JP2017017268A - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
半導体装置およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017017268A JP2017017268A JP2015134935A JP2015134935A JP2017017268A JP 2017017268 A JP2017017268 A JP 2017017268A JP 2015134935 A JP2015134935 A JP 2015134935A JP 2015134935 A JP2015134935 A JP 2015134935A JP 2017017268 A JP2017017268 A JP 2017017268A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor device
- layer
- main surface
- communication
- forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Measuring Magnetic Variables (AREA)
- Hall/Mr Elements (AREA)
Abstract
【課題】 装置の大型化を回避しつつ、ホール素子の感度の向上を図ることが可能な半導体装置を提供すること。【解決手段】 半導体素子31と、主面11を有し、かつ半導体材料からなる基板1と、半導体素子31に導通し、かつ基板1に形成された導電層20と、半導体素子31を覆う封止樹脂4と、を備える半導体装置A10であって、基板1には、半導体素子31を搭載する底面141と、底面141につながる連絡面142と、を有し、かつ主面11から窪む凹部14が形成され、連絡面142は、主面11につながる第1連絡面142aと、底面141につながる第2連絡面142bと、を含み、第1連絡面142aおよび第2連絡面142bは、ともに底面141に対して傾斜し、第2連絡面142bの底面141に対する傾斜角が、第1連絡面142aの底面141に対する傾斜角よりも大である。【選択図】 図2
Description
本発明は、微細加工されたシリコン基板に、半導体素子として特にホール素子を搭載した半導体装置およびその製造方法に関する。
近年、LSI製造技術を応用することで、シリコン基板を微細加工し、該シリコン基板に各種半導体素子を搭載した、いわゆるマイクロマシン(MEMS:Micro Electro Mechanical Systems)が普及しつつある。前記マイクロマシンの製造にあたっては、シリコン基板の微細加工手法として、アルカリ溶液を用いたウェットエッチングによる異方性エッチングが適用されている。前記異方性エッチングにより、シリコン基板に微細な凹部を精度良く形成することができ、該凹部内に各種半導体素子が搭載される。
ここで、特許文献1に、リードフレームにホール素子を搭載した樹脂パッケージからなる半導体装置が開示されている。該半導体装置は、ホール素子の搭載位置を従来技術に対してリードフレームを挟んで反対側にすることで、パッケージの厚さを変更することなく、該半導体装置の外部に配置された磁石とホール素子の感磁面との間の距離が従来技術よりも短く設定されている。前記距離を短く設定することで、ホール素子の磁束変化に対する感度(ホール出力電圧)が向上する。
前記マイクロマシンに半導体素子としてホール素子を搭載した場合、前記ホール素子の磁束変化に対する感度の向上を図るため、前記凹部の深さをより深くすることで前記距離を短く設定する必要がある。前記ホール素子は前記凹部の底面に搭載され、前記マイクロマシンが各種電子機器の回路基板に表面実装された際、前記底面に近接して前記マイクロマシンの外部に磁石が配置されるからである。このとき、前記異方性エッチングによって前記凹部の形成を行った場合、前記ホール素子を搭載するために前記底面の面積を一定以上確保する必要がある。前記底面の面積を一定以上確保すると、前記凹部の側面が前記底面に対して傾斜していることから前記凹部の平面投影面積が拡大し、前記マイクロマシンが大型化するという課題がある。
本発明は上記事情に鑑み、装置の大型化を回避しつつ、ホール素子の感度の向上を図ることが可能な半導体装置を提供することをその課題とする。
本発明の第1の側面によって提供される半導体装置は、半導体素子と、主面を有し、かつ半導体材料からなる基板と、前記半導体素子に導通し、かつ前記基板に形成された導電層と、前記半導体素子を覆う封止樹脂と、を備える半導体装置であって、前記基板には、前記半導体素子を搭載する底面と、前記底面および前記主面につながる連絡面とを有し、かつ前記主面から窪む凹部が形成され、前記連絡面は、前記主面につながる第1連絡面と、前記底面につながる第2連絡面と、を含み、前記第1連絡面および前記第2連絡面は、ともに前記底面に対して傾斜し、前記第2連絡面の前記底面に対する傾斜角が、前記第1連絡面の前記底面に対する傾斜角よりも大であることを特徴としている。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記底面の平面視形状は矩形状であり、複数の前記第1連絡面および複数の前記第2連絡面がそれぞれ、前記底面の四辺に沿って形成されている。
本発明の好ましい実施の形態においては、複数の前記第1連絡面の前記底面に対する傾斜角はいずれも同一であり、複数の前記第2連絡面の前記底面に対する傾斜角はいずれも同一である。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記第2連絡面の高さは、前記第1連絡面の高さよりも低い。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記連絡面は、前記第1連絡面および前記第2連絡面が互いにつながる境界部をさらに含み、前記基板の厚さ方向において、前記半導体素子の上面は、前記境界部に対して前記主面寄りに位置している。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記底面は、前記基板の厚さ方向に対して直交している。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記半導体材料は、単結晶材料である。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記半導体材料は、Siである。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記主面は、(100)面である。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記第1連絡面の前記底面に対する傾斜角は、54.74°である。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記主面、前記底面および前記連絡面に形成された絶縁層をさらに備え、前記絶縁層は、前記基板と前記導電層との間に介在している。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記絶縁層は、SiO2からなる。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記導電層は、互いに積層されたバリア層、シード層およびめっき層を有し、これらのうち前記バリア層が、前記基板から最も近い位置に形成され、前記シード層は、前記バリア層と前記めっき層との間に介在している。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記バリア層は、Tiからなる。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記めっき層の厚さは、前記シード層の厚さよりも厚い。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記シード層および前記めっき層は、ともにCuからなる。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記導電層は、前記主面に形成された主面導電部と、前記連絡面に形成された連絡面導電部と、前記底面に形成された底面導電部と、を含み、前記底面導電部に前記半導体素子が搭載されている。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記主面導電部に導通しているパッド部を有する複数の端子をさらに備える。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記パッド部は、互いに積層されたNi層、Pd層およびAu層からなる。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記主面導電部が前記封止樹脂から露出し、前記パッド部が前記主面導電部に接して形成されている。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記連絡面導電部における前記めっき層の厚さは、30〜35μmである。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記端子は、前記主面導電部と前記パッド部との間に介在し、かつ前記封止樹脂から露出している柱状部をさらに有する。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記柱状部は、Cuからなる。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記連絡面導電部における前記めっき層の厚さは、3〜10μmである。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記半導体素子は、ホール素子である。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記半導体素子と前記導電層との間に介在する接合層をさらに備える。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記接合層は、互いに積層されたNi層およびSnを含む合金層からなる。
本発明の第2の側面によって提供される半導体装置の製造方法は、主面を有した半導体材料からなる基板に、底面と前記底面および前記主面につながる連絡面とを有した凹部を、前記主面から窪むように前記基板に形成する工程と、前記凹部を含む前記基板に導電層を形成する工程と、前記凹部に収容されるように半導体素子を前記底面に搭載する工程と、前記半導体素子を覆う封止樹脂を形成する工程と、を備え、前記凹部を形成する工程では、中間面と前記中間面および前記主面につながる第1連絡面とを有した第1凹部を形成する工程と、前記底面と前記底面および前記第1連絡面につながる第2連絡面とを有した第2凹部を形成する工程と、を含み、前記第1凹部は異方性エッチングにより形成され、前記第2凹部は等方性エッチングにより形成されることを特徴としている。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記異方性エッチングは、ウェットエッチングである。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記等方性エッチングは、反応性イオンエッチングである。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記半導体材料は、単結晶材料である。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記半導体材料は、Siである。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記主面は、(100)面である。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記導電層を形成する工程の前に、前記凹部を含む前記基板に絶縁層を形成する工程をさらに備える。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記絶縁層を形成する工程では、熱酸化法により前記絶縁層が形成される。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記導電層を形成する工程では、スパッタリング法によりバリア層およびシード層を形成する工程と、電解めっきによりめっき層を形成する工程と、を含む。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記封止樹脂を形成する工程の後に、前記主面に形成された前記導電層に導通する複数のパッド層を形成する工程をさらに備える。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記複数のパッド層を形成する工程では、無電解めっきにより前記複数のパッド層が形成される。
前記複数のパッド層を形成する工程では、前記主面に形成された前記導電層が露出するまで前記封止樹脂を研削した後、前記主面に形成された前記導電層に接して前記複数のパッド層が形成される。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記封止樹脂を形成する工程の前に、前記主面に形成された前記導電層に接する複数の柱状導電体を形成する工程をさらに備える。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記複数の柱状導電体を形成する工程では、電解めっきにより前記複数の柱状導電体が形成される。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記複数のパッド層を形成する工程では、前記複数の柱状導電体が露出するまで前記封止樹脂を研削した後、前記複数の柱状導電体のそれぞれに接して前記パッド層が複数形成される。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記半導体素子を搭載する工程の前に、前記半導体素子を搭載するための接合層を前記導電層に形成する工程をさらに備える。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記接合層を形成する工程では、電解めっきにより前記接合層が形成される。
本発明によれば、前記半導体装置の前記基板に形成された前記凹部は、前記半導体素子(ホール素子)を搭載する前記底面と、前記底面および前記主面につながる前記連絡面を有する。前記連絡面は、前記主面につながり、かつ前記底面に対して傾斜している前記第1連絡面と、前記底面につながり、かつ前記底面に対して傾斜している前記第2連絡面とを含む。そして、前記底面に対する前記第2連絡面の傾斜角が、前記底面に対する前記第1連絡面の傾斜角よりも大である。このような構成をとることで、前記底面の面積を一定以上確保の上、前記半導体装置の大型化を回避しつつ、前記連絡面の高さをより高く、すなわち前記凹部の深さをより深くすることができる。よって、前記半導体装置の外部に配置された磁石と、ホール素子の感磁面との間の距離を短く設定できるため、前記ホール素子の磁束変化に対する感度が向上する。したがって、前記半導体装置の大型化を回避しつつ、前記ホール素子の感度の向上を図ることが可能となる。
本発明のその他の特徴および利点は、添付図面に基づき以下に行う詳細な説明によって、より明らかとなろう。
本発明にかかる半導体装置の実施の形態について、添付図面に基づいて説明する。
〔第1実施形態〕
図1〜図5に基づき、本発明の実施形態にかかる半導体装置A10について説明する。説明の便宜上、平面図の左右方向を第1方向X、第1方向Xに対して直角である平面図の上下方向を第2方向Yとそれぞれ定義する。第1方向Xおよび第2方向Yは、ともに半導体装置A10(または後述する基板1)の厚さ方向Zに対して直角である。
図1〜図5に基づき、本発明の実施形態にかかる半導体装置A10について説明する。説明の便宜上、平面図の左右方向を第1方向X、第1方向Xに対して直角である平面図の上下方向を第2方向Yとそれぞれ定義する。第1方向Xおよび第2方向Yは、ともに半導体装置A10(または後述する基板1)の厚さ方向Zに対して直角である。
図1は、半導体装置A10を示す要部平面図である。図2は、図1のII−II線(一点鎖線)に沿う断面図である。図3は、図1のIII−III線に沿う断面図である。図4は、図3に対して後述する半導体素子31、接合層32および封止樹脂4を省略した断面図である。図5は、図2の部分拡大図である。なお、図1は、理解の便宜上、後述する絶縁層15および封止樹脂4を省略している。また、図4は、省略した半導体素子31、接合層32および封止樹脂4を想像線(二点鎖線)で示している。
本実施形態の半導体装置A10は、基板1、絶縁層15、導電層20、複数の端子24、半導体素子31、接合層32および封止樹脂4を備えている。本実施形態においては、半導体装置A10は、各種電子機器の回路基板に表面実装される形式の磁気センサである。本実施形態においては、半導体装置A10は平面視(基板1の厚さ方向Z視)矩形状である。
基板1は、半導体素子31を搭載し、半導体装置A10の基礎となる部材である。基板1は、単結晶材料である半導体材料からなり、本実施形態においては、Siの単結晶材料である。図1に示すように、基板1は平面視矩形状である。基板1は、主面11、裏面12、側面13および凹部14を有する。
主面11は、図2および図3に示す基板1の上面である。主面11に複数の端子24が形成されているため、主面11は半導体装置A10を各種電子機器の回路基板に実装する際に利用される面である。裏面12は、図2および図3に示す基板1の下面である。半導体装置A10が実装された際、裏面12は上方を向く。図2および図3に示すように、主面11および裏面12は、ともに基板1の厚さ方向Zに対して直交している。主面11および裏面12は、基板1の厚さ方向Zにおいて互いに反対側を向いている。主面11および裏面12は、ともに平たんである。本実施形態においては、主面11は(100)面である。また、本実施形態においては、基板1には、主面11から窪む凹部14が形成されている。凹部14が形成されていることにより、図1に示すように、平面視において主面11は凹部14を囲む枠状となっている。
図2および図3に示すように、側面13は、主面11と裏面12との間に挟まれた、第1方向X、または第2方向Yの外側を向く4つの面である。本実施形態においては、側面13は、いずれも主面11および裏面12に直交している。また、側面13はいずれも平たんである。
図1、図2および図3に示すように、凹部14は、主面11から窪むように形成された、半導体素子31を搭載する部位である。凹部14は、基板1の厚さ方向Zにおいて基板1を貫通していない。凹部14は、底面141および連絡面142を有する。底面141は、半導体素子31を搭載する面である。本実施形態においては、底面141は平面視形状は矩形状である。底面141は、基板1の厚さ方向Zに対して直交し、かつ平たんである。
図1、図2および図3に示すように、連絡面142は、底面141および主面11につながる面である。基板1の厚さ方向Zにおいて、連絡面142の下端が底面141につながり、連絡面142の上端が主面11につながっている。本実施形態においては、連絡面142は、主面11につながる第1連絡面142aと、底面141につながる第2連絡面142bとを含む。第1連絡面142aおよび第2連絡面142bは、後述する境界部142cにおいて互いにつながっている。第1連絡面142aおよび第2連絡面142bは、ともに底面141に対して傾斜している。図1に示すように、第1連絡面142aおよび第2連絡面142bは、それぞれ4つずつの複数面からなる。複数の第1連絡面142aおよび複数の第2連絡面142bがそれぞれ、底面141の四辺に沿って形成されている。複数の第1連絡面142aの底面141に対する傾斜角はいずれも同一であり、その角度は54.74°である。また、複数の第2連絡面142bの底面141に対する傾斜角はいずれも同一であり、その角度は75°〜85°の範囲のいずれかである。したがって、本実施形態においては、第2連絡面142bの底面141に対する傾斜角が、第1連絡面142aの底面141に対する傾斜角よりも大である。また、図2および図3に示すように、本実施形態においては、第2連絡面142bの高さは、第1連絡面142aの高さよりも低い。
図1、図2および図3に示すように、境界部142cは、第1連絡面142aの下端と第2連絡面142bの上端が交差することによって形成された屈曲部であり、連絡面142に含まれる部位である。したがって、本実施形態においては、連絡面142は、主面11および底面141に挟まれた不連続面となっている。境界部142cがなす平面視形状は、底面141と同様な矩形状である。
絶縁層15は、図2、図3および図5に示すように、基板1の主面11、底面141および連絡面142の全体を覆うように形成された、電気絶縁性を有する被膜である。絶縁層15は、基板1と導電層20との間に介在している。本実施形態においては、絶縁層15はSiO2からなる。また、本実施形態においては、絶縁層15の厚さは1〜2μmである。基板1は半導体材料であり、かつ図1に示すように、導電層20は基板1に形成されることから、基板1において導電層20が形成される部位は電気絶縁性を確保する必要がある。
導電層20は、複数の端子24とともに、半導体装置A10と各種電子機器の回路基板との導電経路を構成する部材である。図1に示すように、導電層20は、基板1の主面11、底面141および連絡面142に形成されている。図2、図3および図5に示すように、導電層20は接合層32を介して半導体素子31に導通している。
図2および図5に示すように、導電層20は絶縁層15に接して形成され、互いに積層されたバリア層201、シード層202およびめっき層203を有する。図5に示すように、絶縁層15に接しているバリア層201が、基板1から最も近い位置に形成されている。また、シード層202は、バリア層201とめっき層203との間に介在している。本実施形態においては、バリア層201はTiからなり、その厚さは10〜30nmである。後述するとおりシード層202およびめっき層203がともにCuであることから、バリア層201は絶縁層15へのCu拡散防止のために形成される。本実施形態においては、シード層202およびめっき層203は、ともにCuからなる。シード層202の厚さは、200〜300nmである。また、めっき層203の厚さは、後述する主面導電部21において20〜25μm、後述する連絡面導電部22および底面導電部23において30〜35μmである。したがって、めっき層203の厚さは、シード層202の厚さよりも厚い。
導電層20は、主面導電部21、連絡面導電部22および底面導電部23を含む。
図1に示すように、主面導電部21は、主面11に形成された平面視矩形状の部位である。本実施形態においては、主面導電部21は、主面11と第1連絡面142aとの交線を跨いで形成されている。主面導電部21は、底面141寄りの端部において連絡面導電部22とつながっている。また、図2および図4に示すように、本実施形態においては、主面導電部21の上面は封止樹脂4から露出し、該露出部分に複数の端子24が形成されている。
図1および図4に示すように、連絡面導電部22は、複数の連絡面142のうち、第1方向Xに離間した一対の第1連絡面142aおよび第2連絡面142bに形成された平面視帯状の部位である。第1連絡面142aに形成された連絡面導電部22は、その上端が第2方向Yにおいて半導体素子31から離間する方向に傾斜している。また、第2連絡面142bに形成された連絡面導電部22は、第2方向Yの位置は基板1の厚さ方向Zにわたって一定、すなわち第1方向Xに平行である。また、図2に示すように、基板1の厚さ方向Zにおいて、連絡面導電部22の下端が底面導電部23につながり、連絡面導電部22の上端が主面導電部21につながっている。
図1に示すように、底面導電部23は、底面141に形成された平面視矩形状の部位である。図1および図4に示すように、本実施形態においては、底面導電部23は、底面141と連絡面導電部22が形成されていない第1連絡面142aとの交線に沿って、底面141の内側に向かって延出している。底面導電部23は、連絡面導電部22が形成された第1連絡面142a寄りの端部において、連絡面導電部22とつながっている。また、図2および図3に示すように、底面導電部23に半導体素子31が搭載されている。
複数の端子24は、半導体装置A10を各種電子機器の回路基板に実装するために用いられる部材である。複数の端子24は、いずれも主面導電部21につながっている。複数の端子24は、導電層20および接合層32を介して半導体素子31に導通している。本実施形態においては、複数の端子24はそれぞれ、パッド部241を有する。
図1〜図4に示すように、パッド部241は、主面導電部21に導通している平面視矩形状の部位である。本実施形態においては、パッド部241は、封止樹脂4から露出した主面導電部21の部分に接して形成されている。パッド部241は、平面視において主面導電部21と、封止樹脂4の一部と重なっている。また、本実施形態においては、パッド部241は、互いに積層されたNi層、Pd層およびAu層からなる。
なお、図1に示す導電層20および複数の端子24の配置形態は一例であり、実際の半導体装置A10の配置形態はこれに限定されない。
半導体素子31は、図1、図2および図3に示すように、底面141に形成された底面導電部23に接合層32を介して搭載されている。本実施形態においては、半導体素子31はホール素子である。ホール素子によって、半導体装置A10が磁気センサとしての機能を果たす。また、本実施形態においては、前記ホール素子はGaAs型ホール素子である。GaAs型ホール素子は、磁束の変化に対するホール電圧の直線性に優れるとともに、温度変化の影響を受けにくいという利点を有する。図2および図3に示す半導体素子31の下面に、半導体装置A10の外部に配置された磁石に起因した磁束変化を検出する感磁面(図示略)が形成されている。半導体素子31は、素子上面311および電極バンプ312を有する。
素子上面311は、図2および図3に示す半導体素子31の上面である。本実施形態においては、基板1の厚さ方向Zにおいて、素子上面311は、連絡面142の境界部142cに対して主面11寄りに位置している。また、図5に示すように、電極バンプ312は、半導体素子31の下面に形成された、平面視矩形状(図示略)の部位である。電極バンプ312は、たとえばCuからなる。電極バンプ312に接合層32が接している。
接合層32は、図2、図3および図5に示すように、半導体素子31の電極バンプ312と導電層20の底面導電部23との間に介在する、導電性を有した部材である。本実施形態においては、接合層32は、互いに積層されたNi層およびSnを含む合金層からなる。該合金層として具体的には、Sn−Sb系合金、またはSn−Ag系合金などの鉛フリーはんだである。接合層32により、半導体素子31は底面導電部23に固着によって搭載され、かつ半導体素子31と底面導電部23との導通が確保される。
封止樹脂4は、たとえば電気絶縁性を有する黒色のエポキシ樹脂からなる。図2および図3に示すように、封止樹脂4は凹部14内に充填され、かつ平面視において主面導電部21が形成された部位を除いた主面11を覆っている。あわせて、封止樹脂4は半導体素子31を覆っている。封止樹脂4は、樹脂主面41および樹脂側面43を有する。樹脂主面41および樹脂側面43は、半導体装置A10においていずれも露出した面である。
図2および図3に示すように、樹脂主面41は主面11と同一方向を向く面である。樹脂主面41は平たんである。樹脂主面41は、主面導電部21の上面と面一である。また、樹脂側面43は樹脂主面41と絶縁層15との間に挟まれた、第1方向X、または第2方向Yの外側を向く4つの面である。樹脂側面43は、いずれも平たんである。本実施形態においては、樹脂側面43はそれぞれ、基板1の側面13と面一である。
次に、図6〜図23に基づき、半導体装置A10の製造方法の一例について説明する。図6〜図23のうち、図12および図23を除く図は、半導体装置A10の製造方法にかかる工程を示す断面図である。該断面は、図2に示す断面と同一である。図12は、図11に示す工程を経たときの後述する基板81の状態を示す斜視図である。図23は、半導体装置A10の製造方法にかかる工程を示す平面図である。
最初に、図6に示すように基板81を用意する。基板81は、半導体装置A10の基板1の集合体である。基板81は、単結晶材料である半導体材料からなり、本実施形態においてはSiの単結晶材料である。基板81は、主面811、裏面812および第1マスク層881を有する。主面811は、図6の上方を向く面である。裏面812は、図6の下方を向く面である。主面811および裏面812は、基板81の厚さ方向Zにおいて互いに反対側を向いている。主面811および裏面812は、ともに平たんである。本実施形態においては、主面811は(100)面である。第1マスク層881は、主面811に形成された、たとえばSi3N4からなる層である。第1マスク層881は、プラズマCVD法により形成される。
次いで、図7に示すように、第1マスク層881に対してフォトリソグラフィによりパターニングを行った後、ドライエッチングの代表例である反応性イオンエッチング(RIE:Reactive Ion Etching)により、第1マスク層881を部分的に除去する。このとき、第1マスク層881がSi3N4からなる層であれば、たとえばCF4をエッチングガスとする。これにより、第1マスク層881には、第1方向Xおよび第2方向Yのそれぞれに離間した複数の第1開口部881aが形成される。複数の第1開口部881aは、いずれも平面視矩形状(図示略)である。なお、図7は、ある一つの第1開口部881aの断面を示している。
次いで、図8〜図11に示すように、主面811から窪むように、基板81に凹部814を形成する。凹部814が、半導体装置A10の凹部14に相当する。凹部814は、主面811に対して平行である平面視矩形状の底面816と、底面816につながる連絡面817とを有する。本実施形態においては、連絡面817は、底面816の四辺に沿って形成された面で、主面811につながる第1連絡面817aと、底面816につながる第2連絡面817bとを含む。凹部814を形成する工程では、中間面818と中間面818および主面811につながる第1連絡面817aとを有した第1凹部814aを形成する工程と、底面816と底面816および第1連絡面817aにつながる第2連絡面817bを有した第2凹部814bを形成する工程とを含む。
まず、図8に示すように、主面811から窪むように、基板81に第1凹部814aを形成する。第1凹部814aは、異方性エッチングにより形成される。本実施形態においては、該異方性エッチングは、アルカリ溶液を用いたウェットエッチングである。前記アルカリ溶液は、たとえばKOH(水酸化カリウム)溶液、またはTMAH(水酸化テトラメチルアンモニウム)溶液である。該工程により、第1マスク層881に形成された複数の第1開口部881aのそれぞれにおいて、中間面818および第1連絡面817aを有した第1凹部814aが形成される。中間面818は、主面811に対して平行である平面視矩形状の面である。第1連絡面817aは、中間面818の四辺に沿って形成された4つの面である。本実施形態においては、主面811を(100)面としているため、複数の第1連絡面817aはいずれも(111)面からなる。したがって、複数の第1連絡面817aは中間面818に対して傾斜し、その傾斜角はいずれも54.74°で同一である。
次いで、図9に示すように、主面811に形成された第1マスク層881を全て除去した後、第1凹部814aを含む基板1に第2マスク層882を形成する。第1マスク層881がSi3N4からなる層であれば、たとえばCF4をエッチングガスとした反応性イオンエッチング、または加熱リン酸溶液を用いたウェットエッチングにより第1マスク層881を除去する。本実施形態においては、第2マスク層882は第1マスク層881と同じくSi3N4からなり、その形成方法も第1マスク層881と同じくプラズマCVD法である。第2マスク層882は、主面811、中間面818および第1連絡面817aに形成される。第2マスク層882を形成した後、図7と同様に、第2マスク層882対してフォトリソグラフィによりパターニングを行った後、CF4をエッチングガスとした反応性イオンエッチングにより、中間面818に形成された第2マスク層882を部分的に除去する。該工程により、第2マスク層882に、第1方向Xおよび第2方向Yのそれぞれに離間した複数の第2開口部882aが形成される。複数の第2開口部882aは、いずれも平面視矩形状(図示略)である。
次いで、図10に示すように、中間面818から窪むように基板81に第2凹部814bを形成する。第2凹部814bは、等方性エッチングにより形成される。本実施形態においては、該等方性エッチングは、反応性イオンエッチングである。この場合、たとえばSF6ガスからプラズマによりFラジカルを生成させることで、該等方性エッチングを行うことができる。前記反応性イオンエッチング以外に、XeF2ガスを用いたドライエッチングによっても該等方性エッチングを行うことができる。該工程により、第2マスク層882に形成された複数の第2開口部882aのそれぞれにおいて、底面816および第2連絡面817bを有した第2凹部814bが形成される。底面816の面積は、中間面818の面積よりも小である。また、第2連絡面817bは、底面816の四辺に沿って形成された4つの面である。複数の第2連絡面817bは、底面816に対して傾斜し、その傾斜角はいずれも同一である。該傾斜角は、75〜85°の範囲のいずれかである。このとき、第1連絡面817aおよび第2連絡面817bの交差部によって、4つの辺からなる境界部817cが形成される。境界部817cがなす平面視形状およびその大きさは、中間面818と略同一である。
次いで、図11に示すように、図9と同様にたとえばCF4をエッチングガスとした反応性イオンエッチング、または加熱リン酸溶液を用いたウェットエッチングにより、主面811および第1連絡面817aに形成された第2マスク層882を全て除去する。図12は、第2マスク層882を全て除去したときの基板81の状態を斜視図として示したものである。図12に示すように、第1方向Xおよび第2方向Yのそれぞれに離間した複数の凹部814が、基板81の主面811が窪むように形成される。参考に、基板81における半導体装置A10の基板1に相当する範囲を、図12に二点鎖線で示す。
次いで、図13に示すように、凹部814を含む基板81に絶縁層815を形成する。絶縁層815が、半導体装置A10の絶縁層15に相当する。本実施形態においては、絶縁層815はSiO2からなり、その厚さは1〜2μmである。絶縁層815は、主面811に加え、凹部814を構成する底面816と、第1連絡面817aおよび第2連絡面817bを含む連絡面817とを、熱酸化法により酸化させることで形成される。
次いで、凹部814を含む基板81に導電層82を形成する。導電層82を形成する工程では、バリア層821およびシード層822を形成する工程と、めっき層823を形成する工程とを含む。
まず、図14に示すように、基板81にバリア層821およびシード層822をそれぞれ形成する。バリア層821およびシード層822の形成範囲は、絶縁層815の形成範囲と同一である。先に、絶縁層815に接するバリア層821を形成し、その後、バリア層821に接するシード層822を形成する。バリア層821およびシード層822は、ともにスパッタリング法により形成される。本実施形態においては、バリア層821はTiからなり、その厚さは10〜30nmである。また、本実施形態においては、シード層822はCuからなり、その厚さは200〜300nmである。
次いで、フォトリソグラフィにより、基板81に導電層82を形成するためのパターニングを行う。図15に示すように、基板81に第1レジスト層883を形成した後、第1レジスト層883に対して露光・現像を行う。第1レジスト層883の形成範囲は、絶縁層815の形成範囲と同一である。第1レジスト層883は、レジストをたとえばスプレー塗布することにより形成される。本実施形態においては、該レジストはポジ型レジストであるため、露光された第1レジスト層883の部分が、現像に用いられる現像液によって除去される。
次いで、図16に示すように、基板81にめっき層823を形成した後、基板81に形成された第1レジスト層883を全て除去する。めっき層823は、第1レジスト層883が現像により除去された部分、すなわちシード層822が露出した部分に形成される。めっき層823は、電解めっきにより形成される。本実施形態においては、めっき層823はCuからなり、その厚さは30〜35μmである。
次いで、後述する半導体素子831を搭載するための接合層832を、導電層82に形成する。接合層832が、半導体装置A10の接合層32に相当する。本実施形態においては、フォトリソグラフィにより、底面816に形成された導電層82に接合層832を形成するためのパターニングを行う。図17に示すように、基板81に第2レジスト層884を形成した後、第2レジスト層884に対して露光・現像を行う。第2レジスト層884の形成範囲、材質および形成方法は、いずれも第1レジスト層883と同一である。
次いで、図18に示すように、底面816に形成された導電層82に接合層832を形成した後、基板81に形成された第2レジスト層884を全て除去する。接合層832は、互いに積層されたNi層およびSnを含む合金層からなり、導電性を有する。本実施形態においては、接合層832は、基板81に形成されたシード層822を活用した電解めっきによって形成される。電解めっきにより、第2レジスト層884から露出しためっき層823にNiめっき層を析出させた後、Snを含む合金めっき層を析出させることで、接合層832が形成される。該合金めっき層として具体的には、Sn−Sb系合金、またはSn−Ag系合金などの鉛フリーはんだである。該工程により、導電層20に接合層832が形成される。
次いで、図19に示すように、めっき層823に覆われていないバリア層821およびシード層822を全て除去する。バリア層821およびシード層822は、たとえばウェットエッチングにより除去される。バリア層821およびシード層822が除去された部分から絶縁層815が露出する。このとき、めっき層823および接合層832についても、バリア層821およびシード層822の層厚に相当する厚さの分だけ該ウェットエッチングにより除去される。ここで、本実施形態を説明する図2〜図5および図19〜22においては、理解の便宜上、該工程によって接合層832(接合層32)によって覆われためっき層823(めっき層203)の部位に生じる段差を、模式的に比率を拡大して示している。該工程を経た導電層82が、半導体装置A10の導電層20に相当する。
次いで、図20に示すように、凹部814に収容されるように半導体素子831を底面816に搭載する。半導体素子831が、半導体装置A10の半導体素子31に相当する。半導体素子831の搭載は、FCB(Flip Chip Bonding)により行う。半導体素子831にフラックス(図示略)を塗布した後、たとえばフリップチップボンダ(図示略)を用いて半導体素子831を接合層832上に仮付けする。このとき、半導体素子831の図20に示す上面である素子上面831aは、基板81の厚さ方向Zにおいて、連絡面817の境界部817cに対して主面811寄りに位置している。前記フリップチップボンダが、凹部814に干渉しないようにするためである。また、接合層832は、底面816に形成された導電層82と、半導体素子831の図20に示す下面に形成された電極バンプ(図示略)との間に介在した状態となる。そして、リフローにより接合層832を溶融させた後に、冷却により接合層832を固化させる。この過程を経ることで、半導体素子831が底面816に搭載される。
次いで、図21に示すように、基板81に半導体素子831を覆う封止樹脂84を形成する。封止樹脂84が、半導体装置A10の封止樹脂4に相当する。封止樹脂84は、基板81に形成された凹部814を充填し、かつ導電層82および半導体素子831を完全に覆うように形成する。封止樹脂84は、たとえば電気絶縁性を有する黒色のエポキシ樹脂からなる。
次いで、図22に示すように、主面811に形成された導電層82の上面が露出するまで、封止樹脂84の上部を研削する。このとき、封止樹脂84のみならず主面811に形成された導電層82も研削され、研削された導電層82の厚さは20〜25μmとなる。該工程により、封止樹脂84の上面が樹脂主面841となり、主面811に形成された導電層82の上面と面一となる。その後、主面811に形成された導電層82に導通する複数のパッド層824を形成する。パッド層824が、半導体装置A10の端子24のパッド部241に相当する。複数のパッド層824は、無電解めっきによりNiめっき層、Pbめっき層およびAuめっき層の順に各めっき層を析出させることで形成される。本実施形態においては、複数のパッド層824は、樹脂主面841から露出した主面811に形成された導電層82に接して形成される。
次いで、図23に示すように、基板81を第1方向Xおよび第2方向Yに配置された切断線CLに沿って切断(ダイシング)することで、半導体素子831ごとの個片に分割する。切断にあたっては、たとえばプラズマダイシングにより行う。前記個片が半導体装置A10となる。以上の工程を経ることにより、半導体装置A10が製造される。
次に、半導体装置A10の作用効果について説明する。
本実施形態によれば、半導体装置A10の基板1に形成された凹部14は、半導体素子31(ホール素子)を搭載する底面141と、底面141と主面11とをつなぐ連絡面142を有する。連絡面142は、主面11につながり、かつ底面141に対して傾斜している第1連絡面142aと、底面141につながり、かつ底面141に対して傾斜している第2連絡面142bとを含む。そして、底面141に対する第2連絡面142bの傾斜角が、底面141に対する第1連絡面142aの傾斜角よりも大である。このような構成をとることで、底面141の面積を一定以上確保の上、半導体装置A10の大型化を回避しつつ、連絡面142の高さをより高く、すなわち凹部14の深さをより深くすることができる。よって、半導体装置A10の外部に配置された磁石と、ホール素子の感磁面との間の距離を短く設定できるため、前記ホール素子の磁束変化に対する感度が向上する。したがって、半導体装置A10の大型化を回避しつつ、ホール素子の感度の向上を図ることが可能となる。
このような凹部14は、アルカリ溶液を用いたウェットエッチングによる異方性エッチングによって底面141に対して傾斜角54.74°の第1連絡面142aを形成した後に、反応性イオンエッチングによる等方性エッチングによって底面141に対して傾斜角75〜85°の第2連絡面142bを形成することで得ることができる。第2連絡面142bは、底面141に対して略直交した面である。したがって、半導体装置A10の製造において、第1凹部814aの中間面818の面積が底面816(底面141)の面積と略同一となった時点で異方性エッチングを終了すれば、半導体装置A10の大型化を招くことなく、その後の等方性エッチングによって凹部814(凹部14)の深さをより深くすることができる。
また、半導体装置A10の主面導電部21は封止樹脂4から露出し、端子24のパッド部241が導電層20に接して形成されている。このような構成とすることで、後述する本発明の第2実施形態にかかる半導体装置A20に対し、端子24は後述する柱状部242を有していないことから半導体装置A10の高さをより低くすることができる。半導体装置A10の製造条件において、特に凹部14の形状が一意的に設定された状態であれば、このような構成は好適である。
連絡面導電部22におけるめっき層203の厚さは、30〜35μmであり、比較的厚く設定されている。このような構成とすることで、パッド部241が接する主面導電部21の面積がより広く確保されることから、より表面積が拡大されたパッド部241を無電解めっきによって形成することができる。したがって、半導体装置A10の放熱性をより向上させることが可能である。
図24〜図31は、本発明の他の実施の形態を示している。なお、これらの図において、先述した半導体装置A10と同一または類似の要素には同一の符号を付して、重複する説明を省略することとする。
〔第2実施形態〕
図24〜図27に基づき、本発明の第2実施形態にかかる半導体装置A20について説明する。
図24〜図27に基づき、本発明の第2実施形態にかかる半導体装置A20について説明する。
図24は、半導体装置A20を示す要部平面図である。図25は、図24のXXV−XXV線(一点鎖線)に沿う断面図である。図26は、図24のXXVI−XXVI線に沿う断面図である。図27は、図26に対して半導体素子31、接合層32および封止樹脂4を省略した断面図である。なお、図24は、理解の便宜上、絶縁層15および封止樹脂4を省略している。また、図27は、省略した半導体素子31、接合層32および封止樹脂4を想像線(二点鎖線)で示している。本実施形態においては、半導体装置A20は平面視矩形状である。
本実施形態の半導体装置A20は、導電層20のめっき層203の厚さと、端子24の構造と、封止樹脂4の樹脂側面43の高さとが、先述した半導体装置A10と異なる。
図25に示すように、めっき層203の厚さは、半導体装置A10のめっき層203の厚さよりも薄い。半導体装置A20のめっき層203の厚さは、主面導電部21、連絡面導電部22および底面導電部23の全ての導電層20において3〜10μmである。
図24、図25および図27に示すように、端子24はパッド部241および柱状部242を有する。パッド部241の材質は、半導体装置A10のパッド部241と同一である。本実施形態においては、パッド部241の大きさは、半導体装置A10のパッド部241よりも小さい。柱状部242は、主面導電部21とパッド部241との間に介在し、かつその上端が封止樹脂4から露出している。柱状部242の前記上端において、パッド部241に接している。また、柱状部242の下端において、主面導電部21に接している。柱状部242は導電性を有し、たとえばCuからなる。したがって、柱状部242により導電層20とパッド部241は互いに導通している。柱状部242の形状は円柱で、柱状部242の側面は封止樹脂4に覆われている。
図25および図27に示すように、端子24が柱状部242を有することから、樹脂側面43の高さは、半導体装置A10の樹脂側面43よりも高い。
次に、図28〜図31に基づき、半導体装置A20の製造方法の一例のうち、半導体装置A10と異なる点について説明する。図28〜図31は、半導体装置A20の製造方法にかかる工程を示す断面図である。
基板81を用意する工程から、底面816に形成された導電層82に接合層832を形成する工程までは、図6〜図18に示す半導体装置A10の製造方法の一例と同様である。このうち、図15に示すフォトリソグラフィにより、基板81に導電層82を形成するためのパターニングを行う工程では、めっき層823の厚さが3〜10μmとなるように第1レジスト層883の厚さを調整する。
接合層832を形成した後、主面811に形成された導電層82に接する複数の柱状導電体825を形成する。柱状導電体825が、半導体装置A20の端子24の柱状部242に相当する。本実施形態においては、フォトリソグラフィにより、複数の柱状導電体825を形成するためのパターニングを行う。図28に示すように、基板81に第3レジスト層885を形成した後、第3レジスト層885に対して露光・現像を行う。露光・現像により、第3レジスト層885に複数の貫通孔885aが形成される。貫通孔885aの形状は円柱である。貫通孔885aからめっき層823が露出する。なお、第3レジスト層885の形成範囲、材質および形成方法は、いずれも第1レジスト層883と同一である。
次いで、図29に示すように、複数の柱状導電体825を形成した後、基板81に形成された第3レジスト層885を全て除去する。本実施形態においては、基板81に形成されたシード層822を活用した電解めっきによって、貫通孔885aから露出しためっき層823に、たとえばCuを析出させて貫通孔885a内に該Cuを埋設させることで複数の柱状導電体825が形成される。
次いで、めっき層823に覆われていないバリア層821およびシード層822を全て除去する工程は、図19に示す半導体装置A10の製造方法の一例と同様である。ここで、本実施形態を説明する図25〜図31のうち、図28および図29を除く図は、該工程によって接合層832(接合層32)および複数の柱状導電体825(柱状部242)によって覆われためっき層823(めっき層203)の部位に生じる段差を、模式的に比率を拡大して示している。
次いで、凹部814に収容されるように半導体素子831を底面816に搭載する工程は、図20に示す半導体装置A10の製造方法の一例と同様である。
次いで、図30に示すように、基板81に半導体素子831を覆う封止樹脂84を形成する。封止樹脂84が、半導体装置A20の封止樹脂4に相当する。封止樹脂84は、基板81に形成された凹部814を充填し、かつ複数の柱状導電体825および半導体素子831を完全に覆うように形成する。
次いで、図31に示すように、複数の柱状導電体825の上端が露出するまで、封止樹脂84の上部を研削する。このとき、封止樹脂84の上面が樹脂主面841となり、複数の柱状導電体825の上端はそれぞれ、樹脂主面841と面一となる。その後、主面811に形成された導電層82に導通する複数のパッド層824を形成する。パッド層824が、半導体装置A20の端子24のパッド部241に相当する。本実施形態においては、複数のパッド層824は、樹脂主面841から露出した複数の柱状導電体825のそれぞれに接して形成される。
次いで、基板81を切断することで半導体素子831の個片に分割する工程は、図23に示す半導体装置A10の製造方法の一例と同様である。前記個片が半導体装置A20となる。以上の工程を経ることにより、半導体装置A20が製造される。
本実施形態においても、半導体装置A20の大型化を回避しつつ、ホール素子(半導体素子31)の感度の向上を図ることが可能となる。また、本実施形態によれば、図25、図26および図27に示すように、柱状部242を有した端子24を形成することで、半導体装置A10よりも基板1の主面11に対して封止樹脂4が突出した形態となっている。ここで、凹部14は、半導体装置A10の製造などの都合上、その形状が制限されやすく、条件によっては凹部14内に搭載される半導体素子31の素子上面311が、主面11から突出することがある。このような場合であっても、半導体素子31の設計変更を行わずに半導体素子31を封止樹脂4によって完全に覆い、半導体装置A20のパッケージを適切に行うことができる。
本実施形態によれば、めっき層203の厚さを半導体装置A10に対して約1/10とすることができるため、半導体装置A20の製造において、より均一な厚さのめっき層203を形成することができる。
本発明にかかる半導体装置は、先述した実施の形態に限定されるものではない。本発明にかかる半導体装置の各部の具体的な構成は、種々に設計変更自在である。
A10,A20:半導体装置
1:基板
11:主面
12:裏面
13:側面
14:凹部
141:底面
142:連絡面
142a:第1連絡面
142b:第2連絡面
142c:境界部
15:絶縁層
20:導電層
201:バリア層
202:シード層
203:めっき層
21:主面導電部
22:連絡面導電部
23:底面導電部
24:端子
241:パッド部
242:柱状部
31:半導体素子
311:素子上面
312:電極バンプ
32:接合層
4:封止樹脂
41:樹脂主面
43:樹脂側面
81:基板
811:主面
812:裏面
814:凹部
814a:第1凹部
814b:第2凹部
815:絶縁層
816:底面
817:連絡面
817a:第1連絡面
817b:第2連絡面
817c:境界部
818:中間面
82:導電層
821:バリア層
822:シード層
823:めっき層
824:パッド層
825:柱状導電体
831:半導体素子
831a:素子上面
832:接合層
84:封止樹脂
841:樹脂主面
881:第1マスク層
881a:第1開口部
882:第2マスク層
882a:第2開口部
883:第1レジスト層
884:第2レジスト層
885:第3レジスト層
885a:貫通孔
X:第1方向
Y:第2方向
Z:厚さ方向
CL:切断線
1:基板
11:主面
12:裏面
13:側面
14:凹部
141:底面
142:連絡面
142a:第1連絡面
142b:第2連絡面
142c:境界部
15:絶縁層
20:導電層
201:バリア層
202:シード層
203:めっき層
21:主面導電部
22:連絡面導電部
23:底面導電部
24:端子
241:パッド部
242:柱状部
31:半導体素子
311:素子上面
312:電極バンプ
32:接合層
4:封止樹脂
41:樹脂主面
43:樹脂側面
81:基板
811:主面
812:裏面
814:凹部
814a:第1凹部
814b:第2凹部
815:絶縁層
816:底面
817:連絡面
817a:第1連絡面
817b:第2連絡面
817c:境界部
818:中間面
82:導電層
821:バリア層
822:シード層
823:めっき層
824:パッド層
825:柱状導電体
831:半導体素子
831a:素子上面
832:接合層
84:封止樹脂
841:樹脂主面
881:第1マスク層
881a:第1開口部
882:第2マスク層
882a:第2開口部
883:第1レジスト層
884:第2レジスト層
885:第3レジスト層
885a:貫通孔
X:第1方向
Y:第2方向
Z:厚さ方向
CL:切断線
Claims (44)
- 半導体素子と、
主面を有し、かつ半導体材料からなる基板と、
前記半導体素子に導通し、かつ前記基板に形成された導電層と、
前記半導体素子を覆う封止樹脂と、を備える半導体装置であって、
前記基板には、前記半導体素子を搭載する底面と、前記底面および前記主面につながる連絡面とを有し、かつ前記主面から窪む凹部が形成され、
前記連絡面は、前記主面につながる第1連絡面と、前記底面につながる第2連絡面と、を含み、
前記第1連絡面および前記第2連絡面は、ともに前記底面に対して傾斜し、
前記第2連絡面の前記底面に対する傾斜角が、前記第1連絡面の前記底面に対する傾斜角よりも大であることを特徴とする半導体装置。 - 前記底面の平面視形状は矩形状であり、複数の前記第1連絡面および複数の前記第2連絡面がそれぞれ、前記底面の四辺に沿って形成されている、請求項1に記載の半導体装置。
- 複数の前記第1連絡面の前記底面に対する傾斜角はいずれも同一であり、複数の前記第2連絡面の前記底面に対する傾斜角はいずれも同一である、請求項2に記載の半導体装置。
- 前記第2連絡面の高さは、前記第1連絡面の高さよりも低い、請求項1ないし3のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記連絡面は、前記第1連絡面および前記第2連絡面が互いにつながる境界部をさらに含み、前記基板の厚さ方向において、前記半導体素子の上面は、前記境界部に対して前記主面寄りに位置している、請求項4に記載の半導体装置。
- 前記底面は、前記基板の厚さ方向に対して直交している、請求項1ないし5のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記半導体材料は、単結晶材料である、請求項1ないし6のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記半導体材料は、Siである、請求項7に記載の半導体装置。
- 前記主面は、(100)面である、請求項8に記載の半導体装置。
- 前記第1連絡面の前記底面に対する傾斜角は、54.74°である、請求項9に記載の半導体装置。
- 前記主面、前記底面および前記連絡面に形成された絶縁層をさらに備え、前記絶縁層は、前記基板と前記導電層との間に介在している、請求項1ないし10のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記絶縁層は、SiO2からなる、請求項11に記載の半導体装置。
- 前記導電層は、互いに積層されたバリア層、シード層およびめっき層を有し、これらのうち前記バリア層が、前記基板から最も近い位置に形成され、前記シード層は、前記バリア層と前記めっき層との間に介在している、請求項11または12に記載の半導体装置。
- 前記バリア層は、Tiからなる、請求項13に記載の半導体装置。
- 前記めっき層の厚さは、前記シード層の厚さよりも厚い、請求項13または14に記載の半導体装置。
- 前記シード層および前記めっき層は、ともにCuからなる、請求項15に記載の半導体装置。
- 前記導電層は、前記主面に形成された主面導電部と、前記連絡面に形成された連絡面導電部と、前記底面に形成された底面導電部と、を含み、前記底面導電部に前記半導体素子が搭載されている、請求項13ないし16のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記主面導電部に導通しているパッド部を有する複数の端子をさらに備える、請求項17に記載の半導体装置。
- 前記パッド部は、互いに積層されたNi層、Pd層およびAu層からなる、請求項18に記載の半導体装置。
- 前記主面導電部が前記封止樹脂から露出し、前記パッド部が前記主面導電部に接して形成されている、請求項18または19に記載の半導体装置。
- 前記連絡面導電部における前記めっき層の厚さは、30〜35μmである、請求項20に記載の半導体装置。
- 前記端子は、前記主面導電部と前記パッド部との間に介在し、かつ前記封止樹脂から露出している柱状部をさらに有する、請求項18または19に記載の半導体装置。
- 前記柱状部は、Cuからなる、請求項22に記載の半導体装置。
- 前記連絡面導電部における前記めっき層の厚さは、3〜10μmである、請求項22または23に記載の半導体装置。
- 前記半導体素子は、ホール素子である、請求項1ないし24のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記半導体素子と前記導電層との間に介在する接合層をさらに備える、請求項1ないし25のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記接合層は、互いに積層されたNi層およびSnを含む合金層からなる、請求項26に記載の半導体装置。
- 主面を有した半導体材料からなる基板に、底面と前記底面および前記主面につながる連絡面とを有した凹部を、前記主面から窪むように前記基板に形成する工程と、
前記凹部を含む前記基板に導電層を形成する工程と、
前記凹部に収容されるように半導体素子を前記底面に搭載する工程と、
前記半導体素子を覆う封止樹脂を形成する工程と、を備え、
前記凹部を形成する工程では、中間面と前記中間面および前記主面につながる第1連絡面とを有した第1凹部を形成する工程と、
前記底面と前記底面および前記第1連絡面につながる第2連絡面とを有した第2凹部を形成する工程と、を含み、
前記第1凹部は異方性エッチングにより形成され、前記第2凹部は等方性エッチングにより形成されることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記異方性エッチングは、ウェットエッチングである、請求項28に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記等方性エッチングは、反応性イオンエッチングである、請求項28または29に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記半導体材料は、単結晶材料である、請求項28ないし30のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
- 前記半導体材料は、Siである、請求項31に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記主面は、(100)面である、請求項32に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記導電層を形成する工程の前に、前記凹部を含む前記基板に絶縁層を形成する工程をさらに備える、請求項28ないし33のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
- 前記絶縁層を形成する工程では、熱酸化法により前記絶縁層が形成される、請求項34に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記導電層を形成する工程では、スパッタリング法によりバリア層およびシード層を形成する工程と、電解めっきによりめっき層を形成する工程と、を含む、請求項34または35に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記封止樹脂を形成する工程の後に、前記主面に形成された前記導電層に導通する複数のパッド層を形成する工程をさらに備える、請求項28ないし36のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
- 前記複数のパッド層を形成する工程では、無電解めっきにより前記複数のパッド層が形成される、請求項37に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記複数のパッド層を形成する工程では、前記主面に形成された前記導電層が露出するまで前記封止樹脂を研削した後、前記主面に形成された前記導電層に接して前記複数のパッド層が形成される、請求項37または38に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記封止樹脂を形成する工程の前に、前記主面に形成された前記導電層に接する複数の柱状導電体を形成する工程をさらに備える、請求項37または38に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記複数の柱状導電体を形成する工程では、電解めっきにより前記複数の柱状導電体が形成される、請求項40に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記複数のパッド層を形成する工程では、前記複数の柱状導電体が露出するまで前記封止樹脂を研削した後、前記複数の柱状導電体のそれぞれに接して前記パッド層が複数形成される、請求項40または41に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記半導体素子を搭載する工程の前に、前記半導体素子を搭載するための接合層を前記導電層に形成する工程をさらに備える、請求項28ないし42のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
- 前記接合層を形成する工程では、電解めっきにより前記接合層が形成される、請求項43に記載の半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015134935A JP2017017268A (ja) | 2015-07-06 | 2015-07-06 | 半導体装置およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015134935A JP2017017268A (ja) | 2015-07-06 | 2015-07-06 | 半導体装置およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017017268A true JP2017017268A (ja) | 2017-01-19 |
Family
ID=57831025
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015134935A Pending JP2017017268A (ja) | 2015-07-06 | 2015-07-06 | 半導体装置およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2017017268A (ja) |
-
2015
- 2015-07-06 JP JP2015134935A patent/JP2017017268A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6676308B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP2017037900A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
US9585254B2 (en) | Electronic device | |
JP6595840B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP6894754B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP7267767B2 (ja) | 半導体装置および半導体装置の製造方法 | |
JP5615122B2 (ja) | 電子部品装置及びその製造方法 | |
JP6813314B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
US10985083B2 (en) | Semiconductor device and method for manufacturing the same | |
US10276463B2 (en) | Semiconductor device and method for manufacturing the same | |
JP2019050302A (ja) | 半導体装置 | |
JP7201296B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP7421622B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP2010027925A (ja) | 物理量センサ及びその製造方法、ならびに、物理量センサ実装構造 | |
JP6580889B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP7230462B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP2017017268A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP6571446B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP2018088505A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP7252386B2 (ja) | 半導体装置および半導体装置の製造方法 | |
JP7056910B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP2014086963A (ja) | パッケージおよびパッケージの製造方法 | |
JP2017037960A (ja) | 半導体装置 |