JP2016533872A - マイクロ波補助でｓｃｒ脱硝触媒を再生する方法及びその装置 - Google Patents
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Abstract
本発明はマイクロ波補助でＳＣＲ脱硝触媒を再生する方法を公表する。本発明は、（１）中毒されたＳＣＲ脱硝触媒を脱イオン水に浸し、バブリングでＳＣＲ脱硝触媒を洗浄する；（２）ＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液が入っている容器に浸す；（３）ＳＣＲ脱硝触媒をマイクロ波装置に転移し、１０分処理する；（４）ＳＣＲ脱硝触媒を活性液が入っている容器に転移し、１〜４時間浸す；（５）ＳＣＲ脱硝触媒をマイクロ波で１〜２０分乾燥する；（６）ＳＣＲ脱硝触媒を５００〜６００℃で４〜７時間か焼する。本発明は、原料が入手しやすく、装置と工法が簡単で省エネルギーで、工業規模化再生に適用される。本発明方法で処理される触媒は、緩い穴チャンネル、最適化穴構造を持ち、触媒の表面状況が著しく改善され、高い活性、優れる経済性という特徴がある。
Description
本発明は、触媒の再生方法、特にマイクロ波補助でＳＣＲ脱硝触媒を再生する方法及びその装置に関わる。
前世紀９０年代から、国家環保局は石炭火力発電所のボイラーＮＯｘ排出を制限する基準（ＧＢ１３２２３−１９９１）を制定し、その後、毎回公表された「火力発電所大気汚染物排出標準」（ＧＢ１３２２３−１９９６、ＧＢ１３２２３−２００３）で絶えずに排出制限を厳しくしている。２０１１年７月、最新発表された「火力発電所大気汚染物排出標準」（ＧＢ１３２２３−２０１１）により、２０１２年１月１日から、新築、増設、改造される石炭火力発電所ＮＯｘ排出量が１００ｍｇ／ｍ３（重点地区）と２００ｍｇ／ｍ３（その他）を満足しなければならない。２０１４年１月１日から、いつ建てたかを問わず、全ての石炭火力発電所は上記の標準を達成しなければならない。ＳＣＲ煙脱硝技術は成熟し、脱硝の効率が高く、触媒はＳＣＲシステムの重要構成部分で、その性能は直接触媒の脱硝効果に影響する。詰まりや中毒が発生しやすい場合、触媒の活性が失われることは避けられない。コスト低減を目的とし、通常活性が無くなった触媒を再生し、使用する。そのゴミ置き空間の縮小にも繋がる。そのため、触媒再生難題を解決することは、実際の排出低減効果を向上し、ＳＣＲ技術の経済性を大幅に向上できる。
触媒反応動力学の活性中心理論により、触媒反応は触媒表面の活性中心で発生する。大きな比表面積は更に多くの表面活性中心を提供できる。マイクロ穴構造が豊かであれば、比表面積が大きくなる。穴チャンネル構造から、穴径がＳＣＲ反応に適切する範囲以内の場合、穴の容量が大きければ大きいほど、反応気体が入る空間が大きくなる。触媒反応の発生にも有利である。
マイクロ波加熱技術は加熱体内部の双極子の高頻度往復動作で、「内摩擦熱」が発生し、加熱体の温度が上昇する。熱伝導無しで、加熱体の内外部を同時に加熱し、同時に上昇させる。加熱速度も均一で早いし、エネルギー消耗も伝統的な加熱方法の幾分の一又は数十分の一になり、触媒の再生において良い将来性を持っている。
現在の技術文献の検索で、授権公告号ＣＮ１６８６６０７Ａの中国特許にマイクロ波、超音波再生活性炭の濾過装置が公表されている。流体がボディカバーの入口から濾過装置に入り、活性炭で充実されたボディを通し、濾過された後、活性炭に挿入されたパイプに沿って、カバーの出口から出る。活性炭の活性が無くなり、再生が必要なとき、流体出口から入り、入口から出て、マイクロ波発生器と超音波発生器を起動し、発生されたマイクロ波、超音波が活性炭を再生する。流体が、再生で発生された不純物を流し出す。脱硝触媒の再生は現場で直接行うことができない、且つ、再生するために多種の溶液の洗浄と浸透が必要で、同じ容器に入れてはいけないため、ＳＣＲ工程と再生工程は同じ容器で行うことができない。そのため、この特許はＳＣＲ脱硝触媒再生に適用されない。
授権公告号ＣＮ１６８６６０７Ａの中国特許に脱硝触媒の選択的還元再生方法及び装置が公表されている。この再生方法で、実際の工業で応用される中毒ＳＣＲ脱硝触媒を順次に超音波予備処理、脱イオン水洗浄、穴拡液浸水、高温高圧蒸発、活物質活性化及びか焼工法で、触媒を再生して利用する。この方法で使われる高圧釜は圧力が高く、危険性がある；且つ、瞬間蒸発で使われている無水アルコールなどの穴拡液の浪費が発生する；又、この方法で脱イオン水で超音波洗浄１０ｍｉｎ、静置２−３時間、高圧釜に入れて、高温で一時保持しなければならない；穴拡後の活性化で活化液が完全に蒸発し、１０５−１３０℃で４−８時間乾燥する。この方法では、時間が長く、装置と温度の制限でエネルギー消耗も大きい。
本発明は、マイクロ波補助でＳＣＲ脱硝触媒を再生する方法を提供する。原料が入手しやすく、装置と工法が簡単で省エネルギーで、工業規模化再生に適用される。本発明方法で処理される触媒は緩い穴チャンネル、最適化穴構造を持ち、触媒の表面状況が著しく改善され、高い活性、優れる経済性という特徴がある。
本発明もマイクロ波補助でＳＣＲ脱硝触媒を再生する装置を提供する。
本発明で技術問題を解決するために採用される技術案：
マイクロ波補助でＳＣＲ脱硝触媒を再生する方法は下記の手順である。
（１）中毒ＳＣＲ脱硝触媒を脱イオン水に浸し、バブリングでＳＣＲ脱硝触媒を１０−３０分洗浄する；
（２）（１）で処理されたＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液が入っている容器に転移し、１０−３０分浸す；
（３）（２）で処理されたＳＣＲ脱硝触媒をマイクロ波装置に転移し、１−１０分処理する；
（４）（３）で処理されたＳＣＲ脱硝触媒を活性液が入っている容器に転移し、１〜４時間浸す；
（５）（４）で処理されたＳＣＲ脱硝触媒をマイクロ波装置に転移し、１−２０分乾燥する；
（６）（５）で処理されたＳＣＲ脱硝触媒をか焼装置に転移し、５００−６００℃で４−７時間か焼する。
マイクロ波補助でＳＣＲ脱硝触媒を再生する方法は下記の手順である。
（１）中毒ＳＣＲ脱硝触媒を脱イオン水に浸し、バブリングでＳＣＲ脱硝触媒を１０−３０分洗浄する；
（２）（１）で処理されたＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液が入っている容器に転移し、１０−３０分浸す；
（３）（２）で処理されたＳＣＲ脱硝触媒をマイクロ波装置に転移し、１−１０分処理する；
（４）（３）で処理されたＳＣＲ脱硝触媒を活性液が入っている容器に転移し、１〜４時間浸す；
（５）（４）で処理されたＳＣＲ脱硝触媒をマイクロ波装置に転移し、１−２０分乾燥する；
（６）（５）で処理されたＳＣＲ脱硝触媒をか焼装置に転移し、５００−６００℃で４−７時間か焼する。
触媒の使用においてマイクロ穴の詰まりが解決しにくい状況で、本発明は、比表面積を増加し、異なる穴径の穴数量を増加することにより、触媒の穴チャンネル構造を最適化し、触媒の活性液浸透量を増加し、活性物質負荷を均一化する方法を提供する。再生される触媒は、高い活性、良い経済性を持つ。
本発明は、穴拡（手順（２））後、マイクロ波処理（手順（３））と合わせて、穴拡時に少ない穴拡液（即ち損失正接値が０．１７４より大きい溶剤）を消耗しただけで、優れる穴拡効果を達成できる。
好ましくは、前記穴拡液は、損失正接値が０．１７４より大きい溶剤の水溶液である。
好ましくは、損失正接値が１．３以上の場合、溶剤の水溶液体積濃度は１−９％であり、損失正接値が１．３以下の場合、溶剤の水溶液体積濃度は１０−９０％である。
好ましくは、損失正接値が０．１７４以上の溶剤はグリコールの水溶液、エタノールの水溶液、ジメチルスルホキシドの水溶液、メチルアルコールの水溶液、酢酸の水溶液の中の一つである。
好ましくは、前記グリコールの水溶液の体積濃度が１−９％、エタノールの水溶液の体積濃度が１０−９０％、ジメチルスルホキシドの水溶液の体積濃度が１−９％、メチルアルコールの水溶液の体積濃度が１０−９０％、酢酸の水溶液の体積濃度が１０−５０％である。
好ましくは、前記活性液はバナジウム酸塩溶液、タングステン酸塩溶液またはその混合液である。その中、バナジウムのモル濃度は０．０１−０．４ｍｏｌ／Ｌ、タングステンのモル濃度は０．１−２ｍｏｌ／Ｌである。
好ましくは、手順（１）バブリングはインパルス方式で、バブリング気源は圧縮空気である。
好ましくは、手順（３）と（５）のマイクロ波は、効率密度２０−１００ｋＷ／ｍ３、周波数２４５０ＭＨｚである。マイクロ波補助でＳＣＲ脱硝触媒を再生する装置として、順次設置されるバブリング洗浄ユニット、穴拡浸水ユニット、第一マイクロ波処理ユニット、活化液浸水ユニット、第二マイクロ波処理ユニット、か焼ユニットを含み、隣接ユニットの間すべてにＳＣＲ脱硝触媒を転移するロボットが設置されている。
好ましくは、バブリング洗浄ユニットは、バブリング洗浄池、バブリング器、空気圧縮ポンプ、上下できるコンベア、脱イオン水補給パイプ、廃液排出パイプを含む；
バブリング器はバブリング洗浄池の底に位置され、空気圧縮ポンプと接続されている。上下できるコンベアはバブリング洗浄池に設置され、脱イオン水補給パイプがバブリング洗浄池の上部と接続され、廃液排出パイプはバブリング洗浄池の底に接続されている；
穴拡浸水ユニットは、穴拡液浸水池、上下できるコンベア、穴拡液補給パイプ、廃液排出パイプを含む。上下できるコンベアは穴拡液浸水池に設置され、穴拡液補給パイプが穴拡液浸水池の上部に接続され、廃液排出パイプは穴拡液浸水池の底に接続されている；
第一マイクロ波処理ユニットと第二マイクロ波処理ユニットには上下できる電子レンジが設置され、電子レンジの底にコンベアが設置されている；
活化液浸水ユニットは、活化液浸水池、活化液補給パイプ、上下できるコンベア、廃液排出パイプを含む。上下できるコンベアは活化液浸水池に設置され、活化液補給パイプが活化液浸水池の上部に接続され、廃液排出パイプは活化液浸水池の底に接続されている；
か焼ユニットは、か焼炉を含む。
バブリング器はバブリング洗浄池の底に位置され、空気圧縮ポンプと接続されている。上下できるコンベアはバブリング洗浄池に設置され、脱イオン水補給パイプがバブリング洗浄池の上部と接続され、廃液排出パイプはバブリング洗浄池の底に接続されている；
穴拡浸水ユニットは、穴拡液浸水池、上下できるコンベア、穴拡液補給パイプ、廃液排出パイプを含む。上下できるコンベアは穴拡液浸水池に設置され、穴拡液補給パイプが穴拡液浸水池の上部に接続され、廃液排出パイプは穴拡液浸水池の底に接続されている；
第一マイクロ波処理ユニットと第二マイクロ波処理ユニットには上下できる電子レンジが設置され、電子レンジの底にコンベアが設置されている；
活化液浸水ユニットは、活化液浸水池、活化液補給パイプ、上下できるコンベア、廃液排出パイプを含む。上下できるコンベアは活化液浸水池に設置され、活化液補給パイプが活化液浸水池の上部に接続され、廃液排出パイプは活化液浸水池の底に接続されている；
か焼ユニットは、か焼炉を含む。
本装置で、触媒は各手順の間に直接コンベアの上下で各容器に運送され、ロボットで簡単に目標容器に転移されることが可能で、再生プロセスが最適化される。
本発明の有益的な効果は：本発明方法で処理された触媒は緩い穴チャンネル、最適化穴構造を持つ；触媒の表面状況が著しく改善される；且つ、原料が入手しやすい、装置と工法が簡単で省エネルギーで、工業規模化再生に適用される；また、本発明方法に使われる電子レンジは操作しやすいし、非密閉式で危険性を低減できる；穴拡溶液で処理した後に、触媒を取り出してマイクロ波で処理することにより、穴拡溶液の穴拡剤量が非常に少ない、且つ触媒は先に水で洗浄されるため、塵埃を大量に除去したので、穴拡溶液は常に排出せずに適当に補充すれば良い。穴拡溶液処理１０−３０ｍｉｎ、マイクロ波処理１−１０ｍｉｎ、エネルギー消耗が大幅に低減された；活性プロセスで浸水を採用したため、活性液の無駄を避けられ、電子レンジで１−２０ｍｉｎ乾燥する方法も乾燥時間を短縮し、エネルギー消耗も低減できる。
次は実施例で、添付図と合わせて本発明の技術案を更に詳しく説明する。
本発明は、特に指定がなければ、採用される原料と設備は全て市場または本領域で購入できる。次に述べる実施例は特に説明がなければ、全部本領域の通常方法である。
ＳＣＲ：選択的触媒還元法。
本発明の実施装置構造として（添付図２参考）、順次に設置されているのはバブリング洗浄ユニット、穴拡液浸水ユニット、第一マイクロ波処理ユニット、活化液浸水ユニット、第二マイクロ波処理ユニット、か焼ユニットであり；隣接ユニットの間すべてにＳＣＲ脱硝触媒１４を転移するロボット１３が設置されている。
バブリング洗浄ユニットには、バブリング洗浄池１、バブリング器２（インパルス式バブリング器）、空気圧縮ポンプ３、上下できるコンベア４、脱イオン水補給パイプ５、廃液排出パイプ６がある。バブリング器２はバブリング洗浄池１の底にあり、空気圧縮ポンプ３と接続され、上下できるコンベア４はバブリング洗浄池１にあり、脱イオン水補給パイプ５はバブリング洗浄池１の上部に接続され、廃液排出パイプ６はバブリング洗浄池１の底に接続されている。
穴拡浸水ユニットには、穴拡液浸水池７、上下できるコンベア４、穴拡液補給パイプ８、廃液排出パイプ６がある。上下できるコンベアは穴拡液浸水池７にあり、穴拡液補給パイプ８は穴拡液浸水池７の上部に接続され、廃液排出パイプは穴拡液浸水池７の底に接続されている。
第一マイクロ波処理ユニットと第二マイクロ波処理ユニットには、全て上下できる電子レンジ９を設置し、底にコンベアが設置されている。
活性液浸水ユニットには、活性液浸水池１０、活性液補給パイプ１１、上下できるコンベア、廃液排出パイプがある。上下できるコンベアは活性液浸水池内にあり、活性液補給パイプは活性液浸水池の上部に接続され、廃液排出パイプは活性液浸水池の底に接続されている。
か焼ユニットにはか焼炉１２がある。
本発明のプロセスは、添付図１で示している。詳細として：
（１）中毒ＳＣＲ脱硝触媒を脱イオン水に浸して、バブリングでＳＣＲ脱硝触媒を１０−３０分洗浄する。バブリングの気源は圧縮空気とする。
（２）（１）で処理されたＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液が入っている容器に転移し、１０−３０分浸す；前記穴拡液は、損失正接値が０．１７４より大きい溶剤の水溶液である。損失正接値が１．３以上の場合、溶剤の水溶液体積濃度が１−９％である；損失正接値が１．３以下の場合、溶剤の水溶液体積濃度が１０−９０％である。好ましくは、損失正接値が０．１７４以上の溶剤はグリコールの水溶液、エタノールの水溶液、ジメチルスルホキシドの水溶液、メチルアルコールの水溶液、酢酸の水溶液の中の一つである；前記グリコールの水溶液の体積濃度が１−９％、エタノールの水溶液の体積濃度が１０−９０％、ジメチルスルホキシドの水溶液の体積濃度が１−９％、メチルアルコールの水溶液の体積濃度が１０−９０％、酢酸の水溶液の体積濃度が１０−５０％である。
（３）（２）で処理されたＳＣＲ脱硝触媒をマイクロ波装置に転移し、１−１０分処理する；マイクロ波は効率密度２０−１００ｋＷ／ｍ３、周波数２４５０ＭＨｚである。
（４）（３）で処理されたＳＣＲ脱硝触媒を活性液が入っている容器に転移し、１−４時間浸す；前記活性液はバナジウム酸塩溶液、タングステン酸塩溶液またはその混合液である。その中、バナジウムのモル濃度は０．０１−０．４ｍｏｌ／Ｌ、タングステンのモル濃度は．１−２ｍｏｌ／Ｌである。
（５）（４）で処理されたＳＣＲ脱硝触媒をマイクロ波装置に転移し、１−２０分乾燥する；マイクロ波は効率密度２０−１００ｋＷ／ｍ３、周波数２４５０ＭＨｚである。
（６）（５）で処理されたＳＣＲ脱硝触媒をか焼装置に転移し、５００−６００℃で４−７時間か焼する。
（１）中毒ＳＣＲ脱硝触媒を脱イオン水に浸して、バブリングでＳＣＲ脱硝触媒を１０−３０分洗浄する。バブリングの気源は圧縮空気とする。
（２）（１）で処理されたＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液が入っている容器に転移し、１０−３０分浸す；前記穴拡液は、損失正接値が０．１７４より大きい溶剤の水溶液である。損失正接値が１．３以上の場合、溶剤の水溶液体積濃度が１−９％である；損失正接値が１．３以下の場合、溶剤の水溶液体積濃度が１０−９０％である。好ましくは、損失正接値が０．１７４以上の溶剤はグリコールの水溶液、エタノールの水溶液、ジメチルスルホキシドの水溶液、メチルアルコールの水溶液、酢酸の水溶液の中の一つである；前記グリコールの水溶液の体積濃度が１−９％、エタノールの水溶液の体積濃度が１０−９０％、ジメチルスルホキシドの水溶液の体積濃度が１−９％、メチルアルコールの水溶液の体積濃度が１０−９０％、酢酸の水溶液の体積濃度が１０−５０％である。
（３）（２）で処理されたＳＣＲ脱硝触媒をマイクロ波装置に転移し、１−１０分処理する；マイクロ波は効率密度２０−１００ｋＷ／ｍ３、周波数２４５０ＭＨｚである。
（４）（３）で処理されたＳＣＲ脱硝触媒を活性液が入っている容器に転移し、１−４時間浸す；前記活性液はバナジウム酸塩溶液、タングステン酸塩溶液またはその混合液である。その中、バナジウムのモル濃度は０．０１−０．４ｍｏｌ／Ｌ、タングステンのモル濃度は．１−２ｍｏｌ／Ｌである。
（５）（４）で処理されたＳＣＲ脱硝触媒をマイクロ波装置に転移し、１−２０分乾燥する；マイクロ波は効率密度２０−１００ｋＷ／ｍ３、周波数２４５０ＭＨｚである。
（６）（５）で処理されたＳＣＲ脱硝触媒をか焼装置に転移し、５００−６００℃で４−７時間か焼する。
＜実施例１＞
寸法１５０ｍｍ＊１５０ｍｍ＊６００ｍｍの胞状中毒（活性無）ＳＣＲ脱硝触媒を上下できるコンベアに置き、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を、２Ｌの脱イオン水が入っているバブリング洗浄池に浸水させ、２０ｍｉｎバブリング洗浄し、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池内の上下できるコンベアに転移し、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの体積濃度７０％メチルアルコールが入っている水溶液に浸し、３０ｍｉｎ浸水し、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を第一マイクロ波処理ユニットの上下できる電子レンジ側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を上下できる電子レンジ内に入れ、マイクロ波効率密度１００ｋＷ／ｍ３、周波数２４５０ＭＨｚで１０ｍｉｎ処理し、作ったサンプルを一部取って、サイズ４０−６０目の顆粒と粉を選別しておく。
寸法１５０ｍｍ＊１５０ｍｍ＊６００ｍｍの胞状中毒（活性無）ＳＣＲ脱硝触媒を上下できるコンベアに置き、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を、２Ｌの脱イオン水が入っているバブリング洗浄池に浸水させ、２０ｍｉｎバブリング洗浄し、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池内の上下できるコンベアに転移し、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの体積濃度７０％メチルアルコールが入っている水溶液に浸し、３０ｍｉｎ浸水し、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を第一マイクロ波処理ユニットの上下できる電子レンジ側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を上下できる電子レンジ内に入れ、マイクロ波効率密度１００ｋＷ／ｍ３、周波数２４５０ＭＨｚで１０ｍｉｎ処理し、作ったサンプルを一部取って、サイズ４０−６０目の顆粒と粉を選別しておく。
［性能試験］
上記実施例１で作った再生触媒粉０．１ｇを物理／化学吸着装置に入れ、ＢＥＴ比表面積検査を実施する。この検査はアメリカカンタクローム製Ａｕｔｏｓｏｒｂ−１−ｃ装置で行う。ＢＥＴ結果として、この胞状再生ＳＣＲ脱硝触媒の比表面積５５．４７ｍ２／ｇ、総穴容０．２４ｍＬ／ｇ、平均穴径１４．４３ｎｍである。同じ条件で、未処理の新鮮なＳＣＲ脱硝触媒の結果は、４６．９８ｍ２／ｇ，０．２２ｍＬ／ｇ，１６．２７ｎｍである。ＢＥＴ分析結果から、胞状再生ＳＣＲ脱硝触媒１０ｎｍ以下の穴容増加は２０％である。つまり、上記再生処理で、触媒の比表面積が増大され、総穴容が増加されたため、触媒の脱硝活性を向上できる。
上記実施例１で作った再生触媒粉０．１ｇを物理／化学吸着装置に入れ、ＢＥＴ比表面積検査を実施する。この検査はアメリカカンタクローム製Ａｕｔｏｓｏｒｂ−１−ｃ装置で行う。ＢＥＴ結果として、この胞状再生ＳＣＲ脱硝触媒の比表面積５５．４７ｍ２／ｇ、総穴容０．２４ｍＬ／ｇ、平均穴径１４．４３ｎｍである。同じ条件で、未処理の新鮮なＳＣＲ脱硝触媒の結果は、４６．９８ｍ２／ｇ，０．２２ｍＬ／ｇ，１６．２７ｎｍである。ＢＥＴ分析結果から、胞状再生ＳＣＲ脱硝触媒１０ｎｍ以下の穴容増加は２０％である。つまり、上記再生処理で、触媒の比表面積が増大され、総穴容が増加されたため、触媒の脱硝活性を向上できる。
＜実施例２＞
寸法１５０ｍｍ＊１５０ｍｍ＊６００ｍｍの胞状中毒ＳＣＲ脱硝触媒を上下できるコンベアに置き、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの脱イオン水が入っているバブリング洗浄池に浸水させ、バブリング洗浄１０ｍｉｎ、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池側へ、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池内の上下できるコンベアに転移し、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの体積濃度７０％メチルアルコールが入っている水溶液に浸し、１０ｍｉｎ浸水し、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を第一マイクロ波処理ユニットの上下できる電子レンジ側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を上下できる電子レンジ内に入れ、マイクロ波効率密度２０ｋＷ／ｍ３、周波数２４５０ＭＨｚで１０ｍｉｎ処理し、作ったサンプルを一部取って、サイズ４０−６０目の顆粒と粉を選別しておく。
寸法１５０ｍｍ＊１５０ｍｍ＊６００ｍｍの胞状中毒ＳＣＲ脱硝触媒を上下できるコンベアに置き、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの脱イオン水が入っているバブリング洗浄池に浸水させ、バブリング洗浄１０ｍｉｎ、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池側へ、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池内の上下できるコンベアに転移し、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの体積濃度７０％メチルアルコールが入っている水溶液に浸し、１０ｍｉｎ浸水し、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を第一マイクロ波処理ユニットの上下できる電子レンジ側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を上下できる電子レンジ内に入れ、マイクロ波効率密度２０ｋＷ／ｍ３、周波数２４５０ＭＨｚで１０ｍｉｎ処理し、作ったサンプルを一部取って、サイズ４０−６０目の顆粒と粉を選別しておく。
［性能試験］
上記実施例２で作った再生触媒粉０．１ｇを物理／化学吸着装置に入れ、ＢＥＴ比表面積検査を実施する。この検査はアメリカカンタクローム製Ａｕｔｏｓｏｒｂ−１−ｃ装置で行う。ＢＥＴ結果として、この胞状再生ＳＣＲ脱硝触媒の比表面積５２．５７ｍ２／ｇ、総穴容０．２２ｍＬ／ｇ、平均穴径１３．２３ｎｍである。同じ条件で、未処理の新鮮なＳＣＲ脱硝触媒の結果は、４６．９８ｍ２／ｇ，０．２２ｍＬ／ｇ，１６．２７ｎｍである。ＢＥＴ分析結果から、胞状再生ＳＣＲ脱硝触媒１０ｎｍ以下の穴容増加は１８％である。つまり、上記再生処理で、触媒の比表面積が増大され、総穴容が増加されたため、触媒の脱硝活性を向上できる。
上記実施例２で作った再生触媒粉０．１ｇを物理／化学吸着装置に入れ、ＢＥＴ比表面積検査を実施する。この検査はアメリカカンタクローム製Ａｕｔｏｓｏｒｂ−１−ｃ装置で行う。ＢＥＴ結果として、この胞状再生ＳＣＲ脱硝触媒の比表面積５２．５７ｍ２／ｇ、総穴容０．２２ｍＬ／ｇ、平均穴径１３．２３ｎｍである。同じ条件で、未処理の新鮮なＳＣＲ脱硝触媒の結果は、４６．９８ｍ２／ｇ，０．２２ｍＬ／ｇ，１６．２７ｎｍである。ＢＥＴ分析結果から、胞状再生ＳＣＲ脱硝触媒１０ｎｍ以下の穴容増加は１８％である。つまり、上記再生処理で、触媒の比表面積が増大され、総穴容が増加されたため、触媒の脱硝活性を向上できる。
＜実施例３＞
寸法１５０ｍｍ＊１５０ｍｍ＊６００ｍｍの胞状中毒（活性無）ＳＣＲ脱硝触媒を上下できるコンベアに置き、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの脱イオン水が入っているバブリング洗浄池に浸水させ、３０ｍｉｎバブリング洗浄し、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池内の上下できるコンベアに転移し、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの体積濃度７０％メチルアルコールが入っている水溶液に浸し、２０ｍｉｎ浸水し、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を第一マイクロ波処理ユニットの上下できる電子レンジ側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を上下できる電子レンジ内に入れ、マイクロ波効率密度２８ｋＷ／ｍ３、周波数２４５０ＭＨｚで１０ｍｉｎ処理し、作ったサンプルを一部取って、サイズ４０−６０目の顆粒と粉を選別しておく。
寸法１５０ｍｍ＊１５０ｍｍ＊６００ｍｍの胞状中毒（活性無）ＳＣＲ脱硝触媒を上下できるコンベアに置き、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの脱イオン水が入っているバブリング洗浄池に浸水させ、３０ｍｉｎバブリング洗浄し、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池内の上下できるコンベアに転移し、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの体積濃度７０％メチルアルコールが入っている水溶液に浸し、２０ｍｉｎ浸水し、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を第一マイクロ波処理ユニットの上下できる電子レンジ側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を上下できる電子レンジ内に入れ、マイクロ波効率密度２８ｋＷ／ｍ３、周波数２４５０ＭＨｚで１０ｍｉｎ処理し、作ったサンプルを一部取って、サイズ４０−６０目の顆粒と粉を選別しておく。
［性能試験］
上記実施例３で作った再生触媒粉０．１ｇを物理／化学吸着装置に入れ、ＢＥＴ比表面積検査を実施する。この検査はアメリカカンタクローム製Ａｕｔｏｓｏｒｂ−１−ｃ装置で行う。ＢＥＴ結果として、この胞状再生ＳＣＲ脱硝触媒の比表面積５６．５７ｍ２／ｇ、総穴容０．２５ｍＬ／ｇ、平均穴径１３．７３ｎｍである。同じ条件で、未処理の新鮮なＳＣＲ脱硝触媒の結果は、４６．９８ｍ２／ｇ，０．２２ｍＬ／ｇ，１６．２７ｎｍである。ＢＥＴ分析結果から、胞状再生ＳＣＲ脱硝触媒１０ｎｍ以下の穴容増加は２０％である。つまり、上記再生処理で、触媒の比表面積が増大され、総穴容が増加されたため、触媒の脱硝活性を向上できる。
上記実施例３で作った再生触媒粉０．１ｇを物理／化学吸着装置に入れ、ＢＥＴ比表面積検査を実施する。この検査はアメリカカンタクローム製Ａｕｔｏｓｏｒｂ−１−ｃ装置で行う。ＢＥＴ結果として、この胞状再生ＳＣＲ脱硝触媒の比表面積５６．５７ｍ２／ｇ、総穴容０．２５ｍＬ／ｇ、平均穴径１３．７３ｎｍである。同じ条件で、未処理の新鮮なＳＣＲ脱硝触媒の結果は、４６．９８ｍ２／ｇ，０．２２ｍＬ／ｇ，１６．２７ｎｍである。ＢＥＴ分析結果から、胞状再生ＳＣＲ脱硝触媒１０ｎｍ以下の穴容増加は２０％である。つまり、上記再生処理で、触媒の比表面積が増大され、総穴容が増加されたため、触媒の脱硝活性を向上できる。
＜実施例４＞
寸法１５０ｍｍ＊１５０ｍｍ＊６００ｍｍの胞状中毒（活性無）ＳＣＲ脱硝触媒を上下できるコンベアに置き、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの脱イオン水が入っているバブリング洗浄池に浸水させ、バブリング洗浄２０ｍｉｎ、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池内の上下できるコンベアに転移し、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌ体積濃度６％グリコールが入っている水溶液に浸し、３０ｍｉｎ浸水し、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を第一マイクロ波処理ユニットの上下できる電子レンジ側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を上下できる電子レンジ内に入れ、マイクロ波効率密度３８ｋＷ／ｍ３、周波数２４５０ＭＨｚで１０ｍｉｎ処理し、作ったサンプルを一部取って、サイズ４０−６０目の顆粒と粉を選別しておく。
寸法１５０ｍｍ＊１５０ｍｍ＊６００ｍｍの胞状中毒（活性無）ＳＣＲ脱硝触媒を上下できるコンベアに置き、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの脱イオン水が入っているバブリング洗浄池に浸水させ、バブリング洗浄２０ｍｉｎ、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池内の上下できるコンベアに転移し、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌ体積濃度６％グリコールが入っている水溶液に浸し、３０ｍｉｎ浸水し、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を第一マイクロ波処理ユニットの上下できる電子レンジ側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を上下できる電子レンジ内に入れ、マイクロ波効率密度３８ｋＷ／ｍ３、周波数２４５０ＭＨｚで１０ｍｉｎ処理し、作ったサンプルを一部取って、サイズ４０−６０目の顆粒と粉を選別しておく。
［性能試験］
上記実施例４で作った再生触媒粉０．１ｇを物理／化学吸着装置に入れ、ＢＥＴ比表面積検査を実施する。この検査はアメリカカンタクローム製Ａｕｔｏｓｏｒｂ−１−ｃ装置で行う。ＢＥＴ結果として、この胞状再生ＳＣＲ脱硝触媒の比表面積６０．５８ｍ２／ｇ、総穴容０．２５ｍＬ／ｇ、平均穴径１５．３３ｎｍである。同じ条件で、未処理の新鮮なＳＣＲ脱硝触媒の結果は、４６．９８ｍ２／ｇ，０．２２ｍＬ／ｇ，１６．２７ｎｍである。ＢＥＴ分析結果から、胞状再生ＳＣＲ脱硝触媒１０ｎｍ以下の穴容増加は３０％である。つまり、上記再生処理で、触媒の比表面積が増大され、総穴容が増加されたため、触媒の脱硝活性を向上できる。
上記実施例４で作った再生触媒粉０．１ｇを物理／化学吸着装置に入れ、ＢＥＴ比表面積検査を実施する。この検査はアメリカカンタクローム製Ａｕｔｏｓｏｒｂ−１−ｃ装置で行う。ＢＥＴ結果として、この胞状再生ＳＣＲ脱硝触媒の比表面積６０．５８ｍ２／ｇ、総穴容０．２５ｍＬ／ｇ、平均穴径１５．３３ｎｍである。同じ条件で、未処理の新鮮なＳＣＲ脱硝触媒の結果は、４６．９８ｍ２／ｇ，０．２２ｍＬ／ｇ，１６．２７ｎｍである。ＢＥＴ分析結果から、胞状再生ＳＣＲ脱硝触媒１０ｎｍ以下の穴容増加は３０％である。つまり、上記再生処理で、触媒の比表面積が増大され、総穴容が増加されたため、触媒の脱硝活性を向上できる。
＜実施例５＞
寸法１５０ｍｍ＊１５０ｍｍ＊６００ｍｍの胞状中毒（活性無）ＳＣＲ脱硝触媒を上下できるコンベアに置き、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの脱イオン水が入っているバブリング洗浄池に浸水させ、２０ｍｉｎバブリング洗浄し、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池内の上下できるコンベアに転移し、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの体積濃度５０％エチルアルコールが入っている水溶液に浸し、３０ｍｉｎ浸水し、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を第一マイクロ波処理ユニットの上下できる電子レンジ側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を上下できる電子レンジ内に入れ、マイクロ波効率密度３８ｋＷ／ｍ３、周波数２４５０ＭＨｚで１０ｍｉｎ処理し、作ったサンプルを一部取って、サイズ４０−６０目の顆粒と粉を選別しておく。
寸法１５０ｍｍ＊１５０ｍｍ＊６００ｍｍの胞状中毒（活性無）ＳＣＲ脱硝触媒を上下できるコンベアに置き、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの脱イオン水が入っているバブリング洗浄池に浸水させ、２０ｍｉｎバブリング洗浄し、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池内の上下できるコンベアに転移し、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの体積濃度５０％エチルアルコールが入っている水溶液に浸し、３０ｍｉｎ浸水し、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を第一マイクロ波処理ユニットの上下できる電子レンジ側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を上下できる電子レンジ内に入れ、マイクロ波効率密度３８ｋＷ／ｍ３、周波数２４５０ＭＨｚで１０ｍｉｎ処理し、作ったサンプルを一部取って、サイズ４０−６０目の顆粒と粉を選別しておく。
［性能試験］
上記実施例５で作った再生触媒粉０．１ｇを物理／化学吸着装置に入れ、ＢＥＴ比表面積検査を実施する。この検査はアメリカカンタクローム製Ａｕｔｏｓｏｒｂ−１−ｃ装置で行う。ＢＥＴ結果として、この胞状再生ＳＣＲ脱硝触媒の比表面積６６．８ｍ２／ｇ、総穴容０．２８ｍＬ／ｇ、平均穴径１３．２ｎｍである。同じ条件で、未処理の新鮮なＳＣＲ脱硝触媒の結果は、４５．３５ｍ２／ｇ，０．２６ｍＬ／ｇ，１５．６ｎｍである。つまり、上記再生処理で、触媒の比表面積が増大され、総穴容が増加されたため、触媒の脱硝活性を向上できる。
上記実施例５で作った再生触媒粉０．１ｇを物理／化学吸着装置に入れ、ＢＥＴ比表面積検査を実施する。この検査はアメリカカンタクローム製Ａｕｔｏｓｏｒｂ−１−ｃ装置で行う。ＢＥＴ結果として、この胞状再生ＳＣＲ脱硝触媒の比表面積６６．８ｍ２／ｇ、総穴容０．２８ｍＬ／ｇ、平均穴径１３．２ｎｍである。同じ条件で、未処理の新鮮なＳＣＲ脱硝触媒の結果は、４５．３５ｍ２／ｇ，０．２６ｍＬ／ｇ，１５．６ｎｍである。つまり、上記再生処理で、触媒の比表面積が増大され、総穴容が増加されたため、触媒の脱硝活性を向上できる。
上記実施例５で作った再生触媒粉０．２ｇを触媒活性評価装置に入れ、その脱硝効率を検査する。３２０℃での脱硝効率が６３％に増加された。活性無触媒の３２０℃での脱硝効率は３９％しかない。公告号ＣＮ１６８６６０７Ａの中国特許との比較（表１）によると、本発明方法を採用した結果、穴拡効果が著しく向上され、処理時間も大幅に短縮され、穴拡剤用量も大幅に低減された。
＜実施例６＞
寸法１５０ｍｍ＊１５０ｍｍ＊６００ｍｍの胞状中毒（活性無）ＳＣＲ脱硝触媒を上下できるコンベアに置き、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの脱イオン水が入っているバブリング洗浄池に浸水させ、３０ｍｉｎバブリング洗浄し、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池内の上下できるコンベアに転移し、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの体積濃度９０％エチルアルコールが入っている水溶液に浸し、１０ｍｉｎ浸水し、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を第一マイクロ波処理ユニットの上下できる電子レンジ側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を上下できる電子レンジ内に入れ、マイクロ波効率密度３８ｋＷ／ｍ３、周波数２４５０ＭＨｚで１ｍｉｎ処理する。そして、ＳＣＲ脱硝触媒を電磁レンジ内のコンベアで活性液浸水池側に搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を活性液浸水池内の上下できるコンベアに転移する（採番６−１）。
寸法１５０ｍｍ＊１５０ｍｍ＊６００ｍｍの胞状中毒（活性無）ＳＣＲ脱硝触媒を上下できるコンベアに置き、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの脱イオン水が入っているバブリング洗浄池に浸水させ、３０ｍｉｎバブリング洗浄し、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池内の上下できるコンベアに転移し、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの体積濃度９０％エチルアルコールが入っている水溶液に浸し、１０ｍｉｎ浸水し、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を第一マイクロ波処理ユニットの上下できる電子レンジ側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を上下できる電子レンジ内に入れ、マイクロ波効率密度３８ｋＷ／ｍ３、周波数２４５０ＭＨｚで１ｍｉｎ処理する。そして、ＳＣＲ脱硝触媒を電磁レンジ内のコンベアで活性液浸水池側に搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を活性液浸水池内の上下できるコンベアに転移する（採番６−１）。
寸法１５０ｍｍ＊１５０ｍｍ＊６００ｍｍの胞状中毒（活性無）ＳＣＲ脱硝触媒を上下できるコンベアに置き、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの脱イオン水が入っているバブリング洗浄池に浸水させ、３０ｍｉｎバブリング洗浄し、その後、直接活性液浸水池内に搬送する（採番６−２）。
０．０１ｍｏｌ／Ｌメタバナジウム酸アンモニウムと１．５ｍｏｌ／Ｌタングステン酸アンモニウム混合液で触媒２枚を１ｈ浸水する。
コンベアを上昇し、６−１のＳＣＲ脱硝触媒を第二マイクロ波処理ユニットの上下できる電子レンジ側に搬送し、ロボットで６−１のＳＣＲ脱硝触媒を電子レンジ内に移動し、マイクロ波効率密度３８ｋＷ／ｍ３、周波数２４５０ＭＨｚで乾燥１ｍｉｎ、６−２のＳＣＲ脱硝触媒を立式エア乾燥オーブンに入れ、１１０℃で２ｈ乾燥する。５００℃で２枚の触媒を５ｈか焼する。作ったサンプルからサイズ４０−６０目の顆粒と粉を選別しておく。
［性能試験］
上記実施例６で作った再生触媒粉０．２ｇを触媒活性評価装置に入れ、その脱硝効率を検査する。３２０℃では、６−１の脱硝効率が未再生品より３５％増加され、６−２の脱硝効率が未再生品より２０％増加された。
上記実施例６で作った再生触媒粉０．２ｇを触媒活性評価装置に入れ、その脱硝効率を検査する。３２０℃では、６−１の脱硝効率が未再生品より３５％増加され、６−２の脱硝効率が未再生品より２０％増加された。
＜実施例７＞
寸法１５０ｍｍ＊１５０ｍｍ＊６００ｍｍの胞状中毒（活性無）ＳＣＲ脱硝触媒を上下できるコンベアに置き、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの脱イオン水が入っているバブリング洗浄池に浸水させ、２０ｍｉｎバブリング洗浄し、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池内の上下できるコンベアに転移し、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの体積濃度１％グリコールが入っている水溶液に浸し、３０ｍｉｎ浸水し、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を第一マイクロ波処理ユニットの上下できる電子レンジ側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を上下できる電子レンジ内に入れ、マイクロ波効率密度１００ｋＷ／ｍ３、周波数２４５０ＭＨｚで１０ｍｉｎ処理する。そして、ＳＣＲ脱硝触媒を電磁レンジ内のコンベアで活性液浸水池側に搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を活性液浸水池内の上下できるコンベアに転移する（採番７−１）。
寸法１５０ｍｍ＊１５０ｍｍ＊６００ｍｍの胞状中毒（活性無）ＳＣＲ脱硝触媒を上下できるコンベアに置き、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの脱イオン水が入っているバブリング洗浄池に浸水させ、２０ｍｉｎバブリング洗浄し、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池内の上下できるコンベアに転移し、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの体積濃度１％グリコールが入っている水溶液に浸し、３０ｍｉｎ浸水し、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を第一マイクロ波処理ユニットの上下できる電子レンジ側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を上下できる電子レンジ内に入れ、マイクロ波効率密度１００ｋＷ／ｍ３、周波数２４５０ＭＨｚで１０ｍｉｎ処理する。そして、ＳＣＲ脱硝触媒を電磁レンジ内のコンベアで活性液浸水池側に搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を活性液浸水池内の上下できるコンベアに転移する（採番７−１）。
寸法１５０ｍｍ＊１５０ｍｍ＊６００ｍｍの胞状中毒（活性無）ＳＣＲ脱硝触媒を上下できるコンベアに置き、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの脱イオン水が入っているバブリング洗浄池に浸水させ、２０ｍｉｎバブリング洗浄し、その後、直接活性液浸水池内に搬送する（採番７−２）。
０．０５ｍｏｌ／Ｌメタバナジウム酸アンモニウムと２ｍｏｌ／Ｌタングステン酸アンモニウム混合液で触媒２枚を３ｈ浸水する。コンベアを上昇し、７−１のＳＣＲ脱硝触媒を第二マイクロ波処理ユニットの上下できる電子レンジ側に搬送し、ロボットで７−１のＳＣＲ脱硝触媒を電子レンジ内に移動し、マイクロ波効率密度３８ｋＷ／ｍ３、周波数２４５０ＭＨｚで１０ｍｉｎ乾燥し、７−２のＳＣＲ脱硝触媒を立式エア乾燥オーブンに入れ、１１０℃で２ｈ乾燥する。５００℃で２枚の触媒を７ｈか焼する。作ったサンプルからサイズ４０−６０目の顆粒と粉を選別しておく。
［性能試験］
上記実施例７で作った再生触媒粉０．２ｇを触媒活性評価装置に入れ、その脱硝効率を検査する。７−１の脱硝効率が未再生品より３９％増加され、７−２の脱硝効率が未再生品より２３％増加された。
上記実施例７で作った再生触媒粉０．２ｇを触媒活性評価装置に入れ、その脱硝効率を検査する。７−１の脱硝効率が未再生品より３９％増加され、７−２の脱硝効率が未再生品より２３％増加された。
＜実施例８＞
寸法１５０ｍｍ＊１５０ｍｍ＊６００ｍｍの胞状中毒（活性無）ＳＣＲ脱硝触媒を上下できるコンベアに置き、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの脱イオン水が入っているバブリング洗浄池に浸水させ、２０ｍｉｎバブリング洗浄し、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池内の上下できるコンベアに転移し、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの体積濃度９％ジメチルスルホキシドが入っている水溶液に浸し、３０ｍｉｎ浸水し、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を第一マイクロ波処理ユニットの上下できる電子レンジ側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を上下できる電子レンジ内に入れ、マイクロ波効率密度１００ｋＷ／ｍ３、周波数２４５０ＭＨｚで１０ｍｉｎ処理する。そして、ＳＣＲ脱硝触媒を電磁レンジ内のコンベアで活性液浸水池側に搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を活性液浸水池内の上下できるコンベアに転移する（採番８−１）。
寸法１５０ｍｍ＊１５０ｍｍ＊６００ｍｍの胞状中毒（活性無）ＳＣＲ脱硝触媒を上下できるコンベアに置き、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの脱イオン水が入っているバブリング洗浄池に浸水させ、２０ｍｉｎバブリング洗浄し、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池内の上下できるコンベアに転移し、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの体積濃度９％ジメチルスルホキシドが入っている水溶液に浸し、３０ｍｉｎ浸水し、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を第一マイクロ波処理ユニットの上下できる電子レンジ側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を上下できる電子レンジ内に入れ、マイクロ波効率密度１００ｋＷ／ｍ３、周波数２４５０ＭＨｚで１０ｍｉｎ処理する。そして、ＳＣＲ脱硝触媒を電磁レンジ内のコンベアで活性液浸水池側に搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を活性液浸水池内の上下できるコンベアに転移する（採番８−１）。
寸法１５０ｍｍ＊１５０ｍｍ＊６００ｍｍの胞状中毒（活性無）ＳＣＲ脱硝触媒を上下できるコンベアに置き、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの脱イオン水が入っているバブリング洗浄池に浸水させ、２０ｍｉｎバブリング洗浄し、その後、直接活性液浸水池内に搬送する（採番８−２）。
０．０１ｍｏｌ／Ｌメタバナジウム酸アンモニウムと２ｍｏｌ／Ｌタングステン酸アンモニウム混合液で触媒２枚を４ｈ浸水する。コンベアを上昇し、８−１のＳＣＲ脱硝触媒を第二マイクロ波処理ユニットの上下できる電子レンジ側に搬送し、ロボットで８−１のＳＣＲ脱硝触媒を電子レンジ内に移動し、マイクロ波効率密度２８ｋＷ／ｍ３、周波数２４５０ＭＨｚで２０ｍｉｎ乾燥し、８−２のＳＣＲ脱硝触媒を立式エア乾燥オーブンに入れ、１１０℃で２ｈ乾燥する。６００℃で２枚の触媒を４ｈか焼する。作ったサンプルからサイズ４０−６０目の顆粒と粉を選別しておく。
［性能試験］
上記実施例８で作った再生触媒粉０．２ｇを触媒活性評価装置に入れ、その脱硝効率を検査する。８−１の脱硝効率が未再生品より３７％増加され、８−２の脱硝効率が未再生品より２２％増加された。
上記実施例８で作った再生触媒粉０．２ｇを触媒活性評価装置に入れ、その脱硝効率を検査する。８−１の脱硝効率が未再生品より３７％増加され、８−２の脱硝効率が未再生品より２２％増加された。
＜実施例９＞
寸法１５０ｍｍ＊１５０ｍｍ＊６００ｍｍの胞状中毒（活性無）ＳＣＲ脱硝触媒を上下できるコンベアに置き、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの脱イオン水が入っているバブリング洗浄池に浸水させ、３０ｍｉｎバブリング洗浄し、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池内の上下できるコンベアに転移し、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの体積濃度５０％酢酸が入っている水溶液に浸し、３０ｍｉｎ浸水し、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を第一マイクロ波処理ユニットの上下できる電子レンジ側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を上下できる電子レンジ内に入れ、マイクロ波効率密度１００ｋＷ／ｍ３、周波数２４５０ＭＨｚで１０ｍｉｎ処理する。そして、ＳＣＲ脱硝触媒を電磁レンジ内のコンベアで活性液浸水池側に搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を活性液浸水池内の上下できるコンベアに転移する（採番９−１）。
寸法１５０ｍｍ＊１５０ｍｍ＊６００ｍｍの胞状中毒（活性無）ＳＣＲ脱硝触媒を上下できるコンベアに置き、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの脱イオン水が入っているバブリング洗浄池に浸水させ、３０ｍｉｎバブリング洗浄し、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池内の上下できるコンベアに転移し、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの体積濃度５０％酢酸が入っている水溶液に浸し、３０ｍｉｎ浸水し、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を第一マイクロ波処理ユニットの上下できる電子レンジ側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を上下できる電子レンジ内に入れ、マイクロ波効率密度１００ｋＷ／ｍ３、周波数２４５０ＭＨｚで１０ｍｉｎ処理する。そして、ＳＣＲ脱硝触媒を電磁レンジ内のコンベアで活性液浸水池側に搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を活性液浸水池内の上下できるコンベアに転移する（採番９−１）。
寸法１５０ｍｍ＊１５０ｍｍ＊６００ｍｍの胞状中毒（活性無）ＳＣＲ脱硝触媒を上下できるコンベアに置き、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの脱イオン水が入っているバブリング洗浄池に浸水させ、３０ｍｉｎバブリング洗浄し、その後、直接活性液浸水池内に搬送する（採番９−２）。
０．２ｍｏｌ／Ｌメタバナジウム酸アンモニウム液で触媒２枚を４ｈ浸水する。コンベアを上昇し、９−１のＳＣＲ脱硝触媒を第二マイクロ波処理ユニットの上下できる電子レンジ側に搬送し、ロボットで９−１のＳＣＲ脱硝触媒を電子レンジ内に移動し、マイクロ波効率密度２０ｋＷ／ｍ３、周波数２４５０ＭＨｚで１０ｍｉｎ乾燥し、９−２のＳＣＲ脱硝触媒を立式エア乾燥オーブンに入れ、１１０℃で２ｈ乾燥する。６００℃で２枚の触媒を６ｈか焼する。作ったサンプルからサイズ４０−６０目の顆粒と粉を選別しておく。
［性能試験］
上記実施例９で作った再生触媒粉０．２ｇを触媒活性評価装置に入れ、その脱硝効率を検査する。９−１の脱硝効率が未再生品より３７％増加され、９−２の脱硝効率が未再生品より２１％増加された。
上記実施例９で作った再生触媒粉０．２ｇを触媒活性評価装置に入れ、その脱硝効率を検査する。９−１の脱硝効率が未再生品より３７％増加され、９−２の脱硝効率が未再生品より２１％増加された。
＜実施例１０＞
寸法１５０ｍｍ＊１５０ｍｍ＊６００ｍｍの胞状中毒（活性無）ＳＣＲ脱硝触媒を上下できるコンベアに置き、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの脱イオン水が入っているバブリング洗浄池に浸水させ、２０ｍｉｎバブリング洗浄し、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池内の上下できるコンベアに転移し、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの体積濃度１０％エチルアルコールが入っている水溶液に浸し、３０ｍｉｎ浸水し、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を第一マイクロ波処理ユニットの上下できる電子レンジ側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を上下できる電子レンジ内に入れ、マイクロ波効率密度１００ｋＷ／ｍ３、周波数２４５０ＭＨｚで１０ｍｉｎ処理する。そして、ＳＣＲ脱硝触媒を電磁レンジ内のコンベアで活性液浸水池側に搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を活性液浸水池内の上下できるコンベアに転移する（採番１０−１）。
寸法１５０ｍｍ＊１５０ｍｍ＊６００ｍｍの胞状中毒（活性無）ＳＣＲ脱硝触媒を上下できるコンベアに置き、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの脱イオン水が入っているバブリング洗浄池に浸水させ、２０ｍｉｎバブリング洗浄し、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液浸水池内の上下できるコンベアに転移し、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの体積濃度１０％エチルアルコールが入っている水溶液に浸し、３０ｍｉｎ浸水し、コンベアを上昇し、ＳＣＲ脱硝触媒を第一マイクロ波処理ユニットの上下できる電子レンジ側へ搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を上下できる電子レンジ内に入れ、マイクロ波効率密度１００ｋＷ／ｍ３、周波数２４５０ＭＨｚで１０ｍｉｎ処理する。そして、ＳＣＲ脱硝触媒を電磁レンジ内のコンベアで活性液浸水池側に搬送し、ロボットでＳＣＲ脱硝触媒を活性液浸水池内の上下できるコンベアに転移する（採番１０−１）。
寸法１５０ｍｍ＊１５０ｍｍ＊６００ｍｍの胞状中毒（活性無）ＳＣＲ脱硝触媒を上下できるコンベアに置き、コンベアを下降し、ＳＣＲ脱硝触媒を２Ｌの脱イオン水が入っているバブリング洗浄池に浸水させ、２０ｍｉｎバブリング洗浄し、その後、直接活性液浸水池内に搬送する（採番１０−２）。
１ｍｏｌ／Ｌタングステン酸アンモニウム液で触媒２枚を４ｈ浸水する。コンベアを上昇し、１０−１のＳＣＲ脱硝触媒を第二マイクロ波処理ユニットの上下できる電子レンジ側に搬送し、ロボットで１０−１のＳＣＲ脱硝触媒を電子レンジ内に移動し、マイクロ波効率密度１００ｋＷ／ｍ３、周波数２４５０ＭＨｚで１０ｍｉｎ乾燥し、１０−２のＳＣＲ脱硝触媒を立式エア乾燥オーブンに入れ、１１０℃で２ｈ乾燥する。６００℃で２枚の触媒を５ｈか焼する。作ったサンプルからサイズ４０−６０目の顆粒と粉を選別しておく。
［性能試験］
上記実施例１０で作った再生触媒粉０．２ｇを触媒活性評価装置に入れ、その脱硝効率を検査する。１０−１の脱硝効率が未再生品より３９％増加され、１０−２の脱硝効率が未再生品より２３％増加された。
上記実施例１０で作った再生触媒粉０．２ｇを触媒活性評価装置に入れ、その脱硝効率を検査する。１０−１の脱硝効率が未再生品より３９％増加され、１０−２の脱硝効率が未再生品より２３％増加された。
上記述べた実施例は本発明の比較的に良い案の一種とし、本発明に対して何れの形式の制限をしない。権利要求に記載される技術案を超えない前提で、他の変体及び改造形式がある。
１ バブリング洗浄池、２ バブリング器、３ 空気圧縮ポンプ、４ 上下できるコンベア、５ 脱イオン水補給パイプ、６ 廃液排出パイプ、７ 穴拡液浸水池、８ 穴拡液補給パイプ、９ 上下できる電子レンジ、１０ 活化液浸水池、１１ 活化液補給パイプ、１２ か焼炉、１３ ロボット、１４ ＳＣＲ脱硝触媒。
Claims (10)
- マイクロ波補助でＳＣＲ脱硝触媒を再生する方法であって、下記の手順とすることを特徴とする方法。
（１）中毒ＳＣＲ脱硝触媒を脱イオン水に浸し、バブリングでＳＣＲ脱硝触媒を１０−３０分洗浄する；
（２）（１）で処理されたＳＣＲ脱硝触媒を穴拡液が入っている容器に転移し、１０−３０分浸す；
（３）（２）で処理されたＳＣＲ脱硝触媒をマイクロ波装置に転移し、１−１０分処理する；
（４）（３）で処理されたＳＣＲ脱硝触媒を活性液が入っている容器に転移し、１−４時間浸す；
（５）（４）で処理されたＳＣＲ脱硝触媒をマイクロ波装置に転移し、１−２０分乾燥する；
（６）（５）で処理されたＳＣＲ脱硝触媒をか焼装置に転移し、５００−６００℃で４−７時間か焼する。 - 請求項１に記載の方法であって、前記穴拡液は、損失正接値が０．１７４より大きい溶剤の水溶液であることを特徴とする方法。
- 請求項２に記載の方法であって、前記損失正接値が１．３以上の場合、前記溶剤の水溶液体積濃度が１−９％であり；前記損失正接値が１．３以下の場合、前記溶剤の水溶液体積濃度が１０−９０％であることを特徴とする方法。
- 請求項２または３に記載の方法であって、前記損失正接値が０．１７４以上の溶剤は、グリコールの水溶液、エタノールの水溶液、ジメチルスルホキシドの水溶液、メチルアルコールの水溶液、酢酸の水溶液の中の一つであることを特徴とする方法。
- 請求項４に記載の方法であって、前記グリコールの水溶液の体積濃度が１−９％、エタノールの水溶液の体積濃度が１０−９０％、ジメチルスルホキシドの水溶液の体積濃度が１−９％、メチルアルコールの水溶液の体積濃度が１０−９０％、酢酸の水溶液の体積濃度が１０−５０％であることを特徴とする方法。
- 請求項１又は２又は３に記載の方法であって、前記活性液は、バナジウム酸塩溶液、タングステン酸塩溶液またはその混合液であり、その中、バナジウムのモル濃度は０．０１−０．４ｍｏｌ／Ｌ、タングステンのモル濃度は０．１−２ｍｏｌ／Ｌであることを特徴とする方法。
- 請求項１又は２又は３に記載の方法であって、前記手順（１）におけるバブリングは、インパルス方式で、バブリング気源は、圧縮空気であることを特徴とする方法。
- 請求項１又は２又は３に記載の方法であって、前記手順（３）と（５）におけるマイクロ波は、効率密度２０−１００ｋＷ／ｍ３、周波数２４５０ＭＨｚであることを特徴とする方法。
- 請求項１に記載の方法に使用される装置であって、順次設置されるバブリング洗浄ユニット、穴拡浸水ユニット、第一マイクロ波処理ユニット、活化液浸水ユニット、第二マイクロ波処理ユニット、か焼ユニットを含み；隣接するユニットの間すべてにＳＣＲ脱硝触媒を転移するロボットが設置されていることを特徴とする装置。
- 請求項９に記載の装置であって、前記バブリング洗浄ユニットは、バブリング洗浄池、バブリング器、空気圧縮ポンプ、上下できるコンベア、脱イオン水補給パイプ、廃液排出パイプを含み、前記バブリング器は、前記バブリング洗浄池の底に位置され、前記空気圧縮ポンプと接続されており、その上下できるコンベアは、前記バブリング洗浄池に設置され、前記脱イオン水補給パイプは、前記バブリング洗浄池の上部と接続され、その廃液排出パイプは、前記バブリング洗浄池の底に接続されており；
前記穴拡浸水ユニットは、穴拡液浸水池、上下できるコンベア、穴拡液補給パイプ、廃液排出パイプを含み、その上下できるコンベアは、前記穴拡液浸水池に設置され、前記穴拡液補給パイプは、前記穴拡液浸水池の上部に接続され、その廃液排出パイプは、前記穴拡液浸水池の底に接続されており；
前記第一マイクロ波処理ユニットと前記第二マイクロ波処理ユニットには、上下できる電子レンジが設置され、前記電子レンジの底にコンベアが設置されており；
前記活化液浸水ユニットは、活化液浸水池、活化液補給パイプ、上下できるコンベア、廃液排出パイプを含み、その上下できるコンベアは、前記活化液浸水池に設置され、前記活化液補給パイプは、前記活化液浸水池の上部に接続され、その廃液排出パイプは、前記活化液浸水池の底に接続されており；
前記か焼ユニットは、か焼炉を含むことを特徴とする装置。
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