JP2017016065A - 反射防止フィルムの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】良好な反射防止性能を有し、ヘイズが低く、白濁感が少ない、反射防止フィルムを簡便に製造することができる方法を提供する。
【解決手段】基材１上に、硬化性化合物（ａ１）と、平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）３とを含む層（ａ）４、および硬化性化合物（ａ１）と相溶しない化合物（ｂ１）を含む層（ｂ）５を、粒子（ａ２）３が層（ａ）４および層（ｂ）を合わせた層中に埋没する厚みで設ける工程（１）、粒子（ａ２）が層（ａ）および層（ｂ）５を合わせた層中に埋没した状態で層（ａ）４を硬化する工程（２）、層（ｂ）５を除去し、粒子（ａ２）３により層（ａ）４の表面に凹凸形状を形成する工程（３）、をこの順に有する、反射防止フィルム。
【選択図】図１

Description

本発明は、反射防止フィルムの製造方法に関する。

陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、蛍光表示ディスプレイ（ＶＦＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、及び液晶表示装置（ＬＣＤ）のような画像表示装置では、表示面での外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するために反射防止フィルムを設けることがある。また、ショールームのガラス表面など、画像表示装置以外でも反射防止フィルムにより反射防止機能を付与する場合がある。

反射防止フィルムとして、基材表面に周期が可視光の波長以下の微細な凹凸形状を有する反射防止フィルム、いわゆるモスアイ（ｍｏｔｈ ｅｙｅ）構造を有する反射防止フィルムが知られている。モスアイ構造により、擬似的に空気から基材の内部のバルク材料に向かって屈折率が連続的に変化する屈折率傾斜層を作り出し、光の反射を防止することができる。

モスアイ構造を有する反射防止フィルムとして、特許文献１には、透明樹脂モノマーと微粒子を含有する塗布液を透明基材上に塗布し、硬化して微粒子が分散した透明樹脂を形成し、その後、透明樹脂をエッチングすることにより製造されたモスアイ構造を有する反射防止フィルムが記載されている。

特開２００９−１３９７９６号公報

しかしながら、特許文献１の技術では、透明樹脂をエッチングする必要があり、反射防止フィルムの製造工程が複雑になることがある。

本発明の課題は、良好な反射防止性能を有し、ヘイズが低く、白濁感が少ない、反射防止フィルムを簡便に製造することができる方法を提供することにある。

本発明者らは、上記課題を解決するために、基材上に、粒子とバインダー形成用の硬化性化合物を含有する組成物を塗布することにより、モスアイ構造を形成することを検討した。しかしながら、塗布から硬化までの間に粒子が空気界面に露出すると凝集しやすく、白濁が発生する場合が生じた。そこで、本発明者らは更に検討し、粒子の上側（基材側の界面とは反対側）に別の層を積層し、塗布から硬化までの間に粒子が空気界面に露出しないようにして、硬化後にこの積層した層を除去することで、粒子による良好な凹凸形状を形成する方法を見出した。
すなわち、下記手段により上記課題を解決できることを見出した。

［１］
基材上に、
硬化性化合物（ａ１）と、平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）とを含む層（ａ）、および上記硬化性化合物（ａ１）と相溶しない化合物（ｂ１）を含む層（ｂ）を、上記粒子（ａ２）が上記層（ａ）および層（ｂ）を合わせた層中に埋没する厚みで設ける工程（１）、
上記粒子（ａ２）が上記層（ａ）および層（ｂ）を合わせた層中に埋没した状態で上記層（ａ）を硬化する工程（２）、
上記層（ｂ）を除去し、上記粒子（ａ２）により上記層（ａ）の表面に凹凸形状を形成する工程（３）、
をこの順に有する、反射防止フィルムの製造方法。
［２］
基材上に層（ａ）及び層（ｂ）をこの順で塗布することにより設ける、［１］に記載の反射防止フィルムの製造方法。
［３］
上記化合物（ｂ１）が、５０℃において液状の油性成分である、［１］又は［２］に記載の反射防止フィルムの製造方法。
［４］
上記化合物（ｂ１）の少なくとも１種が沸点１１０℃以上で２５℃における動粘度が０．１ｍｍ^２／ｓ〜１０００００ｍｍ^２／ｓである、［１］〜［３］のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
［５］
上記層（ａ）表面の表面張力と上記沸点が１１０℃以上である化合物（ｂ１）の表面張力との差が０〜１０ｍＮ/ｍである［４］に記載の反射防止フィルムの製造方法。
［６］
上記化合物（ｂ１）の上記工程（２）での膜厚における波長２５０ｎｍ〜３００ｎｍにおける最大透過率が２０％以上である［１］〜［５］のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
［７］
上記工程（１）において、上記層（ｂ）の形成を仮支持体上に上記層（ｂ）を設けた積層体を上記層（ａ）上に貼り合わせることによって行う、［１］に記載の反射防止フィルムの製造方法。
［８］
上記層（ｂ）が粘着剤層である［７］に記載の反射防止フィルムの製造方法。
［９］
上記層（ａ）表面の表面張力と上記仮支持体上に上記層（ｂ）を設けた積層体の上記層（ｂ）側表面の表面張力との差が−１０〜１５ｍＮ／ｍである［７］又は［８］に記載の反射防止フィルムの製造方法。
［１０］
上記仮支持体上に層（ｂ）を設けた積層体の波長２５０ｎｍ〜３００ｎｍにおける最大透過率が２０％以上である［７］〜［９］のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
［１１］
上記工程（３）において、上記基材を溶解せず、かつ上記化合物（ｂ１）を溶解する溶剤を用いる、［１］〜［１０］のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
［１２］
上記工程（３）の後において、上記基材の表面に直交する方向には上記粒子（ａ２）が複数存在しない、［１］〜［１１］のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
［１３］
上記工程（１）及び工程（２）において、上記層（ａ）の上記粒子（ａ２）が存在しない部分の膜厚と層（ｂ）の膜厚の合計の膜厚が、上記粒子（ａ２）の平均一次粒径よりも大きい、［１］〜［１２］のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
［１４］
上記硬化性化合物（ａ１）の少なくとも１種が、１分子中に（メタ）アクリロイル基を３個以上有する化合物である、［１］〜［１３］のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
［１５］
上記粒子（ａ２）が、金属酸化物粒子である、［１］〜［１４］のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
［１６］
上記粒子（ａ２）が、表面修飾された粒子である［１］〜［１５］のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
［１７］
上記工程（１）と工程（２）の間に、上記硬化性化合物（ａ１）の一部を上記基材に浸透させる工程（１−２）を有する、［１］〜［１６］のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
［１８］
上記工程（１−２）において、基材、層（ａ）、及び層（ｂ）を有する積層体を加熱する、［１７］に記載の反射防止フィルムの製造方法。
［１９］
上記加熱における温度が、８０〜１８０℃である、［１８］に記載の反射防止フィルムの製造方法。
［２０］
上記化合物（ｂ１）の少なくとも１種の化合物の沸点が上記加熱における温度以上である、［１８］又は［１９］に記載の反射防止フィルムの製造方法。

本発明によれば、良好な反射防止性能を有し、ヘイズが低く、白濁感が少ない、反射防止フィルムを簡便に製造することができる方法を提供することができる。

本発明の反射防止フィルムの製造方法の一例を説明するための模式図である。 本発明の製造方法により製造される反射防止フィルムの一例を示す断面模式図である。

［反射防止フィルムの製造方法］
本発明の反射防止フィルムの製造方法は、
基材上に、
硬化性化合物（ａ１）と、平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）とを含む層（ａ）、および上記硬化性化合物（ａ１）と相溶しない化合物（ｂ１）を含む層（ｂ）を、上記粒子（ａ２）が上記層（ａ）および層（ｂ）を合わせた層中に埋没する厚みで設ける工程（１）、
上記粒子（ａ２）が上記層（ａ）および層（ｂ）を合わせた層中に埋没した状態で上記層（ａ）を硬化する工程（２）、
上記層（ｂ）を除去し、上記粒子（ａ２）により上記層（ａ）の表面に凹凸形状を形成する工程（３）、
をこの順に有する、反射防止フィルムの製造方法である。

本発明の反射防止フィルムの製造方法の好ましい実施形態の一例を図１に示す。
図１の（１）は、工程（１）において、基材１上に、基材に近い側から、硬化性化合物（ａ１）と、平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）（図１中の符号３）とを含む層（ａ）（図１中の符号４）、及び硬化性化合物（ａ１）と相溶しない化合物（ｂ１）を含む層（ｂ）（図１中の符号５）を、粒子（ａ２）が層（ａ）および層（ｂ）を合わせた層中に埋没する厚みで設けられた状態を模式的に表している。
図１の（１−２）は、後述する工程（１−２）において、層（ａ）の硬化性化合物（ａ１）の一部が基材に浸透し（基材が機能層を有する場合は機能層に浸透してもよい）、層（ａ）が表面に粒子（ａ２）による凹凸形状を有するものとなる状態を模式的に表している。
図１の（２）は、工程（２）において、粒子（ａ２）が層（ａ）および層（ｂ）を合わせた層中に埋没した状態で層（ａ）を硬化しているところを模式的に表している。
図１の（３）は、工程（３）において、層（ｂ）を除去した後の状態を表している。

［工程（１）］
工程（１）は、基材上に、硬化性化合物（ａ１）と、平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）とを含む層（ａ）、および上記硬化性化合物（ａ１）と相溶しない化合物（ｂ１）を含む層（ｂ）を、上記粒子（ａ２）が上記層（ａ）および層（ｂ）を合わせた層中に埋没する厚みで設ける工程である。

工程（１）において、基材上に層（ａ）及び層（ｂ）を設ける方法は特に限定されないが、基材上に層（ａ）及び層（ｂ）を塗布することにより設ける、または、基材上に層（ａ）を塗布した積層体に、仮支持体上に層（ｂ）を形成した積層体を貼り合わせて設けることが好ましい。この場合、層（ａ）は、硬化性化合物（ａ１）と、平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）とを含む組成物（Ａ）を塗布してなる層であり、層（ｂ）は、硬化性化合物（ａ１）と相溶しない化合物（ｂ１）を含む組成物（Ｂ）を含む層である。
層（ａ）と層（ｂ）を塗布により設ける場合、２層を同時、または逐次で行うことができる。なお、層（ｂ）を逐次で塗布する、または、仮支持体上に層（ｂ）を形成した積層体を貼り合わせる場合には、層（ａ）中の粒子（ａ２）が空気界面から露出して凝集しない状態であることが好ましい。
塗布方法としては、特に限定されず公知の方法を用いることができる。例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等が挙げられる。
組成物（Ａ）及び組成物（Ｂ）を逐次塗布してもよいし、同時塗布してもよい。また、組成物（Ａ）及び組成物（Ｂ）を混合した組成物（１液）を塗布し、相分離により層（ａ）及び層（ｂ）を設けてもよい。

基材上に層（ａ）を塗布した積層体に、仮支持体上に層（ｂ）を形成した積層体を貼り合わせて層（ａ）上に層（ｂ）を設ける場合、層（ｂ）は、層（ａ）を塗布するものとは別の仮支持体上に硬化性化合物（ａ１）と相溶しない化合物（ｂ１）を含む組成物（Ｂ）を塗布して予め形成しておく。次いで層（ａ）を形成した基材と予め層（ｂ）を形成した仮支持体を、層（ａ）と層（ｂ）が接するように貼り合わせて各層を設ける。貼りあわせ方法としては特に限定されず公知の方法を用いることができる。

層（ｂ）を同時ではなく別途設ける際に、層（ａ）は粒子（ａ２）が層（ａ）に埋没する厚みで設ける。
埋没する厚みとは、工程（１）から工程（２）までの間、層(ａ)上に設けた層（ｂ）から粒子（ａ２）が露出せず、粒子（ａ２）が層（ｂ）の空気界面または仮支持体上に層（ｂ）を設けた積層体の仮支持体に接触しない厚みをいう。すなわち、硬化性化合物（ａ１）や溶媒が基材や層（ｂ）に吸収もしくは浸透されるか、または層(ｂ)を透過して揮発したとしても、少なくとも粒子（ａ２）の凝集を妨げる程度の硬化性化合物（ａ１）の重合硬化が行われるまでは粒子（ａ２）が空気界面に露出しない状態をいう。

この際に粒子（ａ２）が層（ａ）および層（ｂ）を合わせた層中に埋没した状態を維持することで、粒子（ａ２）の凝集を抑制し、モスアイ構造を形成することができる。
なお、後述の工程（３）に臨むまで、層（ｂ）に粒子（ａ２）が埋没した状態が維持されるのであれば、維持する操作は必要がない。
しかし、層（ｂ）を塗布後に層（ｂ）や層（ａ）の成分の揮発あるいは、基材（基材が機能層を有する場合は機能層）への染み込み等により埋没した状態が維持できない場合は、層（ｂ）の成分をあらかじめ厚くしておく等の操作を行うことができる。
粒子（ａ２）が層（ｂ）の表面から露出しない状態を維持することで粒子凝集が抑制されるメカニズムとしては、粒子が層表面から空気中に突出する際に、横毛管力と言われる表面張力由来の大きな引力が働く事が知られており、層（ｂ）によって粒子を埋没しておくことで上記引力を小さくできるためと推定している。

工程（１）において、基材の表面に直交する方向には粒子（ａ２）が複数存在しないことが好ましい。ここで、基材の表面に直交する方向には粒子（ａ２）が複数存在しないとは、基材の面内の１０μｍ×１０μｍを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で３視野観察した際に、表面に直交する方向に複数重なって存在していない状態の粒子（ａ２）の個数の割合が、８０％以上であることを表し、好ましくは９５％以上である。

工程（１）及び工程（２）において、層（ａ）の粒子（ａ２）が存在しない部分の膜厚と層（ｂ）の膜厚の合計の膜厚が粒子（ａ２）の平均一次粒径よりも大きいことが好ましい。層（ａ）、層（ｂ）を基材上に塗布して設ける場合、層（ａ）の粒子（ａ２）が存在しない部分の膜厚と層（ｂ）の膜厚の合計の膜厚は、粒子（ａ２）の平均一次粒径よりも０．０１μｍ〜１０μｍ大きいことが好ましく、０．０１μｍ〜２μｍ大きいことがより好ましく、０．０１μｍ〜１μｍ大きいことが更に好ましい。
仮支持体上に層（ｂ）を形成した積層体を層（ａ）に貼り合わせて設ける場合、層（ａ）の粒子（ａ２）が存在しない部分の膜厚と層（ｂ）の膜厚の合計の膜厚は、粒子（ａ２）の平均一次粒径よりも０．１μｍ〜５０μｍ大きいことが好ましく、１μｍ〜３０μｍ大きいことがより好ましい。
層（ａ）の粒子（ａ２）が存在しない部分の膜厚と層（ｂ）の膜厚の合計の膜厚が、粒子（ａ２）の平均一次粒径よりも大きいと粒子（ａ２）が層（ｂ）の表面から露出しにくくなり、好ましい。
層（ａ）の粒子（ａ２）が存在しない部分の膜厚は、層（ａ）を硬化して走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で塗膜断面を観察し、任意に１００箇所の膜厚を計測してその平均値を用いる事ができる。

（基材）
基材は、反射防止フィルムの基材として一般的に使用される透光性を有する基材であれは特に制限はないが、プラスチック基材やガラス基材が好ましい。
プラスチック基材としては、種々用いることができ、例えば、セルロース系樹脂；セルロースアシレート（トリアセテートセルロース、ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロース）等、ポリエステル樹脂；ポリエチレンテレフタレート等、（メタ）アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、オレフィン系樹脂等を含有する基材が挙げられ、セルロースアシレート、ポリエチレンテレフタレート、又は（メタ）アクリル系樹脂を含有する基材が好ましく、セルロースアシレートを含有する基材がより好ましく、セルロースアシレートフィルムであることが特に好ましい。セルロースアシレートとしては、特開２０１２−０９３７２３号公報に記載の基材等を好ましく用いることが出来る。
プラスチック基材の厚さは、通常、１０μｍ〜１０００μｍ程度であるが、取り扱い性が良好で、透光性が高く、かつ十分な強度が得られるという観点から２０μｍ〜２００μｍが好ましく、２５μｍ〜１００μｍがより好ましい。プラスチック基材の透光性としては、可視光の透過率が９０％以上のものが好ましい。

なお、本発明においては、工程（１）の前に、基材上に機能層を設けてもよい。基材上に機能層を有する場合は、その機能層と基材との積層体を「基材」と呼ぶ。基材上に機能層を設けた場合には、工程（１）においては機能層上に層(ａ)を設け、以降の工程を行うものとする。機能層としてはハードコート層が好ましい。

（層（ａ））
層（ａ）は、硬化性化合物（ａ１）と、平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）とを含む。
層（ａ）は本発明の製造方法によって製造された反射防止フィルム（「出来上がりの反射防止フィルム」ともいう）において、反射防止層を形成するための層である。
層（ａ）に含まれる硬化性化合物（ａ１）は、硬化されることで、出来上がりの反射防止フィルムにおいて、反射防止層のバインダー樹脂となるものである。
層（ａ）に含まれる平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）は、出来上がりの反射防止フィルムにおいて、バインダー樹脂からなる膜の表面から突出し、凹凸形状からなるモスアイ構造を形成する粒子である。
なお、層（ａ）は工程（２）で硬化されるため、硬化前と硬化後で含有する成分が異なるが、本発明では便宜的にいずれの段階においても層（ａ）と呼ぶこととする。

＜硬化性化合物（ａ１）＞
硬化性化合物（ａ１）としては、重合性官能基を有する化合物（好ましくは電離放射線硬化性化合物）が好ましい。重合性官能基を有する化合物としては、各種モノマー、オリゴマーやポリマーを用いる事ができ、重合性官能基（重合性基）としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性不飽和基（炭素−炭素不飽和二重結合性基）等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。

重合性不飽和基を有する化合物の具体例としては、ネオペンチルグリコールアクリレート、１，６−ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート等の多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
２，２−ビス｛４−（アクリロキシ・ジエトキシ）フェニル｝プロパン、２−２−ビス｛４−（アクリロキシ・ポリプロポキシ）フェニル｝プロパン等のエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類；等を挙げることができる。

さらにはエポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類も、光重合性モノマーとして、好ましく用いられる。

中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。さらに好ましくは、１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能モノマーを少なくとも１種含有することが好ましい。
例えば、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ（エチレンオキサイド）変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ（プロピレンオキサイド）変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。

（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類の具体化合物としては、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ、同ＤＰＨＡ−２Ｃ、同ＰＥＴ−３０、同ＴＭＰＴＡ、同ＴＰＡ−３２０、同ＴＰＡ−３３０、同ＲＰ−１０４０、同Ｔ−１４２０、同Ｄ−３１０、同ＤＰＣＡ−２０、同ＤＰＣＡ−３０、同ＤＰＣＡ−６０、同ＧＰＯ−３０３、大阪有機化学工業（株）製Ｖ＃３ＰＡ、Ｖ＃４００、Ｖ＃３６０９５Ｄ、Ｖ＃１０００、Ｖ＃１０８０等のポリオールと（メタ）アクリル酸のエステル化物を挙げることができる。また紫光ＵＶ−１４００Ｂ、同ＵＶ−１７００Ｂ、同ＵＶ−６３００Ｂ、同ＵＶ−７５５０Ｂ、同ＵＶ−７６００Ｂ、同ＵＶ−７６０５Ｂ、同ＵＶ−７６１０Ｂ、同ＵＶ−７６２０ＥＡ、同ＵＶ−７６３０Ｂ、同ＵＶ−７６４０Ｂ、同ＵＶ−６６３０Ｂ、同ＵＶ−７０００Ｂ、同ＵＶ−７５１０Ｂ、同ＵＶ−７４６１ＴＥ、同ＵＶ−３０００Ｂ、同ＵＶ−３２００Ｂ、同ＵＶ−３２１０ＥＡ、同ＵＶ−３３１０ＥＡ、同ＵＶ−３３１０Ｂ、同ＵＶ−３５００ＢＡ、同ＵＶ−３５２０ＴＬ、同ＵＶ−３７００Ｂ、同ＵＶ−６１００Ｂ、同ＵＶ−６６４０Ｂ、同ＵＶ−２０００Ｂ、同ＵＶ−２０１０Ｂ、同ＵＶ−２２５０ＥＡ、同ＵＶ−２７５０Ｂ（日本合成化学（株）製）、ＵＬ−５０３ＬＮ（共栄社化学（株）製）、ユニディック１７−８０６、同１７−８１３、同Ｖ−４０３０、同Ｖ−４０００ＢＡ（大日本インキ化学工業（株）製）、ＥＢ−１２９０Ｋ、ＥＢ−２２０、ＥＢ−５１２９、ＥＢ−１８３０，ＥＢ−４８５８（ダイセルＵＣＢ（株）製）、ハイコープＡＵ−２０１０、同ＡＵ−２０２０（（株）トクシキ製）、アロニックスＭ−１９６０（東亜合成（株）製）、アートレジンＵＮ−３３２０ＨＡ，ＵＮ−３３２０ＨＣ，ＵＮ−３３２０ＨＳ、ＵＮ−９０４，ＨＤＰ−４Ｔなどの３官能以上のウレタンアクリレート化合物、アロニックスＭ−８１００，Ｍ−８０３０，Ｍ−９０５０（東亞合成（株）製、ＫＲＭ−８３０７（ダイセルサイテック（株）製）などの３官能以上のポリエステル化合物なども好適に使用することができる。特にＤＰＨＡやＰＥＴ−３０が好ましく用いられる。

さらに、３個以上の重合性官能基を有する樹脂、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物などのオリゴマー又はプレポリマー等も挙げられる。

また、特開２００５−７６００５号、同２００５−３６１０５号公報に記載された化合物、ＳＩＲＩＵＳ−５０１、ＳＵＢＡＲＵ−５０１（大阪有機化学工業（株）製）のようなデンドリマーや、特開２００５−６０４２５号公報に記載のようなノルボルネン環含有モノマーを用いることもできる。

重合性官能基を有する化合物は、二種類以上を併用してもよい。これら重合性官能基を有する化合物の重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。

硬化性化合物（ａ１）は、基材への浸透性の観点の観点から、ＳＰ値２０〜２５の（メタ）アクリロイル基を有する化合物を少なくとも１種含むことが好ましい。（メタ）アクリロイル基を有する化合物のＳＰ値は、基材表面のＳＰ値に対して±４以内であることが好ましく、±２以内が更に好ましい。
なお、本発明におけるＳＰ値（溶解性パラメーター）は、Ｈｏｙ法によって算出した値であり、Ｈｏｙ法は、ＰＯＬＹＭＥＲＨＡＮＤＢＯＯＫＦＯＵＲＴＨ ＥＤＩＴＩＯＮに記載がある。

また、プラスチック基材、あるいはハードコート層への浸透のしやすさの観点から、上記硬化性化合物（ａ１）として１分子中に２個以下の重合性官能基を有する化合物を用いてもよいが、特に、１分子中に３個以上の重合性官能基を有する化合物と、１分子中に２個以下の重合性官能基を有する化合物、または重合性官能基を有さない化合物を併用することが好ましい。
１分子中に２個以下の重合性官能基を有する化合物、または重合性官能基を有さない化合物としては、重量平均分子量Ｍｗａが４０＜Ｍｗａ＜５００で、Ｈｏｙ法によるＳＰ値ＳＰａが１９＜ＳＰａ＜２４．５である化合物であることが好ましい。このような分子量とＳＰ値を有する化合物は、プラスチック基材（特にセルロースアシレート基材）あるいはハードコート層等の機能層へ浸透し易く、プラスチック基材あるいはハードコート層等の機能層と反射防止層との間の浸透層形成に好ましい化合物である。また、重合性官能基数が２個以下である、あるいは重合性基を含有しないため硬化時の収縮が小さく、プラスチック基材側へ浸透させ硬化させてもカールを生じさせることがない。
１分子中に２個以下の重合性官能基を有する化合物、または重合性官能基を有さない化合物の１分子中の重合性官能基の数は０〜２が好ましく、０〜１がより好ましい。

本発明における重量平均分子量および数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により下記の条件で測定された値である。
［溶媒］ テトラヒドロフラン
［装置名］ ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ
［カラム］ ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺＭ−Ｈ
（４．６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用。
［カラム温度］ ２５℃
［試料濃度］ ０．１質量％
［流速］ ０．３５ｍｌ／ｍｉｎ
［校正曲線］ ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン Ｍｗ＝２８０００００〜１０５０までの７サンプルによる校正曲線を使用。

層（ａ）に含まれる硬化性化合物（ａ１）の塗設量は、１００ｍｇ／ｍ^２〜８００ｍｇ／ｍ^２が好ましく、１００ｍｇ／ｍ^２〜６００ｍｇ／ｍ^２がさらに好ましく、１００ｍｇ／ｍ^２〜４００ｍｇ／ｍ^２が最も好ましい。

＜平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）＞
平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）は、「粒子（ａ２）」ともいう。
粒子（ａ２）としては、金属酸化物粒子、樹脂粒子、金属酸化物粒子のコアと樹脂のシェルを有する有機無機ハイブリッド粒子などが挙げられるが、膜強度に優れる観点から金属酸化物粒子が好ましい。
金属酸化物粒子としては、シリカ粒子、チタニア粒子、ジルコニア粒子、五酸化アンチモン粒子などが挙げられるが、多くのバインダーと屈折率が近いためヘイズを発生しにくく、かつモスアイ構造が形成し易い観点からシリカ粒子が好ましい。
樹脂粒子としては、ポリメタクリル酸メチル粒子、ポリスチレン粒子、メラミン粒子などが挙げられる。

粒子（ａ２）の平均一次粒子径は、粒子が並んでモスアイ構造を形成できる観点から１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下であり、１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることが好ましく、１５０ｎｍ以上２５０ｎｍ以下であることがより好ましく、１７０ｎｍ以上２２０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
粒子（ａ２）として、１種のみ使用してもよいし、平均一次粒子径の異なる２種以上の粒子を用いてもよい。

上記粒子の平均一次粒径は、体積平均粒径の累積の５０％粒径を指す。粒径の測定には走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いる事ができる。粉体粒子（分散液の場合は乾燥させて溶剤を揮発させたもの）をＳＥＭ観察により適切な倍率（５０００倍程度）で観察し、一次粒子１００個のそれぞれの直径を測長してその体積を算出し、累積の５０％粒径を平均一次粒径とすることができる。粒子が球形でない場合には、長径と短径の平均値をその一次粒子の直径とみなす。反射防止フィルム中に含まれる粒子を測定する場合は、反射防止フィルムを表面側から上記同様ＳＥＭで観察して算出する。この際、観察し易いように、試料にはカーボン蒸着、エッチング処理などを適宜施してよい。

上記粒子の形状は、球形が最も好ましいが、不定形等の球形以外であっても問題無い。
また、シリカ粒子については、結晶質でも、アモルファスのいずれでもよい。

上記粒子は塗布液中での分散性向上、膜強度向上、凝集防止のために表面処理された無機微粒子を使用することが好ましい。表面処理方法の具体例及びその好ましい例は、特開２００７−２９８９７４号公報の［０１１９］〜［０１４７］に記載のものと同様である。
特に、バインダー成分との結着性を付与し、膜強度を向上させる観点から、粒子表面を不飽和二重結合および粒子表面と反応性を有する官能基を有する化合物で表面修飾し、粒子表面に不飽和二重結合を付与することが好ましい。

平均一次粒子径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子の具体的な例としては、シーホスターＫＥ−Ｐ１０（平均一次粒子径１５０ｎｍ、日本触媒（株）製アモルファスシリカ）、シーホスターＫＥ−Ｐ３０（平均一次粒子径３００ｎｍ、日本触媒（株）製アモルファスシリカ）、シーホスターＫＥ−Ｓ３０（平均一次粒子径３００ｎｍ、耐熱性１０００℃、日本触媒（株）製焼成シリカ）、エポスターＳ（平均一次粒子径２００ｎｍ、日本触媒（株）製メラミン・ホルムアルデヒド縮合物）、エポスターＭＡ―ＭＸ１００Ｗ（平均一次粒子径１７５ｎｍ、日本触媒（株）製ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）系架橋物）、エポスターＭＡ―ＭＸ２００Ｗ（平均一次粒子径３５０ｎｍ、日本触媒（株）製ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）系架橋物）、スタフィロイド（アイカ工業（株）製多層構造有機微粒子）、ガンツパール（アイカ工業（株）製ポリメチルメタクリレ−ト、ポリスチレン粒子）などを好ましく用いることができる。

粒子（ａ２）としては、表面のヒドロキシル基量が適度に多く、かつ硬い粒子であるという理由から、焼成シリカ粒子であることが特に好ましい。
焼成シリカ粒子は、加水分解が可能なシリコン化合物を水と触媒とを含む有機溶媒中で加水分解、縮合させることによってシリカ粒子を得た後、シリカ粒子を焼成するという公知の技術により製造することができ、たとえば特開２００３−１７６１２１号公報、特開２００８−１３７８５４号公報などを参照することができる。
焼成シリカ粒子を製造する原料のシリコン化合物としては特に限定されないが、テトラクロロシラン、メチルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、メチルビニルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、メチルジフェニルクロロシラン等のクロロシラン化合物；テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、トリメトキシビニルシラン、トリエトキシビニルシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−（２−アミノエチルアミノ）プロピルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン等のアルコキシシラン化合物；テトラアセトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、ジフェニルジアセトキシシラン、トリメチルアセトキシシラン等のアシロキシシラン化合物；ジメチルシランジオール、ジフェニルシランジオール、トリメチルシラノール等のシラノール化合物；等が挙げられる。上記例示のシラン化合物のうち、アルコキシシラン化合物が、より入手し易く、かつ、得られる焼成シリカ粒子に不純物としてハロゲン原子が含まれることが無いので特に好ましい。本発明にかかる焼成シリカ粒子の好ましい形態としては、ハロゲン原子の含有量が実質的に０％であり、ハロゲン原子が検出されないことが好ましい。
焼成温度は特に限定されないが、８００〜１３００℃が好ましく、１０００℃〜１２００℃がより好ましい。

層（ａ）に含まれる粒子（ａ２）の塗設量は、５０ｍｇ／ｍ^２〜２００ｍｇ／ｍ^２が好ましく、１００ｍｇ／ｍ^２〜１８０ｍｇ／ｍ^２がさらに好ましく、１３０ｍｇ／ｍ^２〜１７０ｍｇ／ｍ^２が最も好ましい。
下限以上では、モスアイ構造の凸部が数多く形成できるため反射防止性がより向上しやすく、上限以下であると、液中での凝集が生じにくく、良好なモスアイ構造を形成しやすい。

粒子の平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下で、かつＣｖ値が５％未満の単分散シリカ微粒子を一種類のみ含有することがモスアイ構造の凹凸の高さが均一になり、反射率がより低下するため好ましい。Ｃｖ値は通常レーザー回折型粒径測定装置を用いて測定されるが、他の粒径測定方式でも良いし、本発明の反射防止層の表面ＳＥＭ像から、画像解析によって粒径分布を求め算出することもできる。Ｃｖ値は３％未満であることがより好ましい。

層（ａ）は、硬化性化合物（ａ１）及び粒子（ａ２）以外の成分を含有していてもよく、たとえば、溶剤、重合開始剤、粒子（ａ２）の分散剤、レベリング剤、防汚剤等を含有していてもよい。

＜溶剤＞
溶媒としては、粒子（ａ２）と極性が近いものを選ぶのが分散性を向上させる観点で好ましい。具体的には、例えば粒子（ａ２）が金属酸化物粒子の場合にはアルコール系の溶剤が好ましく、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノールなどが挙げられる。また、例えば粒子（ａ２）が疎水化表面修飾がされた金属樹脂粒子の場合には、ケトン系、エステル系、カーボネート系、アルカン、芳香族系等の溶剤が好ましく、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、炭酸ジメチル、酢酸メチル、アセトン、メチレンクロライド、シクロヘキサノンなどが挙げられる。これらの溶剤は、分散性を著しく悪化させない範囲で複数種混ぜて用いてもかまわない。

＜粒子（ａ２）の分散剤＞
粒子（ａ２）の分散剤は、粒子同士の凝集力を低下させることにより、粒子（ａ２）を均一に配置させ易くすることができる。分散剤としては、特に限定されないが、硫酸塩、リン酸塩などのアニオン性化合物、脂肪族アミン塩、四級アンモニウム塩などのカチオン性化合物、非イオン性化合物、高分子化合物が好ましく、吸着基と立体反発基それぞれの選択の自由度が高いため高分子化合物がより好ましい。分散剤としては市販品を用いることもできる。例えば、ビックケミー・ジャパン（株）製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６２、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６３、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６４、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６６、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６７、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１７１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１８０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１８２、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ２０００、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ２００１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ２１６４、Ｂｙｋｕｍｅｎ、ＢＹＫ−２００９、ＢＹＫ−Ｐ１０４、ＢＹＫ−Ｐ１０４Ｓ、ＢＹＫ−２２０Ｓ、Ａｎｔｉ−Ｔｅｒｒａ２０３、Ａｎｔｉ−Ｔｅｒｒａ２０４、Ａｎｔｉ−Ｔｅｒｒａ２０５（以上商品名）などが挙げられる。

＜レベリング剤＞
レベリング剤は、層（ａ）の表面張力を低下させることにより、塗布後の液を安定させ硬化性化合物（ａ１）及び粒子（ａ２）を均一に配置させ易くすることができる。例えば、特開２００４−３３１８１２号公報、特開２００４−１６３６１０号公報に記載の化合物等を用いることができる。

＜防汚剤＞
防汚剤は、モスアイ構造に撥水撥油性を付与することにより、汚れや指紋の付着を抑制することができる。例えば、特開２０１２−８８６９９号公報に記載の化合物等を用いることができる。

＜重合開始剤＞
層（ａ）には、重合開始剤を含んでいてもよい。
硬化性化合物（ａ１）が光重合性化合物である場合は、光重合開始剤を含むことが好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開２００９−０９８６５８号公報の段落［０１３３］〜［０１５１］に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。

「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会｝（１９９１年）、ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著（平成元年、総合技術センター発行）、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。

層（ａ）中の重合開始剤の含有量は、層（ａ）に含まれる重合可能な化合物を重合させるのに十分な量であり、かつ開始点が増えすぎないように設定するという理由から、層（ａ）中の全固形分に対して、０．５〜８質量％が好ましく、１〜５質量％がより好ましい。

（層（ｂ））
層（ｂ）は、硬化性化合物（ａ１）と相溶しない化合物（ｂ１）（「化合物（ｂ１）」ともいう）を含む。
層（ｂ）は層（ａ）の粒子（ａ２）が硬化性化合物（ａ１）の硬化前に凝集しないようにするために設けられるものであり、硬化性化合物（ａ１）の硬化後には、除去される。そのため、化合物（ｂ１）は、硬化性化合物（ａ１）と相溶しないものである必要がある。
化合物（ｂ１）が硬化性化合物（ａ１）と相溶しないとは、２５℃において化合物（ｂ１）を硬化性化合物（ａ１）に対して５質量％混合、撹拌した際に不溶解物が残る事である。
また、化合物（ｂ１）は熱により硬化しない化合物であることが好ましい。化合物（ｂ１）を熱により硬化しない化合物とすることで、本発明の製造方法において化合物（ｂ１）の除去前に加熱プロセスを含んでいても、粒子（ａ２）によるモスアイ構造を形成しやすいため好ましい。

化合物（ｂ１）として、塗布によって層（ｂ）を設ける場合は、５０℃において液状の油性成分であることが好ましく、シリコーン系油性成分、炭化水素系油性成分、エステル系油性成分、天然動植物油脂類、半合成油脂類、高級脂肪酸、高級アルコール、又はフッ素系油性成分であることがより好ましい。

［シリコーン系油性成分］
シリコーン系油性成分は、固体状、半固体状および液状のいずれであってもよい。シリコーン系油性成分としては、例えば、シリコーン油、シリコーン系界面活性剤、シリコーン樹脂、シリコーンワックス、および、シリコーン系ゲル化剤を使用することができる。

シリコーン油としては、例えば、ジメチルポリシロキサン（例えば、信越化学工業製ＫＦ９６シリーズ）、トリストリメチルシロキシメチルシラン、カプリリルメチコン、フェニルトリメチコン、テトラキストリメチルシロキシシラン、メチルフェニルポリシロキサン，メチルヘキシルポリシロキサン、メチルハイドロジェンポリシロキサン、ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体等の低粘度から高粘度の直鎖又は分岐状のオルガノポリシロキサン；オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン，テトラメチルテトラハイドロジェンシクロテトラシロキサン、テトラメチルテトラフェニルシクロテトラシロキサン等の環状オルガノポリシロキサン；アミノ変性オルガノポリシロキサン；ピロリドン変性オルガノポリシロキサン；ピロリドンカルボン酸変性オルガノポリシロキサン；高重合度のガム状ジメチルポリシロキサン、ガム状アミノ変性オルガノポリシロキサン、ガム状のジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体等のシリコーンゴム；及びシリコーンガムまたはゴムの環状オルガノポリシロキサン溶液；トリメチルシロキシケイ酸、トリメチルシロキシケイ酸の環状シロキサン溶液（例えば、信越化学工業製：ＫＦ−７３１２Ｊ等）；ステアロキシリコーン等の高級アルコキシ変性シリコーン；高級脂肪酸変性シリコーン；アルキル変性シリコーン；長鎖アルキル変性シリコーン；アミノ酸変性シリコーン；フッ素変性シリコーン；シリコーン樹脂の溶解物等が挙げられる。

シリコーン系界面活性剤としては、例えば、直鎖又は分岐状ポリオキシエチレン変性オルガノポリシロキサン、直鎖又は分岐状ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン変性オルガノポリシロキサン、直鎖又は分岐状ポリオキシエチレン・アルキル共変性オルガノポリシロキサン、直鎖又は分岐状ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン・アルキル共変性オルガノポリシロキサン、直鎖又は分岐状ポリグリセリン変性オルガノポリシロキサン、直鎖又は分岐状ポリグリセリン・アルキル共変性オルガノポリシロキサンが挙げられる（具体例としては、信越化学工業性シリコーン系乳化剤：ＫＦ−６０１１、６０４３、６０２８、６０３８、６１００，６１０４、６１０５等が挙げられる）。また、ポリオキシエチレン変性部分架橋型オルガノポリシロキサン、ポリグリセリン変性部分架橋型ポルガノポリシロキサン等を他の油性成分と共存させた状態（例えば、信越化学工業製：ＫＳＧシリーズ；ＫＳＧ−２１０、７１０、３１０、３２０、３３０、３４０、３２０Ｚ、３５０Ｚ、８１０、８２０、８３０、８４０、８２０Ｚ、８５０Ｚ等）で用いてもよい。

シリコーン樹脂としては、例えば、アクリル／シリコーングラフト共重合体、アクリル／シリコーンブロック共重合体等からなるアクリルシリコーン樹脂が挙げられる（具体例としては、信越化学工業製：アクリル／シリコーングラフト共重合体の環状オルガノポリシロキサン溶液：ＫＰ−５４５等が挙げられる）。また、ピロリドン部分、長鎖アルキル部分、ポリオキシアルキレン部分及びフルオロアルキル部分、カルボン酸等のアニオン部分の中から選択される少なくとも１種を分子中に含有するアクリルシリコーン樹脂を使用することもできる。さらにこのシリコーン樹脂は、Ｒ⁸ ₃ＳｉＯ_0.5単位とＳｉＯ₂単位とから構成される樹脂、Ｒ⁸ ₃ＳｉＯ_0.5単位とＲ⁸ ₂ＳｉＯ単位とＳｉＯ₂単位とから構成される樹脂、Ｒ⁸ ₃ＳｉＯ_0.5単位とＲ⁸ＳｉＯ_1.5単位とから構成される樹脂、Ｒ⁸ ₃ＳｉＯ_0.5単位とＲ⁸ ₂ＳｉＯ単位とＲ⁸ＳｉＯ_1.5単位とから構成される樹脂、並びに、Ｒ⁸ ₃ＳｉＯ_0.5単位、Ｒ⁸ ₂ＳｉＯ単位、Ｒ⁸ＳｉＯ_1.5単位及びＳｉＯ₂単位から構成される樹脂の少なくとも１種からなるシリコーン網状化合物であることが好ましい。式中のＲ⁸は、置換又は非置換の炭素原子数１〜３０の１価炭化水素基である。また、ピロリドン部分、長鎖アルキル部分、ポリオキシアルキレン部分、ポリグリセリン部分、フルオロアルキル部分、アミノ部分の中から選択される少なくとも１種を分子中に含有するシリコーン網状化合物を使用することもできる。

シリコーンワックスとしては、例えば、アクリル／シリコーングラフト共重合体、アクリル／シリコーンブロック共重合体等からなるアクリルシリコーンワックスが挙げられる（具体例としては、信越化学工業製：アクリル／シリコーングラフト共重合体の環状オルガノポリシロキサン溶液：ＫＰ−５６１Ｐ、５６２Ｐ等が挙げられる）。また、ピロリドン部分、長鎖アルキル部分、ポリオキシアルキレン部分及びフルオロアルキル部分、カルボン酸等のアニオン部分の中から選択される少なくとも１種を分子中に含有するアクリルシリコーンワックスを使用することもできる。また、このシリコーンワックスは、５員環以上のラクトン化合物の開環重合物であるポリラクトンを結合させたポリラクトン変性ポリシロキサンであることが好ましい。さらに、このシリコーンワックスは、α−オレフィンとジエンとからなる不飽和基を有するオレフィンワックスと１分子中１個以上のＳｉＨ結合を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンとを付加反応させることによって得られるシリコーン変性オレフィンワックスである。上記α―オレフィンとしてはエチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ヘキセン、４−メチル１−ペンテン等の炭素原子数２〜１２のα―オレフィンが好ましく、上記ジエンとしてはブタジエン、イソプレン、１，４−ヘキサジエン、ビニルノルボルネン、エチリデンノルボルネン、ジシクロペンタジエン等が好ましい。ＳｉＨ結合を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンとしては直鎖状構造のもの、シロキサン分岐型構造のもの等が使用できる。

シリコーン系ゲル化剤としては、例えば、非変性の部分架橋型オルガノポリシロキサン、アルキル変性部分架橋型オリガノポリシロキサン、シリコーン分岐型アルキル変性部分架橋型オリガノポリシロキサン等の非変性または変性の部分架橋型オリガノポリシロキサン等のゲル化成分と、シクロペンタシロキサン、ジメチコン、ミネラルオイル、イソドデカン、トリオクタノイン、スクワラン等の種々のオイル成分とを含むゲル混合物等が挙げられる。上記ゲル混合物には、上記ゲル化成分と上記オイル成分とが共存した状態で含まれる。上記ゲル混合物としては、例えば、信越化学工業製のＫＳＧシリーズ（商品名）、特に、ＫＳＧ−１５、１６、４１、４２、４３、４４、０４２Ｚ、０４５Ｚ（いずれも商品名）等が挙げられる。

炭化水素系油性成分としては、流動パラフィン，軽質流動イソパラフィン、重質流動イソパラフィン，ワセリン，ｎ−パラフィン，イソパラフィン，イソドデカン、イソヘキサデカン、ポリイソブチレン、水素化ポリイソブチレン、ポリブテン，オゾケライト，セレシン，マイクロクリスタリンワックス，パラフィンワックス、ポリエチレンワックス、ポリエチレン・ポリピロピレンワックス、スクワラン，スクワレン、プリスタン，ポリイソプレン、ロウ等が例示される。

エステル系油性成分としては、オクタン酸ヘキシルデシル、オクタン酸セチル，ミリスチン酸イソプロピル，パルミチン酸イソプロピル，ステアリン酸ブチル，ラウリン酸ヘキシル，ミリスチン酸ミリスチル，オレイン酸オレイル，オレイン酸デシル，ミリスチン酸オクチルドデシル，ジメチルオクタン酸ヘキシルデシル，乳酸セチル，乳酸ミリスチル，フタル酸ジエチル，フタル酸ジブチル，酢酸ラノリン，モノステアリン酸エチレングリコール，モノステアリン酸プロピレングリコール，ジオイレイン酸プロピレングリコール，モノステアリン酸グリセリル，モノオレイン酸グリセリル，トリ２−エチルヘキサン酸グリセリル，トリ２−エチルヘキサン酸トリメチロールプロパン、トリエチルヘキサン酸ジトリメチロールプロパン、（イソステアリン酸／セバシン酸）ジトリメチロールプロパン、トリオクタン酸トリメチロールプロパン、トリイソステアリン酸トリメチロールプロパン、アジピン酸ジイソプロピル、アジピン酸ジイソブチル、アジピン酸２−ヘキシルデシル、アジピン酸ジ−２−ヘプチルウンデシル、リンゴ酸ジイソステアリル、モノイソステアリン酸水添ヒマシ油、モノイソステアリン酸Ｎ−アルキルグリコール、イソステアリン酸オクチルドデシル、イソステアリン酸イソプロピル、イソステアリン酸イソセチル、ジ−２−エチルヘキサン酸エチレングリコール、２−エチルヘキサン酸セチル、テトラ−２−エチルヘキサン酸ペンタエリスリトール、オクチルドデシルガムエステル、オレイン酸エチル、オレイン酸オクチルドデシル、ジカプリン酸ネオペンチルグリコール、クエン酸トリエチル、コハク酸２−エチルヘキシル、コハク酸ジオクチル、ステアリン酸イソセチル、セバシン酸ジイソプロピル、セバシン酸ジ−２−エチルヘキシル、セバシン酸ジエチル、セバシン酸ジオクチル、セバシン酸ジブチルオクチル、パリミチン酸セチル、パルミチン酸オクチルドデシル、パルミチン酸オクチル、パルミチン酸２−エチルヘキシル、パルミチン酸２−ヘキシルデシル、パルミチン酸２−ヘプチルウンデシル、１２−ヒドロキシステアリル酸コレステリル、ジペンタエリスリトール脂肪酸エステル、ミリスチン酸２−ヘキシルデシル、ラウリン酸エチル、Ｎ−ラウロイル−Ｌ−グルタミン酸−２−オクチルドデシルエステル、Ｎ− ラウロイル−Ｌ−グルタミン酸ジ（コレステリル／ベヘニル／オクチルドデシル）、Ｎ−ラウロイル−Ｌ−グルタミン酸ジ（コレステリル／オクチルドデシル）、Ｎ−ラウロイル−Ｌ−グルタミン酸ジ（フィトステリル／ベヘニル／オクチルドデシル）、Ｎ−ラウロイル−Ｌ−グルタミン酸ジ（フィトステリル／オクチルドデシル）、Ｎ−ラウロイルサルコシンイソプロピル、リンゴ酸ジイソステアリル、ジオクタン酸ネオペンチルグリコール、ネオペンタン酸イソデシル、ネオペンタン酸イソトリデシル、ネオペンタン酸イソステアリル、イソノナン酸イソノニル、イソノナン酸イソトリデシル、イソノナン酸オクチル、イソノナン酸イソトリデシル、ジネオペンタン酸ジエチルペンタンジオール、ジネオペンタン酸メチルペンタンジオール、ネオデカン酸オクチルドデシル、ジオクタン酸２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール、テトラオクタン酸ペンタエリスリチル、水素添加ロジンペンタエリスリチル、トリエチルヘキサン酸ペンタエリスリチル、（ヒドロキシステアリン酸／ステアリン酸／ロジン酸）ジペンタエリスリチル、テトライソステアリン酸ポリグリセリル、ノナイソステアリン酸ポリグリセリル−１０、デカ（ エルカ酸／イソステアリン酸／リシノレイン酸）ポリグリセリル−８、（ヘキシルデカン酸／セバシン酸）ジグリセリルオリゴエステル、ジステアリン酸グリコール（ジステアリン酸エチレングリコール）、ダイマージリノール酸ジイソプロピル、ダイマージリノール酸ジイソステアリル、ダイマージリール酸ジ（イソステアリル／フィトステリル）、ダイマージリノール酸（フィトステリル／ベヘニル）、ダイマージリノール酸（フィトステリル／イソステアリル／セチル／ステアリル／ベヘニル）、ダイマージリノール酸ダイマージリノレイル、ジイソステアリン酸ダイマージリノレイル、ダイマージリノレイル水添ロジン縮合物、ダイマージリノール酸硬化ヒマシ油、ヒドロキシアルキルダイマージリノレイルエーテル、トリイソオクタン酸グリセリル、トリイソステアリン酸グリセリル、トリミリスチン酸グリセリル、トリイソパルミチン酸グリセリル、トリオクタン酸グリセリル、トリオレイン酸グリセリル、ジイソステアリン酸グリセリル、トリ（カプリル酸／カプリン酸）グリセリル、トリ（カプリル酸／カプリン酸／ミリスチン酸／ステアリン酸）グリセリル、水添ロジントリグリセリド（水素添加エステルガム）、ロジントリグリセリド（エステルガム）、ベヘン酸エイコサン二酸グリセリル、ジ−２−ヘプチルウンデカン酸グリセリル、ミリスチン酸イソステアリン酸ジグリセリル、酢酸コレステリル、ノナン酸コレステリル、ステアリン酸コレステリル、イソステアリン酸コレステリル、オレイン酸コレステリル、１２−ヒドロキシステアリン酸コレステリル、マカデミアナッツ油脂肪酸コレステリル、マカデミアナッツ油脂肪酸フィトステリル、イソステアリン酸フィトステリル、軟質ラノリン脂肪酸コレステリル、硬質ラノリン脂肪酸コレステリル、長鎖分岐脂肪酸コレステリル、長鎖α−ヒドロキシ脂肪酸コレステリル、リシノレイン酸オクチルドデシル、ラノリン脂肪酸オクチルドデシル、エルカ酸オクチルドデシル、イソステアリン酸硬化ヒマシ油、アボカド油脂肪酸エチル、ラノリン脂肪酸イソプロピル等が例示される。

天然動植物油脂類及び半合成油脂類として、アボガド油、アマニ油、アーモンド油、イボタロウ、エノ油、オリーブ油、カカオ脂、カポックロウ、カヤ油、カルナウバロウ、肝油、キャンデリラロウ、牛脂、牛脚脂、牛骨脂、硬化牛脂、キョウニン油、鯨ロウ、硬化油、小麦胚芽油、ゴマ油、コメ胚芽油、コメヌカ油、サトウキビロウ、サザンカ油、サフラワー油、シアバター、シナギリ油、シナモン油、ジョジョバロウ、オリーブスクワラン、セラックロウ、タートル油、大豆油、茶実油、ツバキ油、月見草油、トウモロコシ油、豚脂、ナタネ油、日本キリ油、ヌカロウ、胚芽油、馬脂、パーシック油、パーム油、パーム核油、ヒマシ油、硬化ヒマシ油、ヒマシ油脂肪酸メチルエステル、ヒマワリ油、ブドウ油、ベイベリーロウ、ホホバ油、水添ホホバエステル、マカデミアナッツ油、ミツロウ、ミンク油、綿実油、綿ロウ、モクロウ、モクロウ核油、モンタンロウ、ヤシ油、硬化ヤシ油、トリヤシ油脂肪酸グリセライド、羊脂、落花生油、ラノリン、液状ラノリン、還元ラノリン、ラノリンアルコール、硬質ラノリン、酢酸ラノリン、ラノリン脂肪酸イソプロピル、ＰＯＥ（ポリオキシエチレン）ラノリンアルコールエーテル、ＰＯＥラノリンアルコールアセテート、ラノリン脂肪酸ポリエチレングリコール、ＰＯＥ水素添加ラノリンアルコールエーテル、卵黄油等が挙げられる。

高級脂肪酸としては、例えば、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、エイコサペンタエン酸（ＥＰＡ）、ドコサヘキサエン酸（ＤＨＡ）、イソステアリン酸、１２−ヒドロキシステアリン酸等が挙げられる。

高級アルコールとしては、例えば、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、パルミチルアルコール、ステアリルアルコール、ベヘニルアルコール、ヘキサデシルアルコール、オレイルアルコール、イソステアリルアルコール、ヘキシルドデカノール、オクチルドデカノール、セトステアリルアルコール、２−デシルテトラデシノール、コレステロール、シトステロール、フィトステロール、ラノステロール、ＰＯＥコレステロールエーテル、モノステアリルグリセリンエーテル（バチルアルコール）、モノオレイルグリセリルエーテル（セラキルアルコール）等が挙げられる。

フッ素系油性成分としては、パーフルオロポリエーテル、パーフルオロデカリン、パーフルオロオクタン等が挙げられる。

モスアイ構造を形成する粒子の凝集を抑制し、反射防止フィルムの白濁感を小さくする観点から、化合物（ｂ１）は５０℃において液体である事が好ましく、２５℃において液体である事がさらに好ましい。また、化合物（ｂ１）の少なくとも１種は沸点が１１０℃以上であることが好ましい。沸点が１１０℃以上であれば、常温で揮散しにくくなり、層（ａ）の硬化が完了するまで層（ｂ）として存在していることができ、好ましい。

また、上記観点から沸点が１１０℃以上である化合物（ｂ１）の２５℃における動粘度は０．１ｍｍ^２／ｓ〜１０００００ｍｍ^２／ｓであることが好ましく、０．１ｍｍ^２／ｓ〜１００００ｍｍ^２／ｓがより好ましく、０．１ｍｍ^２／ｓ〜１００ｍｍ^２／ｓである事が最も好ましい。

さらには、層（ａ）表面の表面張力と沸点が１１０℃以上である化合物（ｂ１）の表面張力の差が０〜１５ｍＮ／ｍであることが好ましく、０〜１０ｍＮ／ｍであることがさらに好ましく、０〜５ｍＮ／ｍである事が最も好ましい。表面張力差を上記範囲内とすることで、層（ａ）上に層（ｂ）をはじかずに塗布でき、粒子間に働く引力を小さくすることができ、粒子の凝集をより抑制することができる。

（層（ａ）表面の表面張力の測定方法）
層（ａ）を工程（１）と同じ条件で設けた後、層（ｂ）を設けずに、酸素濃度が０．０１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して層（ａ）を硬化させた。
続いて、接触角計［“ＣＡ−Ｘ”型接触角計、協和界面科学（株）製］を用い、乾燥状態（２５℃／６５％ＲＨ）で、液体として純水を使用して直径１．０ｍｍの液滴を針先に作り、これを上記層（ａ）の表面に接触させて層（ａ）上に液滴を作った。層（ａ）と液体とが接する点における、液体表面に対する接線と層（ａ）表面がなす角で、液体を含む側の角度を接触角とし、測定した。また、液体として純水の代わりにヨウ化メチレンを用いて接触角を測定し、以下の式より表面自由エネルギーを求めた。
表面自由エネルギー（γｓ^ｖ：単位、ｍＮ／ｍ）とはＤ．Ｋ．Ｏｗｅｎｓ：Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，１３，１７４１（１９６９）を参考に、フィルム上で実験的に求めた純水Ｈ_２Ｏとヨウ化メチレンＣＨ_２Ｉ_２のそれぞれの接触角θ_Ｈ２Ｏ、θ_{ＣＨ２Ｉ２}から以下の連立方程式ａ，ｂより求めたγｓ^ｄとγｓ^ｈの和で表される値γｓ^ｖ（＝γｓ^ｄ＋γｓ^ｈ）で定義した。
ａ．１＋ｃｏｓθ_Ｈ２Ｏ＝２√γｓ^ｄ（√γ_Ｈ２Ｏ ^ｄ／γ_Ｈ２Ｏ ^ｖ）＋２√γｓ^ｈ（√γ_Ｈ２Ｏ ^ｈ／γ_Ｈ２Ｏ ^ｖ）
ｂ．１＋ｃｏｓθ_{ＣＨ２Ｉ２}＝２√γｓ^ｄ（√γ_{ＣＨ２Ｉ２} ^ｄ／γ_{ＣＨ２Ｉ２} ^ｖ）＋２√γｓ^ｈ（√γ_{ＣＨ２Ｉ２} ^ｈ／γ_{ＣＨ２Ｉ２} ^ｖ）
γ_Ｈ２Ｏ ^ｄ＝２１．８、γ_Ｈ２Ｏ ^ｈ＝５１．０、γ_Ｈ２Ｏ ^ｖ＝７２．８、
γ_{ＣＨ２Ｉ２} ^ｄ＝４９．５、γ_{ＣＨ２Ｉ２} ^ｈ＝１．３、γ_{ＣＨ２Ｉ２} ^ｖ＝５０．８

（化合物（ｂ１）の表面張力の測定方法）
化合物（ｂ１）の表面張力は自動表面張力計ＣＢＶＰ−Ｚ型（協和界面科学株式会社製）を用い、試料の温度を２５℃に保ちながら行った。
仮支持体上に層（ｂ）を形成した積層体を層（ａ）に貼り合わせて設ける場合は、仮支持体上に形成した層（ｂ）表面の表面エネルギーを層（ａ）表面の表面エネルギー測定と同様、純水とヨウ化メチレンの接触角から算出し、化合物（ｂ１）の表面張力とした。

化合物（ｂ１）は１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

層（ｂ）における化合物（ｂ１）の含有量は、層（ｂ）の全固形分に対して５０〜１００質量％が好ましく、７０〜１００質量％がより好ましく、９０〜１００質量％がさらに好ましい。

本発明においては、工程（２）で、粒子（ａ２）が層（ｂ）の表面から露出しない状態を維持しながら層（ａ）を硬化するが、工程（２）の前の段階で、層（ａ）は粒子（ａ２）による凹凸形状を有していることが好ましい。こうすることで、工程（２）で層（ａ）を硬化した後、工程（３）で層（ｂ）を除去すると、層（ａ）の表面から粒子（ａ２）が突出した状態とすることができる。
工程（２）の前の段階で、層（ａ）が粒子（ａ２）による凹凸形状を有しているようにするためには、後述する工程（１−２）により、硬化性化合物（ａ１）の一部を基材（基材がハードコート層などの機能層を有する場合はその機能層）に浸透させる方法や、工程（１）において、層（ａ）の膜厚が粒子（ａ２）の平均一次粒径よりも小さくなるように調整して設ける方法などがある。なお、後者の場合には、粒子が空気中に突出した状態を作らないために層（ａ）と層（ｂ）を同時重層により設けたり、層（ａ）と層（ｂ）を一の液から層分離させて２層形成する方法を利用する事ができる。

化合物（ｂ１）としては、紫外線透過性を有するものが好ましい。紫外線透過性を有することで、工程（２）において層（ａ）を硬化する際、塗工層側から紫外線照射が可能になるため、製造適性上好ましい。
具体的には、工程（２）での塗工膜厚における波長２５０ｎｍ〜３００ｎｍにおける最大透過率が２０％以上であることが好ましく、４０％以上であることがさらに好ましく、６０％以上であることが最も好ましい。２５０ｎｍ〜３００ｎｍにおける最大透過率が２０％以上であると塗工層側から紫外線を照射して層（ａ）を硬化させやすく好ましい。

仮支持体上に層（ｂ）を別途設けた後、層（ａ）上に貼り合わせる場合、層（ｂ）としては特に限定されるものではないが、貼り合わせや剥離の操作を考慮すれば、粘稠性もしくは流動性のある固体の状態（粘弾性体）であることが好ましく、粘着剤層であることが好ましい。
この場合、粘着剤層を構成する化合物のいずれかが化合物（ｂ１）として働く。
粘着剤層を構成する粘着剤成分としては、アクリル系共重合体などの共重合組成物が好ましい。特に、アルキル基の炭素数がＣ１〜Ｃ１４の（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーの少なくとも１種を主成分とする共重合体が好ましい。アクリル系共重合体の重量平均分子量は、２０万〜２００万であることが好ましい。

アルキル基の炭素数がＣ１〜Ｃ１４の（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレートモノマーが挙げられる。アルキル（メタ）アクリレートモノマーのアルキル基は、直鎖、分枝状、環状のいずれでもよい。上記モノマーは２種以上併用されてもよい。

脂肪族環を有する（メタ）アクリレートモノマーの好適な例としては、シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘプチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。中でもシクロヘキシル（メタ）アクリレートであることが特に好ましい。

本発明に用いる粘着剤成分の共重合組成物として、アルキル基の炭素数がＣ１〜Ｃ１４の（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーの少なくとも１種と、他の共重合性モノマーの少なくとも１種とからなる共重合組成物を採用することもできる。この場合、他の共重合性モノマーとしては、ビニル基を有する共重合性ビニルモノマーや、水酸基および／またはカルボキシル基および／またはアミノ基を含有する共重合性ビニルモノマー、芳香族系モノマーが挙げられる。
水酸基を含有する共重合性ビニルモノマーとしては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、８−ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート等の水酸基含有（メタ）アクリル酸エステル類や、Ｎ−ヒドロキシ（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド等の水酸基含有（メタ）アクリルアミド類などが挙げられ、これらの化合物群の中から選択された、少なくとも１種以上であることが好ましい。
カルボキシル基を含有する共重合性ビニルモノマーとしては、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、カルボキシエチル（メタ）アクリレート、カルボキシペンチル（メタ）アクリレートからなどが挙げられ、これらの化合物群の中から選択された、少なくとも１種以上であることが好ましい。
アミノ基を含有する共重合性ビニルモノマーとしては、モノメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、モノエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、モノメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、モノエチルアミノプロピル（メタ）アクリレート等のモノアルキルアミノアルキル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

芳香族系モノマーとしては、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等の芳香族基含有（メタ）アクリル酸エステル類のほか、スチレン等が挙げられる。

上記以外の共重合性ビニルモノマーとしては、アクリルアミド、アクリロニトリル、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、酢酸ビニル、塩化ビニルなどの各種ビニルモノマーが挙げられる。

粘着剤層を形成するための組成物を粘着剤組成物ともいう。
粘着剤組成物は、粘着剤層を形成する際に上記共重合組成物を架橋することが好ましい。架橋をするため、粘着剤組成物が既知の架橋剤を含んでも良く、紫外線（ＵＶ）など光架橋で架橋しても良い。架橋剤としては、２官能以上のイソシアネート系架橋剤、２官能以上のエポキシ系架橋剤、アルミニウムキレート系架橋剤からなる化合物群のうちから選択される１種以上の架橋剤が好ましい。架橋剤を用いる場合は、上記共重合組成物の１００質量部に対して、０．１〜５質量部含有することが好ましい。

２官能以上のイソシアネート系化合物としては、１分子中に少なくとも２個以上のイソシアネート（ＮＣＯ）基を有するポリイソシアネート化合物であればよく、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等のジイソシアネート類（１分子中に２個のＮＣＯ基を有する化合物）のビュレット変性体やイソシアヌレート変性体、トリメチロールプロパンやグリセリン等の３価以上のポリオール（１分子中に少なくとも３個以上のＯＨ基を有する化合物）とのアダクト体（ポリオール変性体）などが挙げられる。
また、３官能以上のイソシアネート化合物が、１分子中に少なくとも３個以上のイソシアネート（ＮＣＯ）基を有するポリイソシアネート化合物であり、特にヘキサメチレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、イソホロンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のアダクト体、イソホロンジイソシアネート化合物のアダクト体、ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のビュレット体、イソホロンジイソシアネート化合物のビュレット体からなる化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上であることが好ましい。
２官能以上のイソシアネート系架橋剤は、アクリル系共重合体の１００質量部に対して、０．０１〜５．０質量部含まれることが好ましく、さらに好ましくは０．０２〜３．０質量部含まれるのがよい。

粘着剤組成物は、帯電防止性能を付与するため、帯電防止剤を含有してもよい。帯電防止剤はイオン化合物であることが好ましく４級オニウム塩であることがさらに好ましい。

４級オニウム塩である帯電防止剤としては、例えば、炭素数８〜１８のアルキル基を有するアルキルジメチルベンジルアンモニウム塩、炭素数８〜１８のアルキル基を有するジアルキルメチルベンジルアンモニウム塩、炭素数８〜１８のアルキル基を有するトリアルキルベンジルアンモニウム塩、炭素数８〜１８のアルキル基を有するテトラアルキルアンモニウム塩、炭素数８〜１８のアルキル基を有するアルキルジメチルベンジルホスホニウム塩、炭素数８〜１８のアルキル基を有するジアルキルメチルベンジルホスホニウム塩、炭素数８〜１８のアルキル基を有するトリアルキルベンジルホスホニウム塩、炭素数８〜１８のアルキル基を有するテトラアルキルホスホニウム塩、炭素数１４〜２０のアルキル基を有するアルキルトリメチルアンモニウム塩、炭素数１４〜２０のアルキル基を有するアルキルジメチルエチルアンモニウム塩などを用いることができる。これらのアルキル基は、不飽和結合を有するアルケニル基であってもよい。

炭素数８〜１８のアルキル基としては、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基などが挙げられる。天然油脂に由来する混合アルキル基であってもよい。炭素数８〜１８のアルケニル基としては、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラデセニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル基、ヘプタデセニル基、オクタデセニル基、オレイル基、リノレイル基などが挙げられる。
炭素数１４〜２０のアルキル基としては、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基などが挙げられる。天然油脂に由来する混合アルキル基であってもよい。炭素数１４〜２０のアルケニル基としては、テトラデセニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル基、ヘプタデセニル基、オクタデセニル基、オレイル基、リノレイル基、ノナデセニル基、イコセニル基などが挙げられる。

４級オニウム塩のカウンターアニオンとしては、クロリド（Ｃｌ⁻）、ブロミド（Ｂｒ⁻）、メチルサルフェート（ＣＨ_３ＯＳＯ_３ ⁻）、エチルサルフェート（Ｃ_２Ｈ_５ＯＳＯ_３ ⁻）、パラトルエンスルホネート（ｐ−ＣＨ_３Ｃ_６Ｈ_４ＳＯ_３ ⁻）等が挙げられる。

４級オニウム塩の具体例としては、ドデシルジメチルベンジルアンモニウムクロリド、ドデシルジメチルベンジルアンモニウムブロミド、テトラデシルジメチルベンジルアンモニウムクロリド、テトラデシルジメチルベンジルアンモニウムブロミド、ヘキサデシルジメチルベンジルアンモニウムクロリド、ヘキサデシルジメチルベンジルアンモニウムブロミド、オクタデシルジメチルベンジルアンモニウムクロリド、オクタデシルジメチルベンジルアンモニウムブロミド、トリオクチルベンジルアンモニウムクロリド、トリオクチルベンジルアンモニウムブロミド、トリオクチルベンジルホスホニウムクロリド、トリオクチルベンジルホスホニウムブロミド、トリス（デシル）ベンジルアンモニウムクロリド、トリス（デシル）ベンジルアンモニウムブロミド、トリス（デシル）ベンジルホスホニウムクロリド、トリス（デシル）ベンジルホスホニウムブロミド、テトラオクチルアンモニウムクロリド、テトラオクチルアンモニウムブロミド、テトラオクチルホスホニウムクロリド、テトラオクチルホスホニウムブロミド、テトラノニルアンモニウムクロリド、テトラノニルアンモニウムブロミド、テトラノニルホスホニウムクロリド、テトラノニルホスホニウムブロミド、テトラキス（デシル）アンモニウムクロリド、テトラキス（デシル）アンモニウムブロミド、テトラキス（デシル）ホスホニウムクロリド、テトラキス（デシル）ホスホニウムブロミド、等が挙げられる。

なお、「トリス（デシル）」、「テトラキス（デシル）」は、炭素数１０のアルキル基であるデシル基を３個又は４個有することを意味し、炭素数１３のアルキル基であるトリデシル基や、炭素数１４のアルキル基であるテトラデシル基とは区別される。

帯電防止剤としては、他にノニオン系、カチオン系、アニオン系、両性系の界面活性剤、イオン性液体、アルカリ金属塩、金属酸化物、金属微粒子、導電性ポリマー、カーボン、カーボンナノチューブなども用いることができる。

ノニオン系界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル類、グリセリン脂肪酸エステル類、プロピレングリコール脂肪酸エステル類、ポリオキシアルキレン変性シリコーン類などが挙げられる。

アニオン界面活性剤としては、モノアルキル硫酸塩類、アルキルポリオキシエチレン硫酸塩類、アルキルベンゼンスルホン酸塩類、モノアルキルリン酸塩類などが挙げられる。

また、両性界面活性剤としては、アルキルジメチルアミンオキシド、アルキルカルボキシベタインなどが挙げられる。
イオン性液体としては、陰イオンと陽イオンとから成り、常温（例えば２５℃）で液体である非高分子物質である。陽イオン部分としては、イミダゾリウムイオンなどの環状アミジンイオン、ピリジニウムイオン、アンモニウムイオン、スルホニウムイオン、ホスホニウムイオン等が挙げられる。また、陰イオン部分としては、Ｃ_ｎＨ_２ｎ＋１ＣＯＯ⁻、Ｃ_ｎＦ_２ｎ＋１ＣＯＯ⁻、ＮＯ_３ ⁻、Ｃ_ｎＦ_２ｎ＋１ＳＯ_３ ⁻、（Ｃ_ｎＦ_２ｎ＋１ＳＯ_２）_２Ｎ⁻、（Ｃ_ｎＦ_２ｎ＋１ＳＯ_２）_３Ｃ⁻、ＰＯ_４ ^２−、ＡｌＣｌ_４ ⁻、Ａｌ_２Ｃｌ_７ ⁻、ＣｌＯ_４ ⁻、ＢＦ_４ ⁻、ＰＦ_６ ⁻、ＡｓＦ_６ ⁻、ＳｂＦ_６ ⁻等が挙げられる。

アルカリ金属塩としては、リチウム、ナトリウム、カリウムからなる金属塩などが挙げられ、イオン性物質の安定化のため、ポリオキシアルキレン構造を含有する化合物を添加しても良い。

帯電防止剤は、共重合組成物の１００質量部に対して、０．１〜１０質量部含有することが好ましい。

仮支持体上に層（ｂ）を形成した積層体を層（ａ）に貼り合わせて設ける場合、層（ａ）表面の表面張力と仮支持体上に層（ｂ）を設けた積層体の層（ｂ）側表面の表面張力との差が−１０〜１５ｍＮ／ｍであることが好ましく、−５〜１０ｍＮ／ｍであることがさらに好ましく、−５〜５ｍＮ／ｍであることが最も好ましい。
表面張力差を上記範囲内とすることで、粒子間に働く引力を小さくすることができ、粒子の凝集をより抑制することができる。

（仮支持体）
仮支持体上に層（ｂ）を形成した積層体を層（ａ）に貼り合わせて設ける場合の仮支持体としては、透明性及び可撓性を有する樹脂からなるプラスチックフィルムが好ましく用いられる。仮支持体用のプラスチックフィルムとしては、好適には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレートのようなポリエステルフィルム、
（メタ）アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、セルロースアシレート等のセルロース系樹脂等からなるフィルムが挙げられる。（ただし、上記（メタ）アクリル系樹脂は、ラクトン環構造を有する重合体、無水グルタル酸環構造を有する重合体、グルタルイミド環構造を有する重合体を含む。）。
このほか、必要な強度を有しかつ光学適性を有するものであれば、他のプラスチックフィルムも使用可能である。仮支持体は、無延伸フィルムであっても、一軸または二軸延伸されていてもよく、また、延伸倍率や延伸の結晶化に伴い形成される軸方法の角度を制御したプラスチックフィルムでもよい。

仮支持体としては、紫外線透過性を有するものが好ましい。紫外線透過性を有することで、工程（２）において層（ａ）を硬化する際、塗工層側から紫外線照射が可能になるため、製造適性上好ましい。
具体的には、仮支持体の波長２５０ｎｍ〜３００ｎｍにおける最大透過率が２０％以上であることが好ましく、４０％以上であることがさらに好ましく、６０％以上であることが最も好ましい。２５０ｎｍ〜３００ｎｍにおける最大透過率が２０％以上であると塗工層側から紫外線を照射して層（ａ）を硬化させやすく好ましい。
仮支持体上に層（ｂ）を形成した積層体を層（ａ）に貼り合わせて設ける場合、仮支持体に層（ｂ）を形成した状態における透過率が上記範囲であることが好ましい。

仮支持体上に層（ｂ）を形成した積層体としては、市販の保護フィルムを好適に用いることができる。具体的には、藤森工業（株）製のＡＳ３−３０４、ＡＳ３−３０５、ＡＳ３−３０６、ＡＳ３−３０７、ＡＳ３−３１０、ＡＳ３−０４２１、ＡＳ３−０５２０、ＡＳ３−０６２０、ＬＢＯ−３０７、ＮＢＯ−０４２４、ＺＢＯ−０４２１、Ｓ−３６２、ＴＦＢ−４Ｔ３−３６７ＡＳ等が挙げられる。

［工程（１−２）］
工程（１）と工程（２）の間に、工程（１−２）を設けてもよい。
工程（１−２）は、硬化性化合物（ａ１）の一部を基材（基材が機能層を有する場合は機能層であってもよい）に浸透させる工程である。
工程（１−２）において、基材、層（ａ）、及び層（ｂ）を有する積層体を加熱することが好ましい。加熱することによって、効果的に硬化性化合物（ａ１）の一部を基材に浸透させることができる。加熱における温度は、基材のガラス転移温度より小さいことが好ましく、具体的には、６０〜１８０℃であることが好ましく、８０〜１３０℃であることがより好ましい。
上記加熱を行う場合は、層（ｂ）の化合物（ｂ１）の少なくとも１種の沸点は、加熱における温度以上であることが好ましい。層（ｂ）を構成する化合物の沸点が全て加熱温度以下だと加熱の際に揮散して、加熱中に粒子が頭を出してしまうため、粒子凝集が抑制できない。

［工程（２）］
工程（２）は、粒子（ａ２）が層（ｂ）の表面から露出しない状態を維持しながら層（ａ）を硬化する工程である。
層（ａ）を硬化するとは、層（ａ）に含まれる硬化性化合物（ａ１）を重合させることを表し、これにより、出来上がりの反射防止層におけるバインダー樹脂を形成することができる。この際に粒子（ａ２）が層（ｂ）の表面から露出しない状態を維持することで、粒子（ａ２）の凝集を抑制し、モスアイ構造を形成することができる。

硬化は電離放射線を照射することで行うことができる。電離放射線の種類については、特に制限はなく、Ｘ線、電子線、紫外線、可視光、赤外線などが挙げられるが、紫外線が広く用いられる。例えば塗膜が紫外線硬化性であれば、紫外線ランプにより１０ｍＪ／ｃｍ^２〜１０００ｍＪ／ｃｍ^２の照射量の紫外線を照射して層（ａ）の硬化性化合物（ａ１）を硬化するのが好ましい。５０ｍＪ／ｃｍ^２〜１０００ｍＪ／ｃｍ^２であることがより好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ^２〜５００ｍＪ／ｃｍ^２であることがさらに好ましい。照射の際には、上記エネルギーを一度に当ててもよいし、分割して照射することもできる。紫外線ランプ種としては、メタルハライドランプや高圧水銀ランプ等が好適に用いられる。

硬化時の酸素濃度は０〜１．０体積％であることが好ましく、０〜０．１体積％であることがさらに好ましく、０〜０．０５体積％であることが最も好ましい。硬化時の酸素濃度を１．０体積％よりも小さくすることで、酸素による硬化阻害の影響を受けにくくなり、強固な膜となる。

工程（２）において、基材の表面に直交する方向には粒子（ａ２）が複数存在しないことが好ましい。

工程（２）において、層（ａ）の粒子（ａ２）が存在しない部分の膜厚と層（ｂ）の膜厚の合計の膜厚が、粒子（ａ２）の平均一次粒径よりも大きいことが好ましい。これにより、粒子（ａ２）が層（ｂ）の表面から露出しないようにすることが容易となる。ただし、工程（３）で層（ｂ）を除去した場合に層（ａ）の表面から粒子（ａ２）を突出させてモスアイ構造を得るという理由から、工程（２）において、層（ａ）の粒子（ａ２）が存在しない部分の膜厚は粒子（ａ２）の平均一次粒径よりも小さいことが好ましい。
層（ａ）の粒子（ａ２）が存在しない部分の膜厚は１０ｎｍ〜１００ｎｍであることが好ましく、２０ｎｍ〜９０ｎｍであることがさらに好ましく、３０ｎｍ〜７０ｎｍであることが最も好ましい。
層（ｂ）の膜厚は５０ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１００ｎｍ〜５μｍであることがさらに好ましく、２００ｎｍ〜１μｍであることが最も好ましい。
仮支持体上に層（ｂ）を形成した積層体を層（ａ）に貼り合わせて設ける場合、層（ｂ）の膜厚は０．１μｍ〜５０μｍであることが好ましく、１μｍ〜３０μｍであることがさらに好ましく、１μｍ〜１０μｍであることが最も好ましい。

［工程（３）］
工程（３）は、層（ｂ）を除去する工程である。
層（ｂ）の除去方法は特に限定されないが、基材、および硬化後の層（ａ）は溶解せずに、化合物（ｂ１）は溶解する溶剤を用いる方法（たとえば上記溶剤で洗浄する方法）、化合物（ｂ１）の沸点より高い温度で加熱して化合物（ｂ１）を揮発させる方法、アルカリ溶液で化合物（ｂ１）を溶解させる方法などが好ましい。
基材は溶解せずに、化合物（ｂ１）は溶解する溶剤としては特に限定されないが、基材がトリアセチルセルロースである場合、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ジアセトンアルコール、メトキシプロパノールなどのアルコール系溶剤やメチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン等のケトン系溶剤、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤、シクロヘキサン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が好ましい。これらの溶剤は複数種混ぜて用いてもよい。

化合物（ｂ１）を揮発させる場合の加熱温度としては、基材のガラス転移温度よりも低くかつ化合物（ｂ１）の沸点より高い温度であることが好ましく、具体的には、６０〜１８０℃であることが好ましく、８０〜１３０℃であることがより好ましい。

アルカリ溶液で溶解させる場合の溶液としては、水酸化ナトリウム、あるいは水酸化カリウムの水溶液を用いることが好ましい。

仮支持体上に層（ｂ）を形成した積層体を層（ａ）に貼り合わせて設ける場合、層（ｂ）は仮支持体と一緒に剥離する方法が好ましい。被着体の表面に対する剥離強度（粘着力）が、０．０３〜０．３Ｎ／２５ｍｍ程度の、微粘着力を有する粘着剤層であることが、被着体から積層体を剥がす時の操作性に優れることから好ましい。

また、積層体を剥離した後に、層（ａ）側に層（ｂ）を形成する成分が転写して残る場合がある。その際は、基材、および硬化後の層（ａ）は溶解せずに、層（ｂ）を形成する成分のみ溶解する溶剤を用いて除去することも好ましい。

工程（３）により層（ｂ）を除去した後には、層（ａ）の表面に粒子（ａ２）による凹凸形状からなるモスアイ構造を有する反射防止フィルムが得られる。

［反射防止フィルム］
本発明の反射防止フィルムの好ましい実施形態の一例を図２に示す。
図２の反射防止フィルム１０は、基材１と反射防止層２とを有する。反射防止層２は、粒子（ａ２）（符号３）と硬化後の層（ａ）であるバインダー樹脂４を含む。粒子３はバインダー樹脂４から突出し、モスアイ構造を形成している。

（モスアイ構造）
モスアイ構造とは、光の反射を抑制するための物質（材料）の加工された表面であって、周期的な微細構造パターンをもった構造のことを指す。特に、可視光の反射を抑制する目的の場合には、７８０ｎｍ未満の周期の微細構造パターンをもった構造のことを指す。微細構造パターンの周期が３８０ｎｍ未満であると、反射光の色味が小さくなり好ましい。また、モスアイ構造の凹凸形状の周期が１００ｎｍ以上であると波長３８０ｎｍの光が微細構造パターンを認識でき、反射防止性に優れるため好ましい。モスアイ構造の有無は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）等により表面形状を観察し、上記微細構造パターンが出来ているかどうか調べることによって確認することができる。

本発明の製造方法により製造された反射防止フィルムの反射防止層の凹凸形状は、隣り合う凸部の頂点間の距離Ａと、隣り合う凸部の頂点間の中心と凹部との距離Ｂとの比であるＢ／Ａが０．４以上であることが好ましい。Ｂ／Ａが０．４以上であると、凸部同士の距離に対して凹部の深さが大きくなり、空気から反射防止層内部にかけてより緩やかに屈折率が変化する屈折率傾斜層を作ることができるため、反射率をより低減できる。
Ｂ／Ａは、硬化後の反射防止層におけるバインダー樹脂と粒子の体積比により制御することができる。そのため、バインダー樹脂と粒子の配合比を適切に設計することが重要である。また、バインダー樹脂がモスアイ構造を作製する工程の中で基材に浸透したり、揮発したりすることにより反射防止層におけるバインダー樹脂と粒子の体積比が反射防止層形成用組成物中の配合比と異なる場合もあるため、基材とのマッチングを適切に設定することも重要である。

更に、低反射率を実現し、ヘイズの発生を抑制するには凸部を形成する粒子は均一に、適度な充填率で敷き詰められていることが好ましい。上記観点から、凸部を形成する無機粒子の含有量は、反射防止層全体で均一になるように調整されるのが好ましい。充填率は、ＳＥＭなどにより表面から凸部を形成する無機粒子を観察したときの最も表面側に位置した無機粒子の面積占有率（粒子占有率）として測定することができ、２５％〜６４％であり、２５〜５０％が好ましく、３０〜４５％がより好ましい。

［ハードコート層］
本発明において、基材と層（ａ）の間に、さらにハードコート層を設けることができる。基材上にハードコート層を有する場合は、前述のように、本発明においては、基材上のハードコート層も含めて基材という。
ハードコート層は、重合性基を有する化合物である硬化性化合物（好ましくは電離放射線硬化性化合物）の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。例えば、ハードコート層は、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗布組成物を基材上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。
電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基（重合性基）としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。

具体的には上述した硬化性化合物（ａ）と同様の化合物を用いることができる。

フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、ハードコート層の厚さは通常０．６μｍ〜５０μｍ程度であり、好ましくは５μｍ〜２０μｍである。
また、ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましい。さらに、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

本発明におけるハードコート層は、反射防止層との界面から膜厚方向に１μｍ以内の領域にセルロースアシレートを含むことが好ましい。
セルロースアシレートとしては、特開２０１２−０９３７２３号公報の［００７２］〜［００８４］に記載の基材等を好ましく用いることが出来る。
反射防止層との界面から膜厚方向に１μｍ以内の領域にセルロースアシレートを含むハードコート層は、たとえば、セルロースアシレートを含む基材（セルロースアシレートフィルムなど）に、基材に対する浸透性を有する溶媒と硬化性化合物とを含有するハードコート層形成用組成物を塗布し、基材に硬化性化合物を浸透させ、硬化させることで形成することができる。また、セルロースアシレートと硬化性化合物とを混合し、硬化させることでも形成することができる。

ハードコート層は、反射防止フィルムをミクロトームで切削し、断面を飛行時間型二次イオン質量分析装置（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）で分析した時に、セルロースアシレートと、電離放射線硬化性化合物の硬化物が検出される部分として測定することができ、この領域の膜厚も同様にＴＯＦ−ＳＩＭＳの断面情報から測定することができる。
また、ハードコート層は、例えば光の干渉を利用した反射分光膜厚計やＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）による断面観察により、基材と反射防止層の中間に別の１層を検出することによっても測定することが出来る。反射分光膜厚計としては、ＦＥ−３０００（大塚電子（株）製）等を用いることが出来る。
本発明においては、ハードコート層上に反射防止層となる層（ａ）を積層したときに工程（１−２）において反射防止層のバインダー形成用化合物である硬化性化合物（ａ）がハードコート層に浸透できるようにハードコート層を予めハーフキュアにしておき、反射防止層のバインダー形成用化合物である硬化性化合物（ａ）が浸透した後にフルキュアする方法等が好ましい。
例えば塗膜が紫外線硬化性であれば、硬化時の酸素濃度、および紫外線照射量を適宜調整することによりハーフキュアにすることができる。紫外線ランプにより１ｍＪ／ｃｍ^２〜３００ｍＪ／ｃｍ^２の照射量の紫外線を照射して硬化するのが好ましい。５ｍＪ／ｃｍ^２〜１００ｍＪ／ｃｍ^２であることがより好ましく、１０ｍＪ／ｃｍ^２〜７０ｍＪ／ｃｍ^２であることがさらに好ましい。照射の際には、上記エネルギーを一度に当ててもよいし、分割して照射することもできる。紫外線ランプ種としては、メタルハライドランプや高圧水銀ランプ等が好適に用いられる。

硬化時の酸素濃度は０．０５〜５．０体積％であることが好ましく、０．１〜２体積％であることがさらに好ましく、０．１〜１体積％であることが最も好ましい。

（セルロースアシレートに対する浸透性を有する溶媒）
ハードコート層形成用組成物は、セルロースアシレートに対する浸透性を有する溶媒（「浸透性溶媒」とも言う）を含有することが好ましい。
セルロースアシレートに対する浸透性を有する溶媒とは、セルロースアシレートを含有する基材（セルロースアシレート基材）に対する溶解能を有する溶剤である。
ここで、セルロースアシレート基材に対して溶解能を有する溶剤とは、２４ｍｍ×３６ｍｍ（厚み８０μｍ）の大きさのセルロースアシレート基材を上記溶剤の入った１５ｍｌの瓶に室温下（２５℃）で６０秒浸漬させて取り出した後に、浸漬させた溶液をゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で分析したとき、セルロースアシレートのピーク面積が４００ｍＶ／ｓｅｃ以上である溶剤のことを意味する。若しくは２４ｍｍ×３６ｍｍ（厚み８０μｍ）の大きさのセルロースアシレート基材を上記溶剤の入った１５ｍｌの瓶に室温下（２５℃）で２４時間経時させ、適宜瓶を揺らすなどして、セルロースアシレート基材が完全に溶解して形をなくすものも、セルロースアシレート基材に対して溶解能を有する溶剤を意味する。
浸透性溶媒としては、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、炭酸ジメチル、酢酸メチル、アセトン、メチレンクロライド等を好ましく用いることが出来るがこれらに限定されない。メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、炭酸ジメチル、酢酸メチルがより好ましい。

ハードコート層形成用組成物は、浸透性溶媒以外の溶媒（たとえば、イソプロパノール（ＩＰＡ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、トルエン等）を含んでいてもよい。
ハードコート層形成用組成物において、浸透性溶媒の含有量は、ハードコート層形成用組成物に含まれる全溶媒の質量に対して、５０質量％以上１００質量％以下であることが好ましく、７０質量％以上１００質量％以下であることがより好ましい。
ハードコート層形成用組成物の固形分濃度は、２０質量％以上６０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以上５０質量％以下であることがより好ましい。

（その他の成分）
ハードコート層形成用組成物には、上記成分のほかに、更に重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等を適宜添加することもできる。更に、反応性又は非反応性レベリング剤、各種増感剤等の各種添加剤が混合されていても良い。

（重合開始剤）
必要に応じてラジカル及びカチオン重合開始剤等を適宜選択して用いても良い。これらの重合開始剤は、光照射及び／又は加熱により分解されて、ラジカルもしくはカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。

（帯電防止剤）
帯電防止剤の具体例としては、第４級アンモニウム塩、導電性ポリマー、導電性微粒子等の従来公知の帯電防止剤を用いることができる。

（屈折率調整剤）
ハードコート層の屈折率を制御する目的で、屈折率調整剤として高屈折率モノマーまたは無機粒子を添加することができる。無機粒子には屈折率を制御する効果に加えて、架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。本発明では、ハードコート層形成後において、上記多官能モノマーおよび／又は高屈折率モノマー等が重合して生成した重合体、その中に分散された無機粒子を含んでバインダーと称する。

（レベリング剤）
レベリング剤の具体例としては、フッ素系又はシリコーン系等の従来公知のレベリング剤を用いることが出来る。レベリング剤を添加したハードコート層形成用組成物は、塗布又は乾燥時に塗膜表面に対して塗工安定性を付与することができる。

本発明の製造方法で製造された反射防止フィルムは、偏光板保護フィルムとして好適に用いることができる。
本発明の製造方法で製造された反射防止フィルムを用いた偏光板保護フィルムは、偏光子と貼り合せて偏光板とすることができ、液晶表示装置などに好適に用いることができる。

［偏光板］
偏光板は、偏光子と、偏光子を保護する少なくとも１枚の保護フィルムとを有する偏光板であって、保護フィルムの少なくとも１枚が本発明の反射防止フィルムの製造方法により製造された反射防止フィルムであることが好ましい。

偏光子には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造することができる。

［カバーガラス］
本発明の反射防止フィルムの製造方法により製造された反射防止フィルムをカバーガラスに適用することもできる。

［画像表示装置］
本発明の反射防止フィルムの製造方法により製造された反射防止フィルムを画像表示装置に適用することもできる。
画像表示装置としては、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）を挙げることができ、特に液晶表示装置が好ましい。
一般的に、液晶表示装置は、液晶セル及びその両側に配置された２枚の偏光板を有し、液晶セルは、２枚の電極基板の間に液晶を担持している。更に、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置されるか、又は液晶セルと双方の偏光板との間に２枚配置されることもある。液晶セルは、ＴＮモード、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード又はＥＣＢモードであることが好ましい。

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。

＜実施例１＞
（ハードコート層形成用組成物の調製）
下記に記載の組成で各成分を添加し、得られた組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌し、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液ＨＣ−１とした。

（ハードコート層塗布液ＨＣ−１）
Ａ−ＴＭＭＴ ３３．６質量部
イルガキュア１２７ １．４質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ） ３５．８質量部
酢酸メチル ２９．２質量部

Ａ−ＴＭＭＴ ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村工業製）
イルガキュア１２７：光重合開始剤（ＢＡＳＦジャパン（株）製）

［シリカ粒子Ｐ１の合成］
撹拌機、滴下装置および温度計を備えた容量２００Ｌの反応器に、メチルアルコール６７．５４ｋｇと、２８質量％アンモニア水（水および触媒）２６．３３ｋｇとを仕込み、撹拌しながら液温を３３℃に調節した。一方、滴下装置に、テトラメトキシシラン１２．７０ｋｇをメチルアルコール５．５９ｋｇに溶解させた溶液を仕込んだ。反応器中の液温を３３℃に保持しながら、滴下装置から上記溶液を４４分間かけて滴下し、滴下終了後、さらに４４分間、液温を上記温度に保持しながら撹拌することにより、テトラメトキシシランの加水分解および縮合を行い、シリカ粒子前駆体を含有する分散液を得た。この分散液を、瞬間真空蒸発装置（（ホソカワミクロン（株）社製クラックス・システムＣＶＸ−８Ｂ型）を用いて加熱管温度１７５℃、減圧度２００ｔｏｒｒ（２７ｋＰａ）の条件で気流乾燥させることにより、シリカ粒子Ｐ１を得た。
シリカ粒子Ｐ１の平均粒子径は１８０ｎｍ、粒子径の分散度（ＣＶ値）は３．３％、押し込み硬度は３４０ＭＰａであった。

［焼成シリカ粒子Ｐ２の作製］
シリカ粒子Ｐ１ ５ｋｇをルツボに入れ、電気炉を用いて９００℃で２時間焼成した後、冷却して、次いで粉砕機を用いて粉砕し、分級前焼成シリカ粒子を得た。さらにジェット粉砕分級機（日本ニューマ社製ＩＤＳ−２型）を用いて解砕および分級を行うことにより焼成シリカ粒子Ｐ２を得た。
シリカ粒子Ｐ２の平均一次粒径は１８０ｎｍ、粒径の分散度（ＣＶ値）は３．３％、押し込み硬度は４７０ＭＰａであった。

［シランカップリング剤処理シリカ粒子Ｐ３の作製］
分級前焼成シリカ粒子Ｐ２ ５ｋｇを、加熱ジャケットを備えた容量２０Ｌのヘンシェルミキサ（三井鉱山株式会社製ＦＭ２０Ｊ型）に仕込んだ。焼成シリカ粒子Ｐ２を撹拌しているところに、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業株式会社製ＫＢＭ５１０３）４５ｇを、メチルアルコール９０ｇに溶解させた溶液を滴下して混合した。その後、混合撹拌しながら１５０℃まで約１時間かけて昇温し、１５０℃で１２時間保持して加熱処理を行った。加熱処理では、掻き落とし装置を撹拌羽根とは逆方向に常時回転させながら、壁面付着物の掻き落としを行った。また、適宜、へらを用いて壁面付着物を掻き落とすことも行った。加熱後、冷却し、ジェット粉砕分級機を用いて解砕および分級を行い、シランカップリング剤処理シリカ粒子Ｐ３を得た。
シリカ粒子Ｐ３の平均一次粒径は１８１μｍ、粒径の分散度（ＣＶ値）は３．３％、押し込み硬度は４７０ＭＰａであった。

［シリカ粒子分散液ＰＡ−１の作製］
シリカ粒子Ｐ２を５０ｇ、ＭＥＫ２００ｇ、直径０．０５ｍｍジルコニアビーズ６００ｇを直径１２ｃｍの１Ｌ瓶容器に入れ、ボールミルＶ−２Ｍ（入江商会）にセットし、２５０回転／分で１０時間分散した。

［シリカ粒子分散液ＰＡ−２の作製］
シリカ粒子Ｐ３を５０ｇ、ＭＥＫ２００ｇ、直径０．０５ｍｍジルコニアビーズ６００ｇを直径１２ｃｍの１Ｌ瓶容器に入れ、ボールミルＶ−２Ｍ（入江商会）にセットし、２５０回転／分で１０時間分散した。

［化合物Ｃ３の合成］
還流冷却器、温度計を付けたフラスコに信越化学工業製ＫＢＥ−９００７ １９．３ｇとグリセリン１，３−ビスアクリラート３．９ｇ、２−ヒドロキシエチルアクリレート６．８ｇ、ジラウリン酸ジブチル錫０．１ｇ、トルエン７０．０ｇを添加し、室温で１２時間撹拌した。撹拌後、メチルハイドロキノン５００ｐｐｍを加え、減圧留去を行い化合物Ｃ３を得た。

（層（ａ）形成用塗布液の調製）
下記の組成となるように各成分をミキシングタンクに投入し、６０分間攪拌し、３０分間超音波分散機により分散し、孔径５μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して層（ａ）形成用塗布液とした。

層（ａ）形成用塗布液Ａ−１
Ｕ１５ＨＡ １．０質量部
化合物Ｃ３ ８．７質量部
イルガキュア１２７ ０．４質量部
シリカ粒子分散液ＰＡ−１ ２５．４質量部
化合物Ａ ０．０５質量部
エタノール １５．０質量部
メチルエチルケトン ３４．５質量部
アセトン １５．０質量部

層（ａ）形成用塗布液Ａ−２
Ｕ１５ＨＡ １．０質量部
化合物Ｃ３ ８．７質量部
イルガキュア１２７ ０．４質量部
シリカ粒子分散液ＰＡ−２ ２５．４質量部
化合物Ａ ０．０５質量部
エタノール １５．０質量部
メチルエチルケトン ３４．５質量部
アセトン １５．０質量部

層（ａ）形成用塗布液Ａ−３
Ｕ１５ＨＡ １．０質量部
化合物Ｃ３ ８．７質量部
イルガキュア１２７ ０．４質量部
シリカ粒子分散液ＰＡ−１ ２５．４質量部
エタノール １５．０質量部
メチルエチルケトン ３４．５質量部
アセトン １５．０質量部

層（ａ）形成用塗布液Ａ−１〜Ａ−３において、Ｕ１５ＨＡ及び化合物Ｃ３が硬化性化合物（ａ１）である。

（層（ｂ）形成用塗布液の調製）
下記の組成となるように各成分をミキシングタンクに投入し、６０分間攪拌し、孔径５μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して層（ｂ）形成用塗布液とした。

層（ｂ）形成用塗布液Ｂ−１
ＫＦ９６−１０ｃｓ １０．０質量部
ＫＦ９６Ｌ−０．６５ｃｓ ９０．０質量部

層（ｂ）形成用塗布液Ｂ−２
ＫＦ９６−１０ｃｓ １．０質量部
ＫＦ９６Ｌ−０．６５ｃｓ ９９．０質量部

層（ｂ）形成用塗布液Ｂ−３
ＫＦ９６−１０ｃｓ ５０．０質量部
ＫＦ９６Ｌ−０．６５ｃｓ ５０．０質量部

層（ｂ）形成用塗布液Ｂ−４
ＫＦ９６−１０ｃｓ １００．０質量部

層（ｂ）形成用塗布液Ｂ−５
ＫＦ９６−１００ｃｓ １０．０質量部
ＫＦ９６Ｌ−０．６５ｃｓ ９０．０質量部

層（ｂ）形成用塗布液Ｂ−６
ＫＦ９６−１万ｃｓ １０．０質量部
ＫＦ９６Ｌ−０．６５ｃｓ ９０．０質量部

層（ｂ）形成用塗布液Ｂ−７
ＫＦ９６−１０万ｃｓ １０．０質量部
ＫＦ９６Ｌ−０．６５ｃｓ ９０．０質量部

層（ｂ）形成用塗布液Ｂ−８
流動パラフィン １０．０質量部
ＫＦ９６Ｌ−０．６５ｃｓ ９０．０質量部

層（ｂ）形成用塗布液Ｂ−９
ＫＦ９６−１０ｃｓ ５．０質量部
ＫＦ９６Ｌ−０．６５ｃｓ ９５．０質量部

層（ｂ）形成用塗布液Ｂ−１０
ＫＦ９６Ｌ−０．６５ｃｓ １００．０質量部

それぞれ使用した化合物を以下に示す。
Ｕ１５ＨＡ（新中村化学工業（株）製）：ウレタンアクリレート
イルガキュア１２７：光重合開始剤（ＢＡＳＦジャパン（株）製）
化合物Ａ 下記式で示されるフッ素系レベリング剤

ＫＦ９６−１０ｃｓ（信越化学工業（株）製）：シリコーンオイル、動粘度（２５℃）１０ｍｍ^２/ｓ、沸点２００℃以上
ＫＦ９６Ｌ−０．６５ｃｓ（信越化学工業（株）製）：シリコーンオイル、動粘度（２５℃）０．６５ｍｍ^２/ｓ、沸点１００℃
ＫＦ９６−１００ｃｓ（信越化学工業（株）製）：シリコーンオイル、動粘度（２５℃）１００ｍｍ^２/ｓ、沸点２００℃以上
ＫＦ９６−１万ｃｓ（信越化学工業（株）製）：シリコーンオイル、動粘度（２５℃）１００００ｍｍ^２/ｓ、沸点２００℃以上
ＫＦ９６−１０万ｃｓ（信越化学工業（株）製）：シリコーンオイル、動粘度（２５℃）１０００００ｍｍ^２/ｓ、沸点２００℃以上
流動パラフィン（和光純薬工業（株）製）：炭化水素系オイル、試薬特級グレード、動粘度１５０ｍｍ^２/ｓ、沸点２００℃以上
上記オイルはいずれも膜厚１０μｍあたりの波長２５０ｎｍ〜３００ｎｍにおける最大透過率は１００％であった。

透過率の測定は、島津製作所（株）製の紫外可視近赤外分光光度計ＵＶ３１５０を用いて行った。
測定するものが液体の場合は、波長２５０ｎｍ〜３００ｎｍにおける透過率が１０％を下回らないように、吸収が小さく、測定に影響を与えない溶剤で適宜希釈して測定することができる。本実施例ではジクロロメタンで５％に希釈して測定を行った。得られた透過率スペクトルから、希釈倍率と比重を考慮して膜厚１０μｍあたりの透過率を算出した。
測定するものが後述する実施例２で用いたフィルムの場合は、そのままの状態で測定した。

（ハードコート層の形成）
セルローストリアセテートフィルム（ＴＤＨ６０ＵＦ、富士フイルム（株）製）上に上記ハードコート層用塗布液ＨＣ−１をダイコーターを用いて塗布した。３０℃で９０秒、続いて６０℃で１分間乾燥した後、酸素濃度がおよそ０．３体積％の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量６０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ５μｍのハードコート層を形成した。上記ハードコート層付き基材をＨＣ−１とする。

＜反射防止フィルム１の作成＞
（工程（１） 層（ａ）、及び層（ｂ）の塗設）
上記ハードコート層付き基材ＨＣ−１のハードコート層上に、層（ａ）形成用塗布液をダイコーターを用いて２．８ｍｌ/ｍ^２塗布し、３０℃で９０秒乾燥させた。次に、層（ａ）の上にダイコーターを用いて層（ｂ）形成用塗布液を１０ｍｌ/ｍ^２塗布した。層（ａ）と層（ｂ）の膜厚は下記表１に示したとおりである。

（工程（１−２） 硬化性化合物（ａ１）のハードコート層への浸透）
３０℃で９０秒乾燥した後、１００℃で５分間加熱し、硬化性化合物（ａ１）の一部をハードコート層へ浸透させた。

（工程（２） 層（ａ）の硬化）
上記の加熱に続いて、酸素濃度が０．０１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して層（ａ）を硬化させた。工程（２）の後であって、工程（３）を行う前の層（ａ）と層（ｂ）の膜厚は下記表１に示したとおりである。

(工程（３） 層（ｂ）の除去)
上記硬化後のフィルムの層（ｂ）が塗工されている面にメチルイソブチルケトンを掛け流した後、メチルイソブチルケトンを入れたバットの中に浸漬し、層（ｂ）を除去した。その後、常温で１０分乾燥して反射防止フィルム１を得た。

層（ｂ）形成の有無、層（ａ）と層（ｂ）の膜厚、層（ａ）形成用塗布液の種類、および層（ｂ）形成用塗布液の種類を表１のように変更した以外は反射防止フィルム１の作製と同様にして反射防止フィルム２〜１２を作製した。なお、層（ａ）については、粒子（ａ２）が存在しない部分の膜厚を層（ａ）の膜厚とした。

（反射防止フィルムの評価方法）
以下の方法により反射防止フィルムの諸特性の評価を行った。結果を表に示す。

（層（ａ）表面と化合物（ｂ１）の表面張力差の測定）
前述の方法で層（ａ）表面、および化合物（ｂ１）の表面張力をそれぞれ測定し、その差分を計算してΔ表面張力とした。

得られた反射防止フィルムに対して、面内の１０μｍ×１０μｍを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で３視野観察し、全てのフィルムでモスアイ構造が形成されており、かつ表面に直交する方向に複数重なって存在していない状態の粒子（ａ２）の個数の割合が、９０％以上であることを確認した。

（積分反射率）
反射防止フィルムの裏面（セルローストリアセテートフィルム側）をサンドペーパーで粗面化した後に油性黒インキ（補填用マジックインキ：寺西化学）を塗り、裏面反射をなくした状態で、分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプターＡＲＶ−４７４を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における積分反射率を測定し、平均反射率を算出して反射防止性を評価した。

（ヘイズ）
面の均一性をヘイズ値で評価した。得られた反射防止フィルムの全ヘイズ値（％）をＪＩＳ−Ｋ７１３６（２０００年）に準じて測定した。装置には日本電色工業（株）製ヘーズメーターＮＤＨ４０００を用いた。粒子同士が凝集し不均一であるものは、ヘイズが高くなる。ヘイズが低い方がフィルムがクリアで良い。

（白濁感の評価）
基材の塗布層を設けた側とは反対の面に粘着剤付き黒色ポリエチレンテレフタレートシート（巴川製紙所製；「くっきりみえーる」）をラミネートし、裏面の光反射を防止した３０ｃｍ×３０ｃｍのサンプルを作製した。このサンプルを斜めから三波長蛍光灯（ＦＬ２０ＳＳ・ＥＸ−Ｎ／１８（松下電器産業（株）製）の付いた電気スタンドでサンプルの表面を照射し、その時に観察される白濁を目視にて評価した。
Ａ：注意深く見ても白濁が見えない
Ｂ：注意深く見ると弱く白味がかっているのがわかる
Ｃ：膜全体が弱く白濁している。
Ｄ：一目見ただけで膜全体が強く白濁しているのがわかる

（スチールウール耐擦傷性）
ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストを行うことで、耐擦傷性の指標とした。
評価環境条件：２５℃、６０％ＲＨ
こすり材：スチールウール（日本スチールウール（株）製、ゲレードＮｏ．００００）
試料と接触するテスターのこすり先端部（１ｃｍ×１ｃｍ）に巻いて、バンド固定。
移動距離（片道）：１３ｃｍ、
こすり速度：１３ｃｍ／秒、
荷重：１００ｇ／ｃｍ^２、
先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、
こすり回数：１０往復。
こすり終えた試料の裏側に油性黒インキ（補填用マジックインキ：寺西化学）を塗り、こすり部分の傷を反射光で目視観察し、以下の基準で評価した。評価は上記テストを３回繰り返し、平均して５段階で評価した。
Ａ ：傷が数本あるが、注意深く見ないとわからない。
Ｂ ：傷が数本〜数十本見える。

結果を表１に示す。これより、本発明の製造方法により作製した反射防止フィルムは、積分反射率、ヘイズが低く白濁感に優れることがわかる。

＜実施例２＞

＜反射防止フィルム１５の作成＞

（ハードコート層の形成）
基材（ＺＲＴ６０、富士フイルム（株）製）上に実施例１のハードコート層用塗布液ＨＣ−１をダイコーターを用いて塗布した。３０℃で９０秒、続いて６０℃で１分間乾燥した後、酸素濃度がおよそ０．３体積％の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量６０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ５μｍのハードコート層を形成した。上記ハードコート層付き基材をＨＣ−２とする。

（工程（１） 層（ａ）、層（ｂ）の形成）
上記ハードコート層付き基材ＨＣ−２のハードコート層上に、層（ａ）形成用塗布液をダイコーターを用いて２．８ｍｌ／ｍ^２塗布し、３０℃で９０秒乾燥させた。層（ａ）の膜厚は下記表２に示したとおりである。
次いで、乾燥後の層（ａ）上に藤森工業（株）製の保護フィルム（マスタックＴＦＢ ＡＳ３−３０４）を、剥離フィルムを剥離し、粘着剤層が層（ａ）側になるように貼り合わせた。貼り合わせには、業務用ラミネーターＢｉｏ３３０（ＤＡＥ−ＥＬ Ｃｏ．製）を使用し、速度１で実施した。ここでは、保護フィルムの粘着剤層が層（ｂ）にあたる。

使用した保護フィルムを以下に示す。
マスタックＴＦＢ ＡＳ３−３０４（藤森工業（株）製 帯電防止機能付き光学用保護フィルム）
仮支持体：ポリエステルフィルム（厚み３８μｍ）
粘着剤層厚み：２０μｍ
剥離フィルムを剥がした状態での波長２５０ｎｍ〜３００ｎｍにおける最大透過率：０．１％未満

（工程（１−２） 硬化性化合物（ａ１）のハードコート層への浸透）
保護フィルムを貼り合わせたまま、１００℃で５分間加熱し、硬化性化合物（ａ１）の一部をハードコート層へ浸透させた。

（工程（２） 層（ａ）の硬化）
上記の加熱に続いて、酸素濃度が０．０１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、基材の層（ａ）が塗布された面とは反対側から照度２００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して層（ａ）を硬化させた。工程（２）の後であって、工程（３）を行う前の層（ａ）と層（ｂ）の膜厚は下記表２に示したとおりである。
ここで、紫外線を層（ａ）が塗工された面から照射した場合は、層（ａ）が硬化しなかった。

(工程（３） 層（ｂ）の除去)
上記硬化後のフィルムから保護フィルムＡＳ３−３０４を剥離した。保護フィルムを剥離した後、保護フィルムが貼り合わせてあった面にメチルイソブチルケトンを掛け流して保護フィルムの残渣を洗い流した。その後、常温で１０分乾燥して反射防止フィルム１５を得た。

（保護フィルムＡの作製）
＜アクリル系共重合体の合成＞
撹拌機、温度計、還流冷却器及び窒素導入管を備えた反応装置に、窒素ガスを導入して、反応装置内の空気を窒素ガスで置換した。その後、反応装置にイソオクチルアクリレート１００質量部、４−ヒドロキシブチルアクリレート２．５質量部とともに溶剤（酢酸エチル）を１００部加えた。その後、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル０．１質量部を２時間かけて滴下させ、６５℃で８時間反応させ、重量平均分子量７０万のアクリル系共重合体溶液を得た。

＜粘着剤組成物及び保護フィルムＡの作製＞
上記で合成したアクリル系共重合体溶液（そのうちアクリル系共重合体が１００質量部）に対して、コロネートＨＬ３．５質量部と、トリオクチルベンジルアンモニウムクロリド２．５質量部を加えて撹拌混合して粘着剤組成物を得た。
この粘着剤組成物をシリコーン樹脂コートされたポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムからなる剥離フィルムの上に塗布後、９０℃で乾燥することによって溶剤を除去し、粘着剤層の厚さが２０μｍである粘着フィルムを得た。
その後、仮支持体であるＺＲＴ６０（富士フイルム（株）製）の片面に粘着フィルムを転写させ、「ＺＲＴ６０／粘着剤層／剥離フィルム（シリコーン樹脂コートされたＰＥＴフィルム）」の積層構成を有する保護フィルムＡを得た。
剥離フィルムを剥がした状態での波長２５０ｎｍ〜３００ｎｍにおける最大透過率は、７４％であった。

層（ａ）形成用塗布液の種類、および保護フィルムの種類を表２のように変更した以外は反射防止フィルム１５の作製と同様にして反射防止フィルム１６、１７を作製した。

（反射防止フィルムの評価方法）
実施例１と同様の方法により反射防止フィルムの諸特性の評価を行った。結果を表に示す。

これより、層（ａ）を塗布した積層体に仮支持体上に層（ｂ）を形成した積層体を貼り合わせて設ける本発明の製造方法により作製した反射防止フィルムは、積分反射率、ヘイズが低く白濁感に優れることがわかる。

１ 基材
２ 反射防止層
３ 粒子（ａ２）
４ 層（ａ）
５ 層（ｂ）
１０ 反射防止フィルム
Ａ 隣り合う凸部の頂点間の距離
Ｂ 隣り合う凸部の頂点間の中心と凹部との距離

Claims (20)

1. 基材上に、
   硬化性化合物（ａ１）と、平均一次粒径が１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の粒子（ａ２）とを含む層（ａ）、および前記硬化性化合物（ａ１）と相溶しない化合物（ｂ１）を含む層（ｂ）を、前記粒子（ａ２）が前記層（ａ）および層（ｂ）を合わせた層中に埋没する厚みで設ける工程（１）、
   前記粒子（ａ２）が前記層（ａ）および層（ｂ）を合わせた層中に埋没した状態で前記層（ａ）を硬化する工程（２）、
   前記層（ｂ）を除去し、前記粒子（ａ２）により前記層（ａ）の表面に凹凸形状を形成する工程（３）、
   をこの順に有する、反射防止フィルムの製造方法。
2. 基材上に層（ａ）及び層（ｂ）をこの順で塗布することにより設ける、請求項１に記載の反射防止フィルムの製造方法。
3. 前記化合物（ｂ１）が、５０℃において液状の油性成分である、請求項１又は２に記載の反射防止フィルムの製造方法。
4. 前記化合物（ｂ１）の少なくとも１種が沸点１１０℃以上で２５℃における動粘度が０．１ｍｍ^２／ｓ〜１０００００ｍｍ^２／ｓである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
5. 前記層（ａ）表面の表面張力と前記沸点が１１０℃以上である化合物（ｂ１）の表面張力との差が０〜１０ｍＮ/ｍである請求項４に記載の反射防止フィルムの製造方法。
6. 前記化合物（ｂ１）の前記工程（２）での膜厚における波長２５０ｎｍ〜３００ｎｍにおける最大透過率が２０％以上である請求項１〜５のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
7. 前記工程（１）において、前記層（ｂ）の形成を仮支持体上に前記層（ｂ）を設けた積層体を前記層（ａ）上に貼り合わせることによって行う、請求項１に記載の反射防止フィルムの製造方法。
8. 前記層（ｂ）が粘着剤層である請求項７に記載の反射防止フィルムの製造方法。
9. 前記層（ａ）表面の表面張力と前記仮支持体上に前記層（ｂ）を設けた積層体の前記層（ｂ）側表面の表面張力との差が−１０〜１５ｍＮ／ｍである請求項７又は８に記載の反射防止フィルムの製造方法。
10. 前記仮支持体上に層（ｂ）を設けた積層体の波長２５０ｎｍ〜３００ｎｍにおける最大透過率が２０％以上である請求項７〜９のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
11. 前記工程（３）において、前記基材を溶解せず、かつ前記化合物（ｂ１）を溶解する溶剤を用いる、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
12. 前記工程（３）の後において、前記基材の表面に直交する方向には前記粒子（ａ２）が複数存在しない、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
13. 前記工程（１）及び工程（２）において、前記層（ａ）の前記粒子（ａ２）が存在しない部分の膜厚と層（ｂ）の膜厚の合計の膜厚が、前記粒子（ａ２）の平均一次粒径よりも大きい、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
14. 前記硬化性化合物（ａ１）の少なくとも１種が、１分子中に（メタ）アクリロイル基を３個以上有する化合物である、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
15. 前記粒子（ａ２）が、金属酸化物粒子である、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
16. 前記粒子（ａ２）が、表面修飾された粒子である請求項１〜１５のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
17. 前記工程（１）と工程（２）の間に、前記硬化性化合物（ａ１）の一部を前記基材に浸透させる工程（１−２）を有する、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
18. 前記工程（１−２）において、基材、層（ａ）、及び層（ｂ）を有する積層体を加熱する、請求項１７に記載の反射防止フィルムの製造方法。
19. 前記加熱における温度が、８０〜１８０℃である、請求項１８に記載の反射防止フィルムの製造方法。
20. 前記化合物（ｂ１）の少なくとも１種の化合物の沸点が前記加熱における温度以上である、請求項１８又は１９に記載の反射防止フィルムの製造方法。

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