JP2017011272A - finFET構造を形成する方法、半導体基板とfinFETトランジスタを提供する方法、およびfinFETトランジスタ - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は概ね半導体装置製造の分野に関する。特にn型バルクfinFETトランジスタのチャネル領域に引張ひずみをもたらす方法およびそれに関連する構造に関する。
製造プロセスおよび設備部品の一定の進化とともに、半導体装置の構造の様々な形態および/または形状と同時に、一定の改善された性能および/または特殊化した機能が開発された。半導体トランジスタを例に挙げると、通常のプレーナ型電界効果トランジスタ(FETs)同様に近時開発されたフィン型電界効果トランジスタ(finFets)がある。さらに、finFetsの間でも、絶縁体上シリコン(SOI)ベースのfinFetsとバルクfinFetsがある。一方で、装置の機能的な見地からは、トランジスタが採用するチャージキャリアのタイプによって特徴づけられるp型トランジスタとn型トランジスタとがある。たとえばp型バルクfinFetsとn型バルクfinFetsがある。
本発明の実施形態はn型finFETトランジスタの形成方法を提供する。ある実施形態では、この方法はゲート構造の下方にフィンチャネル領域および、ゲート構造の2つの対向側面においてフィンチャネル領域に直接隣接したソース領域とドレイン領域を有するfinFETを形成するステップと、ソース領域とドレイン領域に圧縮応力をかけ、これによりソース領域とドレイン領域にフィンチャネル領域への引張り応力を生じさせるステップを含む。
以下の詳細な説明では、本発明の様々な実施形態の全体的な理解をもたらすために多くの特徴的な詳細が示されている。しかしながら、本発明の実施形態はこれらの特徴的な詳細なしでも実施可能であることが理解されるべきである。
Claims (20)
- ゲート構造下のフィンチャネル領域と、前記ゲート構造の2つの対向する側面において前記フィンチャネルに直接隣接するソース領域およびドレイン領域を有するfinFET構造を形成するステップと、
前記ソース領域および前記ドレイン領域に圧縮応力を与えて、前記ソース領域および前記ドレイン領域により前記フィンチャネル領域への引張り応力を作用させるステップとを備える方法。 - 前記finFET構造を形成するステップは、前記ソース領域および前記ドレイン領域の形成のために前記フィンチャネルの前記2つの対向するする側面において十分に弛緩したシリコンゲルマニウム(SiGe)をエピタキシャルに成長させるステップを備え、前記ソース領域および前記ドレイン領域のSiGeは、原子割合で少なくとも50%のGe濃度レベルを有する、請求項1に記載の方法。
- 前記十分に弛緩したSiGeをエピタキシャルに成長させるステップは前記SiGeにより積層欠陥および転位を有して前記ソース領域および前記ドレイン領域を形成するステップと、前記ソース領域および前記ドレイン領域内の前記積層欠陥および転位の量の調節のための前記Ge濃度レベルを使用するステップとを備える、請求項2に記載の方法。
- 前記finFET構造を形成するステップが、
基板上のフィンを前記ゲート構造によって覆うステップと、
前記ゲート構造の側壁に隣接する側壁スペーサーを形成するステップと、
前記フィンの部分の除去により前記ゲート構造および前記側壁スペーサーによって覆われていない前記finチャネル領域を形成するステップとを備える、請求項1に記載の方法。 - 前記ソース領域および前記ドレイン領域に圧縮応力を与えるステップが、その上面上にシリコンキャップ層をエピタキシャルに成長させて、前記ソース領域および前記ドレイン領域を覆うステップを備え、前記シリコンキャップ層は前記ソース領域および前記ドレイン領域よりも小さい格子定数を有する、請求項1に記載の方法。
- 前記シリコンキャップ層は約5nmから約30nmの範囲の厚さを有し、前記ソース領域および前記ドレイン領域に引張り応力を作用させて結果的に前記フィンチャネル領域に少なくとも0.7%の引張りひずみを生じさせる、請求項5に記載の方法。
- 前記ソース領域および前記ドレイン領域を覆う前記シリコンキャップ層を成長させるステップが、前記ソース領域および前記ドレイン領域が少なくとも−1.8%の圧縮ひずみで応力が付与されたソースおよびドレインとなるようにする、請求項5に記載の方法。
- 上面に1またはそれ以上のフィンを備える半導体基板を提供するステップと、
前記1またはそれ以上のフィンの下部を絶縁素材によって覆うステップと、
前記1またはそれ以上のフィンのフィンチャネル領域をゲート構造を用いて覆うステップと、
前記ゲート構造の2つの対向する側面における前記フィンチャネル領域に直接隣接するソース領域およびドレイン領域を形成するステップと、
前記ソース領域および前記ドレイン領域へ圧縮応力を作用させて、前記ソース領域および前記ドレイン領域により前記フィンチャネル領域に引張り応力を作用させるステップとを備える方法。 - 前記ソース領域および前記ドレイン領域を形成するステップが、
前記ゲート構造の2つの対向する側壁に隣接する側壁スペーサーを形成するステップと、
前記ゲート構造によって覆われておらず、前記側壁スペーサーに覆われていない前記1またはそれ以上のフィンの部分を除去し、前記側壁スペーサーの表面における前記1またはそれ以上のフィンおよび前記絶縁素材の断面を露出するステップと、
前記ソース領域および前記ドレイン領域を形成するための前記1またはそれ以上のフィンの前記露出した断面からシリコンゲルマニウム(SiGe)をエピタキシャルに成長させるステップとを備える、請求項8に記載の方法。 - 前記SiGeをエピタキシャルに成長させるステップが、前記SiGeにより積層欠陥および転位を有して前記ソース領域および前記ドレイン領域を形成するステップと、前記ソース領域および前記ドレイン領域内の前記積層欠陥および転位の量を調節するために原子割合で少なくとも50%の前記SiGe内のGe濃度レベルを使用するステップとを備える、請求項9に記載の方法。
- 前記ソース領域および前記ドレイン領域に前記圧縮応力を作用させるステップがその上面を覆うシリコンキャップ層をエピタキシャルに成長させて前記ソース領域および前記ドレイン領域を覆うステップ備え、前記ソース領域および前記ドレイン領域、前記シリコンキャップ層がその形成過程の間、前記シリコンキャップ層が取り囲む前記ソース領域および前記ドレイン領域に対して前記圧縮応力を適用する、請求項8に記載の方法。
- 前記シリコンキャップ層が約5nmから約30nmの範囲の厚さを有し、前記厚さは前記ソース領域および前記ドレイン領域が前記フィンチャネル領域から離れる方向引き出され、前記フィンチャネル領域内に少なくとも0.7%の引張りひずみを結果的に生じるのに十分なものである、請求項11に記載の方法。
- 前記ソース領域および前記ドレイン領域を覆う前記シリコンキャップ層を成長させるステップが前記ソース領域および前記ドレイン領域を少なくとも−1.8%の圧縮応力によりfinFETの応力がかかったソースおよびドレインとする、請求項11に記載の方法。
- finFETトランジスタであって、
上面をゲートによって覆われるフィン形状のチャネル領域と、
前記ゲートの第1の側面上の前記チャネル領域の第1の端部に隣接するソースと、
前記ゲートの第2の側面上の前記チャネル領域の第2の端部に隣接するドレインとを備え、
前記ソースおよび前記ドレインが少なくとも原子割合で50%のGe濃度レベルを有するエピタキシャルに成長されたシリコンゲルマニウム(SiGe)で形成される、finFETトランジスタ。 - 前記ソースおよびドレインが少なくとも−1.8%の圧縮ひずみ下にある、請求項14に記載のfinFETトランジスタ。
- 前記ソースおよびドレインがエピタキシャルに成長されたシリコンキャップ層によって覆われ、前記シリコンキャップ層が前記シリコンキャップ層と前記ソースおよびドレインの間の格子定数の差による支援により、SiGeのソースおよびドレインの下部に対して圧縮応力を作用させる、請求項14に記載のfinFETトランジスタ。
- 前記シリコンキャップ層が前記ソースおよびドレイン内に少なくとも−1.8%の圧縮ひずみを生じるのに十分な厚さを有する、請求項16に記載のfinFETトランジスタ。
- 前記シリコンキャップ層が前記ソースおよびドレイン内に圧縮ひずみを生じさせ、前記圧縮ひずみは前記チャネル領域と前記ソースおよびドレイン間の界面を介して前記チャネル領域内に結果的に引張りひずみをもたらす、請求項16に記載のfinFETトランジスタ。
- 前記ソースおよび前記ドレインが前記少なくとも50%のGe濃度レベルの存在によって生じた積層欠陥よび転位を含む、請求項18に記載のfinFET。
- 前記チャネル領域内部の前記引張りひずみが少なくとも0.7%である、請求項18に記載のfinFET。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019530223A (ja) * | 2016-09-13 | 2019-10-17 | クアルコム,インコーポレイテッド | 総直列抵抗が低減されたFinFET |
TWI685947B (zh) * | 2018-09-28 | 2020-02-21 | 大陸商芯恩(青島)積體電路有限公司 | 全包圍閘奈米片互補反相器結構及其製造方法 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE112017007850T5 (de) | 2017-09-27 | 2020-04-30 | Intel Corporation | Epitaktische Oxidstopfen für gedehnte Transistoren |
CN110571195B (zh) * | 2018-06-05 | 2021-12-21 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 一种sram及其制造方法和电子装置 |
US11222980B2 (en) * | 2019-07-18 | 2022-01-11 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Method of manufacturing a semiconductor device and a semiconductor device |
US11374002B2 (en) * | 2020-07-24 | 2022-06-28 | Globalfoundries U.S. Inc. | Transistors with hybrid source/drain regions |
US11735590B2 (en) | 2020-11-13 | 2023-08-22 | International Business Machines Corporation | Fin stack including tensile-strained and compressively strained fin portions |
CN113889413B (zh) * | 2021-09-13 | 2022-08-30 | 上海集成电路制造创新中心有限公司 | 环栅器件及其源漏制备方法、器件制备方法、电子设备 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006339309A (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Toshiba Corp | 半導体装置とその製造方法 |
JP2007088400A (ja) * | 2005-09-23 | 2007-04-05 | Ind Technol Res Inst | 相補型mos装置およびその製造方法 |
US20070284613A1 (en) * | 2006-06-09 | 2007-12-13 | Chi On Chui | Strain-inducing semiconductor regions |
US20080048262A1 (en) * | 2006-08-22 | 2008-02-28 | Samsung Electronics Co., Ltd | Fin field effect transistor and method of forming the same |
JP2011071517A (ja) * | 2009-09-24 | 2011-04-07 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co Ltd | 金属ゲートとストレッサーを有するゲルマニウムフィンfet |
JP2011129825A (ja) * | 2009-12-21 | 2011-06-30 | Renesas Electronics Corp | 半導体装置、および、半導体装置の製造方法 |
US20130146942A1 (en) * | 2011-09-28 | 2013-06-13 | Huilong Zhu | Method for Making FinFETs and Semiconductor Structures Formed Therefrom |
JP2014017515A (ja) * | 2010-03-17 | 2014-01-30 | Taiwan Semiconductor Manufactuaring Co Ltd | フィン型電界効果トランジスタおよびその製造方法 |
US20140167163A1 (en) * | 2012-12-17 | 2014-06-19 | International Business Machines Corporation | Multi-Fin FinFETs with Epitaxially-Grown Merged Source/Drains |
JP2015008291A (ja) * | 2013-06-24 | 2015-01-15 | アイメック・ヴェーゼットウェーImec Vzw | 歪み半導体構造を形成する方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US43507A (en) * | 1864-07-12 | Improvement in amalgamating-barrels | ||
US7015469B2 (en) | 2003-01-09 | 2006-03-21 | Jeol Usa, Inc. | Electron holography method |
JP2005051241A (ja) * | 2003-07-25 | 2005-02-24 | Interuniv Micro Electronica Centrum Vzw | 多層ゲート半導体デバイス及びその製造方法 |
US8338259B2 (en) | 2010-03-30 | 2012-12-25 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Semiconductor device with a buried stressor |
US9087902B2 (en) * | 2013-02-27 | 2015-07-21 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | FinFETs with strained well regions |
-
2015
- 2015-06-22 US US14/745,547 patent/US9685553B2/en active Active
-
2016
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Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006339309A (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Toshiba Corp | 半導体装置とその製造方法 |
JP2007088400A (ja) * | 2005-09-23 | 2007-04-05 | Ind Technol Res Inst | 相補型mos装置およびその製造方法 |
US20070284613A1 (en) * | 2006-06-09 | 2007-12-13 | Chi On Chui | Strain-inducing semiconductor regions |
US20080048262A1 (en) * | 2006-08-22 | 2008-02-28 | Samsung Electronics Co., Ltd | Fin field effect transistor and method of forming the same |
JP2011071517A (ja) * | 2009-09-24 | 2011-04-07 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co Ltd | 金属ゲートとストレッサーを有するゲルマニウムフィンfet |
JP2011129825A (ja) * | 2009-12-21 | 2011-06-30 | Renesas Electronics Corp | 半導体装置、および、半導体装置の製造方法 |
JP2014017515A (ja) * | 2010-03-17 | 2014-01-30 | Taiwan Semiconductor Manufactuaring Co Ltd | フィン型電界効果トランジスタおよびその製造方法 |
US20130146942A1 (en) * | 2011-09-28 | 2013-06-13 | Huilong Zhu | Method for Making FinFETs and Semiconductor Structures Formed Therefrom |
US20140167163A1 (en) * | 2012-12-17 | 2014-06-19 | International Business Machines Corporation | Multi-Fin FinFETs with Epitaxially-Grown Merged Source/Drains |
JP2015008291A (ja) * | 2013-06-24 | 2015-01-15 | アイメック・ヴェーゼットウェーImec Vzw | 歪み半導体構造を形成する方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019530223A (ja) * | 2016-09-13 | 2019-10-17 | クアルコム,インコーポレイテッド | 総直列抵抗が低減されたFinFET |
JP7041126B2 (ja) | 2016-09-13 | 2022-03-23 | クアルコム,インコーポレイテッド | 総直列抵抗が低減されたFinFET |
TWI685947B (zh) * | 2018-09-28 | 2020-02-21 | 大陸商芯恩(青島)積體電路有限公司 | 全包圍閘奈米片互補反相器結構及其製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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