JP2017002305A - プリプレグ、金属張積層板、プリント配線板 - Google Patents

プリプレグ、金属張積層板、プリント配線板 Download PDF

Info

Publication number
JP2017002305A
JP2017002305A JP2016116492A JP2016116492A JP2017002305A JP 2017002305 A JP2017002305 A JP 2017002305A JP 2016116492 A JP2016116492 A JP 2016116492A JP 2016116492 A JP2016116492 A JP 2016116492A JP 2017002305 A JP2017002305 A JP 2017002305A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
prepreg
formula
component
metal
resin composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2016116492A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6793326B2 (ja
Inventor
孝 星
Takashi Hoshi
孝 星
武士 北村
Takeshi Kitamura
武士 北村
柏原 圭子
Keiko Kashiwabara
圭子 柏原
博晴 井上
Hiroharu Inoue
博晴 井上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Original Assignee
Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd filed Critical Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Publication of JP2017002305A publication Critical patent/JP2017002305A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6793326B2 publication Critical patent/JP6793326B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/0353Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
    • H05K1/0366Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement reinforced, e.g. by fibres, fabrics
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/08Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B32B15/092Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin comprising epoxy resins
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/14Layered products comprising a layer of metal next to a fibrous or filamentary layer
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/18Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives
    • B32B27/20Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives using fillers, pigments, thixotroping agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/68Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the catalysts used
    • C08G59/686Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the catalysts used containing nitrogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/24Impregnating materials with prepolymers which can be polymerised in situ, e.g. manufacture of prepregs
    • C08J5/241Impregnating materials with prepolymers which can be polymerised in situ, e.g. manufacture of prepregs using inorganic fibres
    • C08J5/244Impregnating materials with prepolymers which can be polymerised in situ, e.g. manufacture of prepregs using inorganic fibres using glass fibres
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/0271Arrangements for reducing stress or warp in rigid printed circuit boards, e.g. caused by loads, vibrations or differences in thermal expansion
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/0353Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
    • H05K1/0373Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement containing additives, e.g. fillers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2250/00Layers arrangement
    • B32B2250/022 layers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2260/00Layered product comprising an impregnated, embedded, or bonded layer wherein the layer comprises an impregnation, embedding, or binder material
    • B32B2260/04Impregnation, embedding, or binder material
    • B32B2260/046Synthetic resin
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00Electrical equipment
    • B32B2457/08PCBs, i.e. printed circuit boards
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/40Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
    • C08G59/62Alcohols or phenols
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2363/00Characterised by the use of epoxy resins; Derivatives of epoxy resins
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2433/00Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
    • C08J2433/02Homopolymers or copolymers of acids; Metal or ammonium salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2433/00Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
    • C08J2433/04Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters
    • C08J2433/06Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters of esters containing only carbon, hydrogen, and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2433/00Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
    • C08J2433/04Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters
    • C08J2433/06Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters of esters containing only carbon, hydrogen, and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C08J2433/08Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2201/00Properties
    • C08L2201/08Stabilised against heat, light or radiation or oxydation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2203/00Applications
    • C08L2203/20Applications use in electrical or conductive gadgets
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L63/00Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/01Dielectrics
    • H05K2201/0104Properties and characteristics in general
    • H05K2201/0133Elastomeric or compliant polymer
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/02Fillers; Particles; Fibers; Reinforcement materials
    • H05K2201/0203Fillers and particles
    • H05K2201/0206Materials
    • H05K2201/0209Inorganic, non-metallic particles
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/02Fillers; Particles; Fibers; Reinforcement materials
    • H05K2201/0203Fillers and particles
    • H05K2201/0206Materials
    • H05K2201/0224Conductive particles having an insulating coating
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/02Fillers; Particles; Fibers; Reinforcement materials
    • H05K2201/0275Fibers and reinforcement materials
    • H05K2201/029Woven fibrous reinforcement or textile

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Reinforced Plastic Materials (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Textile Engineering (AREA)

Abstract

【課題】パッケージの反りを低減できると共に、吸湿耐熱性を向上できるプリプレグの提供。【解決手段】樹脂組成物及び織布基材で形成されたプリプレグ。樹脂組成物が、(A)ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂及びナフタレン骨格を有するフェノール性硬化剤の少なくとも一方と、(B)少なくともスチレン、α−メチルスチレン、ベンジル(メタ)アクリレート、2−フェニルエチル(メタ)アクリレートから選ばれる1種以上のモノマーとエポキシ基を有する(メタ)アクリレートとをコモノマーとして含み重量平均分子量が20万〜85万である高分子量体と、(C)無機充填材とを含有するプリプレグ。【選択図】図1

Description

本発明は、プリプレグ、前記プリプレグを用いて形成された金属張積層板、前記金属張積層板を用いて形成されたプリント配線板に関する。
従来、プリプレグは、熱硬化性樹脂を含有する樹脂組成物を織布基材に含浸させると共に、半硬化状態となるまで加熱乾燥して形成されている(例えば、特許文献1−3参照)。そして、このようにして形成されたプリプレグに金属箔を積層することによって金属張積層板を製造することができ、さらにこの金属張積層板に導体パターンを設けることによってプリント配線板を製造することができる。その後、このプリント配線板に半導体素子を実装して封止することによってパッケージが製造されている。
近年、スマートフォンやタブレットPCに多く用いられるパッケージとしてPoP(パッケージ・オン・パッケージ,Package on Package)が挙げられる。このPoPは複数のサブパッケージを積層する形態であるため、サブパッケージの実装性やサブパッケージごとの電気的な導通信頼性が重要となる。そして、この実装性や導通信頼性はパッケージ(サブパッケージも含む)の室温での反りの絶対値が小さければ小さいほど、また室温から260℃まで雰囲気温度を変化させたときの反りの変化量が少なければ少ないほど向上する。したがって、現在、パッケージの反りが小さくなる基板材料の開発が盛んに行われている。
特開2006−137942号公報 特開2007−138152号公報 特開2008−007756号公報
現在、パッケージの反りを小さくする基板材料として提案されているのは、高剛性、低熱膨張率という方向性で開発した材料である。すなわち、剛性が高ければ高いほど、熱膨張率(CTE:coefficient of thermal expansion)が低ければ低いほど、パッケージの反りが小さくなるという提案である。
しかし、このような高剛性、低熱膨張率の材料は、特定のパッケージ形態には反りを低減する効果が確認されているものの、パッケージ形態が変わると全く異なる反り挙動となるため、汎用性に欠けるという問題があった。
また、パッケージの製造に用いられるプリント配線板において、絶縁層の厚みが0.2mm未満の場合、このような薄物の絶縁層の吸湿量は少ないため、はんだ付けなどで加熱されても、絶縁層を構成する樹脂の強度により絶縁層の膨れを抑制することができる。
しかし、絶縁層の厚みが0.2mm以上の場合、このような厚物の絶縁層の吸湿量は多くなり、この吸湿された水分がはんだ付けなどで加熱されて蒸発すると、絶縁層を構成する樹脂が破断され、絶縁層に膨れが発生してしまう。このように、特に厚みのある従来のプリント配線板には吸湿耐熱性が低いという問題があった。
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、パッケージの反りを低減することができると共に、吸湿耐熱性を向上させることができるプリプレグ、金属張積層板、プリント配線板を提供することを目的とする。
本発明に係るプリプレグは、
樹脂組成物及び織布基材で形成されたプリプレグであって、
前記樹脂組成物が、
(A)ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂及びナフタレン骨格を有するフェノール性硬化剤の少なくとも一方と、
(B)式(1)、式(2)及び式(3)のうちの少なくとも式(2)及び式(3)で表される構造を有し、重量平均分子量が20万〜85万である高分子量体と、
(C)無機充填材と
を含有する。
Figure 2017002305
前記プリプレグは、硬化状態において、損失弾性率と貯蔵弾性率の比が60℃以下の温度域と200℃以上の温度域において0.05以上であることが好ましい。
前記プリプレグは、硬化状態において、前記織布基材の縦糸又は横糸に対して斜め45°方向における引張り伸び率が5%以上であることが好ましい。
本発明に係る金属張積層板は、前記プリプレグに金属箔を積層して形成されている。
本発明に係るプリント配線板は、前記金属張積層板の前記金属箔の一部を除去して導体パターンを設けて形成されている。
本発明によれば、パッケージの反りを低減することができると共に、吸湿耐熱性を向上させることができる。
プリプレグの一例を示す概略断面図である。 織布基材の一例を示す概略平面図である。 金属張積層板の一例を示す概略断面図である。 プリント配線板の一例を示す概略断面図である。
以下、本発明の実施の形態を説明する。
本実施形態のプリプレグ1は、図1に示すように半硬化状態の樹脂組成物4及び織布基材5で形成されている。具体的には、前記プリプレグ1は、ワニス状態(Aステージ状態)の前記樹脂組成物4を前記織布基材5に含浸させると共に、これを半硬化状態(Bステージ状態)となるまで加熱乾燥することによって形成されている。
前記樹脂組成物4は、以下のような(A)成分と、(B)成分と、(C)成分とを含有する。特に前記(A)成分と前記(B)成分とは、前記樹脂組成物4の半硬化状態及び硬化状態において、相溶しないで相分離していることが好ましい。これにより、前記樹脂組成物4の硬化物のガラス転移温度(Tg)の低下が抑制され、パッケージの耐熱性(例えばはんだ耐熱性)を高めることができる。
前記(A)成分は、高剛性成分であるマトリックス樹脂であり、具体的にはナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂及びナフタレン骨格を有するフェノール性硬化剤の少なくとも一方である。すなわち、前記(A)成分には、前記ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂(以下「ナフタレン型エポキシ樹脂」ともいう。)及び前記ナフタレン骨格を有するフェノール性硬化剤(以下「ナフタレン型フェノール性硬化剤」ともいう。)の両方が含有されていてもよい。また前記(A)成分には、ナフタレン骨格を有しないエポキシ樹脂、及び前記ナフタレン型フェノール性硬化剤が含有されていてもよい。また前記(A)成分には、前記ナフタレン型エポキシ樹脂、及びナフタレン骨格を有しないフェノール性硬化剤が含有されていてもよい。このように、エポキシ樹脂及びフェノール性硬化剤の少なくとも一方がナフタレン骨格を有することによって、パッケージの耐熱性を高めることができる。
前記(B)成分は、低弾性成分であり、具体的には例えばエポキシ変性アクリル樹脂であり、以下の式(1)、式(2)及び式(3)のうちの少なくとも式(2)及び式(3)で表される構造を有する。
Figure 2017002305
すなわち、前記(B)成分の主鎖は、前記式(1)、前記式(2)及び前記式(3)のうちの少なくとも前記式(2)及び前記式(3)で表される構造を有している。
前記(B)成分の主鎖が前記式(1)、前記式(2)及び前記式(3)で表される構造を有する場合、前記式(1)、前記式(2)及び前記式(3)で表される構造の配列順序は特に限定されない。この場合、前記(B)成分の主鎖において、前記式(1)で表される構造同士が連続していても連続していなくてもよく、また前記式(2)で表される構造同士が連続していても連続していなくてもよく、また前記式(3)で表される構造同士が連続していても連続していなくてもよい。
前記(B)成分の主鎖が前記式(2)及び前記式(3)で表される構造を有する場合も、前記式(2)及び前記式(3)で表される構造の配列順序は特に限定されない。この場合、前記(B)成分の主鎖において、前記式(2)で表される構造同士が連続していても連続していなくてもよく、また前記式(3)で表される構造同士が連続していても連続していなくてもよい。
ここで、前記式(2)中のR2が、水素原子、アルキル基、グリシジル基及びエポキシ化されたアルキル基のうち、少なくともグリシジル基及びエポキシ化されたアルキル基のうちの1つを含むことの意味について補足説明する。前提として、1つの前記式(2)で表される構造におけるR2は1つである。前記(B)成分が、前記式(2)で表される構造を1つのみ有する場合と、2つ以上有する場合とに分けて説明する。
前者の場合、すなわち前記(B)成分が1つの前記式(2)で表される構造を有する場合、R2は、グリシジル基又はエポキシ化されたアルキル基である。
後者の場合、すなわち前記(B)成分が2つ以上の前記式(2)で表される構造を有する場合、少なくとも1つの前記式(2)で表される構造におけるR2は、グリシジル基又はエポキシ化されたアルキル基であり、残りの前記式(2)で表される構造におけるR2は、水素原子又はアルキル基である。少なくとも1つの前記式(2)で表される構造におけるR2が、グリシジル基又はエポキシ化されたアルキル基であるから、全部の前記式(2)で表される構造におけるR2が、グリシジル基又はエポキシ化されたアルキル基でもよい。
前記式(3)で表される構造は、Ph(フェニル基)、−COOCHPh、−COO(CHPhを有している。Ph、−COOCHPh、−COO(CHPhは熱的に安定であるため、前記樹脂組成物4の硬化物の強度が高められ、積層板(金属張積層板及びプリント配線板)の吸湿耐熱性を向上させることができる。
前記(B)成分は、炭素原子間に二重結合や三重結合のような不飽和結合を有しないことが好ましい。すなわち、前記(B)成分の炭素原子同士は飽和結合(単結合)により結合されていることが好ましい。炭素原子間に不飽和結合を有すると、経時的に酸化されることで弾性を失って脆くなるおそれがある。
前記(B)成分は、重量平均分子量(Mw)が20万〜85万の範囲内である高分子量体である。重量平均分子量の有効数字は2桁である。3桁目(千の位)を四捨五入して20万又は85万となる数値も前記範囲内に含まれる。前記(B)成分の重量平均分子量が20万より小さいと、耐薬品性が悪くなる。逆に前記(B)成分の重量平均分子量が85万より大きいと、成形性が悪くなる。前記(B)成分の重量平均分子量(Mw)は、好ましくは30万〜50万の範囲内である。
前記(B)成分が前記樹脂組成物4に含有されていると、前記樹脂組成物4の硬化物が吸湿しにくくなることによって、積層板の耐湿性を高めることができ、絶縁信頼性を向上させることができる。また前記樹脂組成物4の硬化物が吸湿したとしても、この硬化物を構成する樹脂の破断強度が高められているので、積層板の吸湿耐熱性を向上させることができる。特に絶縁層の厚みが0.2mm以上の厚物のプリント配線板の場合であっても、吸湿耐熱性が高められているので、はんだ付けなどの加熱による絶縁層の膨れを抑制することができる。もちろん絶縁層の厚みが0.2mm未満の薄物のプリント配線板の場合も吸湿耐熱性は高められている。
前記(B)成分のエポキシ価は0.01〜0.80eq/kgの範囲内であることが好ましい。エポキシ価は前記(B)成分1kg中に存在するエポキシ基の当量数である。前記(B)成分のエポキシ価が上記の範囲内であると、前記(A)成分と前記(B)成分とが相溶しにくくなり、これにより積層板のガラス転移温度(Tg)の低下が抑制され、パッケージの耐熱性を高めることができる。前記(B)成分のエポキシ価は、より好ましくは0.06〜0.40eq/kgの範囲内である。
前記(C)成分は、無機充填材である。前記無機充填材としては、特に限定されないが、例えば、球状シリカ、硫酸バリウム、酸化ケイ素粉、破砕シリカ、焼成タルク、チタン酸バリウム、酸化チタン、クレー、アルミナ、マイカ、ベーマイト、ホウ酸亜鉛、スズ酸亜鉛、その他の金属酸化物や金属水和物等を挙げることができる。前記無機充填材が前記樹脂組成物4に含有されていると、前記積層板の寸法安定性を高めることができる。
前記(C)成分は、以下の式(4)で表されるシランカップリング剤で表面処理されていることが好ましい。
Figure 2017002305
前記式(4)で表されるシランカップリング剤は、特定の官能基(メタクリル基、グリシジル基又はイソシアネート基)を末端に有する特定炭素数の脂肪族アルキル基がケイ素原子に結合した三官能アルコキシシランである。前記脂肪族アルキル基の末端にメタクリル基を有する前記シランカップリング剤としては、例えば、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシオクチルトリメトキシシランを挙げることができる。前記脂肪族アルキル基の末端にグリシジル基を有する前記シランカップリング剤としては、例えば、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシオクチルトリメトキシシランを挙げることができる。前記脂肪族アルキル基の末端にイソシアネート基を有する前記シランカップリング剤としては、例えば、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシランを挙げることができる。前記シランカップリング剤で前記無機充填材が表面処理されると、前記無機充填材の表面には前記特定炭素数の脂肪族アルキル基が存在することになる。
前記脂肪族アルキル基は、硬化後の前記プリプレグ1が熱膨張又は熱収縮する際に発生する応力を緩和させる機能を有する。前記シランカップリング剤で前記無機充填材が表面処理されると、前記脂肪族アルキル基に起因する応力緩和層が前記無機充填材の表面に形成される。前記応力緩和層を有する前記無機充填材が、前記(A)成分及び前記(B)成分中に存在することで、前記(A)成分及び前記(B)成分に対して、熱膨張又は熱収縮による応力緩和作用が発揮される。その結果、前記無機充填材を含有する硬化後の前記プリプレグ1は熱変形が起こりにくくなる。このことから、積層板の吸湿耐熱性をさらに向上させることができる。前記無機充填材の表面に前記脂肪族アルキル基が存在することによって応力緩和作用が生じる理由としては、いくつか考えられる。その理由の一つは、アルキル基の単結合が自由回転できることにより、前記(A)成分及び前記(B)成分の熱膨張又は熱収縮と共に前記無機充填材のアルキル基も熱膨張又は熱収縮することができるためである。
さらに前記脂肪族アルキル基は、前記プリプレグ1を材料として形成された金属張積層板2の穴あけ後のデスミア処理の中で、エッチング量を少なくする機能を有する。前記脂肪族アルキル基は、末端にメタクリル基、グリシジル基又はイソシアネート基を有しており、これらの官能基が前記(A)成分及び前記(B)成分と強固に結合するため、デスミアエッチング量を少なくすることができる。脂肪族アルキル基の末端にメタクリル基、グリシジル基及びイソシアネート基のいずれの官能基も有しない場合に比べて、デスミアエッチング量を少なくすることができる。
前記式(4)で表される前記シランカップリング剤における前記脂肪族アルキル基(R6)の炭素数は3以上18以下であることが好ましい。前記脂肪族アルキル基(R6)の炭素数が3以上であることによって、硬化後の前記プリプレグ1の弾性が大きくなり過ぎることを抑制することができる。
前記無機充填材を前記シランカップリング剤で表面処理する方法としては、例えば、直接処理法、インテグラルブレンド法、ドライコンセントレート法を挙げることができる。前記無機充填材を前記シランカップリング剤で表面処理するにあたって、前記無機充填材に対する前記シランカップリング剤の添加量は、特に限定されない。前記無機充填材の表層全体に前記シランカップリング剤の単分子層を形成するのに必要な前記シランカップリング剤の量は、以下の式(5)で計算することができる。この計算値の0.1〜15倍の量が好ましい前記シランカップリング剤の添加量である。この場合、前記無機充填材による応力緩和の作用がより効率的に発揮される。
=W×S/S・・・(5)
:単分子層の形成に必要な前記シランカップリング剤の量(g)
:前記無機充填材の添加量(g)
:前記無機充填材の比表面積(m/g)
:前記シランカップリング剤の最小被覆面積(m/g)
前記樹脂組成物4は、硬化促進剤を含有してもよい。前記硬化促進剤としては、例えば、イミダゾール類及びその誘導体、有機リン系化合物、オクタン酸亜鉛等の金属石鹸類、第二級アミン類、第三級アミン類、第四級アンモニウム塩を挙げることができる。
前記樹脂組成物4において前記(A)成分と前記(B)成分の質量比は90:10〜50:50であることが好ましく、80:20〜60:40であることがより好ましい。前記(A)成分において、前記エポキシ樹脂のエポキシ当量1に対して、前記フェノール性硬化剤の水酸基当量が0.2〜1.1の範囲内であることが好ましい。前記(C)成分の含有量は、前記樹脂組成物4の全量に対して80質量%以下であることが好ましく、50質量%以下であることがより好ましい。この場合の前記(C)成分の含有量は、前記(C)成分が前記シランカップリング剤で表面処理されているときは、前記シランカップリング剤も含む表面処理後の前記(C)成分の含有量である。
前記(A)成分、前記(B)成分、前記(C)成分、必要に応じて硬化促進剤を配合することによって前記樹脂組成物4を調製することができ、さらにこれを溶剤で希釈することによって前記樹脂組成物4のワニスを調製することができる。前記溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤、ジメチルホルムアミド等の窒素含有溶剤を挙げることができる。
前記織布基材5としては、図2に示す平織のように縦糸51及び横糸52がほぼ直交するように織られたものであれば特に限定されないが、例えば、ガラスクロスのように無機繊維からなるものや、アラミドクロスのように有機繊維からなるものを挙げることができる。前記織布基材5の厚みは10〜200μmの範囲内であることが好ましい。
前記プリプレグ1は、前記樹脂組成物4を前記織布基材5に含浸させると共に、これを半硬化状態となるまで加熱乾燥して製造することができる。
前記プリプレグ1は、硬化状態において、損失弾性率と貯蔵弾性率の比(損失正接tanδ=損失弾性率/貯蔵弾性率)が60℃以下の温度域と200℃以上の温度域において0.05以上であることが好ましい。このように、損失正接のピークが2つ存在することにより、前記(A)成分の高剛性成分と前記(B)成分の低弾性成分の両方の特徴を併せ持つことが可能となる。なお、損失正接は、動的粘弾性測定装置を用いて測定することができる。
前記プリプレグ1は、硬化状態において、前記織布基材5の縦糸51又は横糸52に対して斜め45°方向(例えば図2の両矢印の方向)における引張り伸び率が5%以上であることが好ましい。引張り伸び率の測定には通常、1枚の前記プリプレグ1を硬化状態(Cステージ状態)としたものを試料として用いるが、縦糸51及び横糸52の方向がそれぞれ一致するように複数枚の前記プリプレグ1を積層して硬化状態としたものを試料として用いてもよい。引張り伸び率の測定は、次のような引張り試験により行うことができる。まず、引張り試験前に縦糸51又は横糸52に対して斜め45°方向における試料の長さ(L)を測定する。このとき試料の幅は5mmに調整しておく。次に引張り試験機を用いて、速度5mm/分で縦糸51又は横糸52に対して斜め45°方向に試料を引張り、この試料が破断する直前の長さ(L)を測定する。そして、以下の式(6)によって引張り伸び率を算出することができる。
引張り伸び率(%)={(L−L)/L}×100・・・(6)
上記のようにして得られる引張り伸び率が5%以上であることによって、パッケージの反りをさらに低減することができる。
本実施形態の金属張積層板2は、前記プリプレグ1に金属箔6を積層して形成されている。具体的には、図3に示すように前記プリプレグ1が硬化して形成された絶縁層41の表面に金属箔6が接着されて、前記金属張積層板2が形成されている。この場合、1枚の前記プリプレグ1の片面又は両面に前記金属箔6を積層して成形してもよいし、複数枚の前記プリプレグ1を重ね、この片面又は両面に前記金属箔6を積層して成形してもよい。半硬化状態の前記プリプレグ1は、上述のように硬化状態の絶縁層41となる。前記絶縁層41の厚みT1が0.2mm未満の場合はもちろん、0.2mm以上の場合でも、前記金属張積層板2の吸湿耐熱性を向上させることができる。前記金属張積層板2の前記絶縁層41の厚みT1の上限は0.4mm程度である。前記金属箔6としては、例えば、銅箔を挙げることができる。積層成形は、例えば多段真空プレスやダブルベルトプレスを用いて加熱加圧して行うことができる。
本実施形態のプリント配線板3は、前記金属張積層板2の前記金属箔6の一部を除去して導体パターン7を設けて形成されている。前記導体パターン7の形成は、例えばサブトラクティブ法により行うことができる。プリント配線板3の一例を図4に示す。このプリント配線板3は、サブトラクティブ法により導体パターン7が形成され、ビルドアップ法により多層化された多層プリント配線板である。絶縁層41の内部の導体パターン7は内層パターン71であり、絶縁層41の外部表面の導体パターン7は外層パターン72である。この場合の前記絶縁層41の厚みT2が0.2mm未満の場合はもちろん、0.2mm以上の場合でも、前記プリント配線板3の吸湿耐熱性を向上させることができる。前記プリント配線板3の前記絶縁層41の厚みT2の上限は0.4mm程度である。なお、図4において織布基材5は図示省略している。
前記導体パターン7を形成するにあたって、前記絶縁層41に層間接続のための穴あけを行う。層間接続は、異なる層の導体パターン7同士の電気的な導通を行うことである。穴は、前記プリント配線板3を貫通する貫通穴(スルーホール)でもよいし、貫通しない非貫通穴(ブラインドホール)でもよい。図4に示すように、貫通穴の内面にめっきを行うなどしてバイアホール8を形成することができ、非貫通穴の内面にめっきを行うなどしてブラインドバイアホール9を形成することができる。図示省略しているが、ベリードバイアホールを形成してもよい。穴の内径は例えば0.01〜0.20mmの範囲内である。穴の深さは例えば0.02〜0.80mmの範囲内である。穴あけはドリル加工又はレーザ加工により行うことができる。
前記シランカップリング剤で表面処理された前記無機充填材が前記絶縁層41に含有されていると、前記シランカップリング剤の前記脂肪族アルキル基の末端の官能基がメタクリル基、グリシジル基又はイソシアネート基であるので、デスミアエッチング量を少なくすることができる。樹脂スミアが発生しても、穴内をケミカルホールクリーニングなどのデスミア処理で洗浄すれば、穴内の樹脂スミアをさらに除去することができる。これにより、樹脂スミアに起因する導通不良を解消し、導通信頼性を向上させることができる。
前記シランカップリング剤で表面処理された前記無機充填材が前記絶縁層41に含有されていると、前記シランカップリング剤の前記脂肪族アルキル基が応力緩和層として機能するので、プリント配線板3をその熱膨張率を小さくした上で低弾性にすることができ、高い伸び特性を付与することもできる。このことから、前記プリント配線板3の吸湿耐熱性をさらに向上させることができる。
その後、前記プリント配線板3に半導体素子を実装して封止することによって、FBGA(Fine pitch Ball Grid Array)等のパッケージを製造することができる。前記パッケージをサブパッケージとして用い、複数の前記サブパッケージを積層することによって、PoP(Package on Package)等のパッケージを製造することもできる。このように、様々な形態のパッケージを製造することができるが、いずれのパッケージについても、前記(A)成分及び前記(B)成分によって、反りが低減されていると共に吸湿耐熱性も高められている。すなわち、前記(A)成分によって剛性を高め、前記(B)成分によって弾性を低下させて応力を緩和させることができるので、前記パッケージの形態に依存することなく、汎用的に前記パッケージの反りを低減することができる。さらに前記(A)成分及び前記(B)成分によって前記パッケージの吸湿耐熱性も高めることができる。
以下、本発明を実施例によって具体的に説明する。
<配合原料>
(A)成分
(A−1)ナフタレン型エポキシ樹脂(DIC株式会社製「HP−9500」)
(A−2)ナフタレン型フェノール性硬化剤(DIC株式会社製「HPC−9500」)
(B)成分
(B−1)エポキシ変性アクリル樹脂(新中村化学工業株式会社製「KV−8161」)
これは、前記式(1)、前記式(2)及び前記式(3)で表される構造(R1は水素原子又はメチル基、R2はメチル基、エチル基、ブチル基又はグリシジル基、R3は水素原子又はメチル基、R4は−COOCHPh)を有し、炭素原子間に不飽和結合を有せず、重量平均分子量が30万、エポキシ価が0.21eq/kgである。
(B−2)エポキシ変性アクリル樹脂(新中村化学工業株式会社製「KV−8162」)
これは、前記式(1)、前記式(2)及び前記式(3)で表される構造(R1は水素原子又はメチル基、R2はメチル基、エチル基、ブチル基又はグリシジル基、R3は水素原子又はメチル基、R4は−COOCHPh)を有し、炭素原子間に不飽和結合を有せず、重量平均分子量が50万、エポキシ価が0.21eq/kgである。
(B−3)エポキシ変性アクリル樹脂(ナガセケムテックス株式会社製「SG−P3改215Mw2」)
これは、前記式(1)及び前記式(2)で表される構造(R1は水素原子又はメチル基、R2はメチル基、エチル基又はブチル基)を有し、炭素原子間に不飽和結合を有せず、重量平均分子量が50万、エポキシ価が0.21eq/kgである。
(C)成分
(C−1)HTMS表面処理シリカ
これは、ヘキシルトリメトキシシラン(「HTMS」と略記)で表面処理された球状シリカ(株式会社アドマテックス製「SC2500−GFL」)である。
(C−2)IPTES表面処理シリカ
これは、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン(「IPTES」と略記)で表面処理された球状シリカ(株式会社アドマテックス製「SC2500−GNO」)である。
(C−3)表面処理されていない球状シリカ(株式会社アドマテックス製「SO−25R」)
(その他)
硬化促進剤(イミダゾールである四国化成工業株式会社製「2E4MZ」)
織布基材(ガラスクロスである日東紡績株式会社製「WEA116E」、厚み88μm)
(プリプレグ)
(A)成分、(B)成分、(C)成分、硬化促進剤を表1に示す配合量(質量部)で配合し、さらに溶剤(メチルエチルケトン)で希釈することによって樹脂組成物のワニスを調製した。実施例1〜4では(A)成分と(B)成分とは相溶しないで相分離している。
次に、樹脂組成物を織布基材に硬化後の厚みが100μmとなるように含浸させると共に、これを半硬化状態となるまで130℃で6分間加熱乾燥することによってプリプレグを製造した。
(金属張積層板)
プリプレグを2枚重ね、この両面に金属箔として銅箔(厚み12μm)を積層して、真空条件下、2.94MPa(30kgf/cm)で加圧しながら、220℃で60分間加熱して成形することによって、金属張積層板として銅張積層板(CCL)を製造した。この金属張積層板の絶縁層の厚みは200μmであった。
<評価項目>
以下の物性評価を行い、その結果を表1に示す。
(損失正接(tanδ)及びガラス転移温度(Tg))
プリプレグを1枚用い、これを硬化状態とし、さらに50mm×5mmの大きさに切断して試料を作製した。この試料の損失正接(tanδ)は、動的粘弾性測定装置(エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製「DMS6100」)を用いて、5℃/分の条件で昇温することにより測定した。損失正接(tanδ)が最大となるときの温度をガラス転移温度(Tg)とした。
(弾性率)
プリプレグを8枚重ねて加熱加圧成形して硬化状態の試料を作製した。この試料の25℃における弾性率を動的粘弾性測定装置(エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製「DMS6100」)を用いて測定した。
(熱膨張率(CTE))
プリプレグを1枚用い、これを硬化状態として試料を作製した。この試料の樹脂組成物の硬化物のガラス転移温度(Tg)未満の温度において、試料の織布基材の横糸と平行な方向の熱膨張率(CTE)をJIS C 6481に従ってTMA法(Thermal mechanical analysis method)により測定した。測定には、熱機械分析装置(エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製「TMA6100」)を用いた。
(引張り伸び率)
プリプレグを1枚用い、これを硬化状態としたものを試料とした。引張り伸び率の測定は、次のような引張り試験により行った。まず、引張り試験前に縦糸又は横糸に対して斜め45°方向における試料の長さ(L)を測定した。このとき試料の幅は5mmに調整しておいた。次に引張り試験機(株式会社島津製作所製「オートグラフAGS−X」)を用いて、速度5mm/分で縦糸又は横糸に対して斜め45°方向に試料を引張り、この試料が破断する直前の長さ(L)を測定した。そして、次の式によって引張り伸び率を算出した。
引張り伸び率(%)={(L−L)/L}×100
(引張り強度)
プリプレグを1枚用い、これを硬化状態としたものを試料とした。引張り強度の測定は、次のような引張り試験により行った。試料の幅を5mmとし、つかみ間距離60mmをとして引張り試験機(株式会社島津製作所製「オートグラフAGS−X」)にセットした。その後、速度5mm/分で縦糸又は横糸に対して斜め45°方向に試料を引張り、この試料が破断したときの強度を引張り強度として測定した。
(吸湿耐熱性試験)
金属張積層板の表面の金属箔をエッチングにより除去し、正方形状に切断して試験片(大きさ5cm×5cm)を得た。前処理としてこの試験片を100℃のオーブンに1時間入れて乾燥させた。その後、121℃、湿度100%、2気圧(202.7kPa)の条件で1時間、2時間、4時間吸湿させた。このように吸湿時間の異なる3種の試験片を260℃のはんだ槽に20秒間浸漬させた。そして、はんだ槽から取り出した試験片に膨れが発生しているか目視により確認した。表1中では、試験片に膨れが発生しなかったものを「◎」、試験片に1mm以下の膨れが発生したものを「○」、試験片に5mm以下の膨れが発生したものを「△」、試験片に5mmを超える膨れが発生したものを「×」として示す。
(ピール強度)
金属張積層板の表面の金属箔のピール強度(引きはがし強さ又は銅箔密着強度)をJIS C 6481に準拠して測定した。このとき、幅20mm、長さ100mmの大きさの金属張積層板を試験片として用い、この試験片上に幅10mm、長さ100mmの大きさのパターンをエッチングにより形成した。このパターンを引張り試験機(株式会社島津製作所製「オートグラフAGS−X」)を用いて、速度50mm/分で引きはがし、そのときの引きはがし強さ(kgf/cm)をピール強度として測定した。
(パッケージ反り量)
まずフリップチップ(FC)を基板に補強材(パナソニック株式会社製「HCV5313HS」)で接着して実装することによって、パッケージ反り量を測定するための簡易的なFC実装パッケージ(大きさ16mm×16mm)を製造した。ここで、前記FCとしては、15.06mm×15.06mm×0.1mmの大きさのSiチップに4356個のはんだボール(高さ80μm)を搭載したものを用いた。前記基板としては、前記金属張積層板の金属箔を除去したものを用いた。
次に前記FC実装パッケージについて、反り測定装置(AKROMETRIX社製「THERMOIRE PS200」)を用いてシャドウモアレ測定理論に基づいて反りを測定した。パッケージ反り量は、前記FC実装パッケージを25℃から260℃まで加熱し、その後25℃まで冷却したときの反り量の最大値と最小値の差として求めた。
Figure 2017002305
表1から明らかなように、各比較例に比べて各実施例によれば、パッケージの反りを低減することができると共に、吸湿耐熱性を向上させることができることが確認された。
1 プリプレグ
2 金属張積層板
3 プリント配線板
4 樹脂組成物
5 織布基材
6 金属箔
7 導体パターン
51 縦糸
52 横糸

Claims (5)

  1. 樹脂組成物及び織布基材で形成されたプリプレグであって、
    前記樹脂組成物が、
    (A)ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂及びナフタレン骨格を有するフェノール性硬化剤の少なくとも一方と、
    (B)式(1)、式(2)及び式(3)のうちの少なくとも式(2)及び式(3)で表される構造を有し、重量平均分子量が20万〜85万である高分子量体と、
    (C)無機充填材と
    を含有する
    プリプレグ。
    Figure 2017002305
  2. 硬化状態において、損失弾性率と貯蔵弾性率の比が60℃以下の温度域と200℃以上の温度域において0.05以上である
    請求項1に記載のプリプレグ。
  3. 硬化状態において、前記織布基材の縦糸又は横糸に対して斜め45°方向における引張り伸び率が5%以上である
    請求項1又は2に記載のプリプレグ。
  4. 請求項1乃至3のいずれか一項に記載のプリプレグに金属箔を積層して形成されている
    金属張積層板。
  5. 請求項4に記載の金属張積層板の前記金属箔の一部を除去して導体パターンを設けて形成されている
    プリント配線板。
JP2016116492A 2015-06-12 2016-06-10 プリプレグ、金属張積層板、プリント配線板 Active JP6793326B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015119103 2015-06-12
JP2015119103 2015-06-12

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017002305A true JP2017002305A (ja) 2017-01-05
JP6793326B2 JP6793326B2 (ja) 2020-12-02

Family

ID=57516124

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016116492A Active JP6793326B2 (ja) 2015-06-12 2016-06-10 プリプレグ、金属張積層板、プリント配線板

Country Status (3)

Country Link
US (1) US9894761B2 (ja)
JP (1) JP6793326B2 (ja)
CN (1) CN106243627B (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018021113A1 (ja) * 2016-07-29 2018-02-01 パナソニックIpマネジメント株式会社 プリプレグ、金属張積層板及びプリント配線板
KR20200059296A (ko) * 2017-12-29 2020-05-28 셍기 테크놀로지 코. 엘티디. 수지 조성물, 프리프레그, 적층판 및 금속박적층판
KR20200059295A (ko) * 2017-12-29 2020-05-28 셍기 테크놀로지 코. 엘티디. 수지 조성물, 프리프레그, 적층판 및 금속박적층판
WO2021261308A1 (ja) * 2020-06-24 2021-12-30 パナソニックIpマネジメント株式会社 樹脂組成物、プリプレグ、樹脂付きフィルム、樹脂付き金属箔、金属張積層板及びプリント配線板

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107418355B (zh) * 2017-07-31 2019-10-18 华南理工大学 一种水性环氧改性丙烯酸绝缘漆及其制备方法及应用
US20220056260A1 (en) * 2018-12-29 2022-02-24 Shengyi Technology Co., Ltd. Resin composition, prepreg, laminate and metal foil-clad laminate
CN111378098B (zh) * 2018-12-29 2023-04-07 广东生益科技股份有限公司 树脂组合物、预浸料、层压板以及覆金属箔层压板
JP7531099B2 (ja) * 2020-04-27 2024-08-09 パナソニックIpマネジメント株式会社 絶縁フィルム、金属張積層部材及び再配線層

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011021174A (ja) * 2009-01-28 2011-02-03 Hitachi Chem Co Ltd プリプレグ、樹脂付きフィルム、樹脂付き金属箔、金属箔張積層板及びプリント配線板
JP2015017247A (ja) * 2013-06-12 2015-01-29 味の素株式会社 樹脂組成物

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1089356C (zh) * 1995-04-04 2002-08-21 日立化成工业株式会社 粘合剂、胶膜及带粘合剂底面的金属箔
JP2003026773A (ja) * 2001-07-17 2003-01-29 Nippon Kayaku Co Ltd エポキシ樹脂組成物及びそれを用いたフレキシブル印刷配線板材料
TWI278481B (en) * 2002-04-16 2007-04-11 Hitachi Chemical Co Ltd Thermosetting resin composition, prepreg and laminate using the same
JP2006137942A (ja) 2004-10-14 2006-06-01 Hitachi Chem Co Ltd プリプレグ、積層板、金属箔張積層板及びこれを使用した印刷回路板
CN1989166B (zh) * 2004-11-30 2010-04-28 松下电工株式会社 预浸料用环氧树脂组合物、预浸料及多层印刷电路板
JP5082373B2 (ja) 2005-10-18 2012-11-28 日立化成工業株式会社 プリント配線板用樹脂組成物、プリプレグ、基板、金属箔張積層板、樹脂付金属箔及びプリント配線板
JP2008007756A (ja) 2006-05-30 2008-01-17 Hitachi Chem Co Ltd 粘弾性樹脂組成物、プリプレグ、導体張積層板、樹脂付き金属箔及び樹脂フィルム
JP5716339B2 (ja) * 2010-01-08 2015-05-13 大日本印刷株式会社 粘接着シートおよびそれを用いた接着方法
JP5942261B2 (ja) * 2012-09-28 2016-06-29 パナソニックIpマネジメント株式会社 プリプレグ、金属張積層板、プリント配線板

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011021174A (ja) * 2009-01-28 2011-02-03 Hitachi Chem Co Ltd プリプレグ、樹脂付きフィルム、樹脂付き金属箔、金属箔張積層板及びプリント配線板
JP2015017247A (ja) * 2013-06-12 2015-01-29 味の素株式会社 樹脂組成物

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018021113A1 (ja) * 2016-07-29 2018-02-01 パナソニックIpマネジメント株式会社 プリプレグ、金属張積層板及びプリント配線板
US11059260B2 (en) 2016-07-29 2021-07-13 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Prepreg, metal-clad laminated board, and printed wiring board
KR20200059296A (ko) * 2017-12-29 2020-05-28 셍기 테크놀로지 코. 엘티디. 수지 조성물, 프리프레그, 적층판 및 금속박적층판
KR20200059295A (ko) * 2017-12-29 2020-05-28 셍기 테크놀로지 코. 엘티디. 수지 조성물, 프리프레그, 적층판 및 금속박적층판
KR102301445B1 (ko) 2017-12-29 2021-09-13 셍기 테크놀로지 코. 엘티디. 수지 조성물, 프리프레그, 적층판 및 금속박적층판
KR102313621B1 (ko) * 2017-12-29 2021-10-18 셍기 테크놀로지 코. 엘티디. 수지 조성물, 프리프레그, 적층판 및 금속박적층판
WO2021261308A1 (ja) * 2020-06-24 2021-12-30 パナソニックIpマネジメント株式会社 樹脂組成物、プリプレグ、樹脂付きフィルム、樹脂付き金属箔、金属張積層板及びプリント配線板

Also Published As

Publication number Publication date
JP6793326B2 (ja) 2020-12-02
US9894761B2 (en) 2018-02-13
CN106243627B (zh) 2021-01-05
CN106243627A (zh) 2016-12-21
US20160366761A1 (en) 2016-12-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6358533B2 (ja) プリプレグ、金属張積層板、プリント配線板
JP6793326B2 (ja) プリプレグ、金属張積層板、プリント配線板
JP5942261B2 (ja) プリプレグ、金属張積層板、プリント配線板
JP5234195B2 (ja) プリプレグ、積層板、プリント配線板及び半導体装置
KR102350152B1 (ko) 프리프레그, 금속 클래드 적층판 및 프린트 배선판
JP6861377B2 (ja) プリプレグ、金属張積層板及びプリント配線板
JP2013001807A (ja) 電子回路基板材料用樹脂組成物、プリプレグ及び積層板
JP2004182851A (ja) 樹脂組成物、プリプレグおよびそれを用いたプリント配線板
CN110050018B (zh) 预浸料、覆金属层压板和印刷线路板
JP6934638B2 (ja) 半導体パッケージ及びプリント回路板
JP6624545B2 (ja) 熱硬化性樹脂組成物、金属張積層板、絶縁シート、プリント配線板、プリント配線板の製造方法及びパッケージ基板
JP6778889B2 (ja) プリプレグ、金属張積層板及びプリント配線板
JP2016065250A (ja) プリプレグ、積層板及び金属張積層板
JP6136058B2 (ja) 電子回路基板材料用樹脂組成物、プリプレグ、積層板及び金属張積層板
JP2010080609A (ja) 半導体装置

Legal Events

Date Code Title Description
RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20170123

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190523

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20200427

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200623

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200821

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200929

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20201023

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6793326

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151