JP2016535298A - コンパクトカメラモジュールにおいて用いるためのポリマー組成物 - Google Patents
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Abstract
液晶ポリマー及びポリアリーレンスルフィドのブレンドを含む、コンパクトカメラモジュール(CCM)において用いるためのポリマー組成物を提供する。本発明者らは、かかるポリマーの特定のタイプ及び相対濃度を選択的に制御することによって、得られる組成物は、光学フィルターのようなカメラモジュールの異なる部品に対する良好な接着性を示すことができることを見出した。【選択図】図1
Description
[001]本出願は、2013年10月16日出願の米国仮出願61/891,428(その全部を参照として本明細書中に包含する)に対する優先権を主張する。
[0002]ベース上に配置されているプラスチックレンズバレルを含むコンパクトカメラモジュール(CCM)は、携帯電話、ラップトップコンピューター、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ等においてしばしば用いられている。従来のプラスチックレンズはハンダリフローに耐えることができなかったので、カメラモジュールは通常は表面実装はされていなかった。しかしながら最近においては、レンズバレル、又はその上にそれが実装されるベースのようなコンパクトカメラモジュールの成形部品に関して、高い耐熱性を有する液晶ポリマーを用いる試みがなされている。しかしながら、かかるポリマーに関連する問題の1つは、異なる材料から形成されているカメラモジュールの幾つかの部品にそれを接着させることがしばしば困難であることである。例えば、IRカットフィルターはしばしばガラス材料から形成されるが、これは一般に液晶ポリマーによく結合しない。このように、コンパクトカメラモジュールにおいて用いるための改良された接着特性を有するポリマー組成物に関する必要性が存在する。
[0003]本発明の一態様によれば、レンズホルダー内に収容されているレンズモジュールを含むコンパクトカメラモジュールが開示される。レンズモジュール、レンズホルダー、又はこれらの組合せの少なくとも一部は、液晶ポリマー及びポリアリーレンスルフィドを含むポリマー組成物から形成される。
[0004]本発明の他の態様によれば、基層及び接着剤層を含み、基層は液晶ポリマー及びポリアリーレンスルフィドを含むポリマー組成物から形成される接着性積層体が開示される。組成物中におけるポリアリーレンスルフィドポリマーに対する液晶ポリマーの重量比は、約0.5〜約10である。
[0005]本発明の他の特長及び特徴を下記においてより詳細に示す。
[0006]当業者に対するそのベストモードを含む本発明の完全且つ実施化可能な程度の開示を、添付の図面の参照を含む明細書の残りの部分においてより詳しく示す。
[0008]本議論は代表的な態様のみの記載であり、本発明のより広い特徴を限定することは意図しないことが当業者によって理解される。
[0009]一般的に、本発明は、無線通信デバイス(例えば携帯電話)において通常的に用いられるもののようなコンパクトカメラモジュール(CCM)において用いるためのポリマー組成物に関する。本ポリマー組成物は、液晶ポリマー及びポリアリーレンスルフィドのブレンドを含む。本発明者らは、かかるポリマーの特定のタイプ及び相対濃度を選択的に制御することによって、得られる組成物は、光学フィルターのようなカメラモジュールの異なる部品に対して良好な接着性を示すことができることを見出した。例えば、組成物中におけるポリアリーレンスルフィドに対する液晶ポリマーの重量比は、約0.5〜約10、幾つかの態様においては約1〜約8、幾つかの態様においては約3〜約5の範囲であってよい。ポリマーの実際の濃度は一般に他の随意的な成分の存在に基づいて変化する可能性があるが、液晶ポリマーは、通常はポリマー組成物の約5重量%〜約60重量%、幾つかの態様においては約10重量%〜約50重量%、幾つかの態様においては約20重量%〜約40重量%を構成し、一方、ポリアリーレンスルフィドは、通常はポリマー組成物の約1重量%〜約35重量%、幾つかの態様においては約2重量%〜約25重量%、幾つかの態様においては約5重量%〜約15重量%を構成する。
[0010]ここで本発明の種々の態様をより詳細に記載する。
I.液晶ポリマー:
[0011]液晶ポリマーは、一般に、棒状の構造を有することができ、その溶融状態において結晶質の挙動(例えばサーモトロピックネマチック状態)を示すことができる限りにおいて「サーモトロピック」として分類される。かかるポリマーは、当該技術において公知の1以上のタイプの繰り返し単位から形成することができる。液晶ポリマーには、例えば、通常はポリマーの約60モル%〜約99.9モル%、幾つかの態様においては約70モル%〜約99.5モル%、幾つかの態様においては約80モル%〜約99モル%の量の1以上の芳香族エステル繰り返し単位を含ませることができる。芳香族エステル繰り返し単位は、一般に、次式(I):
[0011]液晶ポリマーは、一般に、棒状の構造を有することができ、その溶融状態において結晶質の挙動(例えばサーモトロピックネマチック状態)を示すことができる限りにおいて「サーモトロピック」として分類される。かかるポリマーは、当該技術において公知の1以上のタイプの繰り返し単位から形成することができる。液晶ポリマーには、例えば、通常はポリマーの約60モル%〜約99.9モル%、幾つかの態様においては約70モル%〜約99.5モル%、幾つかの態様においては約80モル%〜約99モル%の量の1以上の芳香族エステル繰り返し単位を含ませることができる。芳香族エステル繰り返し単位は、一般に、次式(I):
(式中、
環Bは、置換又は非置換の6員アリール基(例えば、1,4−フェニレン又は1,3−フェニレン)、置換又は非置換の5又は6員アリール基に縮合している置換又は非置換の6員アリール基(例えば2,6−ナフタレン)、或いは置換又は非置換の5又は6員アリール基に結合している置換又は非置換の6員アリール基(例えば4,4−ビフェニレン)であり;
Y1及びY2は、独立して、O、C(O)、NH、C(O)HN、又はNHC(O)である)
によって表すことができる。
環Bは、置換又は非置換の6員アリール基(例えば、1,4−フェニレン又は1,3−フェニレン)、置換又は非置換の5又は6員アリール基に縮合している置換又は非置換の6員アリール基(例えば2,6−ナフタレン)、或いは置換又は非置換の5又は6員アリール基に結合している置換又は非置換の6員アリール基(例えば4,4−ビフェニレン)であり;
Y1及びY2は、独立して、O、C(O)、NH、C(O)HN、又はNHC(O)である)
によって表すことができる。
[0012]通常は、Y1及びY2の少なくとも1つはC(O)である。かかる芳香族エステル繰り返し単位の例としては、例えば、芳香族ジカルボン酸繰り返し単位(式IにおいてY1及びY2はC(O)である)、芳香族ヒドロキシカルボン酸繰り返し単位(式IにおいてY1はOであり、Y2はC(O)である)、並びにこれらの種々の組み合わせを挙げることができる。
[0013]例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルエーテル−4,4’−ジカルボン酸、1,6−ナフタレンジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボン酸、4,4’−ジカルボキシビフェニル、ビス(4−カルボキシフェニル)エーテル、ビス(4−カルボキシフェニル)ブタン、ビス(4−カルボキシフェニル)エタン、ビス(3−カルボキシフェニル)エーテル、ビス(3−カルボキシフェニル)エタン等、並びにこれらのアルキル、アルコキシ、アリール、及びハロゲン置換体、並びにこれらの組み合わせのような芳香族ジカルボン酸から誘導される芳香族ジカルボン酸繰り返し単位を用いることができる。特に好適な芳香族ジカルボン酸としては、例えば、テレフタル酸(TA)、イソフタル酸(IA)、及び2,6−ナフタレンジカルボン酸(NDA)を挙げることができる。用いる場合には、芳香族ジカルボン酸(例えば、IA、TA、及び/又はNDA)から誘導される繰り返し単位は、通常はポリマーの約5モル%〜約60モル%、幾つかの態様においては約10モル%〜約55モル%、幾つかの態様においては約15モル%〜約50%を構成する。
[0014]また、4−ヒドロキシ安息香酸;4−ヒドロキシ−4’−ビフェニルカルボン酸;2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸;2−ヒドロキシ−5−ナフトエ酸;3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸;2−ヒドロキシ−3−ナフトエ酸;4’−ヒドロキシフェニル−4−安息香酸;3’−ヒドロキシフェニル−4−安息香酸;4’−ヒドロキシフェニル−3−安息香酸等、並びにこれらのアルキル、アルコキシ、アリール、及びハロゲン置換体、並びにこれらの組み合わせのような芳香族ヒドロキシカルボン酸から誘導される芳香族ヒドロキシカルボン酸繰り返し単位を用いることもできる。特に好適な芳香族ヒドロキシカルボン酸は、4−ヒドロキシ安息香酸(HBA)及び6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸(HNA)である。用いる場合には、ヒドロキシカルボン酸(例えばHBA及び/又はHNA)から誘導される繰り返し単位は、通常はポリマーの約10モル%〜約85モル%、幾つかの態様においては約20モル%〜約80モル%、幾つかの態様においては約25モル%〜約75%を構成する。
[0015]また、ポリマー中において他の繰り返し単位を用いることもできる。例えば幾つかの態様においては、ヒドロキノン、レゾルシノール、2,6−ジヒドロキシナフタレン、2,7−ジヒドロキシナフタレン、1,6−ジヒドロキシナフタレン、4,4’−ジヒドロキシビフェニル(又は4,4’−ビフェノール)、3,3’−ジヒドロキシビフェニル、3,4’−ジヒドロキシビフェニル、4,4’−ジヒドロキシビフェニルエーテル、ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン等、並びにこれらのアルキル、アルコキシ、アリール、及びハロゲン置換体、並びにこれらの組み合わせのような芳香族ジオールから誘導される繰り返し単位を用いることができる。特に好適な芳香族ジオールとしては、例えばヒドロキノン(HQ)及び4,4’−ビフェノール(BP)を挙げることができる。用いる場合には、芳香族ジオール(例えばHQ及び/又はBP)から誘導される繰り返し単位は、通常はポリマーの約1モル%〜約30モル%、幾つかの態様においては約2モル%〜約25モル%、幾つかの態様においては約5モル%〜約20%を構成する。また、芳香族アミド(例えばアセトアミノフェン(APAP))、及び/又は芳香族アミン(例えば4−アミノフェノール(AP)、3−アミノフェノール、1,4−フェニレンジアミン、1,3−フェニレンジアミン等)から誘導されるもののような繰り返し単位を用いることもできる。用いる場合には、芳香族アミド(例えばAPAP)及び/又は芳香族アミン(例えばAP)から誘導される繰り返し単位は、通常はポリマーの約0.1モル%〜約20モル%、幾つかの態様においては約0.5モル%〜約15モル%、幾つかの態様においては約1モル%〜約10%を構成する。また、種々の他のモノマー繰り返し単位をポリマー中に導入することができることも理解すべきである。例えば幾つかの態様においては、脂肪族又は脂環式ヒドロキシカルボン酸、ジカルボン酸、ジオール、アミド、アミン等のような非芳香族モノマーから誘導される1以上の繰り返し単位をポリマーに含ませることができる。勿論、他の態様においては、ポリマーは、非芳香族(例えば脂肪族又は脂環式)モノマーから誘導される繰り返し単位を含まないという点で「全芳香族」であってよい。
[0016]必ずしも必須ではないが、液晶ポリマーは、ナフタレン−2,6−ジカルボン酸(NDA)、6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸(HNA)、又はこれらの組み合わせのようなナフテン系ヒドロキシカルボン酸及びナフテン系ジカルボン酸から誘導される繰り返し単位を最小の含量で含むという限りにおいて「低ナフテン」ポリマーであってよい。即ち、ナフテン系のヒドロキシカルボン酸及び/又はジカルボン酸(例えば、NDA、HNA、又はHNAとNDAの組み合わせ)から誘導される繰り返し単位の合計量は、通常はポリマーの30モル%以下、幾つかの態様においては約15モル%以下、幾つかの態様においては約10モル%以下、幾つかの態様においては約8モル%以下、幾つかの態様においては0モル%〜約5モル%(例えば0モル%)である。高いレベルの従来のナフテン酸が存在しないにもかかわらず、得られる「低ナフテン」ポリマーはなお良好な熱的及び機械特性を示すことができると考えられる。
[0017]1つの特定の態様においては、液晶ポリマーは、4−ヒドロキシ安息香酸(HBA)、並びにテレフタル酸(TA)及び/又はイソフタル酸(IA)、並びに種々の他の随意的な成分から誘導される繰り返し単位から形成することができる。4−ヒドロキシ安息香酸(HBA)から誘導される繰り返し単位は、ポリマーの約10モル%〜約80モル%、幾つかの態様においては約30モル%〜約75モル%、幾つかの態様においては約45モル%〜約70%を構成することができる。更に、テレフタル酸(TA)及び/又はイソフタル酸(IA)から誘導される繰り返し単位は、ポリマーの約5モル%〜約40モル%、幾つかの態様においては約10モル%〜約35モル%、幾つかの態様においては約15モル%〜約35%を構成することができる。また、ポリマーの約1モル%〜約30モル%、幾つかの態様においては約2モル%〜約25モル%、幾つかの態様においては約5モル%〜約20%の量の4,4’−ビフェノール(BP)及び/又はヒドロキノン(HQ)から誘導される繰り返し単位を用いることもできる。他の可能な繰り返し単位としては、6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸(HNA)、2,6−ナフタレンジカルボン酸(NDA)、及び/又はアセトアミノフェン(APAP)から誘導されるものを挙げることができる。例えば幾つかの態様においては、HNA、NDA、及び/又はAPAPから誘導される繰り返し単位は、用いる場合には、それぞれ約1モル%〜約35モル%、幾つかの態様においては約2モル%〜約30モル%、幾つかの態様においては約3モル%〜約25モル%を構成することができる。
[0018]ポリマーの特定の構成成分及び性質とは関係なく、液晶ポリマーは、まずエステル繰り返し単位(例えば、芳香族ヒドロキシカルボン酸、芳香族ジカルボン酸等)及び/又は他の繰り返し単位(例えば、芳香族ジオール、芳香族アミド、芳香族アミン等)を形成するのに用いる1種類又は複数の芳香族モノマーを反応容器中に導入して重縮合反応を開始させることによって製造することができる。かかる反応において用いる特定の条件及び工程は周知であり、Calundannの米国特許4,161,470;Linstid, IIIらの米国特許5,616,680;Linstid, IIIらの米国特許6,114,492;Shepherdらの米国特許6,514,611;及びWaggonerのWO−2004/058851;においてより詳細に記載されている。この反応のために用いる容器は特に限定されないが、高粘度流体の反応において通常的に用いられているものを用いることが通常は望ましい。かかる反応容器の例としては、アンカータイプ、多段式タイプ、螺旋リボンタイプ、スクリューシャフトタイプ等、或いはこれらの変形形状のような種々の形状の撹拌ブレードを有する撹拌装置を有する撹拌タンクタイプの装置を挙げることができる。かかる反応容器の更なる例としては、ニーダー、ロールミル、バンバリーミキサー等のような、樹脂の混練において通常的に用いられている混合装置を挙げることができる。
[0019]所望の場合には、反応は、当該技術において公知のモノマーのアセチル化によって進行させることができる。これは、モノマーにアセチル化剤(例えば無水酢酸)を加えることによって行うことができる。アセチル化は、一般に約90℃の温度において開始する。アセチル化の初期段階中においては、還流を用いて、蒸気相温度を、酢酸副生成物及び無水物が蒸留しはじめる点より低く維持することができる。アセチル化中の温度は、通常は90℃〜150℃、幾つかの態様においては約110℃〜約150℃の範囲である。還流を用いる場合には、蒸気相温度は、通常は酢酸の沸点よりも高いが、残留無水酢酸を保持するのに十分に低く維持する。例えば、無水酢酸は約140℃の温度において気化する。而して、反応器に約110℃〜約130℃の温度で蒸気相還流を供給することが特に望ましい。反応を実質的に完了させるのを確保するために、過剰量の無水酢酸を用いることができる。過剰の無水物の量は、還流の存在又は不存在などの用いる特定のアセチル化条件によって変動する。存在する反応物質のヒドロキシル基の合計モル数を基準として約1〜約10モル%の過剰の無水酢酸を用いることは稀ではない。
[0020]アセチル化は別の反応容器内で行うことができ、或いは重合反応容器内でin situで行うことができる。別の反応容器を用いる場合には、モノマーの1以上をアセチル化反応器に導入し、続いて重合反応器に移すことができる。更に、1以上のモノマーを予めアセチル化にかけないで反応容器に直接導入することもできる。
[0021]モノマー及び随意的なアセチル化剤に加えて、重合の促進を助けるために他の成分を反応混合物内に含ませることもできる。例えば、場合によっては、金属塩触媒(例えば、酢酸マグネシウム、酢酸スズ(I)、チタン酸テトラブチル、酢酸鉛、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等)、及び有機化合物触媒(例えばN−メチルイミダゾール)のような触媒を用いることができる。かかる触媒は、通常は、繰り返し単位前駆体の全重量を基準として約50〜約500ppmの量で用いる。別の反応器を用いる場合には、重合反応器ではなくアセチル化反応器に触媒を加えることが通常は望ましいが、これは決して必須要件ではない。
[0022]反応混合物は、一般に重合反応容器内で昇温温度に加熱して、反応物質の溶融重縮合を開始させる。重縮合は、例えば約250℃〜約400℃、幾つかの態様においては約280℃〜約395℃、幾つかの態様においては約300℃〜約380℃の温度範囲内で行うことができる。例えば、液晶ポリマーを形成するための1つの好適な方法には、前駆体モノマー及び無水酢酸を反応器中に充填し、混合物を約90℃〜約150℃の温度に加熱してモノマーのヒドロキシル基をアセチル化し(例えばアセトキシを形成し)、次に温度を約250℃〜約400℃に上昇させて溶融重縮合を行うことを含ませることができる。最終重合温度に近付いたら、反応の揮発性副生成物(例えば酢酸)を除去して、所望の分子量を容易に達成することができるようにすることもできる。反応混合物は、一般に重合中に撹拌にかけて、良好な熱及び物質の移動、並びにその結果として良好な材料の均一性を確保する。撹拌器の回転速度は反応の過程中に変動させることができるが、通常は約10〜約100の毎分回転数(rpm)、幾つかの態様においては約20〜約80rpmの範囲である。溶融体における分子量を構築するために、重合反応はまた真空下で行うこともでき、これを加えると重縮合の最終段階中に形成される揮発性化合物の除去が促進される。真空は、約5〜約30ポンド/平方インチ(psi)、幾つかの態様においては約10〜約20psiの範囲内のような吸引圧を加えることによって生起させることができる。
[0023]溶融重合の後、溶融したポリマーは、通常は所望の形状のダイを取り付けた押出しオリフィスを通して反応器から排出し、冷却し、回収することができる。通常は、溶融体は、有孔ダイを通して排出してストランドを形成し、これを水浴内で巻き取り、ペレット化し、乾燥する。幾つかの態様においては、溶融重合したポリマーはまた、引き続き固相重合法にかけてその分子量を更に増加させることもできる。固相重合は、ガス(例えば空気、不活性ガス等)の存在下で行うことができる。好適な不活性ガスとしては、例えば、窒素、ヘリウム、アルゴン、ネオン、クリプトン、キセノン等、並びにこれらの組み合わせを挙げることができる。固相重合反応容器は、ポリマーを所望の固相重合温度に所望の滞留時間保持することを可能にする実質的に任意のデザインのものであってよい。かかる容器の例は、固定床、静止床、移動床、流動床等を有するものであってよい。固相重合を行う温度は変動する可能性があるが、通常は約250℃〜約350℃の範囲内である。重合時間は、勿論、温度及び目標の分子量に基づいて変動する。しかしながら殆どの場合において、固相重合時間は約2〜約12時間、幾つかの態様においては約4〜約10時間である。
II.ポリアリーレンスルフィド:
[0024]上記に示したように、本発明のポリマー組成物はポリアリーレンスルフィドを含む。ポリアリーレンスルフィドは、式(I):
[0024]上記に示したように、本発明のポリマー組成物はポリアリーレンスルフィドを含む。ポリアリーレンスルフィドは、式(I):
(式中、Ar1、Ar2、Ar3、及びAr4は、同一か又は異なり、6〜18個の炭素原子のアリーレン単位であり;W、X、Y、及びZは、同一か又は異なり、−SO2−、−S−、−SO−、−CO−、−O−、−COO−、又は1〜6個の炭素原子のアルキレン若しくはアルキリデン基から選択される二価の連結基であり、連結基の少なくとも1つは−S−であり;そして、n、m、i、j、k、l、o、及びpは、独立して、0、又は1、2、3、若しくは4であり、但しこれらの合計は2以上である)
の繰り返し単位を含むポリアリーレンチオエーテルであってよい。アリーレン単位のAr1、Ar2、Ar3、及びAr4は、選択的に置換又は非置換であってよい。有利なアリーレン系は、フェニレン、ビフェニレン、ナフチレン、アントラセン、及びフェナントレンである。ポリアリーレンスルフィドは、通常は約30モル%より多く、約50モル%より多く、又は約70モル%より多いアリーレンスルフィド(−S−)単位を含む。一態様においては、ポリアリーレンスルフィドは、少なくとも約85モル%の、2つの芳香環に直接結合しているスルフィド連結基を含む。一態様においては、ポリアリーレンスルフィドは、本発明においてその成分としてフェニレンスルフィド構造:−(C6H4−S)n−(式中、nは1以上の整数である)を含むものとして定義されるポリフェニレンスルフィドである。
の繰り返し単位を含むポリアリーレンチオエーテルであってよい。アリーレン単位のAr1、Ar2、Ar3、及びAr4は、選択的に置換又は非置換であってよい。有利なアリーレン系は、フェニレン、ビフェニレン、ナフチレン、アントラセン、及びフェナントレンである。ポリアリーレンスルフィドは、通常は約30モル%より多く、約50モル%より多く、又は約70モル%より多いアリーレンスルフィド(−S−)単位を含む。一態様においては、ポリアリーレンスルフィドは、少なくとも約85モル%の、2つの芳香環に直接結合しているスルフィド連結基を含む。一態様においては、ポリアリーレンスルフィドは、本発明においてその成分としてフェニレンスルフィド構造:−(C6H4−S)n−(式中、nは1以上の整数である)を含むものとして定義されるポリフェニレンスルフィドである。
[0025]ポリアリーレンスルフィドの形成において用いることができる合成技術は、当該技術において一般的に知られている。例として、ポリアリーレンスルフィドを製造するプロセスには、ヒドロスルフィドイオンを与える材料、例えばアルカリ金属硫化物を、有機アミド溶媒中でジハロ芳香族化合物と反応させることを含ませることができる。アルカリ金属硫化物は、例えば、硫化リチウム、硫化ナトリウム、硫化カリウム、硫化ルビジウム、硫化セシウム、又はこれらの混合物であってよい。アルカリ金属硫化物が水和物又は水性混合物である場合には、アルカリ金属硫化物を、重合反応の前に脱水操作によって処理することができる。アルカリ金属硫化物はまた、in situで生成させることもできる。更に、少量のアルカリ金属水酸化物を反応中に含ませて、アルカリ金属硫化物と共に非常に少量で存在する可能性があるアルカリ金属ポリスルフィド又はアルカリ金属チオスルフェートのような不純物を除去するか又は(例えばかかる不純物を無害の材料に変化させるために)反応させることができる。
[0026]ジハロ芳香族化合物は、限定なしに、o−ジハロベンゼン、m−ジハロベンゼン、p−ジハロベンゼン、ジハロトルエン、ジハロナフタレン、メトキシ−ジハロベンゼン、ジハロビフェニル、ジハロ安息香酸、ジハロジフェニルエーテル、ジハロジフェニルスルホン、ジハロジフェニルスルホキシド、又はジハロジフェニルケトンであってよい。ジハロ芳香族化合物は、単独か又はその任意の組合せのいずれかで用いることができる。具体的な代表的ジハロ芳香族化合物としては、限定なしに、p−ジクロロベンゼン;m−ジクロロベンゼン;o−ジクロロベンゼン;2,5−ジクロロトルエン;1,4−ジブロモベンゼン;1,4−ジクロロナフタレン;1−メトキシ−2,5−ジクロロベンゼン;4,4’−ジクロロビフェニル;3,5−ジクロロ安息香酸;4,4’−ジクロロジフェニルエーテル;4,4’−ジクロロジフェニルスルホン;4,4’−ジクロロジフェニルスルホキシド;及び4,4’−ジクロロジフェニルケトン;を挙げることができる。ハロゲン原子は、フッ素、塩素、臭素、又はヨウ素であってよく、同じジハロ芳香族化合物中の2つのハロゲン原子は、同一か又は互いと異なっていてよい。一態様においては、o−ジクロロベンゼン、m−ジクロロベンゼン、p−ジクロロベンゼン、又はこれらの2以上の化合物の混合物をジハロ芳香族化合物として用いる。当該技術において公知なように、ポリアリーレンスルフィドの末端基を形成するか、或いは重合反応及び/又はポリアリーレンスルフィドの分子量を調節するために、モノハロ化合物(必ずしも芳香族化合物ではない)をジハロ芳香族化合物と組み合わせて用いることもできる。
[0027]ポリアリーレンスルフィドはホモポリマーであってよく、又はコポリマーであってよい。ジハロ芳香族化合物の好適な選択的組み合わせによって、2以上の異なる単位を含むポリアリーレンスルフィドコポリマーを形成することができる。例えば、p−ジクロロベンゼンをm−ジクロロベンゼン又は4,4’−ジクロロジフェニルスルホンと組み合わせて用いる場合には、式(II):
の構造を有するセグメント、及び式(III):
の構造を有するセグメント、又は式(IV):
の構造を有するセグメントを含むポリアリーレンスルフィドコポリマーを形成することができる。
[0028]重合反応は、有機アミド溶媒の存在下で行うことができる。重合反応において用いる代表的な有機アミド溶媒としては、限定なしに、N−メチル−2−ピロリドン;N−エチル−2−ピロリドン;N,N−ジメチルホルムアミド;N,N−ジメチルアセトアミド;N−メチルカプロラクタム;テトラメチル尿素;ジメチルイミダゾリジノン;ヘキサメチルリン酸トリアミド、及びこれらの混合物を挙げることができる。反応において用いる有機アミド溶媒の量は、例えばアルカリ金属硫化物の有効量1モルあたり0.2〜5キログラム(kg/モル)であってよい。
[0029]ポリアリーレンスルフィドは、線状、半線状、分岐、又は架橋型であってよい。線状ポリアリーレンスルフィドは、−(Ar−S)−の繰り返し単位を主構成単位として含む。一般に、線状ポリアリーレンスルフィドは約80モル%以上のこの繰り返し単位を含んでいてよい。線状ポリアリーレンスルフィドは少量の分岐単位又は架橋単位を含んでいてよいが、分岐又は架橋単位の量はポリアリーレンスルフィドの全モノマー単位の約1モル%未満であってよい。線状ポリアリーレンスルフィドポリマーは、上記に記載の繰り返し単位を含むランダムコポリマー又はブロックコポリマーであってよい。
[0030]3つ以上の反応性官能基を有する少量の1種類以上のモノマーをポリマー中に導入することによって与えられる架橋構造又は分岐構造を有する半線状ポリアリーレンスルフィドを用いることができる。例えば、3つ以上の反応性官能基を有するモノマーから、ポリマーの約1モル%〜約10モル%の間を形成することができる。半線状ポリアリーレンスルフィドの製造において用いることができる方法は、当該技術において一般的に知られている。例として、半線状ポリアリーレンスルフィドを形成するのに用いるモノマー成分に、分岐ポリマーの製造において用いることができる分子あたり2以上のハロゲン置換基を有する一定量のポリハロ芳香族化合物を含ませることができる。かかるモノマーは、式:R’Xn(式中、それぞれのXは、塩素、臭素、及びヨウ素から選択され、nは3〜6の整数であり、R’は、約4個以下のメチル置換基を有していてよい価数nの多価芳香族基であり、R’中の炭素原子の総数は6〜約16の範囲内である)によって表すことができる。半線状ポリアリーレンスルフィドを形成するのに用いることができる分子あたり2個より多いハロゲンで置換されている幾つかのポリハロ芳香族化合物の例としては、1,2,3−トリクロロベンゼン、1,2,4−トリクロロベンゼン、1,3−ジクロロ−5−ブロモベンゼン、1,2,4−トリヨードベンゼン、1,2,3,5−テトラブロモベンゼン、ヘキサクロロベンゼン、1,3,5−トリクロロ−2,4,6−トリメチルベンゼン、2,2’,4,4’−テトラクロロビフェニル、2,2’,5,5’−テトラヨードビフェニル、2,2’,6,6’−テトラブロモ−3,3’,5,5’−テトラメチルビフェニル、1,2,3,4−テトラクロロナフタレン、1,2,4−トリブロモ−6−メチルナフタレンなど、及びこれらの混合物が挙げられる。
[0031]ポリアリーレンスルフィドを形成するための重合反応装置は特に限定されないが、高粘度流体の形成において通常的に用いられている装置を用いることが通常は望ましい。かかる反応装置の例としては、アンカータイプ、多段式タイプ、螺旋リボンタイプ、スクリューシャフトタイプなど、或いはこれらの変形形状のような種々の形状の撹拌ブレードを有する撹拌装置を有する撹拌タンクタイプの重合反応装置を挙げることができる。かかる反応装置の更なる例としては、ニーダー、ロールミル、バンバリーミキサー等のような混練において通常的に用いられている混合装置が挙げられる。重合の後、溶融したポリアリーレンスルフィドを、通常は所望の構造のダイを取り付けた押出オリフィスを通して反応器から排出し、冷却し、回収することができる。通常は、有孔ダイを通してポリアリーレンスルフィドを排出してストランドを形成することができ、これを水浴中で巻き取り、ペレット化し、乾燥する。ポリアリーレンスルフィドはまた、ストランド、顆粒、又は粉末の形態であってもよい。
[0032]ポリアリーレンスルフィドの分子量は特に限定されないが、一態様においては、ポリアリーレンスルフィド(1種類以上のポリアリーレンスルフィドポリマー及び/又はコポリマーのブレンドも包含することができる)は、比較的高い分子量を有していてよい。例えば、ポリアリーレンスルフィドは、約25,000g/モルより大きく、又は約30,000g/モルより大きい数平均分子量、及び約60,000g/モルより大きく、又は約65,000g/モルより大きい重量平均分子量を有していてよい。
III.随意的な成分:
A.導電性充填剤:
[0033]所望の場合には、ポリマー組成物中において導電性充填剤を用いて、成形運転中において静電荷が生成する傾向の減少を促進することができる。一般に、任意の種々の導電性充填剤をポリマー組成物中において用いて、その静電気防止特性の向上を促進することができる。好適な導電性充填剤の例としては、例えば、金属粒子(例えばアルミニウムフレーク)、金属繊維、炭素粒子(例えば、黒鉛、膨張黒鉛、グラフェン、カーボンブラック、黒鉛化カーボンブラック等)、カーボンナノチューブ、炭素繊維などを挙げることができる。炭素繊維及び炭素粒子(例えば黒鉛)が特に好適である。用いる場合には、好適な炭素繊維としては、ピッチベースの炭素(例えばタールピッチ)、ポリアクリロニトリルベースの炭素、金属被覆炭素等を挙げることができる。
A.導電性充填剤:
[0033]所望の場合には、ポリマー組成物中において導電性充填剤を用いて、成形運転中において静電荷が生成する傾向の減少を促進することができる。一般に、任意の種々の導電性充填剤をポリマー組成物中において用いて、その静電気防止特性の向上を促進することができる。好適な導電性充填剤の例としては、例えば、金属粒子(例えばアルミニウムフレーク)、金属繊維、炭素粒子(例えば、黒鉛、膨張黒鉛、グラフェン、カーボンブラック、黒鉛化カーボンブラック等)、カーボンナノチューブ、炭素繊維などを挙げることができる。炭素繊維及び炭素粒子(例えば黒鉛)が特に好適である。用いる場合には、好適な炭素繊維としては、ピッチベースの炭素(例えばタールピッチ)、ポリアクリロニトリルベースの炭素、金属被覆炭素等を挙げることができる。
[0034]他の好適な導電性充填剤はイオン性液体である。かかる材料の1つの利益は、イオン性液体は、導電性であることに加えて溶融加工中に液体形態で存在することもでき、これによりポリマーマトリクス内により均一にブレンドすることが可能であることである。これにより導電性が向上し、それによって組成物がその表面から静電荷を速やかに消散させる能力が増大する。イオン性液体は、一般に、1種類又は複数のポリマーと一緒に溶融加工する際に液体の形態であることができるのに十分に低い融点を有する塩である。例えば、イオン性液体の融点は、約400℃以下、幾つかの態様においては約350℃以下、幾つかの態様においては約1℃〜約100℃、幾つかの態様においては約5℃〜約50℃であってよい。塩は、カチオン種及び対イオンを含む。カチオン種は、「カチオン中心」として少なくとも1つのヘテロ原子(例えば窒素又はリン)を有する化合物を含む。かかるヘテロ原子化合物の例としては、例えば次の構造:
[0035](上式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、及びR8は、独立して、水素;置換又は非置換のC1〜C10アルキル基(例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、n−ペンチル等);置換又は非置換のC3〜C14シクロアルキル基(例えば、アダマンチル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロオクチル、シクロヘキセニル等);置換又は非置換のC1〜C10アルケニル基(例えば、エチレン、プロピレン、2−メチルプロピレン、ペンチレン等);置換又は非置換のC2〜C10アルキニル基(例えば、エチニル、プロピニル等);置換又は非置換のC1〜C10アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、t−ブトキシ、sec−ブトキシ、n−ペントキシ等);置換又は非置換のアシルオキシ基(例えば、メタクリロキシ、メタクリロキシエチル等);置換又は非置換のアリール基(例えばフェニル);置換又は非置換のヘテロアリール基(例えば、ピリジル、フラニル、チエニル、チアゾリル、イソチアゾリル、トリアゾリル、イミダゾリル、イソキサゾリル、ピロリル、ピラゾリル、ピリダジニル、ピリミジニル、キノリル等);などからなる群から選択される)
を有する第4級オニウムが挙げられる。例えば1つの特定の態様においては、カチオン種は、構造:N+R1R2R3R4(式中、R1、R2、及び/又はR3は、独立してC1〜C6アルキル(例えば、メチル、エチル、ブチル等)であり、R4は、水素又はC1〜C4アルキル基(例えばメチル又はエチル)である)を有するアンモニウム化合物であってよい。例えば、カチオン成分は、トリブチルメチルアンモニウム(R1、R2、及びR3はブチルであり、R4はメチルである)であってよい。
を有する第4級オニウムが挙げられる。例えば1つの特定の態様においては、カチオン種は、構造:N+R1R2R3R4(式中、R1、R2、及び/又はR3は、独立してC1〜C6アルキル(例えば、メチル、エチル、ブチル等)であり、R4は、水素又はC1〜C4アルキル基(例えばメチル又はエチル)である)を有するアンモニウム化合物であってよい。例えば、カチオン成分は、トリブチルメチルアンモニウム(R1、R2、及びR3はブチルであり、R4はメチルである)であってよい。
[0036]カチオン種に対する好適な対イオンとしては、例えば、ハロゲン(例えば、塩素、臭素、ヨウ素等);スルフェート又はスルホネート(例えば、硫酸メチル、硫酸エチル、硫酸ブチル、硫酸ヘキシル、硫酸オクチル、ハイドロジェンスルフェート、メタンスルホネート、ドデシルベンゼンスルホネート、ドデシルスルフェート、トリフルオロメタンスルホネート、ヘプタデカフルオロオクタンスルホネート、ナトリウムドデシルエトキシスルフェート等);スルホスクシネート;アミド(例えばジシアンアミド);イミド(例えば、ビス(ペンタフルオロエチル−スルホニル)イミド、ビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミド、ビス(トリフルオロメチル)イミド等);ボレート(例えば、テトラフルオロボレート、テトラシアノボレート、ビス[オキサラト]ボレート、ビス[サリチラト]ボレート等);ホスフェート又はホスフィネート(例えば、ヘキサフルオロホスフェート、ジエチルホスフェート、ビス(ペンタフルオロエチル)ホスフィネート、トリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロホスフェート、トリス(ノナフルオロブチル)トリフルオロホスフェート等);アンチモネート(例えばヘキサフルオロアンチモネート);アルミネート(例えばテトラクロロアルミネート);脂肪酸カルボキシレート(例えば、オレエート、イソステアレート、ペンタデカフルオロオクタノエート等);シアネート;アセテート;など、並びに上記の任意のものの組み合わせを挙げることができる。1種類又は複数のポリマーとの相溶性の向上を促進するために、イミド、脂肪酸カルボキシレート等のような概して疎水性の対イオンを選択することが望ましい可能性がある。特に好適な疎水性対イオンとしては、例えば、ビス(ペンタフルオロエチルスルホニル)イミド、ビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミド、及びビス(トリフルオロメチル)イミドを挙げることができる。
B.無機繊維:
[0037]また、ポリマー組成物中において無機繊維(「ウィスカー」としても知られる)を用いて、その機械特性の向上を促進させることもできる。かかる無機繊維の例としては、ネオシリケート、ソロシリケート、イノシリケート(例えば、珪灰石のようなカルシウムイノシリケート;透角閃石のようなカルシウムマグネシウムイノシリケート;陽起石のようなカルシウムマグネシウム鉄イノシリケート;直閃石のようなマグネシウム鉄イノシリケート;等)フィロシリケート(例えばパリゴルスカイトのようなアルミニウムフィロシリケート)、テクトシリケート等のようなシリケート;硫酸カルシウム(例えば脱水又は無水石膏)のようなスルフェート;ミネラルウール(例えば、ロックウール又はスラグウール);などから誘導されるものが挙げられる。Nyco MineralsからNYGLOS(登録商標)(例えば、NYGLOS(登録商標)4W又はNYGLOS(登録商標)8)の商品名で入手できる珪灰石繊維のようなイノシリケートが特に好適である。
[0037]また、ポリマー組成物中において無機繊維(「ウィスカー」としても知られる)を用いて、その機械特性の向上を促進させることもできる。かかる無機繊維の例としては、ネオシリケート、ソロシリケート、イノシリケート(例えば、珪灰石のようなカルシウムイノシリケート;透角閃石のようなカルシウムマグネシウムイノシリケート;陽起石のようなカルシウムマグネシウム鉄イノシリケート;直閃石のようなマグネシウム鉄イノシリケート;等)フィロシリケート(例えばパリゴルスカイトのようなアルミニウムフィロシリケート)、テクトシリケート等のようなシリケート;硫酸カルシウム(例えば脱水又は無水石膏)のようなスルフェート;ミネラルウール(例えば、ロックウール又はスラグウール);などから誘導されるものが挙げられる。Nyco MineralsからNYGLOS(登録商標)(例えば、NYGLOS(登録商標)4W又はNYGLOS(登録商標)8)の商品名で入手できる珪灰石繊維のようなイノシリケートが特に好適である。
[0038]無機繊維は、約1〜約35マイクロメートル、幾つかの態様においては約2〜約20マイクロメートル、幾つかの態様においては約3〜約15マイクロメートル、幾つかの態様においては約7〜約12マイクロメートルの中央幅(又は直径)を有していてよい。無機繊維はまた狭い寸法分布を有していてもよい。即ち、繊維の少なくとも約60体積%、幾つかの態様においては繊維の少なくとも約70体積%、幾つかの態様においては繊維の少なくとも約80体積%は、上述の範囲内の寸法を有していてよい。理論によって制限されることは意図しないが、上述の寸法特性を有する無機繊維は成形装置を通してより容易に移動させることができ、これによりポリマーマトリクス内における分布が増大し、表面欠陥の生成が最小になると考えられる。上述の寸法特性を有することに加えて、無機繊維はまた、得られるポリマー組成物の機械特性及び表面品質の更なる向上を促進するために、比較的高いアスペクト比(平均長さを中央幅で割った値)を有していてもよい。例えば、無機繊維は、約1〜約50、幾つかの態様においては約2〜約20、幾つかの態様においては約4〜約15のアスペクト比を有していてよい。かかる無機繊維の体積平均長さは、例えば約1〜約200マイクロメートル、幾つかの態様においては約2〜約150マイクロメートル、幾つかの態様においては約5〜約100マイクロメートル、幾つかの態様においては約10〜約50マイクロメートルの範囲であってよい。
[0039]用いる場合には、ポリマー組成物中における無機繊維の相対量を制御して、成形部品に成形した際のその平滑性のような組成物の他の特性に悪影響を与えることなく所望の機械特性の達成を促進することができる。例えば、無機繊維は、ポリマー組成物の約5重量%〜約60重量%、幾つかの態様においては約10重量%〜約50重量%、幾つかの態様においては約20重量%〜約40重量%を構成していてよい。
C.ガラス繊維:
[0040]一般には導電性でないガラス充填剤をポリマー組成物中において用いて、強度の向上を促進することもできる。例えば、ガラス繊維は、ポリマー組成物の約2重量%〜約40重量%、幾つかの態様においては約5重量%〜約35重量%、幾つかの態様においては約6重量%〜約30重量%を構成していてよい。E−ガラス、A−ガラス、C−ガラス、D−ガラス、AR−ガラス、R−ガラス、S1−ガラス、S2−ガラス等、及びこれらの混合物から形成されるもののようなガラス繊維は、本発明において用いるのに特に好適である。ガラス繊維の中央幅は比較的小さく、例えば約1〜約35マイクロメートル、幾つかの態様においては約2〜約20マイクロメートル、幾つかの態様においては約3〜約10マイクロメートルであってよい。用いる場合には、かかるガラス繊維の小さな直径によって、溶融ブレンド中においてそれらの長さをより容易に減少させることを可能にすることができ、これによって表面の外観及び機械特性を更に向上させることができると考えられる。例えば成形部品において、ガラス繊維の体積平均長さは比較的小さく、例えば約10〜約500マイクロメートル、幾つかの態様においては約100〜約400マイクロメートル、幾つかの態様においては約150〜約350マイクロメートル、幾つかの態様においては約200〜約325マイクロメートルであってよい。ガラス繊維はまた、約1〜約100、幾つかの態様においては約10〜約60、幾つかの態様においては約30〜約50の比較的高いアスペクト比(平均長さを公称径で割った値)を有していてもよい。
[0040]一般には導電性でないガラス充填剤をポリマー組成物中において用いて、強度の向上を促進することもできる。例えば、ガラス繊維は、ポリマー組成物の約2重量%〜約40重量%、幾つかの態様においては約5重量%〜約35重量%、幾つかの態様においては約6重量%〜約30重量%を構成していてよい。E−ガラス、A−ガラス、C−ガラス、D−ガラス、AR−ガラス、R−ガラス、S1−ガラス、S2−ガラス等、及びこれらの混合物から形成されるもののようなガラス繊維は、本発明において用いるのに特に好適である。ガラス繊維の中央幅は比較的小さく、例えば約1〜約35マイクロメートル、幾つかの態様においては約2〜約20マイクロメートル、幾つかの態様においては約3〜約10マイクロメートルであってよい。用いる場合には、かかるガラス繊維の小さな直径によって、溶融ブレンド中においてそれらの長さをより容易に減少させることを可能にすることができ、これによって表面の外観及び機械特性を更に向上させることができると考えられる。例えば成形部品において、ガラス繊維の体積平均長さは比較的小さく、例えば約10〜約500マイクロメートル、幾つかの態様においては約100〜約400マイクロメートル、幾つかの態様においては約150〜約350マイクロメートル、幾つかの態様においては約200〜約325マイクロメートルであってよい。ガラス繊維はまた、約1〜約100、幾つかの態様においては約10〜約60、幾つかの態様においては約30〜約50の比較的高いアスペクト比(平均長さを公称径で割った値)を有していてもよい。
D.粒子状充填剤:
[0041]一般に導電性でない粒子状充填剤をポリマー組成物中において用いて、所望の特性及び/又は色の達成を促進することもできる。用いる場合には、かかる粒子状充填剤は、通常はポリマー組成物の約5重量%〜約40重量%、幾つかの態様においては約10重量%〜約35重量%、幾つかの態様においては約10重量%〜約30重量%を構成する。粒子状クレイ鉱物は本発明において用いるのに特に好適である可能性がある。かかるクレイ鉱物の例としては、例えば、タルク(Mg3Si4O10(OH)2)、ハロイサイト(Al2Si2O5(OH)4)、カオリナイト(Al2Si2O5(OH)4)、イライト((K,H3O)(Al,Mg,Fe)2(Si,Al)4O10[(OH)2,(H2O)]、モンモリロナイト(Na,Ca)0.33(Al,Mg)2Si4O10(OH)2・nH2O)、バーミキュライト((MgFe,Al)3(Al,Si)4O10(OH)2・4H2O)、パリゴルスカイト((Mg,Al)2Si4O10(OH)・4(H2O))、パイロフィライト(Al2Si4O10(OH)2)等、並びにこれらの組み合わせが挙げられる。クレイ鉱物の代わりか又はこれに加えて、更に他の粒子状充填剤を用いることもできる。例えば、マイカ、珪藻土などのような他の好適な粒子状シリケート充填剤を用いることもできる。例えば、マイカは本発明において用いるのに特に好適な鉱物である可能性がある。本明細書において用いる「マイカ」という用語は、モスコバイト(KAl2(AlSi3)O10(OH)2)、バイオタイト(K(Mg,Fe)3(AlSi3)O10(OH)2)、フロゴパイト(KMg3(AlSi3)O10(OH)2)、レピドライト(K(Li,Al)2〜3(AlSi3)O10(OH)2)、グローコナイト(K,Na)(Al,Mg,Fe)2(Si,Al)4O10(OH)2)等、並びにこれらの組み合わせのような任意のこれらの種を総称的に包含すると意図される。
[0041]一般に導電性でない粒子状充填剤をポリマー組成物中において用いて、所望の特性及び/又は色の達成を促進することもできる。用いる場合には、かかる粒子状充填剤は、通常はポリマー組成物の約5重量%〜約40重量%、幾つかの態様においては約10重量%〜約35重量%、幾つかの態様においては約10重量%〜約30重量%を構成する。粒子状クレイ鉱物は本発明において用いるのに特に好適である可能性がある。かかるクレイ鉱物の例としては、例えば、タルク(Mg3Si4O10(OH)2)、ハロイサイト(Al2Si2O5(OH)4)、カオリナイト(Al2Si2O5(OH)4)、イライト((K,H3O)(Al,Mg,Fe)2(Si,Al)4O10[(OH)2,(H2O)]、モンモリロナイト(Na,Ca)0.33(Al,Mg)2Si4O10(OH)2・nH2O)、バーミキュライト((MgFe,Al)3(Al,Si)4O10(OH)2・4H2O)、パリゴルスカイト((Mg,Al)2Si4O10(OH)・4(H2O))、パイロフィライト(Al2Si4O10(OH)2)等、並びにこれらの組み合わせが挙げられる。クレイ鉱物の代わりか又はこれに加えて、更に他の粒子状充填剤を用いることもできる。例えば、マイカ、珪藻土などのような他の好適な粒子状シリケート充填剤を用いることもできる。例えば、マイカは本発明において用いるのに特に好適な鉱物である可能性がある。本明細書において用いる「マイカ」という用語は、モスコバイト(KAl2(AlSi3)O10(OH)2)、バイオタイト(K(Mg,Fe)3(AlSi3)O10(OH)2)、フロゴパイト(KMg3(AlSi3)O10(OH)2)、レピドライト(K(Li,Al)2〜3(AlSi3)O10(OH)2)、グローコナイト(K,Na)(Al,Mg,Fe)2(Si,Al)4O10(OH)2)等、並びにこれらの組み合わせのような任意のこれらの種を総称的に包含すると意図される。
E.官能性化合物:
[0042]所望の場合には、とりわけポリマー組成物の溶融粘度の減少を促進するために、官能性化合物を本発明において用いることもできる。例えば一態様においては、本発明のポリマー組成物に官能性芳香族化合物を含ませることができる。かかる化合物は、通常は、ポリマー鎖と反応してその長さを短くして、それによって溶融粘度を減少させることができる1以上のカルボキシル及び/又はヒドロキシル官能基を含む。幾つかの場合においては、この化合物はまた、切断された後にポリマーのより短い鎖を一緒に結合して、その溶融粘度を減少させた後においても組成物の機械特性の維持を促進することもできる。官能性芳香族化合物は、下記の式(II):
[0042]所望の場合には、とりわけポリマー組成物の溶融粘度の減少を促進するために、官能性化合物を本発明において用いることもできる。例えば一態様においては、本発明のポリマー組成物に官能性芳香族化合物を含ませることができる。かかる化合物は、通常は、ポリマー鎖と反応してその長さを短くして、それによって溶融粘度を減少させることができる1以上のカルボキシル及び/又はヒドロキシル官能基を含む。幾つかの場合においては、この化合物はまた、切断された後にポリマーのより短い鎖を一緒に結合して、その溶融粘度を減少させた後においても組成物の機械特性の維持を促進することもできる。官能性芳香族化合物は、下記の式(II):
(式中、
環Bは6員の芳香環であり、1〜3個の環炭素原子は場合によっては窒素又は酸素によって置き換えられており、それぞれの窒素は場合によっては酸化されており、環Bは、場合によっては5又は6員のアリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、又はヘテロシクリルに縮合又は結合していてもよく;
R4は、OH又はCOOHであり;
R5は、アシル、アシルオキシ(例えばアセチルオキシ)、アシルアミノ(例えばアセチルアミノ)、アルコキシ、アルケニル、アルキル、アミノ、アリール、アリールオキシ、カルボキシル、カルボキシルエステル、シクロアルキル、シクロアルキルオキシ、ヒドロキシル、ハロ、ハロアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールオキシ、ヘテロシクリル、又はヘテロシクロオキシであり;
mは、0〜4、幾つかの態様においては0〜2、幾つかの態様においては0〜1であり;
nは、1〜3、幾つかの態様においては1〜2である)
で与えられる一般構造を有していてよく、又はその金属塩であってよい。化合物が金属塩の形態である場合には、好適な金属対イオンとしては、遷移金属対イオン(例えば、銅、鉄等)、アルカリ金属対イオン(例えば、カリウム、ナトリウム等)、アルカリ土類金属対イオン(例えば、カルシウム、マグネシウム等)、及び/又は典型金属対イオン(例えばアルミニウム)を挙げることができる。
環Bは6員の芳香環であり、1〜3個の環炭素原子は場合によっては窒素又は酸素によって置き換えられており、それぞれの窒素は場合によっては酸化されており、環Bは、場合によっては5又は6員のアリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、又はヘテロシクリルに縮合又は結合していてもよく;
R4は、OH又はCOOHであり;
R5は、アシル、アシルオキシ(例えばアセチルオキシ)、アシルアミノ(例えばアセチルアミノ)、アルコキシ、アルケニル、アルキル、アミノ、アリール、アリールオキシ、カルボキシル、カルボキシルエステル、シクロアルキル、シクロアルキルオキシ、ヒドロキシル、ハロ、ハロアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールオキシ、ヘテロシクリル、又はヘテロシクロオキシであり;
mは、0〜4、幾つかの態様においては0〜2、幾つかの態様においては0〜1であり;
nは、1〜3、幾つかの態様においては1〜2である)
で与えられる一般構造を有していてよく、又はその金属塩であってよい。化合物が金属塩の形態である場合には、好適な金属対イオンとしては、遷移金属対イオン(例えば、銅、鉄等)、アルカリ金属対イオン(例えば、カリウム、ナトリウム等)、アルカリ土類金属対イオン(例えば、カルシウム、マグネシウム等)、及び/又は典型金属対イオン(例えばアルミニウム)を挙げることができる。
[0043]例えば一態様においては、式(II)におけるBはフェニルであり、得られるフェノール系化合物は次の一般式(III):
(式中、
R4は、OH又はCOOHであり;
R6は、アシル、アシルオキシ、アシルアミノ、アルコキシ、アルケニル、アルキル、アミノ、カルボキシル、カルボキシルエステル、ヒドロキシル、ハロ、又はハロアルキルであり;
qは、0〜4、幾つかの態様においては0〜2、幾つかの態様においては0〜1である)
を有するか、又はその金属塩である。かかるフェノール系化合物の特定の例としては、例えば、安息香酸(qは0である);4−ヒドロキシ安息香酸(R4はCOOHであり、R6はOHであり、qは1である);フタル酸(R4はCOOHであり、R6はCOOHであり、qは1である);イソフタル酸(R4はCOOHであり、R6はCOOHであり、qは1である);テレフタル酸(R4はCOOHであり、R6はCOOHであり、qは1である);2−メチルテレフタル酸(R4はCOOHであり、R6はCOOH及びCH3であり、qは2である);フェノール(R4はOHであり、qは0である);ナトリウムフェノキシド(R4はOHであり、qは0である);ヒドロキノン(R4はOHであり、R6はOHであり、qは1である);レゾルシノール(R4はOHであり、R6はOHであり、qは1である);4−ヒドロキシ安息香酸(R4はOHであり、R6はC(O)OHであり、qは1である)等;並びにこれらの組み合わせが挙げられる。
R4は、OH又はCOOHであり;
R6は、アシル、アシルオキシ、アシルアミノ、アルコキシ、アルケニル、アルキル、アミノ、カルボキシル、カルボキシルエステル、ヒドロキシル、ハロ、又はハロアルキルであり;
qは、0〜4、幾つかの態様においては0〜2、幾つかの態様においては0〜1である)
を有するか、又はその金属塩である。かかるフェノール系化合物の特定の例としては、例えば、安息香酸(qは0である);4−ヒドロキシ安息香酸(R4はCOOHであり、R6はOHであり、qは1である);フタル酸(R4はCOOHであり、R6はCOOHであり、qは1である);イソフタル酸(R4はCOOHであり、R6はCOOHであり、qは1である);テレフタル酸(R4はCOOHであり、R6はCOOHであり、qは1である);2−メチルテレフタル酸(R4はCOOHであり、R6はCOOH及びCH3であり、qは2である);フェノール(R4はOHであり、qは0である);ナトリウムフェノキシド(R4はOHであり、qは0である);ヒドロキノン(R4はOHであり、R6はOHであり、qは1である);レゾルシノール(R4はOHであり、R6はOHであり、qは1である);4−ヒドロキシ安息香酸(R4はOHであり、R6はC(O)OHであり、qは1である)等;並びにこれらの組み合わせが挙げられる。
[0044]他の態様においては、上式(II)においてBはフェニルであり、R5はフェニルであり、ジフェノール系化合物は、次の一般式(IV):
(式中、
R4は、COOH又はOHであり;
R6は、アシル、アシルオキシ、アシルアミノ、アルコキシ、アルケニル、アルキル、アミノ、アリール、アリールオキシ、カルボキシル、カルボキシルエステル、シクロアルキル、シクロアルキルオキシ、ヒドロキシル、ハロ、ハロアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールオキシ、ヘテロシクリル、又はヘテロシクロオキシであり;
qは、0〜4、幾つかの態様においては0〜2、幾つかの態様においては0〜1である)
を有するか、又はその金属塩である。かかるジフェノール系化合物の特定の例としては、例えば、4−ヒドロキシ−4’−ビフェニルカルボン酸(R4はCOOHであり、R6はOHであり、qは1である);4’−ヒドロキシフェニル−4−安息香酸(R4はCOOHであり、R6はOHであり、qは1である);3’−ヒドロキシフェニル−4−安息香酸(R4はCOOHであり、R6はOHであり、qは1である);4’−ヒドロキシフェニル−3−安息香酸(R4はCOOHであり、R6はOHであり、qは1である);4,4’−ビ安息香酸(R4はCOOHであり、R6はCOOHであり、qは1である);(R4はOHであり、R6はOHであり、qは1である);3,3’−ビフェノール(R4はOHであり、R6はOHであり、qは1である);3,4’−ビフェノール(R4はOHであり、R6はOHであり、qは1である);4−フェニルフェノール(R4はOHであり、qは0である);ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン(R4はOHであり、R6はC2(OH)2フェノールであり、qは1である);トリス(4−ヒドロキシフェニル)エタン(R4はOHであり、R6はC(CH3)ビフェノールであり、qは1である);4−ヒドロキシ−4’−ビフェニルカルボン酸(R4はOHであり、R6はCOOHであり、qは1である);4’−ヒドロキシフェニル−4−安息香酸(R4はOHであり、R6はCOOHであり、qは1である);3’−ヒドロキシフェニル−4−安息香酸(R4はOHであり、R6はCOOHであり、qは1である);4’−ヒドロキシフェニル−3−安息香酸(R4はOHであり、R6はCOOHであり、qは1である)等;並びにこれらの組み合わせが挙げられる。
R4は、COOH又はOHであり;
R6は、アシル、アシルオキシ、アシルアミノ、アルコキシ、アルケニル、アルキル、アミノ、アリール、アリールオキシ、カルボキシル、カルボキシルエステル、シクロアルキル、シクロアルキルオキシ、ヒドロキシル、ハロ、ハロアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールオキシ、ヘテロシクリル、又はヘテロシクロオキシであり;
qは、0〜4、幾つかの態様においては0〜2、幾つかの態様においては0〜1である)
を有するか、又はその金属塩である。かかるジフェノール系化合物の特定の例としては、例えば、4−ヒドロキシ−4’−ビフェニルカルボン酸(R4はCOOHであり、R6はOHであり、qは1である);4’−ヒドロキシフェニル−4−安息香酸(R4はCOOHであり、R6はOHであり、qは1である);3’−ヒドロキシフェニル−4−安息香酸(R4はCOOHであり、R6はOHであり、qは1である);4’−ヒドロキシフェニル−3−安息香酸(R4はCOOHであり、R6はOHであり、qは1である);4,4’−ビ安息香酸(R4はCOOHであり、R6はCOOHであり、qは1である);(R4はOHであり、R6はOHであり、qは1である);3,3’−ビフェノール(R4はOHであり、R6はOHであり、qは1である);3,4’−ビフェノール(R4はOHであり、R6はOHであり、qは1である);4−フェニルフェノール(R4はOHであり、qは0である);ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン(R4はOHであり、R6はC2(OH)2フェノールであり、qは1である);トリス(4−ヒドロキシフェニル)エタン(R4はOHであり、R6はC(CH3)ビフェノールであり、qは1である);4−ヒドロキシ−4’−ビフェニルカルボン酸(R4はOHであり、R6はCOOHであり、qは1である);4’−ヒドロキシフェニル−4−安息香酸(R4はOHであり、R6はCOOHであり、qは1である);3’−ヒドロキシフェニル−4−安息香酸(R4はOHであり、R6はCOOHであり、qは1である);4’−ヒドロキシフェニル−3−安息香酸(R4はOHであり、R6はCOOHであり、qは1である)等;並びにこれらの組み合わせが挙げられる。
[0045]更に他の態様においては、上式(II)においてBはナフチルであり、得られるナフテン系化合物は次の一般式(V):
(式中、
R4は、OH又はCOOHであり;
R6は、アシル、アシルオキシ、アシルアミノ、アルコキシ、アルケニル、アルキル、アミノ、アリール、アリールオキシ、カルボキシル、カルボキシルエステル、シクロアルキル、シクロアルキルオキシ、ヒドロキシル、ハロ、ハロアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールオキシ、ヘテロシクリル、又はヘテロシクロオキシであり;
qは、0〜4、幾つかの態様においては0〜2、幾つかの態様においては0〜1である)
を有するか、又はその金属塩である。かかるナフテン系化合物の特定の例としては、例えば、1−ナフトエ酸(R4はCOOHであり、qは0である);2−ナフトエ酸(R4はCOOHであり、qは0である);2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸(R4はCOOHであり、R6はOHであり、qは1である);2−ヒドロキシ−5−ナフトエ酸(R4はCOOHであり、R6はOHであり、qは1である);3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸(R4はCOOHであり、R6はOHであり、qは1である);2−ヒドロキシ−3−ナフトエ酸(R4はCOOHであり、R6はOHであり、qは1である);2,6−ナフタレンジカルボン酸(R4はCOOHであり、R6はCOOHであり、qは1である);2,3−ナフタレンジカルボン酸(R4はCOOHであり、R6はCOOHであり、qは1である);2−ヒドロキシナフタレン(R4はOHであり、qは0である);2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸(R4はOHであり、R6はCOOHであり、qは1である);2−ヒドロキシ−5−ナフトエ酸(R4はOHであり、R6はCOOHであり、qは1である);3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸(R4はOHであり、R6はCOOHであり、qは1である);2−ヒドロキシ−3−ナフトエ酸(R4はOHであり、R6はCOOHであり、qは1である);2,6−ジヒドロキシナフタレン(R4はOHであり、R6はOHであり、qは1である);2,7−ジヒドロキシナフタレン(R4はOHであり、R6はOHであり、qは1である);1,6−ジヒドロキシナフタレン(R4はOHであり、R6はOHであり、qは1である)等;並びにこれらの組み合わせが挙げられる。
R4は、OH又はCOOHであり;
R6は、アシル、アシルオキシ、アシルアミノ、アルコキシ、アルケニル、アルキル、アミノ、アリール、アリールオキシ、カルボキシル、カルボキシルエステル、シクロアルキル、シクロアルキルオキシ、ヒドロキシル、ハロ、ハロアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールオキシ、ヘテロシクリル、又はヘテロシクロオキシであり;
qは、0〜4、幾つかの態様においては0〜2、幾つかの態様においては0〜1である)
を有するか、又はその金属塩である。かかるナフテン系化合物の特定の例としては、例えば、1−ナフトエ酸(R4はCOOHであり、qは0である);2−ナフトエ酸(R4はCOOHであり、qは0である);2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸(R4はCOOHであり、R6はOHであり、qは1である);2−ヒドロキシ−5−ナフトエ酸(R4はCOOHであり、R6はOHであり、qは1である);3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸(R4はCOOHであり、R6はOHであり、qは1である);2−ヒドロキシ−3−ナフトエ酸(R4はCOOHであり、R6はOHであり、qは1である);2,6−ナフタレンジカルボン酸(R4はCOOHであり、R6はCOOHであり、qは1である);2,3−ナフタレンジカルボン酸(R4はCOOHであり、R6はCOOHであり、qは1である);2−ヒドロキシナフタレン(R4はOHであり、qは0である);2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸(R4はOHであり、R6はCOOHであり、qは1である);2−ヒドロキシ−5−ナフトエ酸(R4はOHであり、R6はCOOHであり、qは1である);3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸(R4はOHであり、R6はCOOHであり、qは1である);2−ヒドロキシ−3−ナフトエ酸(R4はOHであり、R6はCOOHであり、qは1である);2,6−ジヒドロキシナフタレン(R4はOHであり、R6はOHであり、qは1である);2,7−ジヒドロキシナフタレン(R4はOHであり、R6はOHであり、qは1である);1,6−ジヒドロキシナフタレン(R4はOHであり、R6はOHであり、qは1である)等;並びにこれらの組み合わせが挙げられる。
[0046]例えば本発明の幾つかの態様においては、ポリマー組成物には、ヒドロキノン、レゾルシノール、4,4’−ビフェノール等、並びにこれらの組み合わせのような芳香族ジオールを含ませることができる。用いる場合には、かかる芳香族ジオールは、ポリマー組成物の約0.01重量%〜約1重量%、幾つかの態様においては約0.05重量%〜約0.4重量%を構成することができる。また幾つかの態様においては、芳香族カルボン酸を、単独か又は芳香族ジオールと組合わせて用いることもできる。芳香族カルボン酸は、ポリマー組成物の約0.001重量%〜約0.5重量%、幾つかの態様においては約0.005重量%〜約0.1重量%を構成することができる。特定の態様においては、所望の粘度減少を達成することを促進するために、本発明において芳香族ジオール(上式においてR4及びR6はOHである)(例えば4,4’−ビフェノール)及び芳香族ジカルボン酸(上式においてR4及びR6はCOOHである)(例えば2,6−ナフタレンジカルボン酸)の組み合わせを用いる。
[0047]上述のものに加えて、本発明において非芳香族官能性化合物を用いることもできる。かかる化合物は、溶融粘度の減少のような種々の目的を果たすことができる。1つのかかる非芳香族官能性化合物は水である。所望の場合には、水は、プロセス条件下において水を生成する形態で加えることができる。例えば、水は、プロセス条件(例えば高温)下において有効に水を「失う」水和物として加えることができる。かかる水和物としては、アルミナ三水和物、硫酸銅五水和物、塩化バリウム二水和物、硫酸カルシウムデヒドレート等、及びこれらの組み合わせが挙げられる。用いる場合には、水和物は、ポリマー組成物の約0.02重量%〜約2重量%、幾つかの態様においては約0.05重量%〜約1重量%を構成することができる。1つの特定の態様においては、組成物中において、芳香族ジオール、水和物、及び芳香族ジカルボン酸の混合物を用いる。かかる態様においては、芳香族ジオールに対する水和物の重量比は、通常は約0.5〜約8、幾つかの態様においては約0.8〜約5、幾つかの態様においては約1〜約5である。
F.他の添加剤:
[0048]組成物中に含ませることができる更に他の添加剤としては、例えば、抗菌剤、顔料、酸化防止剤、安定剤、界面活性剤、ワックス、固体溶媒、難燃剤、垂れ防止剤、並びに特性及び加工性を向上させるために加える他の材料を挙げることができる。また、実質的に分解することなく処理条件に耐えることができる潤滑剤を、ポリマー組成物中において用いることもできる。かかる潤滑剤の例としては、脂肪酸エステル、その塩、エステル、脂肪酸アミド、有機ホスフェートエステル、及びエンジニアリングプラスチック材料の処理において潤滑剤として通常用いられているタイプの炭化水素ワックス、並びにこれらの混合物が挙げられる。好適な脂肪酸は、通常は、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、アラキン酸、モンタン酸、オクタデカン酸、パリナリン酸などのように、約12〜約60個の炭素原子の骨格炭素鎖を有する。好適なエステルとしては、脂肪酸エステル、脂肪アルコールエステル、ワックスエステル、グリセロールエステル、グリコールエステル、及びコンプレックスエステルが挙げられる。脂肪酸アミドとしては、脂肪酸第1級アミド、脂肪酸第2級アミド、メチレン及びエチレンビスアミド、並びにアルカノールアミド、例えば、パルミチン酸アミド、ステアリン酸アミド、オレイン酸アミド、N,N’−エチレンビスステアラミドなどが挙げられる。また、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウムなどのような脂肪酸の金属塩;パラフィンワックス、ポリオレフィン及び酸化ポリオレフィンワックス、並びに微結晶質ワックスなどの炭化水素ワックス;も好適である。特に好適な潤滑剤は、ステアリン酸の酸、塩、又はアミド、例えばペンタエリトリトールテトラステアレート、カルシウムステアレート、又はN,N’−エチレンビスステアラミドである。用いる場合には、1種類又は複数の潤滑剤は、通常は、ポリマー組成物の約0.05重量%〜約1.5重量%、幾つかの態様においては約0.1重量%〜約0.5重量%(重量基準)を構成する。
[0048]組成物中に含ませることができる更に他の添加剤としては、例えば、抗菌剤、顔料、酸化防止剤、安定剤、界面活性剤、ワックス、固体溶媒、難燃剤、垂れ防止剤、並びに特性及び加工性を向上させるために加える他の材料を挙げることができる。また、実質的に分解することなく処理条件に耐えることができる潤滑剤を、ポリマー組成物中において用いることもできる。かかる潤滑剤の例としては、脂肪酸エステル、その塩、エステル、脂肪酸アミド、有機ホスフェートエステル、及びエンジニアリングプラスチック材料の処理において潤滑剤として通常用いられているタイプの炭化水素ワックス、並びにこれらの混合物が挙げられる。好適な脂肪酸は、通常は、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、アラキン酸、モンタン酸、オクタデカン酸、パリナリン酸などのように、約12〜約60個の炭素原子の骨格炭素鎖を有する。好適なエステルとしては、脂肪酸エステル、脂肪アルコールエステル、ワックスエステル、グリセロールエステル、グリコールエステル、及びコンプレックスエステルが挙げられる。脂肪酸アミドとしては、脂肪酸第1級アミド、脂肪酸第2級アミド、メチレン及びエチレンビスアミド、並びにアルカノールアミド、例えば、パルミチン酸アミド、ステアリン酸アミド、オレイン酸アミド、N,N’−エチレンビスステアラミドなどが挙げられる。また、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウムなどのような脂肪酸の金属塩;パラフィンワックス、ポリオレフィン及び酸化ポリオレフィンワックス、並びに微結晶質ワックスなどの炭化水素ワックス;も好適である。特に好適な潤滑剤は、ステアリン酸の酸、塩、又はアミド、例えばペンタエリトリトールテトラステアレート、カルシウムステアレート、又はN,N’−エチレンビスステアラミドである。用いる場合には、1種類又は複数の潤滑剤は、通常は、ポリマー組成物の約0.05重量%〜約1.5重量%、幾つかの態様においては約0.1重量%〜約0.5重量%(重量基準)を構成する。
III.形成:
[0049]液晶ポリマー、ポリアリーレンスルフィド、及び他の随意的な添加剤は、約250℃〜約450℃、幾つかの態様においては約280℃〜約400℃、幾つかの態様においては約300℃〜約380℃の温度範囲内で一緒に溶融加工又はブレンドしてポリマー組成物を形成することができる。例えば、成分(例えば、液晶ポリマー、ポリアリーレンスルフィド等)を、バレル(例えば円筒形のバレル)内に回転可能に取り付けられて収容されている少なくとも1つのスクリューを含み、スクリューの長さに沿って、供給セクション及び供給セクションの下流に配置される溶融セクションを画定することができる押出機に別々か又は組み合わせて供給することができる。押出機は、一軸又は二軸押出機であってよい。スクリューの速度は、所望の滞留時間、剪断速度、溶融加工温度等を達成するように選択することができる。例えば、スクリュー速度は、約50〜約800の毎分回転数(rpm)、幾つかの態様においては約70〜約150rpm、幾つかの態様においては約80〜約120rpmの範囲にすることができる。また、溶融ブレンド中のみかけ剪断速度は、約100秒−1〜約10,000秒−1、幾つかの態様においては約500秒−1〜約5000秒−1、幾つかの態様においては約800秒−1〜約1200秒−1の範囲にすることができる。みかけ剪断速度は、4Q/πR3(式中、Qはポリマー溶融体の体積流量(m3/秒)であり、Rはそれを通って溶融ポリマーが流れる毛細管(例えば押出機ダイ)の半径(m)である)に等しい。
[0049]液晶ポリマー、ポリアリーレンスルフィド、及び他の随意的な添加剤は、約250℃〜約450℃、幾つかの態様においては約280℃〜約400℃、幾つかの態様においては約300℃〜約380℃の温度範囲内で一緒に溶融加工又はブレンドしてポリマー組成物を形成することができる。例えば、成分(例えば、液晶ポリマー、ポリアリーレンスルフィド等)を、バレル(例えば円筒形のバレル)内に回転可能に取り付けられて収容されている少なくとも1つのスクリューを含み、スクリューの長さに沿って、供給セクション及び供給セクションの下流に配置される溶融セクションを画定することができる押出機に別々か又は組み合わせて供給することができる。押出機は、一軸又は二軸押出機であってよい。スクリューの速度は、所望の滞留時間、剪断速度、溶融加工温度等を達成するように選択することができる。例えば、スクリュー速度は、約50〜約800の毎分回転数(rpm)、幾つかの態様においては約70〜約150rpm、幾つかの態様においては約80〜約120rpmの範囲にすることができる。また、溶融ブレンド中のみかけ剪断速度は、約100秒−1〜約10,000秒−1、幾つかの態様においては約500秒−1〜約5000秒−1、幾つかの態様においては約800秒−1〜約1200秒−1の範囲にすることができる。みかけ剪断速度は、4Q/πR3(式中、Qはポリマー溶融体の体積流量(m3/秒)であり、Rはそれを通って溶融ポリマーが流れる毛細管(例えば押出機ダイ)の半径(m)である)に等しい。
[0050]本発明者らは、それを形成する特定の方法には関係なく、得られるポリマー組成物は優れた熱特性を有することができることを見出した。例えば、ポリマー組成物を小さい寸法を有する金型のキャビティ中に容易に流入させることができるように、ポリマー組成物の溶融粘度を十分に低くすることができる。1つの特定の態様においては、ポリマー組成物は、1000秒−1の剪断速度において測定して約0.1〜約150Pa・秒、幾つかの態様においては約0.5〜約120Pa・秒、幾つかの態様においては約1〜約100Pa・秒の溶融粘度を有することができる。溶融粘度は、ISO試験No.11443にしたがって、組成物の融点(例えば350℃)よりも15℃高い温度で測定することができる。組成物はまた、比較的高い融点も有することができる。例えば、ポリマーの融点は、約250℃〜約400℃、幾つかの態様においては約280℃〜約395℃、幾つかの態様においては約300℃〜約380℃にすることができる。
IV.接着性積層体:
[0051]カメラモジュールにおける異なる部品(例えば光学フィルター)に対するポリマー組成物の固定を助けるために、本発明のポリマー組成物から形成される基層上に配置される接着剤を含む積層体を形成することができる。基層は、乾燥し予備加熱したプラスチック顆粒物を金型中に射出する一成分射出成形プロセスのような成形プロセスを用いて形成することができる。かかる成形された基層は一般に強靱で、例えば、ISO試験No.179−1(ASTM−D256方法Bと技術的に同等)にしたがって23℃において測定して約3kJ/m2より大きく、約4kJ/m2より大きく、幾つかの態様においては約5〜約40kJ/m2、幾つかの態様においては約6〜約30kJ/m2のシャルピーノッチ付き衝撃強さを有することができる。引張及び曲げ機械特性も良好である。例えば、基層は、約20〜約500MPa、幾つかの態様においては約50〜約400MPa、幾つかの態様においては約100〜約350MPaの引張り強さ;約0.5%以上、幾つかの態様においては約0.6%〜約10%、幾つかの態様においては約0.8%〜約3.5%の引張破断歪み;及び/又は約5,000MPa〜約20,000MPa、幾つかの態様においては約8,000MPa〜約20,000MPa、幾つかの態様においては約10,000MPa〜約15,000MPaの引張弾性率;を示すことができる。引張特性は、ISO試験No.527(ASTM−D638と技術的に同等)にしたがって23℃において測定することができる。基層はまた、約20〜約500MPa、幾つかの態様においては約50〜約400MPa、幾つかの態様においては約100〜約350MPaの曲げ強さ;約0.5%以上、幾つかの態様においては約0.6%〜約10%、幾つかの態様においては約0.8%〜約3.5%の曲げ破断歪み;及び/又は約5,000MPa〜約20,000MPa、幾つかの態様においては約8,000MPa〜約20,000MPa、幾つかの態様においては約10,000MPa〜約15,000MPaの曲げ弾性率;も示すことができる。曲げ特性は、ISO試験No.178(ASTM−D790と技術的に同等)にしたがって23℃において測定することができる。基層はまた、ASTM−D648−07(ISO試験No.75−2と技術的に同等)にしたがって1.8MPaの規定荷重において測定して約200℃以上、幾つかの態様においては約200℃〜約280℃の荷重撓み温度(DTUL)も示すことができる。
[0051]カメラモジュールにおける異なる部品(例えば光学フィルター)に対するポリマー組成物の固定を助けるために、本発明のポリマー組成物から形成される基層上に配置される接着剤を含む積層体を形成することができる。基層は、乾燥し予備加熱したプラスチック顆粒物を金型中に射出する一成分射出成形プロセスのような成形プロセスを用いて形成することができる。かかる成形された基層は一般に強靱で、例えば、ISO試験No.179−1(ASTM−D256方法Bと技術的に同等)にしたがって23℃において測定して約3kJ/m2より大きく、約4kJ/m2より大きく、幾つかの態様においては約5〜約40kJ/m2、幾つかの態様においては約6〜約30kJ/m2のシャルピーノッチ付き衝撃強さを有することができる。引張及び曲げ機械特性も良好である。例えば、基層は、約20〜約500MPa、幾つかの態様においては約50〜約400MPa、幾つかの態様においては約100〜約350MPaの引張り強さ;約0.5%以上、幾つかの態様においては約0.6%〜約10%、幾つかの態様においては約0.8%〜約3.5%の引張破断歪み;及び/又は約5,000MPa〜約20,000MPa、幾つかの態様においては約8,000MPa〜約20,000MPa、幾つかの態様においては約10,000MPa〜約15,000MPaの引張弾性率;を示すことができる。引張特性は、ISO試験No.527(ASTM−D638と技術的に同等)にしたがって23℃において測定することができる。基層はまた、約20〜約500MPa、幾つかの態様においては約50〜約400MPa、幾つかの態様においては約100〜約350MPaの曲げ強さ;約0.5%以上、幾つかの態様においては約0.6%〜約10%、幾つかの態様においては約0.8%〜約3.5%の曲げ破断歪み;及び/又は約5,000MPa〜約20,000MPa、幾つかの態様においては約8,000MPa〜約20,000MPa、幾つかの態様においては約10,000MPa〜約15,000MPaの曲げ弾性率;も示すことができる。曲げ特性は、ISO試験No.178(ASTM−D790と技術的に同等)にしたがって23℃において測定することができる。基層はまた、ASTM−D648−07(ISO試験No.75−2と技術的に同等)にしたがって1.8MPaの規定荷重において測定して約200℃以上、幾つかの態様においては約200℃〜約280℃の荷重撓み温度(DTUL)も示すことができる。
[0052]一般に積層体において任意の種々の接着剤を用いることができるが、エポキシ樹脂、アクリレート、シアノアクリレート、ウレタン等のような硬化性接着剤が、本発明において用いるのに特に好適である。一般に、接着剤は熱及び/又は湿分を加えることによって硬化可能であるが、紫外線放射は必要ない。かかる硬化性接着剤の1つの例はエポキシ樹脂であり、これは通常はエポキシド及び硬化剤を含む。エポキシドとしては、開環反応によって重合させることができる少なくとも1つのオキシラン環を有する有機化合物を挙げることができ、脂肪族、複素環式、脂環式、及び/又は芳香族であってよい。エポキシドは、分子あたり少なくとも2つのエポキシ基を含む点で「ポリエポキシド」であってよく、性質的にモノマー、二量体、オリゴマー、又はポリマーであってよい。樹脂の骨格は任意のタイプのものであってよく、その上の置換基は、オキシラン環と反応性の求核基又は求電子基(例えば活性水素原子)を有しない任意の基であってよい。代表的な置換基としては、ハロゲン、エステル基、エーテル、スルホネート基、シロキサン基、ニトロ基、アミド基、ニトリル基、及びホスフェート基が挙げられる。
[0053]用いることができるエポキシド樹脂のタイプとしては、例えば、ビスフェノールAとエピクロロヒドリンの反応生成物、フェノール及びホルムアルデヒド(ノボラック樹脂)とエピクロロヒドリンの反応生成物、過酸エポキシ樹脂、グリシジルエステル、グリシジルエーテル、エピクロロヒドリンとp−アミノフェノールの反応生成物、エピクロロヒドリンとグリオキサールテトラフェノールの反応生成物等が挙げられる。特に好適なエポキシドは、下記の一般式(I):
[0054]式中、nは1以上、幾つかの態様においては1〜4であり、R’は有機残基であり、例えばアルキル基、アルキルエーテル基、又はアリール基を挙げることができ、nは少なくとも1である)
において示すようなグリシジルエーテルタイプのものである。例えば、R’はポリ(アルキレンオキシド)であってよい。式(I)の好適なグリシジルエーテルエポキシドとしては、ビスフェノールA及びF、脂肪族ジオール、又は脂環式ジオールのグリシジルエーテルが挙げられる。グリシジルエーテルエポキシドとしては、末端エポキシ基を有する線状ポリマーエポキシド(例えばポリオキシアルキレングリコールのジグリシジルエーテル)、及び芳香族グリシジルエーテル(例えば、二価フェノールを過剰のエピクロロヒドリンと反応させることによって製造されるもの)を挙げることができる。二価フェノールの例としては、レゾルシノール、カテコール、ヒドロキノン、及びp,p’−ジヒドロキシジベンジル、p,p’−ジヒドロキシフェニルスルホン、p,p’−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシフェニルスルホン、p,p’−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−1,1−ジナフチルメタン、並びにジヒドロキシジフェニルメタン、ジヒドロキシジフェニルジメチルメタン、ジヒドロキシジフェニルエチルメチルメタン、ジヒドロキシジフェニルメチルプロピルメタン、ジヒドロキシジフェニルエチルフェニルメタン、ジヒドロキシジフェニルプロピレンフェニルメタン、ジヒドロキシジフェニルブチルフェニルメタン、ジヒドロキシジフェニルトリルエタン、ジヒドロキシジフェニルトリルメチルメタン、ジヒドロキシジフェニルジシクロヘキシルメタン、及びジヒドロキシジフェニルシクロヘキサンの2,2’、2,3’、2,4’、3,3’、3,4’、及び4,4’異性体が挙げられる。
において示すようなグリシジルエーテルタイプのものである。例えば、R’はポリ(アルキレンオキシド)であってよい。式(I)の好適なグリシジルエーテルエポキシドとしては、ビスフェノールA及びF、脂肪族ジオール、又は脂環式ジオールのグリシジルエーテルが挙げられる。グリシジルエーテルエポキシドとしては、末端エポキシ基を有する線状ポリマーエポキシド(例えばポリオキシアルキレングリコールのジグリシジルエーテル)、及び芳香族グリシジルエーテル(例えば、二価フェノールを過剰のエピクロロヒドリンと反応させることによって製造されるもの)を挙げることができる。二価フェノールの例としては、レゾルシノール、カテコール、ヒドロキノン、及びp,p’−ジヒドロキシジベンジル、p,p’−ジヒドロキシフェニルスルホン、p,p’−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシフェニルスルホン、p,p’−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−1,1−ジナフチルメタン、並びにジヒドロキシジフェニルメタン、ジヒドロキシジフェニルジメチルメタン、ジヒドロキシジフェニルエチルメチルメタン、ジヒドロキシジフェニルメチルプロピルメタン、ジヒドロキシジフェニルエチルフェニルメタン、ジヒドロキシジフェニルプロピレンフェニルメタン、ジヒドロキシジフェニルブチルフェニルメタン、ジヒドロキシジフェニルトリルエタン、ジヒドロキシジフェニルトリルメチルメタン、ジヒドロキシジフェニルジシクロヘキシルメタン、及びジヒドロキシジフェニルシクロヘキサンの2,2’、2,3’、2,4’、3,3’、3,4’、及び4,4’異性体が挙げられる。
[0055]上述したように、エポキシ樹脂はまた、通常は、室温硬化剤、熱活性化硬化剤等のような硬化性エポキシドを架橋させることができる硬化剤も含む。かかる硬化剤の例としては、例えば、イミダゾール類、イミダゾール塩、イミダゾリン類、第3級アミン、及び/又は第1級若しくは第2級アミン、例えばジアミン、ジエチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラアミン、プロピレンジアミン、テトラエチレンペンタアミン、ヘキサエチレンヘプタアミン、ヘキサメチレンジアミン、2-メチル−1,5−ペンタメチレンジアミン、4,7,10−トリオキサトリデカン−1,13−ジアミン、アミノエチルピペラジン等を挙げることができる。幾つかの態様においては、硬化剤は、1以上のアミン基を有するポリエーテルアミン、例えばポリプロピレンオキシド又はポリエチレンオキシドから誘導することができるポリエーテルアミンである。硬化性接着剤にはまた、粘着性付与剤、可塑剤、流動調整剤、中和剤、安定剤、酸化防止剤、充填剤、着色剤等のような他の通常の添加剤を含ませることもできる。
[0056]用いる特定の添加剤に関係なく、得られる積層体は良好な接着特性を達成することができることが見出された。例えば、接着特性は、積層体のラップ剪断強さによって定量することができ、これはASTM−D638−10にしたがって測定して約0.5メガパスカル(MPa)以上、幾つかの態様においては約0.75MPa〜約5MPa、幾つかの態様においては約1MPa〜約3MPaの範囲であってよい。
V.コンパクトカメラモジュール:
[0057]本発明のポリマー組成物及び/又は接着性積層体は、広範囲のコンパクトカメラモジュール構造において用いることができる。1つの特に好適なコンパクトカメラモジュール300を図1に示す。示されるように、カメラモジュール300は、レンズホルダー31内に収容されており、レンズバレル331及びその中に収容されている少なくとも1つのレンズ333を含むレンズモジュール33を含む。レンズホルダー31は、本体312(レンズバレル331の外側のネジ山3312と噛合することができる内部ネジ山3121を確定する)に接続されているベース314を含む。ベース314の底部端3146上に回路基板35を固定して、回路基板35、レンズモジュール33、及びレンズホルダー31によって協働して閉止された空洞部(図示せず)が画定されるようにすることができる。ベース314はまた、受容空洞部310に面してこれを画定する内表面3145を画定することもできる。光学フィルター39(例えば赤外(IR)カットフィルター)を、その底部表面392が回路基板35に面するように受容空洞部310内に配置することができる。光学フィルター39は、ワイヤ36によって回路基板35に電気的に接続することができる電荷結合デバイス(CCD)、相補型金属酸化膜半導体(CMOS)活性画素センサー等のような画像センサー37からの光(例えば赤外光)を遮断することができる。本体312及び受容空洞部310と連絡しているスルーホール316を内表面3145内に与えることもできる。ベース314の側壁は、受容空洞部310と連絡している随意的な取付穴3142を画定することができる。所望の場合には、光学フィルター39を、取付穴3142から受容空洞部310中に挿入するか、及び/又はそれから取り出すことができる。
[0057]本発明のポリマー組成物及び/又は接着性積層体は、広範囲のコンパクトカメラモジュール構造において用いることができる。1つの特に好適なコンパクトカメラモジュール300を図1に示す。示されるように、カメラモジュール300は、レンズホルダー31内に収容されており、レンズバレル331及びその中に収容されている少なくとも1つのレンズ333を含むレンズモジュール33を含む。レンズホルダー31は、本体312(レンズバレル331の外側のネジ山3312と噛合することができる内部ネジ山3121を確定する)に接続されているベース314を含む。ベース314の底部端3146上に回路基板35を固定して、回路基板35、レンズモジュール33、及びレンズホルダー31によって協働して閉止された空洞部(図示せず)が画定されるようにすることができる。ベース314はまた、受容空洞部310に面してこれを画定する内表面3145を画定することもできる。光学フィルター39(例えば赤外(IR)カットフィルター)を、その底部表面392が回路基板35に面するように受容空洞部310内に配置することができる。光学フィルター39は、ワイヤ36によって回路基板35に電気的に接続することができる電荷結合デバイス(CCD)、相補型金属酸化膜半導体(CMOS)活性画素センサー等のような画像センサー37からの光(例えば赤外光)を遮断することができる。本体312及び受容空洞部310と連絡しているスルーホール316を内表面3145内に与えることもできる。ベース314の側壁は、受容空洞部310と連絡している随意的な取付穴3142を画定することができる。所望の場合には、光学フィルター39を、取付穴3142から受容空洞部310中に挿入するか、及び/又はそれから取り出すことができる。
[0058]本発明のポリマー組成物及び/又は積層体は、一般に図1に示すカメラモジュール300の任意の部分を形成するために用いることができる。例えば一態様においては、ベース314、又はベース314の少なくとも一部を本発明の積層体から形成して、接着剤層が内表面3145を画定し、光学フィルター39に接着するようにする。勿論、レンズホルダー31の他の部品(例えば本体312)、レンズモジュールの他の部品(例えばレンズバレル331)等のようなカメラモジュールの他の部分を、本発明のポリマー組成物及び/又は積層体によって形成することもできることも理解すべきである。
[0059]本発明は以下の実施例を参照してより良好に理解することができる。
試験方法:
[0060]ラップ剪断強さ:接着剤強度の定量的評価法として用いることができるラップ剪断強さは、ASTM−D638−10にしたがって、23℃の試験温度及び5.1mm/分の試験速度で測定することができる。測定は、特定の寸法の引張棒材(ASTM−D638タイプ1)を有する試料を用いて行うことができる。測定の前に、引張棒材を半分に切断し、棒材の半分に接着剤(3M(登録商標)Scotch-Weld(登録商標)エポキシ接着剤1838B/A, 3M Co.)を適用した。次に、紙クリップを用いて引張棒材の半分を再び結合し、得られる試験片をオーブン内に配置して、室温において一晩加熱して接着剤を硬化させた。
[0060]ラップ剪断強さ:接着剤強度の定量的評価法として用いることができるラップ剪断強さは、ASTM−D638−10にしたがって、23℃の試験温度及び5.1mm/分の試験速度で測定することができる。測定は、特定の寸法の引張棒材(ASTM−D638タイプ1)を有する試料を用いて行うことができる。測定の前に、引張棒材を半分に切断し、棒材の半分に接着剤(3M(登録商標)Scotch-Weld(登録商標)エポキシ接着剤1838B/A, 3M Co.)を適用した。次に、紙クリップを用いて引張棒材の半分を再び結合し、得られる試験片をオーブン内に配置して、室温において一晩加熱して接着剤を硬化させた。
[0061]溶融粘度:溶融粘度(Pa・秒)は、ISO試験No.11443にしたがって、1000秒−1の剪断速度、及び融点(例えば350℃)より15℃高い温度において、Dynisco LCR7001毛細管流量計を用いて測定することができる。流量計オリフィス(ダイ)は、1mmの直径、20mmの長さ、20.1のL/D比、及び180°の入口角を有していた。バレルの直径は9.55mm±0.005mmであり、ロッドの長さは233.4mmであった。
[0062]融点:融点(Tm)は、当該技術において公知なように示差走査熱量測定(DSC)によって測定した。融点は、ISO試験No.11357によって求められる示差走査熱量測定(DSC)ピーク融解温度である。DSC手順においては、TA-Q2000装置上で行うDSC測定を用いて、ISO標準規格10350に示されているように試料を20℃/分で加熱及び冷却した。
[0063]荷重撓み温度(DTUL):荷重撓み温度は、ISO試験No.75−2(ASTM−D648−07と技術的に同等)にしたがって測定した。より詳しくは、80mmの長さ、10mmの厚さ、及び4mmの幅を有する試験片試料を、規定荷重(最大外繊維応力)が1.8メガパスカルである沿層方向3点曲げ試験にかけた。試験片をシリコーン油浴中に降下させ、0.25mm(ISO試験No.75−2に関しては0.32mm)歪むまで温度を2℃/分で上昇させた。
[0064]引張弾性率、引張応力、及び引張伸び:引張特性は、ISO試験No.527(ASTM−D638と技術的に同等)にしたがって試験した。80mmの長さ、10mmの厚さ、及び4mmの幅を有する同じ試験片試料について、弾性率及び強度の測定を行った。試験温度は23℃であり、試験速度は1又は5mm/分であった。
[0065]曲げ弾性率、曲げ応力、及び曲げ歪み:曲げ特性は、ISO試験No.178(ASTM−D790と技術的に同等)にしたがって試験した。この試験は64mmの支持材スパンに関して行った。試験は、未切断のISO−3167多目的棒材の中央部分について行った。試験温度は23℃であり、試験速度は2mm/分であった。
[0071]ノッチ付きシャルピー衝撃強さ:ノッチ付きシャルピー特性は、ISO試験No.179−1(ASTM−D256方法Bと技術的に同等)にしたがって試験した。この試験は、タイプAのノッチ(0.25mmの底半径)、及びタイプ1の試験片寸法(80mmの長さ、10mmの幅、及び4mmの厚さ)を用いて行った。試験片は、一枚歯フライス盤を用いて多目的棒材の中央部分から切り出した。試験温度は23℃であった。
実施例1:
[0067]下表1に示されるように、種々の割合の液晶ポリマー(LCP)、ポリフェニレンスルフィド(PPS)、潤滑剤(Glycolube(登録商標)P)、タルク、水和アルミナ(ATH)、4,4’−ビフェノール(BP)、及び2,6−ナフタレンジカルボン酸(NDA)、並びに黒色マスターバッチから試料1〜4を形成した。それぞれの試料における液晶ポリマーは、Leeらの米国特許5,508,374に記載されているように、HBA、HNA、TA、BP、及びAPAPから形成した。配合は18mmの単軸押出機を用いて行った。
[0067]下表1に示されるように、種々の割合の液晶ポリマー(LCP)、ポリフェニレンスルフィド(PPS)、潤滑剤(Glycolube(登録商標)P)、タルク、水和アルミナ(ATH)、4,4’−ビフェノール(BP)、及び2,6−ナフタレンジカルボン酸(NDA)、並びに黒色マスターバッチから試料1〜4を形成した。それぞれの試料における液晶ポリマーは、Leeらの米国特許5,508,374に記載されているように、HBA、HNA、TA、BP、及びAPAPから形成した。配合は18mmの単軸押出機を用いて行った。
[0068]試料を、60mm×60mm×1mmの寸法を有する引張棒材に射出成形し、次に種々の熱的及び機械的特性に関して試験した。結果を下表2に与える。
[0069]本発明のこれら及び他の修正及び変更は、本発明の精神及び範囲から逸脱することなく当業者によって実施することができる。更に、種々の態様の幾つかの形態は、全体的又は部分的に交換することができることを理解すべきである。更に、当業者であれば、上記の記載は例示のみのものであり、特許請求の範囲において更に記載されている発明を限定することは意図しないことを認識するであろう。
Claims (24)
- レンズホルダー内に収容されているレンズモジュールを含み、レンズモジュール、レンズホルダー、又はこれらの組合せの少なくとも一部は、液晶ポリマー及びポリアリーレンスルフィドを含むポリマー組成物から形成されているコンパクトカメラモジュール。
- 組成物中におけるポリアリーレンスルフィドポリマーに対する液晶ポリマーの重量比が約0.5〜約10である、請求項1に記載のコンパクトカメラモジュール。
- 液晶ポリマーが組成物の約5重量%〜約60重量%を構成する、請求項1又は2に記載のコンパクトカメラモジュール。
- ポリアリーレンスルフィドが組成物の約1重量%〜約35重量%を構成する、請求項1〜3のいずれかに記載のコンパクトカメラモジュール。
- 液晶ポリマーが芳香族エステル繰り返し単位を含む、請求項1〜4のいずれかに記載のコンパクトカメラモジュール。
- 芳香族エステル繰り返し単位が、芳香族ジカルボン酸繰り返し単位、芳香族ヒドロキシカルボン酸繰り返し単位、又はこれらの組合せである、請求項5に記載のコンパクトカメラモジュール。
- ポリマーが芳香族ジオール繰り返し単位を更に含む、請求項5又は6に記載のコンパクトカメラモジュール。
- 液晶ポリマーが、4−ヒドロキシ安息香酸、テレフタル酸、イソフタル酸、ヒドロキノン、4,4’−ビフェノール、アセトアミノフェン、6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、又はこれらの組合せから誘導される繰り返し単位を含む、請求項1〜7のいずれかに記載のコンパクトカメラモジュール。
- ポリアリーレンスルフィドがポリフェニレンスルフィドである、請求項1〜8のいずれかに記載のコンパクトカメラモジュール。
- 導電性充填剤、無機繊維、ガラス充填剤、クレイ鉱物、又はこれらの組合せを更に含む、請求項1〜9のいずれかに記載のコンパクトカメラモジュール。
- 官能性化合物を更に含む、請求項1〜10のいずれかに記載のコンパクトカメラモジュール。
- レンズホルダーが光学フィルターに取り付けられているベースを含む、請求項1〜11のいずれかに記載のコンパクトカメラモジュール。
- ベースと光学フィルターの間に配置されている接着剤層を更に含む、請求項12に記載のコンパクトカメラモジュール。
- ベースが本体に接続されている、請求項12又は13に記載のコンパクトカメラモジュール。
- レンズモジュールが、レンズバレル、及びバレル内に収容されている少なくとも1つのレンズを含む、請求項1〜14のいずれかに記載のコンパクトカメラモジュール。
- ベース、本体、レンズバレル、又はこれらの組合せがポリマー組成物を含む、請求項14〜17のいずれかに記載のコンパクトカメラモジュール。
- 基層及び接着剤層を含み、基層は液晶ポリマー及びポリアリーレンスルフィドを含むポリマー組成物から形成され、組成物中におけるポリアリーレンスルフィドポリマーに対する液晶ポリマーの重量比は約0.5〜約10である接着性積層体。
- 液晶ポリマーが組成物の約5重量%〜約60重量%を構成し、ポリアリーレンスルフィドが組成物の約1重量%〜約35重量%を構成する、請求項17に記載の接着性積層体。
- 液晶ポリマーが、芳香族ジカルボン酸繰り返し単位、芳香族ヒドロキシカルボン酸繰り返し単位、芳香族ジオール繰り返し単位、又はこれらの組合せを含む、請求項17に記載の接着性積層体。
- 液晶ポリマーが、4−ヒドロキシ安息香酸、テレフタル酸、イソフタル酸、ヒドロキノン、4,4’−ビフェノール、アセトアミノフェン、6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、又はこれらの組合せから誘導される繰り返し単位を含む、請求項17に記載の接着性積層体。
- ポリアリーレンスルフィドがポリフェニレンスルフィドである、請求項17に記載の接着性積層体。
- 芳香族ジオール、芳香族カルボン酸、又はこれらの組合せである官能性芳香族化合物を更に含む、請求項17に記載の接着性積層体。
- 接着剤層がエポキシ樹脂を含む、請求項17に記載の接着性積層体。
- 積層体が、ASTM−D638−10にしたがって測定して約0.5MPa以上のラップ剪断強さを示す、請求項17に記載の接着性積層体。
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