JP2017011215A - インターポーザ及びそれを用いた電子装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 配線層と貫通導体とを電気的に接続できるとともに、良好な配線層を有するインターポーザ及びそれを用いた電子装置を提供する。
【解決手段】 コア層18aに配置されたビルドアップ層が、コア層18aに配置された絶縁層17a、17bと、該絶縁層17a、17bに対向するように配置された第1接続パッド15a、15b、第2接続パッド23a、23bと、絶縁層17aの表面に配置された幅が10μm以下の配線層22と、第1接続パッド15a、15bと第2接続パッド23a、23bとを接続する直径が25μm以下の貫通導体16bとを具備し、該貫通導体16bが第1接続パッド15a、15bと直接接合し、絶縁層17aは表面粗さが20nm以下の配線層配置面17a1を有する。
【選択図】 図2
【解決手段】 コア層18aに配置されたビルドアップ層が、コア層18aに配置された絶縁層17a、17bと、該絶縁層17a、17bに対向するように配置された第1接続パッド15a、15b、第2接続パッド23a、23bと、絶縁層17aの表面に配置された幅が10μm以下の配線層22と、第1接続パッド15a、15bと第2接続パッド23a、23bとを接続する直径が25μm以下の貫通導体16bとを具備し、該貫通導体16bが第1接続パッド15a、15bと直接接合し、絶縁層17aは表面粗さが20nm以下の配線層配置面17a1を有する。
【選択図】 図2
Description
本発明は、インターポーザ及びそれを用いた電子装置に関する。
従来、配線基板と、該配線基板に搭載されたLSI、IC等の電子部品と、配線基板と電子部品との間に介挿されたインターポーザと、を備えた電子装置が知られている。
インターポーザは、コア層と、このコア層の上下面に設けられた第1接続パッドと、この第1接続パッド上に設けられた樹脂層と、この樹脂層上に設けられた第2接続パッドと、第1接続パッドと第2接続パッドとを接続する貫通導体とを有している。樹脂層上には第2接続パッドに接続された配線層が引き回されている(例えば、特許文献1参照)。
近年、電子部品の高性能化に伴って、インターポーザにおける配線層の高密度化、貫通導体の小径化が求められている。
しかしながら、貫通導体の小径化を図るべく、例えば、UV−YAGレーザを用いて樹脂層に貫通孔を形成した場合、貫通孔の底の第1接続パッド上にスミアが残存する場合があり、貫通孔内に貫通導体を形成すると、第1接続パッドと貫通導体との間にスミアが介在し、第1接続パッドと貫通導体との接続不良が発生するおそれがあり、これにより、配線層と貫通導体との電気的接続不良が発生するおそれがあった。
この接続不良を防止するため、第1接続パッド上のスミアを除去すべく、例えば、プラズマデスミアを用いると、スミアを除去できるが、一方で、配線層が形成される樹脂層表面もエッチングされて表面が粗くなり、高密度化を図るべく、配線層を細線化、薄層化すると、高周波特性の悪化、断線する等、配線層に悪影響を与えるおそれがあった。
本発明は、配線層と貫通導体とを電気的に接続できるとともに、良好な配線層を有するインターポーザ及びそれを用いた電子装置を提供することを目的とする。
本発明のインターポーザは、コア層と、該コア層に配置されたビルドアップ層とを具備するとともに、前記ビルドアップ層が、前記コア層に配置された樹脂層を具備する絶縁層と、該絶縁層の前記コア層側に配置された第1接続パッドと、該第1接続パッドと対向するように前記絶縁層に配置された第2接続パッドと、該第2接続パッドが配置された側の前記絶縁層の前記樹脂層に配置された幅が10μm以下の配線層と、前記第1接続パッドと前記第2接続パッドとの間における前記絶縁層を厚み方向に貫通する直径が25μm以下の貫通導体とを具備し、該貫通導体が前記第1接続パッドと直接接合し、前記樹脂層の配線層配置面の表面粗さが20nm以下である。
本発明の電子装置は、配線基板と、該配線基板上に実装される電子部品と、前記配線基板と前記電子部品との間に介在して、前記配線基板と前記電子部品とを電気的に接続する
上記のインターポーザと、を備えたことを特徴とする。
上記のインターポーザと、を備えたことを特徴とする。
本発明の電子装置は、厚み方向に離間した第1及び第2電子部品と、前記第1及び第2電子部品の間に介在して、前記第1及び第2電子部品を電気的に接続する上記のインターポーザと、を備えたことを特徴とする。
本発明のインターポーザでは、配線層と貫通導体とを電気的に接続できるとともに、良好な配線層を得ることができる。このようなインターポーザを電子装置に用いることにより、長期信頼性を有する小型の電子装置を得ることができる。
(第1実施形態)
以下に、第1実施形態に係るインターポーザを含む電子装置を、図面に基づいて詳細に説明する。
以下に、第1実施形態に係るインターポーザを含む電子装置を、図面に基づいて詳細に説明する。
図1に示した電子装置1は、例えば各種オーディオビジュアル機器、家電機器、通信機器、コンピュータ装置又はその周辺機器などの電子機器に使用されるものであり、例えばマザーボード等の外部回路に電気的に接続される。この電子装置1は、電子部品2と、電子部品2が実装された配線基板3と、電子部品2と配線基板3との間に介在するインターポーザ4と、インターポーザ4と電子部品2とを電気的に接続する第1バンプ5aと、インターポーザ4と配線基板3とを電気的に接続する第2バンプ5bと、配線基板3と外部回路とを電気的に接続する第3バンプ5cとを含んでいる。
電子部品2は、インターポーザ4を介して配線基板3に実装されており、例えばLSI又はIC等の半導体素子である。この半導体素子は、CPU若しくはMPU等のロジック系又はメモリ系の半導体素子を用いることができる。
ここで、本実施形態の電子装置1において、電子部品2は、ロジック系の半導体素子を用いることが望ましい。このロジック系の半導体素子は、メモリ系の半導体素子と比較して、端子数が多く回路が微細配線化されており、応力が印加されると回路に断線が生じやすいため、配線基板3との電気的接続信頼性が低下しやすい。したがって、この電子部品2と配線基板3との間にインターポーザ4を介在させることにより、電子部品2の回路に印加される応力を緩和し、電子部品2と配線基板3との電気的接続信頼性を高めることができる。
配線基板3は、樹脂製のビルドアップ基板であり、コア基板6とコア基板6の上下に形成された一対のビルドアップ部7とを含んでいる。この配線基板3は、例えば、厚みが0.3mm以上1.8mm以下に設定され、厚みが電子部品2の2倍以上20倍以下に設定されている。
コア基板6は、配線基板3の剛性を高めるものであり、厚み方向に貫通孔が形成された樹脂基板8、該貫通孔の内壁に沿って円筒状に形成された貫通導体9、及び該貫通導体9の内部に柱状に形成された絶縁体10を含んでいる。このコア基板6は、厚みが例えば0.2mm以上1.2mm以下に形成されている。
樹脂基板8は、コア基板6の剛性を高めるものであり、例えばエポキシ樹脂等の樹脂材料を含んでいる。また、無機絶縁フィラーや繊維からなる基材を含んでも構わない。この樹脂基板8を貫通する貫通孔は、例えば直径が0.1mm以上1mm以下の円柱状に形成されている。
貫通導体9は、コア基板6の上下のビルドアップ部7を電気的に接続するものであり、例えば銅等の導電材料を含んでいる。この貫通導体9は、貫通孔内壁から絶縁体10との境界までの厚みが、例えば15μm以上100μm以下に設定されている。
絶縁体10は、後述する貫通導体13の支持面を形成するものであり、例えばエポキシ樹脂等の樹脂材料を含んでいる。
一方、ビルドアップ部7は、コア基板6上に配された絶縁層11、コア基板6上又は絶縁層11上に配された配線層12、貫通孔に柱状に形成され、配線層12に電気的に接続された貫通導体(有底ビア導体ともいう)13を含んでいる。配線層12及び貫通導体13は、互いに電気的に接続されており、接地用配線、電力供給用配線及び/又は信号用配線を含む配線部を構成している。なお、図1には、配線基板3において、配線層12が接続パッドを含むものとして記載した。
絶縁層11は、配線層12の支持部材としての機能、配線層12同士の短絡を抑制する絶縁部材としての機能を有し、この絶縁層11は、例えばエポキシ樹脂等の樹脂材料を含んでいる。
配線層12は、絶縁層11を介して厚み方向に互いに離間しており、例えば銅等の導電材料を含んでいる。
貫通導体13は、厚み方向に互いに離間した配線層12(接続パッド)同士を相互に接続するものであり、平面方向への断面積がコア基板6に向って小さくなる柱状(テーパー状)に形成されており、例えば銅等の導電材料を含んでいる。この貫通導体13は、平面方向への断面積が例えば0.001mm2以上0.01mm2以下に設定されている。
そして、インターポーザ4は、電子部品2及び配線基板3の接続部材として機能するものであり、図2(a)に示すように、厚み方向に沿った貫通孔を有するコア層18aと、コア層18aの一主面(上面)に形成された第1接続パッド15aと、コア層18aの他主面(下面)に形成された第1接続パッド15bと、貫通孔内に配置され、第1接続パッド15a及び第1接続パッド15bに電気的に接続された貫通導体16aと、を含んでいる。
コア層18aは、インターポーザ4の支持部材及び絶縁部材として機能するものであり、インターポーザ4は、コア層18aの上下にそれぞれ第1絶縁層17aと第2絶縁層17bを配置して構成されている。第1絶縁層17a及び第2絶縁層17bのコア層18aとは反対側の面には、それぞれ第2接続パッド23a、第2接続パッド23bが形成されている。これらの第2接続パッド23a及び第2接続パッド23bと、第1接続パッド15a及び第1接続パッド15bとは、第1絶縁層17a、第2絶縁層17bを貫通する貫
通導体(有底ビア導体ともいう)16bに接続されている。
通導体(有底ビア導体ともいう)16bに接続されている。
言い換えれば、第1絶縁層17aには、コア層18a側に配置された第1接続パッド15aと、第1接続パッド15aと対向するように配置された第2接続パッド23aとが形成され、これらの第1接続パッド15aと第2接続パッド23aとが貫通導体16bで接続され、第2絶縁層17bには、コア層18a側に配置された第1接続パッド15bと、第1接続パッド15bと対向するように配置された第2接続パッド23bとが形成され、これらの第1接続パッド15bと第2接続パッド23bとが貫通導体16bで接続され、コア層18aの対向する位置に形成された第1接続パッド15b同士は貫通導体16aで接続されている。
貫通導体16aと貫通導体16bは直線状に形成されており、図1では、貫通導体16として記載した。
電子部品2と対向する第1絶縁層17aの表面には配線層22が形成されており、この配線層22は、図2(b)に示すように、配線層22が形成された第1絶縁層17aの面の第2接続パッド23aと接続され、引き回されている。この配線層22の幅Bは10μm以下とされ、厚みは10μm以下とされている。図2(a)は、図2(b)のa−a線に沿った断面図である。幅Bは4μm以上8μm以下が望ましい。
第1絶縁層17a、第2絶縁層17bと、これらの第1絶縁層17a、第2絶縁層17bの表面に形成された第1接続パッド15a、第1接続パッド15b、第2接続パッド23a、第2接続パッド23bと、配線層22とから、ビルドアップ層が構成され、コア層18aの上下に、それぞれ1層の絶縁層17a、17bを有するビルドアップ層が形成されている。
第1絶縁層17a、第2絶縁層17bの貫通導体16bは、直径が25μm以下とされている。言い換えれば、貫通孔の直径が25μm以下とされている。貫通導体16bの直径は、第1絶縁層17a、第2絶縁層17bの表面における貫通導体16bの最大径をいう。貫通導体16bの直径は10μm以上25μm以下が望ましい。
また、第1絶縁層17a、第2絶縁層17bは、配線層配置面17a1を有する1層の樹脂層から構成されており、配線層配置面17a1の表面粗さは20nm以下とされている。貫通導体16bは第1接続パッド15a、15bと直接接合している。ここで、直接接合しているとは、走査型電子顕微鏡(SEM:1万倍)で見たときに、第1接続パッド15a、15bと貫通導体16bとの接続部にスミアの存在を確認できないことをいう。
また、配線層配置面17a1の表面粗さとは、配線層22が形成される部分の配線層22の幅方向における断面のSEM写真5枚(異なる配線層22が形成される部分のSEM写真5枚)から、配線層の幅における第1絶縁層17a表面の谷底から山頂までの最大の高さをそれぞれ求め、平均した値である。
貫通導体16bは第1接続パッド15a、15bと直接接合しているため、これらの接続が強固であり、これにより、配線層22と貫通導体16bとを確実に電気的に接続できる。また、配線層配置面17a1の表面粗さは20nm以下であるため、その表面に形成される配線層22の表面粗さも小さくなり、高周波特性の優れた配線層22とすることができる。さらに、表面粗さが20nm以下と小さいため、配線層22を細線化、薄層化した場合でも、配線層22の断線等を防止できる。
また、インターポーザ4は、厚みが電子部品2及び配線基板3よりも小さく設定されて
いる。その結果、インターポーザ4を薄くすることにより、電子装置1を小型化できるとともに、電子部品2及び配線基板3の間の配線長を短くして信号伝送特性を高めることができる。また、インターポーザ4を薄くすることによって、外部からの応力により変形し易くすることできるため、例えば電子部品2が熱膨張した際に、インターポーザ4が変形することにより、電子部品2との接続部に印加される応力を緩和し、ひいては電子部品2との電気的接続信頼性を高めることができる。
いる。その結果、インターポーザ4を薄くすることにより、電子装置1を小型化できるとともに、電子部品2及び配線基板3の間の配線長を短くして信号伝送特性を高めることができる。また、インターポーザ4を薄くすることによって、外部からの応力により変形し易くすることできるため、例えば電子部品2が熱膨張した際に、インターポーザ4が変形することにより、電子部品2との接続部に印加される応力を緩和し、ひいては電子部品2との電気的接続信頼性を高めることができる。
なお、インターポーザ4は、厚みが電子部品2の例えば0.2倍以上0.8倍以下に設定され、且つ厚みが配線基板3の例えば0.015倍以上0.5倍以下に設定されている。このようなインターポーザ4の厚みは、例えば0.06mm以上0.30mm以下に設定されている。
第1絶縁層17a及び第2絶縁層17bは、樹脂材料からなる樹脂層からなり、絶縁層17a、17bを構成する樹脂層は、耐プラズマ樹脂から構成され、例えば、PPS樹脂、ハイグレードなポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂から構成されている。耐プラズマ樹脂とは、一般に耐プラズマ材料として販売されているものであり、プラズマデスミアを行った際に、表面粗さが20nm以下の樹脂である。
絶縁層17a、17b内には、配線層配置面17a1の表面粗さを20nm以下とする点からは、無機絶縁フィラーや繊維からなる基材は含有しないことが望ましい。
一方、コア層18aは、例えばエポキシ樹脂、ビスマレイミドトリアジン樹脂、シアネート樹脂、ポリパラフェニレンベンズビスオキサゾール樹脂、全芳香族ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、芳香族液晶ポリエステル樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリエーテルケトン樹脂又は液晶ポリマー等の樹脂材料を含んでおり、さらに、無機絶縁フィラーや繊維からなる基材を含んでも構わない。
接続パッド15a、15b、23a、23bは、例えば銅、銀、金、アルミニウム、ニッケル、クロム、タングステン又はモリブデン等の導電材料を含んでおり、導電性や加工性の観点から銅を含むことが望ましい。
接続パッド15a、15b、23a、23bは、平面視した時に、円形状をなしており、第1樹脂層17a表面の第1接続パッド23a間には、幅が10μm以下の配線層22が引き回されている。
貫通導体16aは、接続パッド15aと接続パッド15bを電気的に接続する機能を有し、貫通導体16bは、接続パッド23aと接続パッド23bを電気的に接続する機能を有しており、例えば銅、銀、金、アルミニウム、ニッケル、クロム、タングステン又はモリブデンの導電材料を含んでおり、導電性や加工性の観点から銅を含むことが望ましい。
また、貫通導体16bは、貫通孔に充填され円柱状とされている。その結果、貫通孔の直径をより小さくし微細化した場合においても、貫通導体16bにおける断線を低減することにより、配線基板3と電子部品2との電気的接続信頼性を高めることができる。
また、貫通導体16bは、直径が25μm以下とされている。その結果、端子が微細化された電子部品2側において、接続パッド23a、23bを小径化でき、配線層22を微細化することができる。
第1バンプ5aは、電子部品2及びインターポーザ4の電気的接続部材として機能するものであり、電子部品2とインターポーザ4の第1接続パッド15aとの間に介在されて
おり、例えば鉛、錫、銀、金、銅、亜鉛、ビスマス、インジウム又はアルミニウム等を含む半田等の導電材料により構成されている。
おり、例えば鉛、錫、銀、金、銅、亜鉛、ビスマス、インジウム又はアルミニウム等を含む半田等の導電材料により構成されている。
また、第2バンプ5bは、インターポーザ4及び配線基板3の電気的接続部材として機能するものであり、インターポーザ4の第2接続パッド15bと配線基板3の最上層の配線層12との間に介在されており、第1バンプ5aと同様の導電材料により構成されている。
また、第3バンプ5cは、配線基板3及び外部回路の電気的接続部材として機能するものであり、配線基板3の最下層の配線層12の主面に形成されており、第1バンプ5aと同様の導電材料により構成されている。
インターポーザ4を小型化して信号伝送特性を高めるという点から、コア層18aの厚みは、例えば、40μm以上100μm以下とされ、インターポーザ4の厚みは、例えば、60μm以上300μm以下とされている。
かくして、上述した電子装置1は、配線基板3からインターポーザ4を介して供給される電源や信号に基づいて電子部品2を駆動若しくは制御することにより、所望の機能を発揮する。
次に、上述した電子装置1の製造方法を、図3に基づいて説明する。
(配線基板の作製)
コア基板6を作製する。具体的には、例えば以下のように行う。
コア基板6を作製する。具体的には、例えば以下のように行う。
まず、例えば未硬化樹脂と基材とを含む複数の樹脂シートを積層し、加熱加圧して未硬化樹脂を硬化させることにより、樹脂基板8を作製する。なお、未硬化は、ISO472:1999に準ずるA‐ステージ又はB‐ステージの状態である。次に、例えばドリル加工やレーザ加工等により、樹脂基板8を厚み方向に貫通した貫通孔を形成する。次に、例えば無電解めっき法、電気めっき法、蒸着法、CVD法又はスパッタリング法等により、貫通孔の内壁に導電材料を被着させて、円筒状の貫通導体9を形成する。また、樹脂基板8の上面及び下面に導電材料を被着させて、導電材料層を形成する。次に、円筒状の貫通導体9の内部に、樹脂材料等を充填し、絶縁体10を形成する。次に、導電材料を絶縁体10の露出部に被着させた後、従来周知のフォトリソグラフィー技術、エッチング等により、導電材料層をパターニングして配線層12を形成する。
以上のようにして、図1(a)に示すコア基板6を作製することができる。
コア基板6の両側に一対のビルドアップ部7を形成し、配線基板3を作製する。具体的には、例えば以下のように行う。
まず、未硬化の樹脂を配線層12上に配置し、樹脂を加熱して流動密着させつつ、更に加熱して樹脂を硬化させることにより、配線層12上に絶縁層11を形成する。次に、例えばYAGレーザ装置又は炭酸ガスレーザ装置により、絶縁層11に貫通孔を形成し、貫通孔内に配線層12の少なくとも一部を露出させる。次に、例えばセミアディティブ法、サブトラクティブ法又はフルアディティブ法等を用いて、貫通孔に貫通導体13を形成するとともに絶縁層11の上面に配線層12を形成することにより、ビルドアップ部7を形成する。なお、かかる工程を繰り返すことにより、絶縁層11が多層化したビルドアップ部7を形成することができる。
以上のようにして、図1に示す配線基板3を作製することができる。
(インターポーザの作製)
コア層18aを作製する。具体的には、例えば以下のように行う。まず、例えば未硬化樹脂と繊維等の基材とを含む複数の樹脂シートを積層し、加熱加圧して未硬化樹脂を硬化させることにより、コア層18aを作製する。なお、未硬化は、ISO472:1999に準ずるA‐ステージ又はB‐ステージの状態である。次に、例えばドリル加工やレーザ加工等により、コア層18aを厚み方向に貫通した貫通孔を形成する。
コア層18aを作製する。具体的には、例えば以下のように行う。まず、例えば未硬化樹脂と繊維等の基材とを含む複数の樹脂シートを積層し、加熱加圧して未硬化樹脂を硬化させることにより、コア層18aを作製する。なお、未硬化は、ISO472:1999に準ずるA‐ステージ又はB‐ステージの状態である。次に、例えばドリル加工やレーザ加工等により、コア層18aを厚み方向に貫通した貫通孔を形成する。
次に、例えば無電解めっき法、電気めっき法、蒸着法、CVD法又はスパッタリング法等により、貫通孔内に導電材料を充填させて、円柱状の貫通導体16aを形成する。また、コア層18aの上面及び下面に導電材料を被着させて、接続パッド15a、15bを形成する。
以上のようにして、図3(a)に示すコア層18aと接続パッド15a、15bとを作製することができる。
一方、図3(a)に示すように、例えば支持部材としての銅箔15xと、該銅箔15x上に形成された第1絶縁層17a又は第2絶縁層17bと、を有する2種の絶縁シート20を作製する。具体的には、例えば以下のように行う。
まず、銅箔15xと、第1絶縁層17a又は第2絶縁層17bを形成する樹脂を含むペーストを、銅箔15xの一主面に塗布し、乾燥させ、銅箔15x上に第1絶縁層17a又は第2絶縁層17bを形成する。この積層体を、図3(a)に示すように、第1絶縁層17a又は第2絶縁層17bがコア層18aに当接するように(接続パッド15a、15bを埋め込むように)積層し、図3(b)に示すように、銅箔15xを剥離する。
そして、第1絶縁層17a及び第2絶縁層17bに厚み方向に貫通する貫通導体16b、接続パッド23a、23b、第1接続パッド23aが形成される第1絶縁層17aの表面の配線層22を形成することにより、インターポーザ4を作製する。具体的には、例えば以下のように行う。
まず、図3(b)に示すように、第1絶縁層17a及び第2絶縁層17bに、例えば、UV−YAGレーザのレーザ光を照射することにより、絶縁層17a、17bを厚み方向に貫通する微細な貫通孔を形成し、接続パッド15a、15bの一部を貫通孔内に露出させる。
この後、図3(b)に示した状態の基板に対して、一方側主面の全体に対して、例えば、プラズマデスミア処理を行い、UV−YAGレーザによる貫通孔形成時に発生した貫通孔底のスミアを除去する。その後、他方側主面の全体に対して、プラズマデスミア処理を行い貫通孔底のスミアを除去する。
そして、絶縁層17a、17bの主面、貫通孔の底及び側面に、例えばNi−Crのスパッタ膜(下地導電層)を形成し、その後、貫通導体16b、接続パッド23a、23b、配線層22を形成する部分が開口するレジスト35を絶縁層17a、17b表面に形成し、例えば電気めっき法を用いて、スパッタ膜上にCuめっきを行い、図3(c)に示すように、Cuを貫通孔に充填して貫通導体16bを形成し、第1絶縁層17a及び第2絶縁層17bの表面に、接続パッド23a、23bを形成し、及び第1絶縁層17aの表面に配線層22を形成し、この後、図3(d)に示すように、レジスト35を剥離する。
この後に、配線層22間、接続パッド23a、23b間の絶縁を確保するため、これらの間のスパッタ膜を、エッチング液にて除去する。図4に工程のフローチャートを示す。
以上のような工程でインターポーザを作製することができる。
従来のように配線層配置面17a1の表面粗さが大きい場合、下地導電層としてのスパッタ膜のエッチングを十分に行う必要があるが、これに伴い、配線層22が細り、断線等するおそれがあったが、上記したように、配線層配置面17a1の表面粗さが小さいため、エッチング時間等が短くなり、配線層22の断線等を防止できる。
(電子装置1の作製)
第2バンプ5bを介して配線基板3にインターポーザ4を実装し、第1バンプ5aを介してインターポーザ4に電子部品2を実装することにより、図1に示した電子装置1を作製することができる。
第2バンプ5bを介して配線基板3にインターポーザ4を実装し、第1バンプ5aを介してインターポーザ4に電子部品2を実装することにより、図1に示した電子装置1を作製することができる。
なお、上述した第1実施形態は、配線基板3として樹脂製のビルドアップ部7を用いた構成を例に説明したが、配線基板は、例えばセラミック製の基板や樹脂とセラミックスの複合基板でも構わないし、樹脂製のコアレス基板や単層のプリント板でも構わない。
また、上述した第1実施形態は、配線基板3のビルドアップ部7の絶縁層11が1層である構成を例に説明したが、ビルドアップ部の絶縁層は何層形成されていても構わない。
また、上述した第1実施形態は、インターポーザ4の貫通導体16が貫通孔に充填された構成を例に説明したが、貫通導体16は貫通孔に配されていればよく、例えば貫通孔の内壁に被着されて円筒状に形成されていても構わない。
(第2実施形態)
次に、第2実施形態に係るインターポーザを含む電子装置を、図5に基づいて詳細に説明する。なお、上述した第1実施形態と同様の構成に関しては、記載を省略する。
次に、第2実施形態に係るインターポーザを含む電子装置を、図5に基づいて詳細に説明する。なお、上述した第1実施形態と同様の構成に関しては、記載を省略する。
第1インターポーザ4aは、貫通導体16上端に接続された第1接続パッド23aが、第1バンプ5aを介して第1電子部品2aに電気的に接続されている。ここで、本実施形態の電子装置1は、第2電子部品2bは、厚み方向に貫通する導電性の貫通電極37を有している。これにより、第1インターポーザ4aは、貫通導体37下端に接続された第2接続パッド23bが、第1バンプ5aを介して第2電子部品2bの貫通電極37上端と電気的に接続されている。そして、第2インターポーザ4bは、貫通導体37上端に接続された第1接続パッド23aが、第1バンプ5aを介して第2電子部品2bの貫通電極37下端に電気的に接続されている。なお、符号25は、コア層18aの繊維状の基体を示す。
以上のようにして、厚み方向に交互に積層された電子部品2及びインターポーザ4を、互いに電気的に接続することにより、インターポーザ4は、第2接続パッド23bを電子部品2搭載領域内から電子部品2搭載領域外へ引きまわす必要が無く、インターポーザ4を小型化するとともに、配線長を短くすることにより信号伝送特性を高めることができる。
上述した貫通電極37は、電子部品2を厚み方向に貫通する貫通孔に導電材料が充填されてなり、該導電材料としては、例えば銅、銀、金、アルミニウム、ニッケル等を使用することができる。
本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更、改良、組み合わせ等が可能である。例えば、各実施形態のインターポーザを置き換えても構わない。
例えば、図6(a)に示すように、第1絶縁層17aのみならず、第2絶縁層17bにも配線層22を形成しても良い。この場合には、コア層18aを介してビルドアップ層の層構成が対称となるため、インターポーザ4の反りを抑制できる。また、このようなインターポーザ4は、図5に示したような電子装置に用いることができる。
また、上記形態では、絶縁層17a、17bを耐プラズマ性樹脂材料から構成したが、図6(b)に示すように、絶縁層17aを少なくとも2層から構成し、配線層配置面17a1を有する樹脂層17aaと、該樹脂層17aaのコア層18a側に、他の樹脂層17abとを有しても良い。他の樹脂層17abは、接続パッド15aを埋め込むもので、高絶縁性であることが望ましい。この場合には、良好な配線層を形成できるとともに、絶縁層17aの絶縁性等を向上できる。なお、絶縁層17bの層構成を絶縁層17aと同様に形成することにより、絶縁層17a、17bの層構成が対称となり、インターポーザ4の反りを抑制できる。なお、この樹脂層17aa及び樹脂層17abを有する絶縁層17aの構造を、図6(a)の第2絶縁層17bに採用しても良い。
また、図7(a)は、ビルドアップ層を、表面に配線層22を有する2層の絶縁層17aから構成したもので、電子部品側(コア層18aの上面側)のビルドアップ部の2層の絶縁層17aに、配線層22を形成した形態である。このような形態では、電子部品2のさらなる小型化に対応することができる。なお、図7(b)に示すように、コア層18aの両側に配線層22を有する2層の絶縁層17aからなるビルドアップ部を形成しても良い。さらに、ビルドアップ層を表面に配線層22を有する3層以上の絶縁層から構成しても良い。
厚さ40μmのコア層18aを準備し、その両面に接続パッド15a、15bを形成した。この後、銅箔15x上に、第1絶縁層17a、第2絶縁層17bを形成する樹脂ペースト(エポキシ系樹脂)を塗布し、乾燥させ、図3(a)に示すように、第1絶縁層17a、第2絶縁層17bがコア層18aに当接するように積層し、銅箔15xを剥離した。
次に、図3(b)に示すように、第1絶縁層17a及び第2絶縁層17bに、表1に示すレーザ光を照射することにより貫通孔を形成し、接続パッド15a、15bの一部を貫通孔内に露出させた。
この後、図3(b)に示した状態の基板に対して、表1に示すようなデスミア処理を行い、貫通孔底のスミアを除去した。
この後、絶縁層17a、17bの主面、貫通孔の底及び側面に、Ni−Crのスパッタ膜(下地導電層)を形成し、その後、貫通導体16b、接続パッド23a、23b、及び配線層22を形成する部分が開口するレジスト35を絶縁層17a、17b表面に形成し、電気めっき法を用いて、スパッタ膜上にCuめっきを行い、図3(c)に示すように、貫通孔に充填して貫通導体16bを形成し、第1絶縁層17a、第2絶縁層17bの表面に、接続パッド23a、23b及び表1に示す幅、厚みの配線層22を形成し、この後、図3(d)に示すように、レジスト35を剥離した。配線層22間の間隔は6μmであった。
この後、配線層22間、接続パッド23a、23b間の絶縁を確保するため、これらの
間のスパッタ膜を、エッチング液にて除去した。インターポーザ4の厚みは140μmであった。
間のスパッタ膜を、エッチング液にて除去した。インターポーザ4の厚みは140μmであった。
配線層22が形成された部分の断面のSEM写真(1万倍)から、表面粗さを求め、配線層配置面17a1の表面粗さとし、表1に記載した。また、貫通導体16bの直径を求め、表1に記載した。
得られたインターポーザ4について、配線層22間の絶縁抵抗を測定したところ、本発明の試料では1×108Ω以上と良好であり、貫通導体16bと接続パッド15a、15bとが直接接合していた。
また、配線層22の断線の有無についてSEM写真で確認し、その結果を表1に記載した。さらに、接続パッド15a、15b、23a、23bと、これらの接続パッド15a、15b、23a、23bに接続された配線層22との間の導電性について、ビアチェーン(全部の貫通導体16を直列接続)を作製することにより測定し、−55〜125°温度サイクル試験(1000サイクル)において、絶縁抵抗の変化率が初期値に対して5%以内のものを良好(○)とした。
表1の結果から、配線層の幅が10μm以下であり、貫通導体16bの直径が25μm以下であり、配線層配置面の表面粗さが20nm以下である本発明の試料では、配線層の表面粗さが小さいため高周波特性に優れ、配線層の断線がなく、貫通導体と配線層との導線性が良好であることがわかる。
一方、比較例の試料No.5、6から、配線層の幅を10μmよりも小さくした場合に、配線層配置面の表面粗さが20nmよりも大きくなり、配線層が断線することがわかる。
1 電子装置
2、2a、2b 電子部品
3 配線基板
4、4a、4b インターポーザ
15a、15b 第1接続パッド
16、16a、16b 貫通導体
17a 第1絶縁層
17a1 配線層配置面
17b 第2絶縁層
18a コア層
22 配線層
23a、23b 第2接続パッド
2、2a、2b 電子部品
3 配線基板
4、4a、4b インターポーザ
15a、15b 第1接続パッド
16、16a、16b 貫通導体
17a 第1絶縁層
17a1 配線層配置面
17b 第2絶縁層
18a コア層
22 配線層
23a、23b 第2接続パッド
Claims (7)
- コア層と、該コア層に配置されたビルドアップ層とを具備するとともに、
前記ビルドアップ層が、
前記コア層に配置された樹脂層を具備する絶縁層と、
該絶縁層の前記コア層側に配置された第1接続パッドと、
該第1接続パッドと対向するように前記絶縁層に配置された第2接続パッドと、
該第2接続パッドが配置された側の前記絶縁層の前記樹脂層に配置された幅が10μm以下の配線層と、
前記第1接続パッドと前記第2接続パッドとの間における前記絶縁層を厚み方向に貫通する直径が25μm以下の貫通導体とを具備し、
該貫通導体が前記第1接続パッドと直接接合し、
前記樹脂層の配線層配置面の表面粗さが20nm以下であることを特徴とするインターポーザ。 - 前記樹脂層の前記配線層配置面は、耐プラズマ樹脂材料で構成されていることを特徴とする請求項1に記載のインターポーザ。
- 前記絶縁層は1層の前記樹脂層からなることを特徴とする請求項1又は2に記載のインターポーザ。
- 前記絶縁層は、前記配線層配置面を有する樹脂層と、該樹脂層と前記コア層との間に配置された他の樹脂層とを有することを特徴とする請求項1又は2に記載のインターポーザ。
- 前記ビルドアップ層は、複数の前記絶縁層を有することを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれかに記載のインターポーザ。
- 配線基板と、
該配線基板上に実装される電子部品と、
前記配線基板と前記電子部品との間に介在して、前記配線基板と前記電子部品とを電気的に接続する請求項1乃至5のうちいずれかに記載のインターポーザと、を備えたことを特徴とする電子装置。 - 厚み方向に離間した第1及び第2電子部品と、
前記第1及び第2電子部品の間に介在して、前記第1及び第2電子部品を電気的に接続する請求項1乃至5のうちいずれかにに記載のインターポーザと、を備えたことを特徴とする電子装置。
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JP2019080063A (ja) * | 2017-10-24 | 2019-05-23 | 啓耀光電股▲分▼有限公司 | 電子装置及びその製造方法 |
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-
2015
- 2015-06-25 JP JP2015127808A patent/JP2017011215A/ja active Pending
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