン、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−ｐ−ベンゾキノン、２−ヨードキシ安息香酸、及びジアセトキシヨードベンゼンが挙げられる。
該反応には、化合物（３）１モルに対して、化合物（２）が通常１〜２モルの割合、酸化剤が通常１モル〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常０〜２００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
該反応は加圧下で行ってもよい。
該反応は必要に応じて脱水条件下で行うか、または触媒を加えて行うこともできる。
脱水条件としては、例えば硫酸マグネシウム、硫酸ナトリウム、及びモレキュラーシーブス等の脱水剤を用いる方法や、ディーンスターク装置等を用いた共沸脱水が挙げられる。
脱水剤の使用量は、化合物（３）１質量部に対して、通常０．１〜１０質量部であり、好ましくは０．１〜２質量部である。
反応に用いられる触媒としては、例えば酸化鉄（ＩＩ）、酸化鉄（ＩＩＩ）、四酸化三鉄、酸化セレン、メタバナジン酸アンモニウム等の金属酸化物；塩化鉄（ＩＩ）、塩化パラジウム、塩化ニッケル、塩化コバルト等の金属塩化物が挙げられ、これらは活性炭等に担持されていてもよい。特に四酸化三鉄が担持された活性炭が好ましい。
触媒の使用量は、化合物（３）１モルに対して、通常０．０１〜１モルであり、好ましくは、０．０１〜０．１モルである。
該反応は必要に応じて酸および／または塩基を加えて行うこともできる。
反応に用いられる酸としては、例えば酢酸等のカルボン酸；ｐ−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等のスルホン酸；硫酸等が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えばピリジン、キノリン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物；トリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン等の３級アミン化合物；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩；リン酸水素二カリウム等のアルカリ金属リン酸塩；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物が挙げられる。
酸の使用量は、化合物（３）１モルに対して、通常０．０１〜１モルであり、好ましくは、０．０１〜０．１モルである。
塩基の使用量は、化合物（３）１モルに対して、通常０．０１〜１モルであり、好ましくは、０．０１〜０．１モルである。
反応終了後は、必要に応じて触媒等を濾別した後、反応混合物を水に加えてから有機溶媒抽出し、有機層を濃縮する；反応混合物を水に加えて生じた固体を濾過により集めることにより化合物（１）を単離することができる。単離された化合物（１）は、再結晶、クロマトグラフィ−等により更に精製することもできる。
化合物（２）と化合物（３）とを酸化剤の存在下で反応させて、化合物（１）を製造することができる。
化合物（３）は特許文献１に記載の方法によって合成することができる。
該反応は、通常溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類、１，４−ジオキサン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦと記す）、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、トルエン、ベンゼン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族化合物類、酢酸等のカルボン酸類及びこれらの混合物が挙げられる。
溶媒の使用量は、化合物（３）１質量部に対して、通常１〜１００質量部であり、好ましくは１〜２０質量部である。
反応に用いられる酸化剤としては、例えば空気、酸素、過酸化水素、過酸化ｔ−ブチル、塩化銅（ＩＩ）、塩化鉄（ＩＩＩ）、フェリシアン化カリウム、二酸化マンガン、四酢酸鉛、次亜塩素酸ナトリウム、ペルオキソ二硫酸カリウム、オキソン（登録商標）、ヨウ素、ベンゾキノン、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−ｐ−ベンゾキノン、２−ヨードキシ安息香酸、及びジアセトキシヨードベンゼンが挙げられる。
該反応には、化合物（３）１モルに対して、化合物（２）が通常１〜２モルの割合、酸化剤が通常１モル〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常０〜２００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
該反応は加圧下で行ってもよい。
該反応は必要に応じて脱水条件下で行うか、または触媒を加えて行うこともできる。
脱水条件としては、例えば硫酸マグネシウム、硫酸ナトリウム、及びモレキュラーシーブス等の脱水剤を用いる方法や、ディーンスターク装置等を用いた共沸脱水が挙げられる。
脱水剤の使用量は、化合物（３）１質量部に対して、通常０．１〜１０質量部であり、好ましくは０．１〜２質量部である。
反応に用いられる触媒としては、例えば酸化鉄（ＩＩ）、酸化鉄（ＩＩＩ）、四酸化三鉄、酸化セレン、メタバナジン酸アンモニウム等の金属酸化物；塩化鉄（ＩＩ）、塩化パラジウム、塩化ニッケル、塩化コバルト等の金属塩化物が挙げられ、これらは活性炭等に担持されていてもよい。特に四酸化三鉄が担持された活性炭が好ましい。
触媒の使用量は、化合物（３）１モルに対して、通常０．０１〜１モルであり、好ましくは、０．０１〜０．１モルである。
該反応は必要に応じて酸および／または塩基を加えて行うこともできる。
反応に用いられる酸としては、例えば酢酸等のカルボン酸；ｐ−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等のスルホン酸；硫酸等が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えばピリジン、キノリン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物；トリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン等の３級アミン化合物；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩；リン酸水素二カリウム等のアルカリ金属リン酸塩；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物が挙げられる。
酸の使用量は、化合物（３）１モルに対して、通常０．０１〜１モルであり、好ましくは、０．０１〜０．１モルである。
塩基の使用量は、化合物（３）１モルに対して、通常０．０１〜１モルであり、好ましくは、０．０１〜０．１モルである。
反応終了後は、必要に応じて触媒等を濾別した後、反応混合物を水に加えてから有機溶媒抽出し、有機層を濃縮する；反応混合物を水に加えて生じた固体を濾過により集めることにより化合物（１）を単離することができる。単離された化合物（１）は、再結晶、クロマトグラフィ−等により更に精製することもできる。
化合物（１）は、化合物（２）と化合物（３）との反応により得られる式（１０）で表される化合物を単離し、その後閉環反応を行っても製造することができる。
化合物（１０）は、化合物（２）と化合物（３）とを酸化剤の非存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類、１，４−ジオキサン、ジエチルエーテル、ＴＨＦ、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、トルエン、ベンゼン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族化合物類、酢酸等のカルボン酸類及びこれらの混合物が挙げられる。
溶媒の使用量は、化合物（３）１質量部に対して、通常１〜１００質量部であり、好ましくは１〜２０質量部である。
該反応には、化合物（３）１モルに対して、化合物（２）が通常１〜２モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常０〜５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
該反応は必要に応じて脱水条件下で行うこともできる。
脱水条件としては、例えば硫酸マグネシウム、硫酸ナトリウム、及びモレキュラーシーブス等の脱水剤を用いる方法や、ディーンスターク装置等を用いた共沸脱水が挙げられる。
脱水剤の使用量は、化合物（３）１質量部に対して、通常０．１〜１０質量部であり、好ましくは０．１〜２質量部である。
該反応は必要に応じて酸を加えて行うこともできる。
反応に用いられる酸としては、例えば酢酸等のカルボン酸；ｐ−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等のスルホン酸；硫酸等が挙げられる。
酸の使用量は、化合物（３）１モルに対して、通常０．０１〜１モルであり、好ましくは、０．０１〜０．１モルである。 反応終了後は、必要に応じて触媒等を濾別した後、反応混合物を濃縮する；反応混合物を水に加えてから有機溶媒抽出し、有機層を濃縮する；反応混合物を水に加えて生じた固体を濾過により集めることにより化合物（１０）を単離することができる。
該反応は、通常溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類、１，４−ジオキサン、ジエチルエーテル、ＴＨＦ、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、トルエン、ベンゼン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族化合物類、酢酸等のカルボン酸類及びこれらの混合物が挙げられる。
溶媒の使用量は、化合物（３）１質量部に対して、通常１〜１００質量部であり、好ましくは１〜２０質量部である。
該反応には、化合物（３）１モルに対して、化合物（２）が通常１〜２モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常０〜５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
該反応は必要に応じて脱水条件下で行うこともできる。
脱水条件としては、例えば硫酸マグネシウム、硫酸ナトリウム、及びモレキュラーシーブス等の脱水剤を用いる方法や、ディーンスターク装置等を用いた共沸脱水が挙げられる。
脱水剤の使用量は、化合物（３）１質量部に対して、通常０．１〜１０質量部であり、好ましくは０．１〜２質量部である。
該反応は必要に応じて酸を加えて行うこともできる。
反応に用いられる酸としては、例えば酢酸等のカルボン酸；ｐ−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等のスルホン酸；硫酸等が挙げられる。
酸の使用量は、化合物（３）１モルに対して、通常０．０１〜１モルであり、好ましくは、０．０１〜０．１モルである。 反応終了後は、必要に応じて触媒等を濾別した後、反応混合物を濃縮する；反応混合物を水に加えてから有機溶媒抽出し、有機層を濃縮する；反応混合物を水に加えて生じた固体を濾過により集めることにより化合物（１０）を単離することができる。
化合物（１）は、化合物（１０）を酸化剤の存在下で閉環することにより製造することができる。
閉環反応は、通常溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類、１，４−ジオキサン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦと記す）、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、トルエン、ベンゼン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族化合物類、酢酸等のカルボン酸類及びこれらの混合物が挙げられる。
溶媒の使用量は、化合物（１０）１質量部に対して、通常１〜１００質量部であり、好ましくは１〜２０質量部である。
反応に用いられる酸化剤としては、例えば空気、酸素、過酸化水素、過酸化ｔ−ブチル、塩化銅（ＩＩ）、塩化鉄（ＩＩＩ）、フェリシアン化カリウム、二酸化マンガン、四酢酸鉛、次亜塩素酸ナトリウム、ペルオキソ二硫酸カリウム、オキソン（登録商標）、ヨウ素、ベンゾキノン、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−ｐ−ベンゾキノン、２−ヨードキシ安息香酸、及びジアセトキシヨードベンゼンが挙げられる。
該反応には、化合物（１０）１モルに対して、酸化剤が通常１モル〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常０〜２００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
該反応は加圧下で行ってもよい。
該反応は必要に応じて脱水条件下で行うか、または触媒を加えて行うこともできる。
脱水条件としては、例えば硫酸マグネシウム、硫酸ナトリウム、及びモレキュラーシーブス等の脱水剤を用いる方法や、ディーンスターク装置等を用いた共沸脱水が挙げられる。
脱水剤の使用量は、化合物（１０）１質量部に対して、通常０．１〜１０質量部であり、好ましくは０．１〜２質量部である。
反応に用いられる触媒としては、例えば酸化鉄（ＩＩ）、酸化鉄（ＩＩＩ）、四酸化三鉄、酸化セレン、メタバナジン酸アンモニウム等の金属酸化物；塩化鉄（ＩＩ）、塩化パラジウム、塩化ニッケル、塩化コバルト等の金属塩化物が挙げられ、これらは活性炭等に担持されていてもよい。特に四酸化三鉄が担持された活性炭が好ましい。
触媒の使用量は、化合物（１０）１モルに対して、通常０．０１〜１モルであり、好ましくは、０．０１〜０．１モルである。
該反応は必要に応じて酸および／または塩基を加えて行うこともできる。
反応に用いられる酸としては、例えば酢酸等のカルボン酸；ｐ−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等のスルホン酸；硫酸等が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えばピリジン、キノリン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物；トリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン等の３級アミン化合物；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩；リン酸水素二カリウム等のアルカリ金属リン酸塩；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物が挙げられる。
酸の使用量は、化合物（１０）１モルに対して、通常０．０１〜１モルであり、好ましくは、０．０１〜０．１モルである。
塩基の使用量は、化合物（１０）１モルに対して、通常０．０１〜１モルであり、好ましくは、０．０１〜０．１モルである。
反応終了後は、必要に応じて触媒等を濾別した後、反応混合物を水に加えてから有機溶媒抽出し、有機層を濃縮する；反応混合物を水に加えて生じた固体を濾過により集めることにより化合物（１）を単離することができる。単離された化合物（１）は、再結晶、クロマトグラフィ−等により更に精製することもできる。
閉環反応は、通常溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類、１，４−ジオキサン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦと記す）、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、トルエン、ベンゼン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族化合物類、酢酸等のカルボン酸類及びこれらの混合物が挙げられる。
溶媒の使用量は、化合物（１０）１質量部に対して、通常１〜１００質量部であり、好ましくは１〜２０質量部である。
反応に用いられる酸化剤としては、例えば空気、酸素、過酸化水素、過酸化ｔ−ブチル、塩化銅（ＩＩ）、塩化鉄（ＩＩＩ）、フェリシアン化カリウム、二酸化マンガン、四酢酸鉛、次亜塩素酸ナトリウム、ペルオキソ二硫酸カリウム、オキソン（登録商標）、ヨウ素、ベンゾキノン、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−ｐ−ベンゾキノン、２−ヨードキシ安息香酸、及びジアセトキシヨードベンゼンが挙げられる。
該反応には、化合物（１０）１モルに対して、酸化剤が通常１モル〜５モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常０〜２００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
該反応は加圧下で行ってもよい。
該反応は必要に応じて脱水条件下で行うか、または触媒を加えて行うこともできる。
脱水条件としては、例えば硫酸マグネシウム、硫酸ナトリウム、及びモレキュラーシーブス等の脱水剤を用いる方法や、ディーンスターク装置等を用いた共沸脱水が挙げられる。
脱水剤の使用量は、化合物（１０）１質量部に対して、通常０．１〜１０質量部であり、好ましくは０．１〜２質量部である。
反応に用いられる触媒としては、例えば酸化鉄（ＩＩ）、酸化鉄（ＩＩＩ）、四酸化三鉄、酸化セレン、メタバナジン酸アンモニウム等の金属酸化物；塩化鉄（ＩＩ）、塩化パラジウム、塩化ニッケル、塩化コバルト等の金属塩化物が挙げられ、これらは活性炭等に担持されていてもよい。特に四酸化三鉄が担持された活性炭が好ましい。
触媒の使用量は、化合物（１０）１モルに対して、通常０．０１〜１モルであり、好ましくは、０．０１〜０．１モルである。
該反応は必要に応じて酸および／または塩基を加えて行うこともできる。
反応に用いられる酸としては、例えば酢酸等のカルボン酸；ｐ−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等のスルホン酸；硫酸等が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えばピリジン、キノリン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物；トリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン等の３級アミン化合物；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩；リン酸水素二カリウム等のアルカリ金属リン酸塩；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物が挙げられる。
酸の使用量は、化合物（１０）１モルに対して、通常０．０１〜１モルであり、好ましくは、０．０１〜０．１モルである。
塩基の使用量は、化合物（１０）１モルに対して、通常０．０１〜１モルであり、好ましくは、０．０１〜０．１モルである。
反応終了後は、必要に応じて触媒等を濾別した後、反応混合物を水に加えてから有機溶媒抽出し、有機層を濃縮する；反応混合物を水に加えて生じた固体を濾過により集めることにより化合物（１）を単離することができる。単離された化合物（１）は、再結晶、クロマトグラフィ−等により更に精製することもできる。
（製造法２−１）
式（２）においてＸがハロゲン原子である化合物（２−１）は、化合物（４）と塩基とを反応させたのち、得られた化合物とホルミル化剤とを反応させることにより製造することができる。
式（２）においてＸがハロゲン原子である化合物（２−１）は、化合物（４）と塩基とを反応させたのち、得られた化合物とホルミル化剤とを反応させることにより製造することができる。
化合物（４）と塩基とを反応させる工程について記載する。
化合物（４）は、市販品を用いてもよいし、公知の方法により製造したものを用いてもよい。
Ｘ1で表されるハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子である。
該反応に用いられる塩基としては、ジイソプロピルアミドマグネシウムクロライド、２，２，６，６−テトラメチルピペリジノマグネシウムクロライド等のマグネシウムアミドが挙げられ、好ましくは２，２，６，６−テトラメチルピペリジノマグネシウムクロライドである。該反応は２種以上の塩基を組み合わせて用いてもよい。
該反応は、塩基と等モルの塩化リチウムを添加してもよい。
塩基の使用量は、化合物（４）１モルに対して、通常１〜１０モルであり、好ましくは１〜５モルであり、より好ましくは１〜２モルである。
該反応は、通常、溶媒中で行われる。
溶媒としては、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒；ジクロロメタン等の含ハロゲン脂肪族炭化水素溶媒；１，４−ジオキサン、ジエチルエーテル、ＴＨＦ、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル溶媒；ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族溶媒；ジメチルスルホキシド、スルホラン等のスルホキシド溶媒；及びこれらの混合溶媒が挙げられる。溶媒は、好ましくはエーテル溶媒である。
溶媒の使用量は、化合物（４）１質量部に対して、通常１〜１００質量部であり、好ましくは１〜２０質量部である。
化合物（４）は、市販品を用いてもよいし、公知の方法により製造したものを用いてもよい。
Ｘ1で表されるハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子である。
該反応に用いられる塩基としては、ジイソプロピルアミドマグネシウムクロライド、２，２，６，６−テトラメチルピペリジノマグネシウムクロライド等のマグネシウムアミドが挙げられ、好ましくは２，２，６，６−テトラメチルピペリジノマグネシウムクロライドである。該反応は２種以上の塩基を組み合わせて用いてもよい。
該反応は、塩基と等モルの塩化リチウムを添加してもよい。
塩基の使用量は、化合物（４）１モルに対して、通常１〜１０モルであり、好ましくは１〜５モルであり、より好ましくは１〜２モルである。
該反応は、通常、溶媒中で行われる。
溶媒としては、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒；ジクロロメタン等の含ハロゲン脂肪族炭化水素溶媒；１，４−ジオキサン、ジエチルエーテル、ＴＨＦ、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル溶媒；ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族溶媒；ジメチルスルホキシド、スルホラン等のスルホキシド溶媒；及びこれらの混合溶媒が挙げられる。溶媒は、好ましくはエーテル溶媒である。
溶媒の使用量は、化合物（４）１質量部に対して、通常１〜１００質量部であり、好ましくは１〜２０質量部である。
ホルミル化剤としてはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド等が挙げられる。
ホルミル化剤の使用量は、化合物（４）１モルに対して、通常１〜１０モルであり、好ましくは１〜５モルであり、より好ましくは１〜２モルである。
該反応は、通常化合物（４）と塩基とを反応させたのち、得られた化合物とホルミル化剤とを反応させることにより行われる。
化合物（４）と塩基との反応は、化合物（４）に塩基を加えてもよいし、塩基に化合物（４）を加えてもよい。
化合物（４）と塩基との反応温度は、通常−７８〜１２０℃であり、好ましくは−２５〜２５℃である。
化合物（４）と塩基との反応時間は、通常０．１〜１００時間であり、好ましくは０．１〜２４時間である。
ホルミル化剤の使用量は、化合物（４）１モルに対して、通常１〜１０モルであり、好ましくは１〜５モルであり、より好ましくは１〜２モルである。
該反応は、通常化合物（４）と塩基とを反応させたのち、得られた化合物とホルミル化剤とを反応させることにより行われる。
化合物（４）と塩基との反応は、化合物（４）に塩基を加えてもよいし、塩基に化合物（４）を加えてもよい。
化合物（４）と塩基との反応温度は、通常−７８〜１２０℃であり、好ましくは−２５〜２５℃である。
化合物（４）と塩基との反応時間は、通常０．１〜１００時間であり、好ましくは０．１〜２４時間である。
化合物（４）と塩基とを反応させて得られた化合物（以下、化合物（４Ａ）と記す）とホルミル化剤とを反応させる工程について記載する。
化合物（４Ａ）及びホルミル化剤の反応（以下、ホルミル化反応とも記す）は、化合物（４Ａ）にホルミル化剤を加えてもよいし、ホルミル化剤に化合物（４Ａ）を加えてもよい。
ホルミル化反応の反応温度は、通常−７８〜１２０℃であり、好ましくは−２５〜４０℃である。
ホルミル化反応の反応時間は、通常０．１〜１００時間であり、好ましくは０．１〜２４時間である。
ホルミル化反応の反応終了後は、反応混合物を水に加えてから有機溶媒抽出し、有機層を濃縮する；反応混合物を水に加えて生じた固体を濾過により集めることにより化合物（２−１）を単離することができる。単離された化合物（２−１）は、再結晶、クロマトグラフィ−等により更に精製することもできる。
化合物（４Ａ）及びホルミル化剤の反応（以下、ホルミル化反応とも記す）は、化合物（４Ａ）にホルミル化剤を加えてもよいし、ホルミル化剤に化合物（４Ａ）を加えてもよい。
ホルミル化反応の反応温度は、通常−７８〜１２０℃であり、好ましくは−２５〜４０℃である。
ホルミル化反応の反応時間は、通常０．１〜１００時間であり、好ましくは０．１〜２４時間である。
ホルミル化反応の反応終了後は、反応混合物を水に加えてから有機溶媒抽出し、有機層を濃縮する；反応混合物を水に加えて生じた固体を濾過により集めることにより化合物（２−１）を単離することができる。単離された化合物（２−１）は、再結晶、クロマトグラフィ−等により更に精製することもできる。
化合物（２−１）を用いて、製造法１に記載の方法に準じて、式（１−１）で表されるベンゾオキサゾール化合物を製造することができる。
（製造法２−２）
式（２）においてＸが−ＳＲ1である化合物（以下、化合物（２−２）とも記す。）は、化合物（２−１）と、式（６）で表される化合物（以下、化合物（６）とも記す。）
（式中、Ｍは、アルカリ金属原子を表し、Ｒ1は前記と同じ意味を表す。）
とを反応させることにより製造することができる。
式（２）においてＸが−ＳＲ1である化合物（以下、化合物（２−２）とも記す。）は、化合物（２−１）と、式（６）で表される化合物（以下、化合物（６）とも記す。）
とを反応させることにより製造することができる。
Ｍで表されるアルカリ金属原子としては、リチウム原子、ナトリウム原子、カリウム原子及びセシウム原子が挙げられる。
化合物（６）は、市販品を用いてもよいし、以下のように製造したものを用いてもよい。
化合物（６）は、市販品を用いてもよいし、以下のように製造したものを用いてもよい。
化合物（６）は、式（７）で表される化合物（以下、化合物（７）とも記す。）
（式中、Ｒ1は前記と同じ意味を表す。）
と塩基とを反応させることにより製造することができる。
化合物（２−２）を製造する反応は、化合物（７）と塩基とを反応させることによりあらかじめ化合物（６）を調製し、化合物（６）と化合物（２−１）とを反応させてもよいし、化合物（７）と塩基と化合物（２−１）とを混合して、化合物（２−２）を製造してもよい。
と塩基とを反応させることにより製造することができる。
化合物（２−２）を製造する反応は、化合物（７）と塩基とを反応させることによりあらかじめ化合物（６）を調製し、化合物（６）と化合物（２−１）とを反応させてもよいし、化合物（７）と塩基と化合物（２−１）とを混合して、化合物（２−２）を製造してもよい。
塩基としては、リチウムジイソプロピルアミド、ナトリウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド；リチウムヘキサメチルジシラジド、カリウムヘキサメチルジシラジド等のアルカリ金属ジシラジド；水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩；炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩；リン酸ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素ナトリウム等のアルカリ金属リン酸塩；酢酸ナトリウム等のアルカリ金属酢酸塩；ナトリウムメトキシド、リチウムメトキシド等のアルカリ金属アルコキシドが挙げられる。該反応は２種以上の塩基を組み合わせて用いてもよい。
塩基の使用量は、化合物（７）１モルに対して、通常１〜１０モルであり、好ましくは１〜５モルであり、より好ましくは１〜２モルである。
化合物（７）と塩基との反応温度は、通常−７８〜１２０℃であり、好ましくは−２０〜４０℃である。
化合物（７）と塩基との反応時間は、通常０．１〜１００時間であり、好ましくは０．１〜２４時間である。
化合物（７）と塩基との混合は、通常、溶媒中で行われる。
溶媒としては、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒；クロロホルム、ジクロロメタン等の含ハロゲン脂肪族炭化水素溶媒；メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコール溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル溶媒；ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族溶媒；ジメチルスルホキシド、スルホラン等のスルホキシド溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド溶媒；及びこれらの混合溶媒が挙げられる。
溶媒の使用量は、化合物（７）１質量部に対して、通常１〜１００質量部であり、好ましくは１〜２０質量部である。
塩基の使用量は、化合物（７）１モルに対して、通常１〜１０モルであり、好ましくは１〜５モルであり、より好ましくは１〜２モルである。
化合物（７）と塩基との反応温度は、通常−７８〜１２０℃であり、好ましくは−２０〜４０℃である。
化合物（７）と塩基との反応時間は、通常０．１〜１００時間であり、好ましくは０．１〜２４時間である。
化合物（７）と塩基との混合は、通常、溶媒中で行われる。
溶媒としては、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒；クロロホルム、ジクロロメタン等の含ハロゲン脂肪族炭化水素溶媒；メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコール溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル溶媒；ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族溶媒；ジメチルスルホキシド、スルホラン等のスルホキシド溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド溶媒；及びこれらの混合溶媒が挙げられる。
溶媒の使用量は、化合物（７）１質量部に対して、通常１〜１００質量部であり、好ましくは１〜２０質量部である。
化合物（２−２）は、化合物（２−１）と化合物（６）とを反応させて製造される。
化合物（６）の使用量は、化合物（２−１）１モルに対して、通常１〜１０モルであり、好ましくは、１〜５モルである。
化合物（２−１）と化合物（６）との反応温度は、通常−２０〜１２０℃であり、好ましくは０〜８０℃である。
化合物（２−１）と化合物（６）との反応時間は、通常０．１〜１００時間であり、好ましくは０．１〜２４時間である。
化合物（２−１）と化合物（６）との反応は、通常、溶媒中で行われる。
溶媒としては、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒；クロロホルム、ジクロロメタン等の含ハロゲン脂肪族炭化水素溶媒；メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコール溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル溶媒；ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族溶媒；ジメチルスルホキシド、スルホラン等のスルホキシド溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド溶媒；及びこれらの混合溶媒が挙げられる。
溶媒の使用量は、化合物（２−１）１質量部に対して、通常１〜１００質量部であり、好ましくは１〜２０質量部である。
反応終了後は、得られた反応混合物を分液、濃縮することにより、化合物（２−２）を取り出すことができる。取り出した化合物（２−２）をカラムクロマトグラフィー、再結晶、洗浄、蒸留等の精製手段により精製してもよい。
化合物（６）の使用量は、化合物（２−１）１モルに対して、通常１〜１０モルであり、好ましくは、１〜５モルである。
化合物（２−１）と化合物（６）との反応温度は、通常−２０〜１２０℃であり、好ましくは０〜８０℃である。
化合物（２−１）と化合物（６）との反応時間は、通常０．１〜１００時間であり、好ましくは０．１〜２４時間である。
化合物（２−１）と化合物（６）との反応は、通常、溶媒中で行われる。
溶媒としては、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒；クロロホルム、ジクロロメタン等の含ハロゲン脂肪族炭化水素溶媒；メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコール溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル溶媒；ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族溶媒；ジメチルスルホキシド、スルホラン等のスルホキシド溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド溶媒；及びこれらの混合溶媒が挙げられる。
溶媒の使用量は、化合物（２−１）１質量部に対して、通常１〜１００質量部であり、好ましくは１〜２０質量部である。
反応終了後は、得られた反応混合物を分液、濃縮することにより、化合物（２−２）を取り出すことができる。取り出した化合物（２−２）をカラムクロマトグラフィー、再結晶、洗浄、蒸留等の精製手段により精製してもよい。
化合物（２−２）を用いて、製造法１に記載の方法に準じて、化合物（１）においてＸが−ＳＲ1である化合物を製造することができる。
（製造法２−３）
式（２）においてＸが−Ｓ（Ｏ）2Ｒ1である化合物（以下、化合物（２−３）とも記す。）は、化合物（２−１）と、式（８）で表される化合物（以下、化合物（８）とも記す。）
（式中、記号は前記と同じ意味を表す。）
とを反応させることにより製造することができる。
式（２）においてＸが−Ｓ（Ｏ）2Ｒ1である化合物（以下、化合物（２−３）とも記す。）は、化合物（２−１）と、式（８）で表される化合物（以下、化合物（８）とも記す。）
とを反応させることにより製造することができる。
化合物（８）におけるＭは前記と同じ意味を表し、好ましくはナトリウム原子である。
化合物（８）は、市販品を用いてもよいし、製造したものを用いてもよい。
化合物（８）は、市販品を用いてもよいし、製造したものを用いてもよい。
化合物（８）は、式（９）
（式中、Ｒ1は前記と同じ意味を表し、Ｙはハロゲン原子を表す。）
で表される化合物（以下、化合物（９）とも記す。）とアルカリ金属塩基と還元剤とを反応させることにより製造することができる。
Ｙで表されるハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子であり、好ましくは塩素原子である。
で表される化合物（以下、化合物（９）とも記す。）とアルカリ金属塩基と還元剤とを反応させることにより製造することができる。
Ｙで表されるハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子であり、好ましくは塩素原子である。
アルカリ金属塩基としては、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩；リン酸水素二カリウム等のアルカリ金属リン酸塩；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物が挙げられる。
アルカリ金属塩基の使用量は、化合物（９）１モルに対して、通常２〜４モルであり、好ましくは２〜３モルである。
還元剤としては、亜硫酸ナトリウム等のアルカリ金属亜硫酸塩；亜硫酸カルシウム等のアルカリ土類金属亜硫酸塩；ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属；ナトリウムアマルガム等のアルカリ金属を含む合金；マグネシウム、カルシウム等のアルカリ土類金属；亜鉛等が挙げられる。
還元剤の使用量は、化合物（９）１モルに対して、通常１〜３モルであり、好ましくは１〜２モルである。
化合物（９）とアルカリ金属塩基と還元剤との反応は、通常、溶媒中で行われる。
溶媒としては、水；メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコール溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル溶媒；ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族溶媒；ジメチルスルホキシド、スルホラン等のスルホキシド溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド溶媒；及びこれらの混合溶媒が挙げられ、水、又は水を含有する混合溶媒が好ましく、水がより好ましい。
溶媒の使用量は、化合物（９）１質量部に対して、通常１〜１００質量部であり、好ましくは１〜２０質量部である。
アルカリ金属塩基の使用量は、化合物（９）１モルに対して、通常２〜４モルであり、好ましくは２〜３モルである。
還元剤としては、亜硫酸ナトリウム等のアルカリ金属亜硫酸塩；亜硫酸カルシウム等のアルカリ土類金属亜硫酸塩；ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属；ナトリウムアマルガム等のアルカリ金属を含む合金；マグネシウム、カルシウム等のアルカリ土類金属；亜鉛等が挙げられる。
還元剤の使用量は、化合物（９）１モルに対して、通常１〜３モルであり、好ましくは１〜２モルである。
化合物（９）とアルカリ金属塩基と還元剤との反応は、通常、溶媒中で行われる。
溶媒としては、水；メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコール溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル溶媒；ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族溶媒；ジメチルスルホキシド、スルホラン等のスルホキシド溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド溶媒；及びこれらの混合溶媒が挙げられ、水、又は水を含有する混合溶媒が好ましく、水がより好ましい。
溶媒の使用量は、化合物（９）１質量部に対して、通常１〜１００質量部であり、好ましくは１〜２０質量部である。
化合物（２−１）と化合物（８）とを反応させて、化合物（２−３）を製造する。
化合物（８）の使用量は、化合物（２−１）１モルに対して、通常１〜１０モルであり、好ましくは、１〜５モルである。
化合物（２−１）と化合物（８）との反応温度は、通常−２０〜１２０℃であり、好ましくは０〜１２０℃である。
化合物（２−１）と化合物（８）との反応時間は、通常０．１〜１００時間であり、好ましくは０．１〜２４時間である。
化合物（２−１）と化合物（８）との反応は、通常、溶媒中で行われる。
溶媒としては、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒；クロロホルム、ジクロロメタン等の含ハロゲン脂肪族炭化水素溶媒；メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコール溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル溶媒；ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族溶媒；ジメチルスルホキシド、スルホラン等のスルホキシド溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド溶媒；及びこれらの混合溶媒が挙げられる。溶媒は、好ましくはスルホキシド溶媒及びアミド溶媒である。
溶媒の使用量は、化合物（２−１）１質量部に対して、通常１〜１００質量部であり、好ましくは１〜２０質量部である。
反応終了後、得られた反応混合物を、分液、濃縮することにより、化合物（２−３）を取り出すことができる。取り出した化合物（２−３）をカラムクロマトグラフィー、再結晶、洗浄、蒸留等の精製手段により精製してもよい。
化合物（８）の使用量は、化合物（２−１）１モルに対して、通常１〜１０モルであり、好ましくは、１〜５モルである。
化合物（２−１）と化合物（８）との反応温度は、通常−２０〜１２０℃であり、好ましくは０〜１２０℃である。
化合物（２−１）と化合物（８）との反応時間は、通常０．１〜１００時間であり、好ましくは０．１〜２４時間である。
化合物（２−１）と化合物（８）との反応は、通常、溶媒中で行われる。
溶媒としては、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒；クロロホルム、ジクロロメタン等の含ハロゲン脂肪族炭化水素溶媒；メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコール溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル溶媒；ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族溶媒；ジメチルスルホキシド、スルホラン等のスルホキシド溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド溶媒；及びこれらの混合溶媒が挙げられる。溶媒は、好ましくはスルホキシド溶媒及びアミド溶媒である。
溶媒の使用量は、化合物（２−１）１質量部に対して、通常１〜１００質量部であり、好ましくは１〜２０質量部である。
反応終了後、得られた反応混合物を、分液、濃縮することにより、化合物（２−３）を取り出すことができる。取り出した化合物（２−３）をカラムクロマトグラフィー、再結晶、洗浄、蒸留等の精製手段により精製してもよい。
化合物（２−３）を用いて、製造法１に記載の方法に準じて、化合物（１）においてＸが−Ｓ（Ｏ）2Ｒ1である化合物を製造することができる。
（製造法３）
化合物（２）は、化合物（５）のホルミル基を保護（工程Ａ）したのち、工程Ａで得られた化合物を塩基とを反応（工程Ｂ）させ、続いて工程Ｂで得られた化合物と求電子剤とを反応（工程Ｃ）させたのち、脱保護（工程Ｄ）することにより製造することができる。
化合物（２）は、化合物（５）のホルミル基を保護（工程Ａ）したのち、工程Ａで得られた化合物を塩基とを反応（工程Ｂ）させ、続いて工程Ｂで得られた化合物と求電子剤とを反応（工程Ｃ）させたのち、脱保護（工程Ｄ）することにより製造することができる。
化合物（５）は、市販品を用いてもよいし、公知の方法により製造したものを用いてもよい。
（工程Ａ）
化合物（５）のホルミル基を保護する方法としては、アセタール化およびヘミアミナールアニオン化が挙げられる。
化合物（５）のホルミル基を保護する方法としては、アセタール化およびヘミアミナールアニオン化が挙げられる。
＜アセタール化＞
化合物（５）、１級アルコール、酸触媒、及び脱水剤を混合することにより、化合物（５）をアセタール化することができる。
１級アルコールとしては、メタノール、エタノール等が挙げられる。２種以上の１級アルコールを組み合わせて用いてもよい。
１級アルコールの使用量は、通常、化合物（５）１質量部に対して、通常１〜１００質量部であり、好ましくは１〜２０質量部であり、１級アルコールは溶媒としても用いることもできる。
酸触媒としては、ｐ−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等のスルホン酸；硫酸等が挙げられる。
酸触媒の使用量は、化合物（５）１モルに対して、通常０．０１〜１モルであり、好ましくは、０．０１〜０．１モルである。
脱水剤としてはオルトギ酸トリメチル、オルトギ酸トリエチル等が挙げられる。
脱水剤の使用量は、化合物（５）１モルに対して、通常１〜１０モルであり、好ましくは、１〜５モルである。
化合物（５）、１級アルコール、酸触媒、及び脱水剤の混合順序は特に制限されない。
化合物（５）、１級アルコール、酸触媒、及び脱水剤を混合することにより、化合物（５）をアセタール化することができる。
１級アルコールとしては、メタノール、エタノール等が挙げられる。２種以上の１級アルコールを組み合わせて用いてもよい。
１級アルコールの使用量は、通常、化合物（５）１質量部に対して、通常１〜１００質量部であり、好ましくは１〜２０質量部であり、１級アルコールは溶媒としても用いることもできる。
酸触媒としては、ｐ−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等のスルホン酸；硫酸等が挙げられる。
酸触媒の使用量は、化合物（５）１モルに対して、通常０．０１〜１モルであり、好ましくは、０．０１〜０．１モルである。
脱水剤としてはオルトギ酸トリメチル、オルトギ酸トリエチル等が挙げられる。
脱水剤の使用量は、化合物（５）１モルに対して、通常１〜１０モルであり、好ましくは、１〜５モルである。
化合物（５）、１級アルコール、酸触媒、及び脱水剤の混合順序は特に制限されない。
該反応の反応温度は、通常−７８℃〜溶媒の沸点であり、好ましくは０℃〜溶媒の沸点である。
該反応の反応時間は、通常０．１〜１００時間であり、好ましくは０．１〜２４時間である。
該反応は溶媒を用いてもよく、例えば１，４−ジオキサン、ＴＨＦ等のエーテル類、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、トルエン、ベンゼン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族化合物類及びこれらの混合物が挙げられる。
溶媒の使用量は、化合物（５）１質量部に対して、通常１〜１００質量部であり、好ましくは１〜２０質量部である。
得られた反応混合物を、例えば塩基を加えて中和した後、濃縮することにより、アセタール体を取り出すことができる。取り出したアセタール体をカラムクロマトグラフィー、再結晶、洗浄、蒸留等の精製手段により精製してもよい。
該反応の反応時間は、通常０．１〜１００時間であり、好ましくは０．１〜２４時間である。
該反応は溶媒を用いてもよく、例えば１，４−ジオキサン、ＴＨＦ等のエーテル類、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、トルエン、ベンゼン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族化合物類及びこれらの混合物が挙げられる。
溶媒の使用量は、化合物（５）１質量部に対して、通常１〜１００質量部であり、好ましくは１〜２０質量部である。
得られた反応混合物を、例えば塩基を加えて中和した後、濃縮することにより、アセタール体を取り出すことができる。取り出したアセタール体をカラムクロマトグラフィー、再結晶、洗浄、蒸留等の精製手段により精製してもよい。
＜ヘミアミナールアニオン化＞
化合物（５）、及び金属アミドを混合することにより、化合物（５）をヘミアミナールアニオン化することができる。
金属アミドとしては、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムモルホリド、リチウムピペリジド、リチウムピロリジド、リチウムＮ−メチルピペラジド、及びリチウムＮ，Ｎ，Ｎ’−トリメチルエチレンジアミド等が挙げられる。好ましくはリチウムＮ，Ｎ，Ｎ’−トリメチルエチレンジアミドである。
金属アミドは市販品を用いてもよいし、ジイソプロピルアミン、モルホリン、ピペリジン、ピロリジン、Ｎ−メチルピペラジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリメチルエチレンジアミン等のアミンとノルマルブチルリチウム等のアルキルリチウムとを混合することにより調製して用いてもよい。
金属アミドの使用量は、化合物（５）１モルに対して、通常１．０〜２．０モルであり、好ましくは、１．０〜１．２モルである。
該反応は、金属アミドに化合物（５）を加えてもよいし、化合物（５）に金属アミドを加えてもよいが、金属アミドに化合物（５）を加えることが好ましい。
該反応の反応温度は、通常−７８〜２０℃であり、好ましくは−２０〜０℃である。
該反応の反応時間は、通常０．１〜１００時間であり、好ましくは０．１〜２４時間である。
該反応は、通常、溶媒中で行われる。
溶媒としては、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒；ジクロロメタン等の含ハロゲン脂肪族炭化水素溶媒；１，４−ジオキサン、ジエチルエーテル、ＴＨＦ、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル溶媒；ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族溶媒；ジメチルスルホキシド、スルホラン等のスルホキシド溶媒；及びこれらの混合溶媒が挙げられる。溶媒は、好ましくはエーテル溶媒である。
溶媒の使用量は、化合物（５）１質量部に対して、通常１〜１００質量部であり、好ましくは１〜２０質量部である。
得られた反応混合物は、通常単離することなくそのまま工程Ｂに使用される。
化合物（５）、及び金属アミドを混合することにより、化合物（５）をヘミアミナールアニオン化することができる。
金属アミドとしては、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムモルホリド、リチウムピペリジド、リチウムピロリジド、リチウムＮ−メチルピペラジド、及びリチウムＮ，Ｎ，Ｎ’−トリメチルエチレンジアミド等が挙げられる。好ましくはリチウムＮ，Ｎ，Ｎ’−トリメチルエチレンジアミドである。
金属アミドは市販品を用いてもよいし、ジイソプロピルアミン、モルホリン、ピペリジン、ピロリジン、Ｎ−メチルピペラジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリメチルエチレンジアミン等のアミンとノルマルブチルリチウム等のアルキルリチウムとを混合することにより調製して用いてもよい。
金属アミドの使用量は、化合物（５）１モルに対して、通常１．０〜２．０モルであり、好ましくは、１．０〜１．２モルである。
該反応は、金属アミドに化合物（５）を加えてもよいし、化合物（５）に金属アミドを加えてもよいが、金属アミドに化合物（５）を加えることが好ましい。
該反応の反応温度は、通常−７８〜２０℃であり、好ましくは−２０〜０℃である。
該反応の反応時間は、通常０．１〜１００時間であり、好ましくは０．１〜２４時間である。
該反応は、通常、溶媒中で行われる。
溶媒としては、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒；ジクロロメタン等の含ハロゲン脂肪族炭化水素溶媒；１，４−ジオキサン、ジエチルエーテル、ＴＨＦ、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル溶媒；ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族溶媒；ジメチルスルホキシド、スルホラン等のスルホキシド溶媒；及びこれらの混合溶媒が挙げられる。溶媒は、好ましくはエーテル溶媒である。
溶媒の使用量は、化合物（５）１質量部に対して、通常１〜１００質量部であり、好ましくは１〜２０質量部である。
得られた反応混合物は、通常単離することなくそのまま工程Ｂに使用される。
（工程Ｂ）
工程Ｂは、工程Ａで得られた化合物（以下、保護体とも記す。）と塩基とを反応させる工程である。
塩基としては、ノルマルブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム等のアルキルリチウム、フェニルリチウム等のアリールリチウムが挙げられる。好ましくはアルキルリチウムである。
塩基は、通常市販品が用いられる。
塩基の使用量は、化合物（５）１モルに対して、通常１〜５モルであり、好ましくは、１〜３モルである。
該反応は、保護体に塩基を加えてもよいし、塩基に保護体を加えてもよい。
該反応の反応温度は、通常−７８〜２０℃であり、好ましくは−２０〜０℃である。
該反応の反応時間は、通常０．１〜１００時間であり、好ましくは０．１〜２４時間である。
得られた反応混合物は、通常単離することなくそのまま工程Ｃに使用される。
工程Ｂは、工程Ａで得られた化合物（以下、保護体とも記す。）と塩基とを反応させる工程である。
塩基としては、ノルマルブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム等のアルキルリチウム、フェニルリチウム等のアリールリチウムが挙げられる。好ましくはアルキルリチウムである。
塩基は、通常市販品が用いられる。
塩基の使用量は、化合物（５）１モルに対して、通常１〜５モルであり、好ましくは、１〜３モルである。
該反応は、保護体に塩基を加えてもよいし、塩基に保護体を加えてもよい。
該反応の反応温度は、通常−７８〜２０℃であり、好ましくは−２０〜０℃である。
該反応の反応時間は、通常０．１〜１００時間であり、好ましくは０．１〜２４時間である。
得られた反応混合物は、通常単離することなくそのまま工程Ｃに使用される。
（工程Ｃ）
工程Ｃは、工程Ｂで得られた化合物と求電子剤とを反応させる工程である。
工程Ｂで得られた化合物はそのまま求電子剤と反応させてもよいが、カウンターカチオンを別の金属に交換したのち、求電子剤とを反応させてもよい。
別の金属としては、マグネシウム、銅、スズ、亜鉛、アルミニウム、水銀等が挙げられる。
別の金属に交換する方法としては工程Ｂで得られた化合物を含む反応混合物と有機金属化合物または金属ハロゲン化物とを混合する方法が挙げられる。
有機金属化合物としてはイソプロピルマグネシウムクロライド、テトラブチルスズ、ジエチル亜鉛、トリエチルアルミニウム等が挙げられる。
金属ハロゲン化物としては塩化マグネシウム、塩化銅、塩化スズ、塩化亜鉛、塩化アルミニウム、塩化水銀等が挙げられる。
求電子剤としては、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン単体；Ｎ−クロロスクシンイミド、Ｎ−ブロモスクシンイミド、Ｎ−ヨードスクシンイミド等のスクシンイミド化合物；一塩化ヨウ素、一臭化ヨウ素等のハロゲン間化合物；四塩化炭素、四臭化炭素等のハロアルカン化合物；ジメチルジスルフィド、ジエチルジスルフィド等のジスルフィド化合物；塩化メタンスルホニル、塩化エタンスルホニル等の化合物（９）が挙げられる。
求電子剤は、通常市販品が用いられる。
求電子剤の使用量は、化合物（５）１モルに対して、通常１〜１０モルであり、好ましくは、１〜４モルである。
該反応は、工程Ｂで得られた化合物に求電子剤を加えてもよいし、求電子剤に工程Ｂで得られた化合物を加えてもよい。工程Ｂで得られた化合物に求電子剤を加えることが好ましい。
該反応の反応温度は、通常−７８〜４０℃であり、好ましくは−５０〜３０℃である。
該反応の反応時間は、通常０．１〜１００時間であり、好ましくは０．１〜２４時間である。 得られた反応混合物から生成物を単離してもよいが、通常単離することなくそのまま工程Ｄに使用される。
工程Ｃは、工程Ｂで得られた化合物と求電子剤とを反応させる工程である。
工程Ｂで得られた化合物はそのまま求電子剤と反応させてもよいが、カウンターカチオンを別の金属に交換したのち、求電子剤とを反応させてもよい。
別の金属としては、マグネシウム、銅、スズ、亜鉛、アルミニウム、水銀等が挙げられる。
別の金属に交換する方法としては工程Ｂで得られた化合物を含む反応混合物と有機金属化合物または金属ハロゲン化物とを混合する方法が挙げられる。
有機金属化合物としてはイソプロピルマグネシウムクロライド、テトラブチルスズ、ジエチル亜鉛、トリエチルアルミニウム等が挙げられる。
金属ハロゲン化物としては塩化マグネシウム、塩化銅、塩化スズ、塩化亜鉛、塩化アルミニウム、塩化水銀等が挙げられる。
求電子剤としては、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン単体；Ｎ−クロロスクシンイミド、Ｎ−ブロモスクシンイミド、Ｎ−ヨードスクシンイミド等のスクシンイミド化合物；一塩化ヨウ素、一臭化ヨウ素等のハロゲン間化合物；四塩化炭素、四臭化炭素等のハロアルカン化合物；ジメチルジスルフィド、ジエチルジスルフィド等のジスルフィド化合物；塩化メタンスルホニル、塩化エタンスルホニル等の化合物（９）が挙げられる。
求電子剤は、通常市販品が用いられる。
求電子剤の使用量は、化合物（５）１モルに対して、通常１〜１０モルであり、好ましくは、１〜４モルである。
該反応は、工程Ｂで得られた化合物に求電子剤を加えてもよいし、求電子剤に工程Ｂで得られた化合物を加えてもよい。工程Ｂで得られた化合物に求電子剤を加えることが好ましい。
該反応の反応温度は、通常−７８〜４０℃であり、好ましくは−５０〜３０℃である。
該反応の反応時間は、通常０．１〜１００時間であり、好ましくは０．１〜２４時間である。 得られた反応混合物から生成物を単離してもよいが、通常単離することなくそのまま工程Ｄに使用される。
（工程Ｄ）
工程Ｄは、工程Ｃで得られた化合物を脱保護し、化合物（２）を製造する工程である。
脱保護としては、工程Ｃで得られた反応混合物に水または希酸を加えることにより行われる。
希酸としては通常、濃度０．１〜１Ｎの塩酸、硫酸水、リン酸水が用いられる。
該反応の反応温度は、通常０〜５０℃であり、好ましくは０〜３０℃である。
該反応の反応時間は、通常０．１〜１００時間であり、好ましくは０．１〜２４時間である。
得られた反応混合物は、例えば塩基を加えてｐＨを３〜４に調節した後、分液し、有機層を濃縮することにより、化合物（２）を取り出すことができる。取り出した化合物（２）をカラムクロマトグラフィー、再結晶、洗浄、蒸留等の精製手段により精製してもよい。
工程Ｄは、工程Ｃで得られた化合物を脱保護し、化合物（２）を製造する工程である。
脱保護としては、工程Ｃで得られた反応混合物に水または希酸を加えることにより行われる。
希酸としては通常、濃度０．１〜１Ｎの塩酸、硫酸水、リン酸水が用いられる。
該反応の反応温度は、通常０〜５０℃であり、好ましくは０〜３０℃である。
該反応の反応時間は、通常０．１〜１００時間であり、好ましくは０．１〜２４時間である。
得られた反応混合物は、例えば塩基を加えてｐＨを３〜４に調節した後、分液し、有機層を濃縮することにより、化合物（２）を取り出すことができる。取り出した化合物（２）をカラムクロマトグラフィー、再結晶、洗浄、蒸留等の精製手段により精製してもよい。
化合物（２）を用いて、製造法１に記載の方法に準じて、化合物（１）を製造することができる。
式（２Ａ）で表される化合物においてＺがエチルチオ基である化合物は、化合物（６）においてＲ1がエチル基である化合物を用いて、製造法２−２に記載の方法に準じて製造することができる。
式（２Ａ）で表される化合物においてＺがエチルスルホニル基である化合物は、化合物（８）においてＲ1がエチル基である化合物を用いて、製造法２−３に記載の方法に準じて製造することができる。
実施例において、「部」は特にことわりがない場合、「重量部」を表す。
実施例に記載の鉄担持活性炭とは参考例１に記載の方法で調製したものを表す。
実施例に記載の鉄担持活性炭とは参考例１に記載の方法で調製したものを表す。
（参考例１）：＜５重量％鉄担持活性炭＞の調製
磁気回転子を備えた１００ｍＬフラスコに、活性炭５．０ｇおよび３０％硝酸３０ｇを加え、９０℃で４時間加熱攪拌した。得られた混合物を室温まで冷却後、活性炭をろ過し、ろ液のｐＨが４以上になるまで水で洗浄した。得られた活性炭とアセトニトリル２００ｇとを、磁気回転子を備えた５００ｍＬフラスコに加え、そこに、窒素雰囲気下でアセチルアセトン鉄（ＩＩＩ）のアセトニトリル溶液（アセチルアセトン鉄（ＩＩＩ）１．５８ｇをアセトニトリル１００ｇに混合することにより調製した溶液）を、１時間かけて滴下した。得られた混合物を２時間攪拌した。得られた反応混合物の溶媒を留去した。得られた濃縮物を、窒素気流下、３００℃で５時間焼成し、鉄化合物が担持された活性炭（５重量％鉄担持活性炭）５．２ｇを得た。
鉄担持活性炭の鉄は、ＸＲＤ（粉末Ｘ線回折法（ＸＲＤ））測定より、四酸化三鉄として存在していることがわかった。
磁気回転子を備えた１００ｍＬフラスコに、活性炭５．０ｇおよび３０％硝酸３０ｇを加え、９０℃で４時間加熱攪拌した。得られた混合物を室温まで冷却後、活性炭をろ過し、ろ液のｐＨが４以上になるまで水で洗浄した。得られた活性炭とアセトニトリル２００ｇとを、磁気回転子を備えた５００ｍＬフラスコに加え、そこに、窒素雰囲気下でアセチルアセトン鉄（ＩＩＩ）のアセトニトリル溶液（アセチルアセトン鉄（ＩＩＩ）１．５８ｇをアセトニトリル１００ｇに混合することにより調製した溶液）を、１時間かけて滴下した。得られた混合物を２時間攪拌した。得られた反応混合物の溶媒を留去した。得られた濃縮物を、窒素気流下、３００℃で５時間焼成し、鉄化合物が担持された活性炭（５重量％鉄担持活性炭）５．２ｇを得た。
鉄担持活性炭の鉄は、ＸＲＤ（粉末Ｘ線回折法（ＸＲＤ））測定より、四酸化三鉄として存在していることがわかった。
（参考例２）：＜３−エチルスルホニル−２−ホルミルピリジン＞の合成
窒素置換した５０ｍｌフラスコに、２−ホルミル−３−クロロピリジン２６０ｍｇ、エタンスルフィン酸ナトリウム３００ｍｇ、及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド２ｇを加え、窒素雰囲気下で、１００℃で５時間撹拌した。反応終了後、反応混合物にトルエン１０ｇを加え、水１０ｇで１回洗浄後、分液し、トルエン層を濃縮して、３５０ｍｇの濃縮物を得た。この濃縮物は、ＧＣ−ＭＳで３−エチルスルホニル−２−ホルミルピリジンであることを確認した。Ｍ＋＝１９９。
窒素置換した５０ｍｌフラスコに、２−ホルミル−３−クロロピリジン２６０ｍｇ、エタンスルフィン酸ナトリウム３００ｍｇ、及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド２ｇを加え、窒素雰囲気下で、１００℃で５時間撹拌した。反応終了後、反応混合物にトルエン１０ｇを加え、水１０ｇで１回洗浄後、分液し、トルエン層を濃縮して、３５０ｍｇの濃縮物を得た。この濃縮物は、ＧＣ−ＭＳで３−エチルスルホニル−２−ホルミルピリジンであることを確認した。Ｍ＋＝１９９。
（参考例３）：＜２−ホルミル−３−エチルチオピリジン＞の合成
室温、窒素雰囲気下で、水素化ナトリウム（含量６０％）４．３部及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０部を加え、０℃まで冷却する。得られる混合物にエタンチオール６．２部及び２−ホルミル−３−クロロピリジン１２．７部を加える。得られる混合物を１００℃で３時間撹拌する。反応終了後、反応混合物にトルエンを加え、水で１回洗浄後、分液し、トルエン層を濃縮して、２−ホルミル−３−エチルチオピリジンを得る。
室温、窒素雰囲気下で、水素化ナトリウム（含量６０％）４．３部及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０部を加え、０℃まで冷却する。得られる混合物にエタンチオール６．２部及び２−ホルミル−３−クロロピリジン１２．７部を加える。得られる混合物を１００℃で３時間撹拌する。反応終了後、反応混合物にトルエンを加え、水で１回洗浄後、分液し、トルエン層を濃縮して、２−ホルミル−３−エチルチオピリジンを得る。
（参考例４）：＜４−［（トリフルオロメチル）スルフィニル］−２−［［（３−エチルスルホニル−２−ピリジル）メチレン］アミノ］フェノール＞の合成
窒素置換した５０ｍｌフラスコに、４−［（トリフルオロメチル）スルフィニル］−２−アミノフェノール２０３ｍｇ、３−エチルスルホニル−２−ホルミルピリジン１８０ｍｇ、クロロベンゼン２ｇ及び無水硫酸マグネシウム１５０ｍｇを加え、窒素雰囲気下で、室温で１２時間撹拌した。反応終了後、硫酸マグネシウムをろ過し、ろ上物をトルエン５ｇで洗浄し、ろ液と洗液とを混合して濃縮し、３６０ｍｇの濃縮物を得た。この濃縮物をＬＣ−ＭＳにより分析し、４−［（トリフルオロメチル）スルフィニル］−２−［［（３−エチルスルホニル−２−ピリジル）メチレン］アミノ］フェノールであることを確認した。Ｍ＋＝４０６。
窒素置換した５０ｍｌフラスコに、４−［（トリフルオロメチル）スルフィニル］−２−アミノフェノール２０３ｍｇ、３−エチルスルホニル−２−ホルミルピリジン１８０ｍｇ、クロロベンゼン２ｇ及び無水硫酸マグネシウム１５０ｍｇを加え、窒素雰囲気下で、室温で１２時間撹拌した。反応終了後、硫酸マグネシウムをろ過し、ろ上物をトルエン５ｇで洗浄し、ろ液と洗液とを混合して濃縮し、３６０ｍｇの濃縮物を得た。この濃縮物をＬＣ−ＭＳにより分析し、４−［（トリフルオロメチル）スルフィニル］−２−［［（３−エチルスルホニル−２−ピリジル）メチレン］アミノ］フェノールであることを確認した。Ｍ＋＝４０６。
（参考例５）：＜５−［（トリフルオロメチル）スルフィニル］−２−（３−エチルスルホニル−２−ピリジル）ベンゾオキサゾール＞の合成
５０ｍｌステンレス製オートクレーブに、参考例４で得た濃縮物３５０ｍｇ、鉄担持活性炭６０ｍｇ、及びクロロベンゼン２ｇを加え、空気雰囲気下で０．５ＭＰａに加圧し、そのまま１２０℃で８時間撹拌した。反応終了後、鉄担持活性炭をろ過し、ろ上物をトルエン５ｇで洗浄し、ろ液と洗液とを混合して濃縮し、３５０ｍｇの濃縮物を得た。この濃縮物をＬＣ−ＭＳにより分析し、５−［（トリフルオロメチル）スルフィニル］−２−（３−エチルスルホニル−２−ピリジル）ベンゾオキサゾールが得られたことを確認した。Ｍ＋＝４０４。
５０ｍｌステンレス製オートクレーブに、参考例４で得た濃縮物３５０ｍｇ、鉄担持活性炭６０ｍｇ、及びクロロベンゼン２ｇを加え、空気雰囲気下で０．５ＭＰａに加圧し、そのまま１２０℃で８時間撹拌した。反応終了後、鉄担持活性炭をろ過し、ろ上物をトルエン５ｇで洗浄し、ろ液と洗液とを混合して濃縮し、３５０ｍｇの濃縮物を得た。この濃縮物をＬＣ−ＭＳにより分析し、５−［（トリフルオロメチル）スルフィニル］−２−（３−エチルスルホニル−２−ピリジル）ベンゾオキサゾールが得られたことを確認した。Ｍ＋＝４０４。
（実施例１）：＜２−ホルミル−３−クロロピリジン＞の合成
窒素置換した２００ｍｌフラスコに、塩化リチウム４．３ｇと、ＴＨＦ２０ｇとを加え、攪拌しながら、室温で１１０ｍｌのイソプロピルマグネシウムクロライドＴＨＦ溶液（濃度１Ｍ）を加えた。この混合液に、２０℃で２，２，６，６−テトラメチルピペリジン１４．３ｇを１５分かけて滴下した。この混合液を、室温で３０分間撹拌した後−２０℃に冷却し、この混合液に３−クロロピリジン１１．４ｇを１５分かけて滴下した。−２０℃で３０分間撹拌した後、この混合液にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド８．８ｇを１５分かけて滴下した。−２０〜−１０℃で１時間撹拌した後、室温まで昇温し、さらに８時間撹拌した。
この反応液を氷水１ｌに加え、分液し、ＴＨＦ層を飽和硫酸ナトリウム水溶液５０ｍｌで１回洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ＴＨＦ及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを留去した。得られた濃縮液３１ｇをＧＣ−ＭＳで分析し、２−ホルミル−３−クロロピリジンの生成を確認した。
この濃縮液に、飽和亜硫酸水素ナトリウム水溶液２０ｇを加え、３０分間攪拌後、トルエン５０ｇで２回洗浄した。得られた水層に、炭酸ナトリウム５ｇを加え、トルエン１０ｇで２回抽出した。得られたトルエン層を合一し、５％塩酸で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、トルエンを留去したところ、３５０ｍｇの濃縮物を得た。この濃縮物をＧＣ−ＭＳにより分析し、２−ホルミル−３−クロロピリジンであることを確認した。
窒素置換した２００ｍｌフラスコに、塩化リチウム４．３ｇと、ＴＨＦ２０ｇとを加え、攪拌しながら、室温で１１０ｍｌのイソプロピルマグネシウムクロライドＴＨＦ溶液（濃度１Ｍ）を加えた。この混合液に、２０℃で２，２，６，６−テトラメチルピペリジン１４．３ｇを１５分かけて滴下した。この混合液を、室温で３０分間撹拌した後−２０℃に冷却し、この混合液に３−クロロピリジン１１．４ｇを１５分かけて滴下した。−２０℃で３０分間撹拌した後、この混合液にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド８．８ｇを１５分かけて滴下した。−２０〜−１０℃で１時間撹拌した後、室温まで昇温し、さらに８時間撹拌した。
この反応液を氷水１ｌに加え、分液し、ＴＨＦ層を飽和硫酸ナトリウム水溶液５０ｍｌで１回洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ＴＨＦ及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを留去した。得られた濃縮液３１ｇをＧＣ−ＭＳで分析し、２−ホルミル−３−クロロピリジンの生成を確認した。
この濃縮液に、飽和亜硫酸水素ナトリウム水溶液２０ｇを加え、３０分間攪拌後、トルエン５０ｇで２回洗浄した。得られた水層に、炭酸ナトリウム５ｇを加え、トルエン１０ｇで２回抽出した。得られたトルエン層を合一し、５％塩酸で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、トルエンを留去したところ、３５０ｍｇの濃縮物を得た。この濃縮物をＧＣ−ＭＳにより分析し、２−ホルミル−３−クロロピリジンであることを確認した。
（実施例２）：＜５−［（トリフルオロメチル）スルフィニル］−２−（３−クロロ−２−ピリジル）ベンゾオキサゾール＞の合成
５０ｍｌフラスコに、４−［（トリフルオロメチル）スルフィニル］−２−アミノフェノール（０．４７ｍｍｏｌ）（１０６ｍｇ）、２−ホルミル−３−クロロピリジン０．４７ｍｍｏｌ（６７ｍｇ）、クロロベンゼン１ｇ及び鉄担持活性炭２０ｍｇを加え、空気雰囲気、６０℃で２時間撹拌した。反応終了後、鉄担持活性炭をろ過し、ろ液を濃縮して、１８０ｍｇの濃縮物を得た。この濃縮物は、ＧＣ−ＭＳで５−［（トリフルオロメチル）スルフィニル］−２−（３−クロロ−２−ピリジル）ベンゾオキサゾールであることを確認した。Ｍ＋＝３４６
５０ｍｌフラスコに、４−［（トリフルオロメチル）スルフィニル］−２−アミノフェノール（０．４７ｍｍｏｌ）（１０６ｍｇ）、２−ホルミル−３−クロロピリジン０．４７ｍｍｏｌ（６７ｍｇ）、クロロベンゼン１ｇ及び鉄担持活性炭２０ｍｇを加え、空気雰囲気、６０℃で２時間撹拌した。反応終了後、鉄担持活性炭をろ過し、ろ液を濃縮して、１８０ｍｇの濃縮物を得た。この濃縮物は、ＧＣ−ＭＳで５−［（トリフルオロメチル）スルフィニル］−２−（３−クロロ−２−ピリジル）ベンゾオキサゾールであることを確認した。Ｍ＋＝３４６
（実施例３）：＜２−ホルミル−３−エチルチオピリジン＞の合成
窒素置換した１００ｍｌフラスコに、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリメチルエチレンジアミン１．０２ｇと、ＴＨＦ１９．５ｇとを加え、−２０℃に冷却した。−２０℃で攪拌しながら３．５７ｍｌのノルマルブチルリチウムヘキサン溶液（濃度２．７Ｍ）を滴下した。この混合液を、−２０℃で１５分間撹拌した後、−２０℃で２−ピリジンカルボアルデヒド０．９７ｇをＴＨＦ３．０ｇに溶解した溶液を滴下した。
この混合液を−２０℃で１５分間撹拌した後、−２０℃で６．７９ｍｌのノルマルブチルリチウムヘキサン溶液（濃度２．７Ｍ）を滴下した。この混合液を、−２０℃で３時間撹拌した後、−４２℃に冷却した。
混合液を−４２℃で攪拌しながら、ジエチルジスルフィド３．５６ｇをＴＨＦ１０．７ｇに溶解した溶液を滴下した。−４２℃で１時間撹拌した後、室温まで昇温し、室温でさらに１時間撹拌した。
この反応液に１Ｎ塩酸を加え、１時間撹拌したのち、飽和重曹水を加えてｐＨを３．５に調整した。得られた混合液に酢酸エチルを加えて分液し、有機層を飽和食塩水で１回洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ過し、ろ上物を酢酸エチルで洗浄し、ろ液と洗液とを混合して濃縮し、溶媒を留去することで、２−ホルミル−３−エチルチオピリジンを得た。
Ｍ＋＝１６７
窒素置換した１００ｍｌフラスコに、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリメチルエチレンジアミン１．０２ｇと、ＴＨＦ１９．５ｇとを加え、−２０℃に冷却した。−２０℃で攪拌しながら３．５７ｍｌのノルマルブチルリチウムヘキサン溶液（濃度２．７Ｍ）を滴下した。この混合液を、−２０℃で１５分間撹拌した後、−２０℃で２−ピリジンカルボアルデヒド０．９７ｇをＴＨＦ３．０ｇに溶解した溶液を滴下した。
この混合液を−２０℃で１５分間撹拌した後、−２０℃で６．７９ｍｌのノルマルブチルリチウムヘキサン溶液（濃度２．７Ｍ）を滴下した。この混合液を、−２０℃で３時間撹拌した後、−４２℃に冷却した。
混合液を−４２℃で攪拌しながら、ジエチルジスルフィド３．５６ｇをＴＨＦ１０．７ｇに溶解した溶液を滴下した。−４２℃で１時間撹拌した後、室温まで昇温し、室温でさらに１時間撹拌した。
この反応液に１Ｎ塩酸を加え、１時間撹拌したのち、飽和重曹水を加えてｐＨを３．５に調整した。得られた混合液に酢酸エチルを加えて分液し、有機層を飽和食塩水で１回洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ過し、ろ上物を酢酸エチルで洗浄し、ろ液と洗液とを混合して濃縮し、溶媒を留去することで、２−ホルミル−３−エチルチオピリジンを得た。
Ｍ＋＝１６７
（実施例４）：＜５−［（トリフルオロメチル）スルフィニル］−２−（３−エチルチオ−２−ピリジル）ベンゾオキサゾール＞の合成
５０ｍｌフラスコに、４−［（トリフルオロメチル）スルフィニル］−２−アミノフェノール２．０ｇ（８．９ｍｍｏｌ）、２−ホルミル―３−エチルチオピリジン０．７０ｇ（４．２ｍｍｏｌ）、クロロベンゼン１０ｇ及び鉄担持活性炭０．２０ｇを加え、空気雰囲気、６０℃で３時間撹拌した後、さらに１００℃で１時間撹拌した。反応終了後、鉄担持活性炭をろ過し、ろ上物をトルエンで洗浄し、ろ液と洗液とを混合して濃縮することにより、２．５６ｇの濃縮物を得た。この濃縮物をＬＣ−ＭＳにより分析し、５−［（トリフルオロメチル）スルフィニル］−２−（３−エチルチオ−２−ピリジル）ベンゾオキサゾールを含むことを確認した。
Ｍ＋＝３７２
５０ｍｌフラスコに、４−［（トリフルオロメチル）スルフィニル］−２−アミノフェノール２．０ｇ（８．９ｍｍｏｌ）、２−ホルミル―３−エチルチオピリジン０．７０ｇ（４．２ｍｍｏｌ）、クロロベンゼン１０ｇ及び鉄担持活性炭０．２０ｇを加え、空気雰囲気、６０℃で３時間撹拌した後、さらに１００℃で１時間撹拌した。反応終了後、鉄担持活性炭をろ過し、ろ上物をトルエンで洗浄し、ろ液と洗液とを混合して濃縮することにより、２．５６ｇの濃縮物を得た。この濃縮物をＬＣ−ＭＳにより分析し、５−［（トリフルオロメチル）スルフィニル］−２−（３−エチルチオ−２−ピリジル）ベンゾオキサゾールを含むことを確認した。
Ｍ＋＝３７２
（実施例５）：＜２−ホルミル−３−ヨードピリジン＞の合成
窒素置換したフラスコに、Ｎ−メチルピペラジン１０．０部と、ＴＨＦ２００部とを加え、−２０℃に冷却する。−２０℃で攪拌しながら３６．０部のノルマルブチルリチウムヘキサン溶液（濃度２．７Ｍ）を滴下する。この混合液を、−２０℃で１５分間撹拌後、−２０℃で２−ピリジンカルボアルデヒド９．６部をＴＨＦ３０部に溶解した溶液を滴下する。
この混合液を−２０℃で１５分間撹拌後、−２０℃で６８．０部のノルマルブチルリチウムヘキサン溶液（濃度２．７Ｍ）を滴下する。この混合液を、−２０℃で３時間撹拌後、−４２℃に冷却する。
得られた混合液を−４２℃で攪拌しながら、ヨウ素７３．１部をＴＨＦ２２０部に溶解した溶液を滴下する。−４２℃で１時間撹拌後、室温まで昇温し、室温でさらに１時間撹拌する。
この混合液に１Ｎ塩酸を加え、１時間撹拌後、飽和重曹水を加えてｐＨを３に調整する。得られた混合液に酢酸エチルを加えて分液し、有機層を飽和食塩水で１回洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。硫酸ナトリウムをろ過し、ろ上物を酢酸エチルで洗浄し、ろ液と洗液とを混合して濃縮し、溶媒を留去することで、２−ホルミル−３−ヨードピリジンを得る。
窒素置換したフラスコに、Ｎ−メチルピペラジン１０．０部と、ＴＨＦ２００部とを加え、−２０℃に冷却する。−２０℃で攪拌しながら３６．０部のノルマルブチルリチウムヘキサン溶液（濃度２．７Ｍ）を滴下する。この混合液を、−２０℃で１５分間撹拌後、−２０℃で２−ピリジンカルボアルデヒド９．６部をＴＨＦ３０部に溶解した溶液を滴下する。
この混合液を−２０℃で１５分間撹拌後、−２０℃で６８．０部のノルマルブチルリチウムヘキサン溶液（濃度２．７Ｍ）を滴下する。この混合液を、−２０℃で３時間撹拌後、−４２℃に冷却する。
得られた混合液を−４２℃で攪拌しながら、ヨウ素７３．１部をＴＨＦ２２０部に溶解した溶液を滴下する。−４２℃で１時間撹拌後、室温まで昇温し、室温でさらに１時間撹拌する。
この混合液に１Ｎ塩酸を加え、１時間撹拌後、飽和重曹水を加えてｐＨを３に調整する。得られた混合液に酢酸エチルを加えて分液し、有機層を飽和食塩水で１回洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。硫酸ナトリウムをろ過し、ろ上物を酢酸エチルで洗浄し、ろ液と洗液とを混合して濃縮し、溶媒を留去することで、２−ホルミル−３−ヨードピリジンを得る。
（実施例６）：＜３−エチルスルホニル−２−ホルミルピリジン＞の合成
室温、窒素雰囲気下で、２−ピリジンカルボアルデヒド１０．０部、オルトギ酸トリエチル３０．０部、カンファースルホン酸０．５部、及びメタノール２００部を混合し、３時間加熱還流する。室温に冷却後、炭酸カリウム１．０部を加え、減圧濃縮する。続いてトルエン１００部を加え、減圧濃縮し２−ホルミルピリジンジメチルアセタールを得る。ＴＨＦ２００部を加え、得られる混合液を−２０℃で１５分間撹拌する。−２０℃で６８．０部のノルマルブチルリチウムヘキサン溶液（濃度２．７Ｍ）を滴下し、この混合液を−２０℃で３時間撹拌する。−２０℃で１８４．０部のイソプロピルマグネシウムクロライドＴＨＦ溶液（濃度１Ｍ）を滴下後、−４２℃に冷却する。
この混合液を−４２℃で攪拌しながら、塩化エタンスルホニル３７．０部をＴＨＦ１１１部に溶解した溶液を滴下する。−４２℃で１時間撹拌後、室温まで昇温し、室温でさらに１時間撹拌する。
この反応液に１Ｎ塩酸を加え、１時間撹拌後、飽和重曹水を加えてｐＨを４に調整する。得られる混合液に酢酸エチルを加えて分液し、有機層を飽和食塩水で１回洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。硫酸ナトリウムをろ過し、ろ上物を酢酸エチルで洗浄し、ろ液と洗液とを混合して濃縮し、溶媒を留去することで、３−エチルスルホニル−２−ホルミルピリジンを得る。
室温、窒素雰囲気下で、２−ピリジンカルボアルデヒド１０．０部、オルトギ酸トリエチル３０．０部、カンファースルホン酸０．５部、及びメタノール２００部を混合し、３時間加熱還流する。室温に冷却後、炭酸カリウム１．０部を加え、減圧濃縮する。続いてトルエン１００部を加え、減圧濃縮し２−ホルミルピリジンジメチルアセタールを得る。ＴＨＦ２００部を加え、得られる混合液を−２０℃で１５分間撹拌する。−２０℃で６８．０部のノルマルブチルリチウムヘキサン溶液（濃度２．７Ｍ）を滴下し、この混合液を−２０℃で３時間撹拌する。−２０℃で１８４．０部のイソプロピルマグネシウムクロライドＴＨＦ溶液（濃度１Ｍ）を滴下後、−４２℃に冷却する。
この混合液を−４２℃で攪拌しながら、塩化エタンスルホニル３７．０部をＴＨＦ１１１部に溶解した溶液を滴下する。−４２℃で１時間撹拌後、室温まで昇温し、室温でさらに１時間撹拌する。
この反応液に１Ｎ塩酸を加え、１時間撹拌後、飽和重曹水を加えてｐＨを４に調整する。得られる混合液に酢酸エチルを加えて分液し、有機層を飽和食塩水で１回洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。硫酸ナトリウムをろ過し、ろ上物を酢酸エチルで洗浄し、ろ液と洗液とを混合して濃縮し、溶媒を留去することで、３−エチルスルホニル−２−ホルミルピリジンを得る。
（実施例７）：＜５−［（トリフルオロメチル）スルホニル］−２−（３−ヨード−２−ピリジル）ベンゾオキサゾール＞の合成
４−［（トリフルオロメチル）スルフィニル］−２−アミノフェノールを４−［（トリフルオロメチル）スルホニル］−２−アミノフェノールに、２−ホルミル―３−クロロピリジンを２−ホルミル―３−ヨードピリジンにかえて、実施例２に記載の方法に準じて５−［（トリフルオロメチル）スルホニル］−２−（３−ヨード−２−ピリジル）ベンゾオキサゾールを得る。
４−［（トリフルオロメチル）スルフィニル］−２−アミノフェノールを４−［（トリフルオロメチル）スルホニル］−２−アミノフェノールに、２−ホルミル―３−クロロピリジンを２−ホルミル―３−ヨードピリジンにかえて、実施例２に記載の方法に準じて５−［（トリフルオロメチル）スルホニル］−２−（３−ヨード−２−ピリジル）ベンゾオキサゾールを得る。
（実施例８）：＜５−［（トリフルオロメチル）スルホニル］−２−（３−エチルスルホニル−２−ピリジル）ベンゾオキサゾール＞の合成
実施例４において、４−［（トリフルオロメチル）スルフィニル］−２−アミノフェノールを４−［（トリフルオロメチル）スルホニル］−２−アミノフェノールに、２−ホルミル―３−エチルチオピリジンを２−ホルミル―３−エチルスルホニルピリジンにかえて、実施例４に記載の方法に準じて５−［（トリフルオロメチル）スルホニル］−２−（３−エチルスルホニル−２−ピリジル）ベンゾオキサゾールを得る。
実施例４において、４−［（トリフルオロメチル）スルフィニル］−２−アミノフェノールを４−［（トリフルオロメチル）スルホニル］−２−アミノフェノールに、２−ホルミル―３−エチルチオピリジンを２−ホルミル―３−エチルスルホニルピリジンにかえて、実施例４に記載の方法に準じて５−［（トリフルオロメチル）スルホニル］−２−（３−エチルスルホニル−２−ピリジル）ベンゾオキサゾールを得る。
上記実施例２において、溶媒、酸化剤、触媒、酸、塩基及び脱水条件を、下記［表１］〜［表３２］のいずれかに記載の組み合わせに置き換えても反応が進行する。
上記実施例４において、溶媒、酸化剤、触媒、酸、塩基及び脱水条件を、下記［表１］〜［表３２］のいずれかに記載の組み合わせに置き換えても反応が進行する。
上記実施例７において、溶媒、酸化剤、触媒、酸、塩基及び脱水条件を、下記［表１］〜［表３２］のいずれかに記載の組み合わせに置き換えても反応が進行する。
上記実施例８において、溶媒、酸化剤、触媒、酸、塩基及び脱水条件を、下記［表１］〜［表３２］のいずれかに記載の組み合わせに置き換えても反応が進行する。
上記参考例５において、溶媒、酸化剤、触媒、酸、塩基及び脱水条件を、下記［表１］〜［表３２］のいずれかに記載の組み合わせに置き換えても反応が進行する。
上記実施例４において、溶媒、酸化剤、触媒、酸、塩基及び脱水条件を、下記［表１］〜［表３２］のいずれかに記載の組み合わせに置き換えても反応が進行する。
上記実施例７において、溶媒、酸化剤、触媒、酸、塩基及び脱水条件を、下記［表１］〜［表３２］のいずれかに記載の組み合わせに置き換えても反応が進行する。
上記実施例８において、溶媒、酸化剤、触媒、酸、塩基及び脱水条件を、下記［表１］〜［表３２］のいずれかに記載の組み合わせに置き換えても反応が進行する。
上記参考例５において、溶媒、酸化剤、触媒、酸、塩基及び脱水条件を、下記［表１］〜［表３２］のいずれかに記載の組み合わせに置き換えても反応が進行する。
本発明により、式（１）で表される化合物を新たな方法で製造することができる。
Claims (4)
- 式（２）
（式中、Ｒはハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６の鎖式炭化水素基を表し、ｎは０、１、２または３を表し、Ｘはハロゲン原子、−ＳＲ1または−Ｓ（Ｏ）2Ｒ1を表し、Ｒ1はハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６の鎖式炭化水素基またはハロゲン原子を有していてもよい炭素数３〜６の脂環式炭化水素基を表す。）
で表される化合物と式（３）
（式中、Ａは窒素原子またはＣＨを表し、Ｒ2はハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６の鎖式炭化水素基またはハロゲン原子を有していてもよい炭素数３〜６の脂環式炭化水素基を表し、ｍは０、１または２を表す。）
で表される化合物とを酸化剤の存在下で反応させることにより、式（１）
（式中、Ｒ、Ｘ、Ａ、Ｒ2及びｎ、ｍは、前記と同じ意味を表す。）
で表されるベンゾオキサゾール化合物を得る工程を含む、式（１）で表されるベンゾオキサゾール化合物の製造方法。 - 式（４）
（式中、Ｒはハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６の鎖式炭化水素基を表し、ｎは０、１、２または３を表し、Ｘ1はハロゲン原子を表す。）
で表される化合物と、塩基とを反応させたのち、得られた化合物とホルミル化剤とを反応させることにより、式（２−１）
（式中、Ｘ1、Ｒおよびｎは、前記と同じ意味を表す。）
で表される化合物を得る工程：及び
式（２−１）で表される化合物と式（３）
（式中、Ａは窒素原子またはＣＨを表し、Ｒ2はハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６の鎖式炭化水素基またはハロゲン原子を有していてもよい炭素数３〜６の脂環式炭化水素基を表し、ｍは０、１または２を表す。）
で表される化合物とを、酸化剤の存在下で反応させることにより、式（１−１）
（式中、Ｒ、Ｘ1、Ａ、Ｒ2及びｎ、ｍは、前記と同じ意味を表す。）
で表されるベンゾオキサゾール化合物を得る工程を含む、式（１−１）で表されるベンゾオキサゾール化合物の製造方法。 - 式（５）
（式中、Ｒはハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６の鎖式炭化水素基を表し、ｎは０、１、２または３を表す。）
で表される化合物のホルミル基を保護したのち、得られた化合物と塩基とを反応させ、続いて得られた化合物と求電子剤とを反応させたのち、脱保護することにより、式（２）
（式中、Ｒおよびｎは前記と同じ意味を表し、Ｘはハロゲン原子、−ＳＲ1または−Ｓ（Ｏ）2Ｒ1を表し、Ｒ1はハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６の鎖式炭化水素基またはハロゲン原子を有していてもよい炭素数３〜６の脂環式炭化水素基を表す。）で表される化合物を得る工程；および
式（２）で表される化合物と、式（３）
（式中、Ａは窒素原子またはＣＨを表し、Ｒ2はハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６の鎖式炭化水素基またはハロゲン原子を有していてもよい炭素数３〜６の脂環式炭化水素基を表し、ｍは０、１または２を表す。）
で表される化合物とを酸化剤の存在下で反応させることにより、式（１）
（式中、Ｒ、Ｘ、Ａ、Ｒ2及びｎ、ｍは、前記と同じ意味を表す。）
で表される化合物を得る工程
を含む、式（１）で表されるベンゾオキサゾール化合物の製造方法。 - 式（２Ａ）
（式中、Ｚは、エチルチオ基、またはエチルスルホニル基を表す。）
で表される化合物。
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| JP2015143693A JP2017025014A (ja) | 2015-07-21 | 2015-07-21 | ベンゾオキサゾール化合物の製造方法 |
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|---|---|---|---|
| JP2015143693A JP2017025014A (ja) | 2015-07-21 | 2015-07-21 | ベンゾオキサゾール化合物の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2017025014A true JP2017025014A (ja) | 2017-02-02 |
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Family Applications (1)
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| JP2015143693A Pending JP2017025014A (ja) | 2015-07-21 | 2015-07-21 | ベンゾオキサゾール化合物の製造方法 |
Country Status (1)
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|---|---|
| JP (1) | JP2017025014A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2017104592A1 (ja) * | 2015-12-16 | 2018-10-04 | 住友化学株式会社 | ２−（３−エタンスルホニルピリジン−２−イル）−５−（トリフルオロメタンスルホニル）ベンズオキサゾールの結晶 |
| WO2018194077A1 (ja) * | 2017-04-19 | 2018-10-25 | 住友化学株式会社 | ピリジン化合物の製造方法 |
| CN110590650A (zh) * | 2019-09-24 | 2019-12-20 | 上海毕得医药科技有限公司 | 一种6-（甲基磺酰基）吡啶甲醛的合成方法 |
| CN112679421A (zh) * | 2021-01-04 | 2021-04-20 | 都创(上海)医药科技股份有限公司 | 一种(r)-3-氯吡啶基-2-三氟乙胺盐酸盐的合成方法 |
-
2015
- 2015-07-21 JP JP2015143693A patent/JP2017025014A/ja active Pending
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| WO2018194077A1 (ja) * | 2017-04-19 | 2018-10-25 | 住友化学株式会社 | ピリジン化合物の製造方法 |
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