JP2017012345A - ガス焼物器 - Google Patents
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Abstract
【課題】炭火焼きと同等の焼き上がりを得ることのできる業務用にも使用可能なガス焼物器を提供する。【解決手段】調理対象物をガス炎により加熱して焼き上げるガス焼物器である。メインガスバーナ(6)で構成した第1加熱手段(2)により還元作用のあるガス炎を食材(4)に接触あるいは、食材(4)を還元作用のあるガス炎の中に位置させるとともに、赤外線又は遠赤外線を調理対象物に照射する第2加熱手段(3)を前記第1加熱手段(2)とは別に設置した。【選択図】 図1
Description
本発明は、食材を加熱して焼き上げる焼物器に関し、特に、炭火焼と同等の焼き上がりを得られるガス焼物器に関する。
焼き鳥や焼き魚等の食材を加熱する加熱調理器の熱源として、炭火で直接的に加熱するものの外に、電気エネルギーや、ガスの燃焼火炎でセラミック板等の赤外線放出板を加熱することで生じる輻射熱を用いるものがある。
近年、食材を加熱調理する場合、ガスや電気を利用するのが、一般的であるが、昔から、炭火焼きが一番美味しいといわれている。それは、木炭などの炭が燃焼時に遠赤外線を放射するために、食材の中心部まで熱がよく通り、水分を失うことなく焼き上げることができることに加えて、炭が燃焼することで生じる特有の焙焼香が要因とされている。
横浜国立大学の杉山邦子教授の「炭火焼きが美味しい理由」と題する論文では、「遠赤外線の放射率が高い放射体で炭火焼きと同程度の熱流束を再現できれば、調理品の物性は炭火焼きのものと同程度に仕上げることができる。しかし、炭火で焼いた食品の焙焼香が、炭火特有の燃焼ガス組成に起因するものと考えられるから、完全に炭火の代替となる加熱方法は困難であると考えられる」、とされている(非特許文献1)。
杉山久仁子著「炭火焼きが美味しい理由」公益社団法人日本伝熱学会発行 学会誌『伝熱』2009年9月号 第37〜40ページ
このように、一番美味しく加熱調理が仕上がるといわれる炭火焼きであるが、着火の手間や、加熱時の火加減の調整が難しいという問題や、使い終った際の灰の処理、防火上の問題から、都心部において業務用に炭火を使用することが非常に難しくなってきている。
本発明は、このような点に着目してなされたもので、炭火焼きと同等の焼き上がりを得ることのできる業務用にも使用可能なガス焼物器を提供することを目的とする。
上述の目的を達成するために、請求項1に記載した発明は、調理対象物をガス炎により加熱して焼き上げる焼物器であって、メインガスバーナからなる第1加熱手段で調理対象物に還元作用のある炎を作用させるとともに、赤外線又は遠赤外線を調理対象物に照射する第2加熱手段を前記第1加熱手段とは別に設置したことを特徴としている。
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の構成に加えて、第2加熱手段が、サブガスバーナと赤外線発生プレートとで構成されていることを特徴とする。
請求項3に記載の発明は、請求項1又は2に記載の構成に加えて、第1加熱手段が調理対象物を載置する載置部の下方に位置するとともに、第2加熱手段が第1加熱手段の下側に位置していることを特徴とする。
請求項4に記載の発明は、請求項1又は2に記載の構成に加えて、第1加熱手段が調理対象物を載置する載置部の下方に位置するとともに、第2加熱手段が調理対象物を載置する載置部の上側に位置していることを特徴としている。
請求項5に記載の発明は、請求項1又は2に記載の構成に加えて、第1加熱手段が調理対象物を載置する載置部の上方に位置するとともに、第2加熱手段が第1加熱手段の下側に位置していることを特徴としている。
請求項6に記載の発明は、請求項1から5のいずれか1項に記載の構成に加えて、第1加熱手段から発生する還元作用のある炎が、水素ガスを含むガスを燃料としていることを特徴としている。
本発明では、調理対象物に還元作用のあるガス炎を作用させるようにしていることから、調理対象物の表面が還元作用のあるガス炎で焙られることになり、炭火焼きと同等の焙焼香が期待できる。また、焙焼香が得られる還元作用のあるガス炎の温度は、600〜800℃、通常のガス炎に比べて低温であり、還元作用のあるガス炎を作用させる第1加熱手段だけでは調理対象物(食材)の内部まで十分に加熱することは難しいが、本発明では、第1加熱手段に加えて、赤外線又は遠赤外線を調理対象物に照射する第2加熱手段が配設してある。この第2加熱手段から放射される赤外線又は遠赤外線により処理対象物(食材)の内部まで加熱することが可能なので、沸点が200〜300℃程度である鶏肉等の食材に含まれるパルチミン酸、ステアリン酸、リノール酸等の油脂成分を十分加熱し、食材材内部から余分な脂分を除去して、いわゆる脂っぽいという食感をなくすことができる。
図に示すガス焼物器は、鶏肉の串焼きに使用するものであり、炉体(1)と、この炉体(1)内に配置された第1加熱手段(2)及び第2加熱手段(3) と、調理対象物(食材)(4)の載置部となる支持枠体(5)とを有している。
炉体(1)は、ステンレス鋼板等の金属板で、横長直方体形状の上面を開放した横長函体に形成してあり、この炉体(1)の壁面を構成する金属板には、遮熱材が添設してある。
第1加熱手段(2)は炉体(1)の内部上側に長手方向に沿って配置した2本のメインガスバーナ(6)で構成されており、各メインガスバーナ(6)の炎孔(7)は斜め上向きで、炉体の中央方向に向けて還元作用のあるガス炎が噴出するように形成してあり、炉体(1)の上面に開口部を取り囲むように配置されている支持枠体(5)に載置されている食材(4)を炎孔(7)から噴出するガス炎が斜め下から舐めるように加熱するよう形成してある。そして、支持枠体(5)の支持台となる庇部は核メインガスパーナ(6)(6)の上側を覆うように形成してある。このように炎孔(7)を斜め上向きにし、食材(4)の直下にメインガスバーナ(6)を配置しないことで、加熱中の食材(4)から滴る肉汁・脂によって炎孔(7)が閉塞することを回避できる。
第1加熱手段(2)で使用する燃料ガスとしては、一般的に使用されるガス燃料であるプロパンガス、都市ガスが用いられる。また、還元作用の高い水素ガスや、水素ガスとプロパンガス、或いは水素ガスと都市ガスを混合したものを用いることもできる。なお、水素ガスのガス炎は輻射熱が小さいため、本発明で使用する場合、調理者が感じる暑さを軽減し、作業環境の向上が図れる副次的効果がある。
第2加熱手段(3)は、サブガスバーナ(8)と、このサブガスバーナ(8)の炎により加熱されることで十分な量の赤外線や遠赤外線を放出照射することのできる赤外線発生プレート(9)で構成され、前記第1加熱手段(2)を構成しているメインガスバーナ(6)(6)同士間の下側に配置されている。そして、赤外線発生プレート(9)はサブガスバーナ(8)を覆う状態で山形に形成してある。
上述の構成からなるガス焼物器では、炉体(1)に載置した食材(4)に対して第1加熱手段(2)から還元作用のある炎を接触あるいは、食材(4)を還元作用のある炎の中に位置させて、還元作用のある炎で食材(4)を加熱することから食材(4)には還元作用が働き、炭火のような焙焼香を与えることができる。一方で、還元作用を有する炎の温度が低いことに起因する食材(4)の加熱不足は、第2加熱手段(3)からの赤外線あるいは遠赤外線を照射することで解消して、食材(4)の内部まで十分に加熱処理をすることができる。このように、食材(4)に炭火のような焙焼香を与えるとともに、食材(4)の内部を十分に加熱し脂を溶かすことで本発明では、炭火焼きと同等の風味・食感を得ることができる。なお、食材(4)を還元作用のある炎に接触あるいは還元性のある炎の中に位置できれば、第1加熱手段(1)の一部または全体を調理対象物載置部(5)の上方に配置してもよい。
上記の実施形態では、第2加熱手段(3)の赤外線発生プレート(9)を加熱する加熱源として、サブガスバーナ(8)を使用しているが、赤外線発生プレート(9)を加熱する加熱源としては電気ヒータや加熱ランプなどの加熱源を使用してもよい。
また、第2加熱手段(3)は、調理対象物である食材(4)の上側に配置して、食材(4)のを上から加熱するようにしてもよい。
さらに、上記実施形態では第1加熱手段(2)を炉体(1)の内部上側に配置して、調理対象物載置部(5)に支持されている食材(4)に対して還元作用を有するガス炎を下側から作用させるようにしているが、図2に示すように、第1加熱手段(2)を構成するガスパーナ(6)を調理対象物載置部(5)の上側に配置するとともに、第2加熱手段(3)を炉体(1)内に配置し、調理対象物載置部(5)に支持されている食材(4)に対して還元作用を有するガス炎を上側から作用させ、赤外線あるいは遠赤外線を食材(4)に対して下側から照射するようにしたものである。
さらにまた、上記の実施形態では、炉体(1)を金属板製の上面を開放した横長函体で形成し、その壁面部分に遮熱材を配置しているが、炉体(1)の壁面を耐火レンガやセラミック等で形成し、バーナの燃焼熱を蓄熱して、余熱を有効利用して効率的に加熱調理できるようにしてもよい。
2…第1加熱手段、5…調理対象物載置部、3…第2加熱手段、6…メインガスバーナ、8…サブガスバーナ、9…赤外線発生プレート。
Claims (6)
- 調理対象物をガス炎により加熱して焼き上げる焼物器であって、メインガスバーナ(6)で構成した第1加熱手段(2)により還元作用のある炎を調理対象物に作用させるとともに、赤外線又は遠赤外線を調理対象物に照射する第2加熱手段(3)を前記第1加熱手段(2)とは別に設置したことを特徴とするガス焼物器。
- 第2加熱手段(3)が、サブガスバーナ(8)と赤外線発生プレート(9)とで構成されている請求項1に記載のガス焼物器。
- 第1加熱手段(2)が調理対象物を載置する載置部(5)の下方に位置するとともに、第2加熱手段(3)が第1加熱手段(2)の下側に位置している請求項1または2に記載のガス焼物器。
- 第1加熱手段(2)が調理対象物を載置する載置部(5)の下方に位置するとともに、第2加熱手段(3)が調理対象物を載置する載置部(5)の上側に位置している請求項1または2に記載のガス焼物器。
- 第1加熱手段(2)が調理対象物を載置する載置部(5)の上方に位置するとともに、第2加熱手段(3)が第1加熱手段(2)の下側に位置している請求項1または2に記載のガス焼物器。
- 第1加熱手段(2)から発生する還元作用のある炎が、水素ガスを含むガスを燃料としている請求項1から5のいずれか1項に記載のガス焼物器。
Priority Applications (1)
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Cited By (2)
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2015
- 2015-06-30 JP JP2015130665A patent/JP2017012345A/ja active Pending
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