JP2016531172A - 耐指紋性フィルムおよび電気電子装置 - Google Patents

Abstract

本発明は、フィルムとの接触面と、これに対面する上面と、接触面と上面とを連結する側壁とを有し、側壁とフィルムのなす内角は鈍角の形状を有するナノまたはマイクロスケールの微細突起を含み、相互作用エネルギーが低い耐指紋性フィルムと所定の線状の微細パターンまたは連続状の微細パターンを含む、耐指紋性フィルムおよび前記耐指紋性フィルムを含む電気電子装置に関する。

Description

本発明は、耐指紋性フィルムおよび電気電子装置に関し、より詳細には、製品の表面に指紋が転写されることを最小化しながらも、転写された指紋を容易に除去可能な特性を有し、超撥水性および超撥油性を共に実現することのできる、耐指紋性フィルムおよび前記耐指紋性フィルムを含む電気電子装置に関する。

ディスプレイ装置などの電子製品の使用過程では指紋が外観についてしまうが、このような指紋の転写によって外観が汚染し、ディスプレイ装置の場合、画面の鮮明度が低下する問題がある。

指紋は、大体、汗と皮脂とから構成され、これに、皮膚から剥がれた角質および外部から付いてきた埃などの汚染物質が含まれている。電子製品に転写される指紋の主要成分は皮脂であり、このような皮脂は、トリグリセリド、ワックスモノエステル、脂肪酸、スクアレン、微量のコレステロールとコレステリルエステルなどの液状成分を含むことが知られている。そして、皮脂の構成成分は、水（表面張力７２ｍＮ／ｍ）に比べて表面張力が極めて低く（表面張力３０〜３５ｍＮ／ｍ）、指紋はいかなる物質の表面にもつきやすい性質がある。

ディスプレイ装置などの電子製品に耐指紋性を付与するために、製品の外部表面に特定のパターンを形成する方法や、親油性コーティングにより指紋の油成分を広く拡散させて可視性を低下させる方法などが知られている。

具体的には、製品の外部表面に特定のパターンを形成して耐指紋性を確保する方法では、マイクロサイズの粒子やパターンを製品の外部に形成することで表面凹凸を設けてヘイズを高くし、これによって、指紋が製品についても目に付きにくくする。例えば、特許文献１は、網目状に連結された突出構造物を表面に備えた超疎水性基板が開示されており、特許文献２には、特定の高さおよび広さを有する耐指紋パターンに関して開示しており、特許文献３には、円柱、ピラミッド状角錐台、円錐台、複合放物線、複合楕円形、ポリオブジェクト（ｐｏｌｙｏｂｊｅｃｔ）、または立体の円錐曲線回転体形態の突起からなるパターンが開示されている。

しかし、既に知られている特定のパターンや突起を形成する方法によれば、ヘイズが１０％以上となって、ディスプレイ装置などにおいては、画面の鮮明度を低下させたり、過剰な指紋が転写された時には、指紋が表面の凹凸内部に侵入してむしろ除去されにくくなる限界があった。

そして、親油性コーティングは、不良な外観特性を誘発する主要因子の皮脂がついた時、薄くて広く拡散させることによって可視性を確保できるようにする。ただし、親油性コーティングは、高い透過度と低いヘイズ特性を有するのに対し、指紋のつく量を減少させるよりは、ついた指紋がよく見えないようにする指紋隠蔽方法であって、指紋の転写量自体を低減することができず、指紋が過剰に転写および積層される場合、完全な除去が容易でない限界がある。

一方、フッ素系化合物を含むコーティング材料を用いて、製品外部の表面エネルギーを低くして耐汚染特性を確保する方法も知られている。しかし、フッ素系化合物を含むコーティング材料のコーティングによって、水と油に対する接触角が大きくなって撥水および撥油特性が高められるが、指紋の転写を防止する程度の特性、例えば、超撥水および超撥油特性を確保するには不十分であった。また、前記方法によっても指紋の転写される量を十分に低減しにくく、付着した指紋の除去が容易でない限界があった。

製品の表面に指紋が転写されることを最小化しながらも、転写された指紋を容易に除去可能な特性を有する耐指紋製品およびこれを実現することのできる方法に対する開発が必要であるのが現状である。

韓国公開特許第２００７−００８４３６９号公報 韓国公開特許第２０１０−０１０５２４１号公報 韓国公開特許第２０１１−７００３２４４号公報

本発明は、製品の表面に指紋が転写されることを最小化しながらも、転写された指紋を容易に除去可能な特性を有し、高い光透過度特性、低いヘイズ特性、超撥水性および超撥油性を共に実現することのできる、耐指紋性フィルムを提供する。

また、本発明は、前記耐指紋性フィルムを含む電気電子装置を提供する。

本明細書では、フィルムとの接触面と、これに対面する上面と、接触面と上面とを連結する側壁とを有し、前記側壁とフィルムとの接触面のなす内角は鈍角の形状を有するナノまたはマイクロスケールの微細突起を含み、下記一般式１で定義される相互作用エネルギー（Ｋ_Ａ）が３ｍＪ／ｍ^２以下である、耐指紋性フィルムが提供される。
［一般式１］

前記一般式１において、αは前記微細突起を含むフィルム上に載せられた液体のスライディング角度（ｓｌｉｄｉｎｇ ａｎｇｌｅ）であり、θ’は前記微細突起を含むフィルムと前記液体とのなす接触角であり、θは前記平面フィルムと前記液体とのなす接触角であり、ρは前記液体の密度であり、ｍは前記液体の重量であり、ｇは重力加速度である。

また、本明細書では、フィルムとの接触面と、これに対面する上面と、前記接触面と上面とを連結する側壁とを含み、前記側壁とフィルムとの接触面のなす内角が鈍角の立体形状を有する線状の微細パターンを２以上含む、耐指紋性フィルムが提供される。

さらに、本明細書では、フィルムとの接触面と、これに対面する上面と、前記接触面と上面とを連結する側壁とを含み、前記側壁とフィルムとの接触面のなす内角が鈍角の立体形状を有する連続状の微細パターンを含む、耐指紋性フィルムが提供される。

また、本明細書では、前記耐指紋性フィルムを含む電気電子装置を提供する。

以下、発明の具体的な実施形態に係る耐指紋性フィルムおよび電気電子装置に関してより詳細に説明する。

本明細書において、「フィルム」は、薄膜形態の物品を意味し、その材質は大きく制限されず、例えば、高分子などの有機物、または金属やシリコンなどの無機物などが挙げられる。

発明の一実施形態によれば、フィルムとの接触面と、これに対面する上面と、接触面と上面とを連結する側壁とを有し、前記側壁とフィルムとの接触面のなす内角は鈍角の形状を有するナノまたはマイクロスケールの微細突起を含み、前記一般式１で定義される相互作用エネルギー（Ｋ_Ａ）が３ｍＪ／ｍ^２以下である、耐指紋性フィルムが提供される。

前記特有の形態を有する微細突起が表面に形成された耐指紋性フィルムは、前記一般式１で定義される相互作用エネルギー（Ｋ_Ａ）が３ｍＪ／ｍ^２以下、または０．５ｍＪ／ｍ^２〜２．０ｍＪ／ｍ^２であってもよい。このような耐指紋性フィルムは、水に対してのみならず、指紋に含まれる有機成分に対しても極めて高い接触角と高い反発力を有することができ、転写される指紋の量を最小化しながらも、転写された指紋を容易に除去可能な特性を有することができる。

前記耐指紋性フィルムは、液体や有機物質に対する相互作用エネルギー、例えば、前記一般式１で定義される相互作用エネルギー（Ｋ_Ａ）が相対的に低く、これによって指紋に含まれる有機成分や水分成分と低い相互作用を示す。

また、前記耐指紋性フィルムは、液体や有機物質に対して相互作用性が低いため、液体類に対するスライディング角度が相対的に小さい。例えば、前記耐指紋性フィルムに３０μｌのオレイン酸（ｏｌｅｉｃ ａｃｉｄ）を載せて水平面に対して傾斜角を設けながら、前記オレイン酸が濁り始める角度、つまり、スライディング角度（ｓｌｉｄｉｎｇ ａｎｇｌｅ）が２０°以下、または０°〜２０°であってもよい。

つまり、前記耐指紋性フィルムは、指紋に含まれる有機成分や水分成分に対して低い相互作用性を示しながら、前記成分に対するスライディング角度も低くなるため、表面に転写される指紋の量を大きく低減できるだけでなく、転写された指紋がフィルム表面に残留する現象を防止することができ、転写された指紋自体を容易に除去可能な特性を有する。

一方、前記耐指紋性フィルムは、オレイン酸または蒸留水に対して高い接触角を有することができ、例えば、３μｌのオレイン酸（ｏｌｅｉｃ ａｃｉｄ）および３μｌの蒸留水に対してそれぞれ１２０°以上の接触角、または１３０°〜１６０°の接触角を有してもよい。つまり、前記耐指紋性フィルムは、有機物成分および水分成分共に対してＣａｓｓｉｅ−Ｂａｘｔｅｒ ｓｔａｔｅを実現することができ、超撥水性および超撥油性を共に有することができる。

これによって、前記耐指紋性フィルムは、水分成分のみならず、オレイン酸などの成分が含まれている指紋成分に対しても高い反発力や高い接触角を示すことができる。前記指紋成分とは、水分または皮脂成分を意味し、皮脂成分は、オレイン酸のほか、トリグリセリド、ワックスモノエステル、脂肪酸、スクアレン、コレステロールとコレステリルエステルなどを意味する。

前記耐指紋性フィルムに指紋や液体が転写される場合、前記微細突起と前記耐指紋性フィルムの基材面がその内部に形成される所定の空間にエアポケット（ａｉｒ ｐｏｃｋｅｔ）を形成して、指紋に含まれる成分または水に対して高い反発力と高い接触角を持たせることができる。

前記微細突起は、前記耐指紋性フィルムの外部に突出するように形成され、ｎｍまたはμｍ単位の高さや幅を有する構造体を意味する。

前記微細突起の高さは、突出方向への最長長さを意味し、前記微細突起の幅は、突出方向と垂直方向への最長直径を意味する。そして、このような微細突起の高さと幅は、前記微細突起が単一物質からなったり、２以上の物質からなるか、または複数の積層構造または構造体を含む場合にも、１つとして認識可能な外部構造や形態の高さおよび幅で定義できる。

上述のように、前記微細突起は、フィルムとの接触面と、これに対面する上面と、接触面と上面とを連結する側壁とを有し、前記側壁とフィルムとの接触面のなす内角は鈍角の形状を有することができる。つまり、前記微細突起は、フィルムの接触面から上面に上るに伴って側壁の断面の直径が次第に大きくなり得る。

前記フィルムとの接触面は、前記微細突起が前記耐指紋性フィルムの基材面と接する下部面を意味する。また、前記上面は、前記微細突起の高さ方向の最上部に位置し、前記接触面に対面する上部面を意味する。前記側壁は、前記微細突起が有する立体形状の側面をなすことになる。

前記耐指紋性フィルムの特性は、前記微細突起の形態的特徴と共に、１つの微細突起の上面とこれに隣り合う微細突起の上面との間の距離に対する前記１つの微細突起の上面の最長直径の比率によるものと見られる。

つまり、前記耐指紋性フィルムには、上述した形状の微細突起が２以上含まれてもよく、互いに隣り合う２つの前記微細突起の上面間の距離および前記微細突起のうちの１つの上面の最長直径の合計（Ｐ）に対する前記微細突起のうちの１つの上面の最長直径（Ｄ）の比率（Ｄ／Ｐ）が０．１〜０．７、または０．２〜０．５であってもよく、これによって上述した前記耐指紋性フィルム固有の特徴が実現できる。

前記１つの微細突起の上面とこれに隣り合う微細突起の上面との間の距離は、前記隣り合う２つの微細突起の上面の相互間の最短距離を意味する。

このように、隣り合う微細突起の上部間の距離と１つの微細突起の上面の最長直径が上述した範囲の比率を有することによって、表面に転写された有機物成分や水分成分に対する接触角がより高められ、前記成分の接触する面積を低減することができ、前記微細突起とフィルムの基材面で定義される空間にエアポケット（ａｉｒ ｐｏｃｋｅｔ）をより容易に形成し維持することができる。

また、前記撥水性および撥油性を有するフィルムが有機物成分やまたは水に対してより低い相互作用エネルギーを有するようにして、転写される有機物成分や水分の量を最小化しながらも、転写された有機物を容易に除去可能である。

前記互いに隣り合う２つの前記微細突起の上面間の距離および前記微細突起のうちの１つの上面の最長直径の合計（Ｐ）に対する前記微細突起のうちの１つの上面の最長直径（Ｄ）の比率（Ｄ／Ｐ）が小さすぎると、例えば、前記（Ｐ）が大きすぎると、前記微細突起とフィルムの基材面で定義される空間に形成されるエアポケット（ａｉｒ ｐｏｃｋｅｔ）が崩壊しやすくなり得る。

また、前記互いに隣り合う２つの前記微細突起の上面間の距離および前記微細突起のうちの１つの上面の最長直径の合計（Ｐ）に対する前記微細突起のうちの１つの上面の最長直径（Ｄ）の比率（Ｄ／Ｐ）が大きすぎると、例えば、前記（Ｐ）が小さすぎると、前記微細突起とフィルムの基材面で定義される空間がエアポケット（ａｉｒ ｐｏｃｋｅｔ）を形成するのに適切な体積や形状を有しにくいことがある。

従来は、フィルムの外部に一定のパターンや突起が形成されて一定水準以上の撥水性を有する材料については一部知られているが、このような従来のフィルムでは、時間の経過に伴って、または外部の圧力や液体に作用する重力、または毛細管現象などによってエアポケット（ａｉｒ ｐｏｃｋｅｔ）が崩壊して、表面に転写された有機物成分や水分成分が内部に食い込んでしまう現象が現れた。

しかし、前記耐指紋性フィルムに含まれる微細突起の形態的特徴と、互いに隣り合う２つの前記微細突起の上面間の距離および前記微細突起のうちの１つの上面の最長直径の合計（Ｐ）に対する前記微細突起のうちの１つの上面の最長直径（Ｄ）の比率（Ｄ／Ｐ）による表面特性によって、上述した時間の経過や、外部圧力、液体に作用する重力、毛細管現象などの要因によるエアポケット（ａｉｒ ｐｏｃｋｅｔ）の崩壊を防止することができ、フィルムの外部に転写される有機物成分や水分成分が内部に食い込んだり染み込む現象を防止することができる。

前記微細突起の高さは、０．１μｍ〜４０μｍ、１μｍ〜２０μｍ、または５μｍ〜１５μｍであってもよい。前記微細突起の高さは、前記フィルムの基材面から前記微細突起の上面までの最長距離で定義できる。

前記微細突起の高さが小さすぎると、前記微細突起とフィルムの基材面で定義される空間がエアポケット（ａｉｒ ｐｏｃｋｅｔ）を形成するのに適切な体積や形状を有しにくかったり、形成されるエアポケットが崩壊しやすくなり得、前記フィルムの外部面が微細突起の形成されない平面と実質的に差のない構造的特徴または表面特徴を有して、上述した撥水性および撥油性の特性を同時に確保しにくいことがある。また、前記微細突起の高さが大きすぎると、前記フィルムや微細突起自体の機械的硬度や物性が低下することがある。

前記微細突起の上面の最長直径が０．２μｍ〜１００μｍ、または１μｍ〜５０μｍ、または３μｍ〜３０μｍであってもよい。

前記微細突起の上面の最長直径が大きすぎると、前記フィルムの表面において前記微細突起の上面の占める広さの比率が過度に大きくなったり、有機物成分や水分成分の前記フィルムに接する面積が過度に広くなって、前記実施形態のフィルムが上述した撥水性および撥油性の特性を同時に確保できないことがある。

また、前記微細突起の上面の最長直径が小さすぎると、前記微細突起の機械的耐久性が顕著に低下することがあり、前記比率（Ｄ／Ｐ）の適正範囲を満足するために、微細突起の最長直径（Ｄ）に比例して互いに隣り合う２つの前記微細突起の上面間の距離および前記微細突起のうちの１つの上面の最長直径の合計（Ｐ）も共に小さくなる必要があるため、エアポケット（ａｉｒ ｐｏｃｋｅｔ）を形成するのに適切な体積や形状を有しにくく、前記微細突起の上面が過度に小さくなって、前記一実施形態の外部面が微細突起の形成されない平面と実質的に差がなくなり、上述した撥水性および撥油性の特性を同時に確保しにくいことがある。

前記側壁とフィルムとの接触面のなす内角が１００°〜１７０°、または１１０°〜１５０°であってもよい。これによって、前記耐指紋性フィルムの基材面と水平な方向への微細突起の断面の幅は、前記断面の最初の幅から一定角度の傾斜に伴って次第に増加することができる。

前記側壁とフィルムとの接触面のなす内角（前記微細突起の立体の内部になす角度）が１００°〜１７０°であることによって、前記一実施形態の耐指紋性フィルム上でエアポケットがより容易に形成可能であり、有機成分や水を含む液体に対してより高い反発力および高い接触角を実現することができる。

前記微細突起は、製造方法によって前記微細突起の上面の終端が丸い屈曲を有してもよい。このように、前記微細突起の上面の終端が丸い屈曲を有する場合、前記隣り合う微細突起の上部間の距離は、隣り合う微細突起の丸い屈曲間の最短距離で定義できる。

一方、前記微細突起が前記上面より広い面積を有する板状部をさらに含んでもよい。前記板状部は、前記微細突起の上面上に形成または積層されてもよい。前記板状部の存在によって、表面に転写された有機物成分や水分成分に対する接触角が非常に大きくなり得、前記有機物成分や水分成分が前記耐指紋性フィルムに接する面積も最少化することができる。

また、前記微細突起の板状部は、前記耐指紋性フィルムの内部構造上に形成されるエアポケット（ａｉｒ ｐｏｃｋｅｔ）を囲む形態を取ることができてエアポケット（ａｉｒ ｐｏｃｋｅｔ）の崩壊を防止することができ、耐指紋性フィルムの表面に転写された有機物成分や水分成分を一部支持して、これらが耐指紋性フィルムの内部に食い込む現象を防止することができる。

前記板状部は、前記微細突起の上面に比べて広い面積を有してもよい。つまり、前記板状部は、前記柱部の突出方向の上部最外角面の全体面積に接しながらも、該上面に比べて広い面積を有してもよい。前記板状部の広さが大きく限定されるものではないが、前記微細突起の上面に比べて１．２倍〜１０倍の広さを有してもよい。前記板状部の広さが小さすぎると、板状部を含むことによる効果の発現がわずかとなり得る。また、前記板状部の広さが大きすぎると、前記フィルムの外部の機械的強度が低くなり、前記微細突起の構造が崩壊しやすくなり得る。

前記板状部の形態は大きく限定されるものではないが、例えば、前記フィルムの基材面方向に対する前記板状部の断面が円、楕円、または３〜２０の内角を有する多角形であってもよい。前記フィルムの基材面方向に対する前記板状部の断面は、前記フィルムの基材面と平行な方向における前記板状部の断面を意味する。

また、前記基材の垂直方向に対する前記板状部の断面は、長方形、台形、または逆台形であってもよい。

前記微細突起の板状部の最大直径が０．１μｍ〜１００μｍ、または０．２μｍ〜５０μｍであってもよい。前記板状部の最大直径が大きすぎると、前記耐指紋性フィルムの表面において板状部の占める比率が過度に大きくなったり、有機物成分や水分成分の前記フィルムに接する面積が過度に広くなって、通常の平面フィルムと実質的に同一の表面構造または特性を有することがある。また、前記板状部の最大直径が小さすぎると、前記微細突起が板状部を含まないような形状を有したり、前記有機物成分や水分成分が前記耐指紋性フィルムに接する時に前記板状部による立体構造的特性が発現しにくいことがある。

前記微細突起の板状部の厚さが０．０５μｍ〜１０μｍ、または０．２μｍ〜２μｍであってもよい。前記板状部の厚さが小さすぎると、前記耐指紋性フィルムの外部の機械的物性が低下することがあり、前記板状部が厚すぎると、前記基材と前記微細突起で定義される空間内にエアポケットが形成されにくいことがある。

一方、前記耐指紋性フィルムは、前記微細突起の外部に積層されたフッ素系化合物層をさらに含んでもよい。つまり、前記微細突起は、前記特定形状の外面に形成されたフッ素系化合物層を含んでもよい。このようなフッ素系化合物層は、指紋に含まれる有機物成分や水分成分に対する接触角と反発力がより高められ、前記成分が前記耐指紋性フィルムの外部に接触する面積をより小さくすることができる。つまり、前記フッ素系化合物層は、前記微細突起の特定構造によって実現される撥水性および撥油性をより高めることができる。

また、前記フッ素系化合物層は、前記耐指紋性フィルムに転写される指紋成分、有機物成分または水分成分などに対して高い反発力を有し、これによって、時間の経過や、外部の圧力や液体に作用する重力、または毛細管現象などによってエアポケット（ａｉｒ ｐｏｃｋｅｔ）が崩壊して、フィルム表面に転写された前記成分が内部に食い込む現象を防止することができる。

前記フッ素系化合物層は、５ｎｍ〜５μｍ、または１０ｎｍ〜１μｍの厚さを有してもよい。

そして、前記微細突起が上述した板状部を含む場合、前記板状部の上面（微細突起の突出方向に最外角面）では、前記フッ素系化合物層が３０ｎｍ〜５μｍ、または５０μｍ〜１μｍの厚さを有してもよく、前記板状部の上面に対向する下面では、前記フッ素系化合物層が５ｎｍ〜１μｍ、または１０ｎｍ〜３００ｎｍの厚さを有してもよい。また、前記微細突起の柱部上には、５ｎｍ〜１μｍ、または１０ｎｍ〜３００ｎｍの厚さを有するフッ素系化合物層が形成されてもよい。

前記フッ素系化合物層は、フッ素系単分子化合物、フッ素系高分子化合物、またはこれらの混合物を含んでもよい。

前記フッ素系単分子化合物は、フッ素が置換された脂肪族、脂環族または芳香族の官能基を含むシロキサン系分子であるか、パーフルオロポリエーテル系化合物であってもよいし、このような化合物または分子は、前記微細突起、または一実施形態のフィルムの表面と結合可能なエポキシシラン、メトキシシラン、クロロシランなどの官能基を末端に含んでもよい。

前記フッ素系高分子化合物は、フッ素を含む官能基を含む反応性単量体を用いて合成される重合体または共重合体を含んでもよい。

具体的には、前記フッ素系高分子化合物は、フッ素系官能基が置換された（メタ）アクリレート系高分子化合物を含んでもよい。このようなフッ素系官能基が置換された（メタ）アクリレート系高分子化合物は、炭素数２〜１２のパーフルオロアルキル（メタ）アクリレート、ペンタフルオロフェニル（メタ）アクリレート、ペンタフルオロベンジル（メタ）アクリレート、またはこれらの２種以上の混合物を重合または共重合して得られる。

また、前記フッ素系高分子化合物は、ポリテトラフルオロエチレン（Ｐｏｌｙｔｅｔｒａｆｌｕｏｒｏｅｔｈｙｌｅｎｅ）、ポリテトラフルオロエチレンオキシド（Ｐｏｌｙｔｅｔｒａｆｌｕｏｒｏｅｔｈｙｌｅｎｅ ｏｘｉｄｅ）、ポリテトラフルオロプロピレンオキシド（ｐｏｌｙｈｅｘａｆｌｕｏｒｏｐｒｏｐｙｌｅｎｅ ｏｘｉｄｅ）、またはこれらの混合物が含まれる。

前記フッ素系化合物層は、多様なコーティング方法や蒸着方法により前記微細突起の外面に形成されてもよく、前記微細突起のみならず、前記フィルムの基材面に積層されてもよい。
前記フッ素系化合物層は、多様なコーティング方法や蒸着方法により前記微細突起の外面に形成されてもよく、前記微細突起のみならず、前記フィルムの基材面に積層されてもよい。

前記フッ素系化合物層の形成または積層には多様なコーティング方法および蒸着方法が使用可能であり、より均一で適切な厚さを有するフッ素系化合物層を形成するためには、熱的蒸着方法、熱線化学気相蒸着（ＨＷ−ＣＶＤ）方法、またはラジカル重合法が用いられる。

前記熱線化学気相蒸着（ＨＷ−ＣＶＤ）方法を用いると、前記柱部および板状部を含む２微細突起の全体領域にわたって均一な厚さを有するフッ素系化合物層を形成することができ、特に、前記微細突起の板状部の下面や前記柱部と板状部が接する部分にも均一な厚さのフッ素系化合物層を形成することができる。

これによって、前記フッ素系化合物層は、熱線気相化学蒸着方法を用いて、前記フッ素系高分子樹脂またはその前駆体を前記２微細突起の外部に積層することによって形成できる。

前記微細突起は、製造する方法によって多様な材質を含むことができ、また、前記微細突起の各部分が互いに同一または異なる材質からなってもよい。

具体的には、前記微細突起は、ガラス、シリコン、金属でドーピングされたシリコン、ポリシリコン、シリコン系高分子、金属、ウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、（メタ）アクリレート系高分子樹脂、ポリエチレン、またはポリプロピレンなどのポリオレフィン系樹脂、および感光性高分子樹脂からなる群より選択された１種以上が含まれる。

例えば、前記微細突起の材質として使用可能な成分が含まれている基材上にエッチングマスクを用いて前記板状部のパターンを形成し、これをエッチングして前記微細突起の板状部を形成することができ、その後に残った材料をエッチングして前記微細パターンの柱部を形成することができる。

また、所定の基材上に前記微細突起の柱部をなす成分を積層し、その上に前記板状部をなす成分を積層した後に、エッチングマスクを用いて板状部形状のパターンを形成し、板状部をなす材料および柱部をなす材料を順次にエッチングすることによって、上述した微細パターンを形成することができる。

さらに、前記微細突起は、感光性樹脂組成物を所定の基板（例えば、シリコン基板、有機基板、または高分子基板など）に塗布し、露光およびアルカリ現像して、一定のパターンを形成して得られる。例えば、感光性樹脂組成物を所定の基板で塗布した後、特定パターンのフォトマスクを用い、微細突起の突出方向側またはその後面方向で露光し現像して、側面が傾斜を有する逆円錐台の形状を有する微細突起を形成することができる。

一方、上述した発明の一実施形態の耐指紋性フィルムは、フィルムとの接触面と、前記フィルムとの接触面と鈍角の内角をなすように形成された側壁と、前記側壁と曲面をなして連結される上面とを含む微細突起を含み、前記微細突起の幅（Ｄ）に対する前記側壁と上面との連結される曲面の内部曲率半径（ｒ）の比率（ｒ／Ｄ）が０．１以下、または０．０１〜０．０５であってもよい。

前記特定の立体形状を有する微細突起が表面に形成された高透明度低ヘイズの耐指紋性フィルムは、水に対してのみならず、指紋に含まれる有機成分に対しても極めて高い接触角と高い反発力を有することができ、転写される指紋の量を最小化しながらも、転写された指紋を容易に除去可能な特性を有することができる。

特に、前記特定の立体形状を有する微細突起の幅（Ｄ）に対する前記側壁と上面との連結される曲面の内部曲率半径（ｒ）の比率（ｒ／Ｄ）が０．１以下、または０．０１〜０．０５に特定されることによって、フィルム表面の構造物である微細突起による光の散乱を最少化して高い光透過度および低いヘイズ特性を有することができる。

通常の場合、立体構造を導入するか、または表面粗さを増加させて耐指紋性フィルムを実現する時、光透過度の低下およびフィルムヘイズの増加を伴って光学的用途への使用に限界があった。これに対し、前記一実施形態の耐指紋性フィルムは、上述した特定構造の立体構造を有する微細突起を含み、有機成分に対する高い反発力を有すると共に高い光透過度を有することができ、立体構造に応じてヘイズ値が増加することを最小化することができる。

具体的には、前記一実施形態の耐指紋性フィルムは、０．１μｍ〜１，０００μｍの厚さにおいて、微細突起を含まない平坦なフィルムに比べて６％以下、または５％以下のヘイズ値を有することができる。前記厚さは、前記微細突起の高さまでを含む前記一実施形態のフィルム全体の厚さを意味する。

また、前記一実施形態の耐指紋性フィルムは、０．１μｍ〜１，０００μｍの厚さにおいて、Ａ光源に対して８５％以上の光透過度、または９０％以上の光透過度を有してもよい。

前記側壁と上面との連結される曲面の内部曲率半径（ｒ）は、前記側壁と上面との連結される曲面の内部に描かれる円中の最も大きい円の半径を意味する。前記側壁と上面との連結される曲面の内部曲率半径（ｒ）の一例は、図３と図４に示された通りである。

前記側壁と曲面をなして連結される上面は、前記微細突起の高さ方向の上部に位置して前記微細突起の立体を構成する。前記上面は、平面であってもよいし、全体が曲面であってもよく、一部だけが曲面であってもよい。

一方、前記高透明度の耐指紋性フィルムは、前記微細突起を２以上含んでもよいし、互いに隣り合う２つの前記微細突起の上面間の距離および前記微細突起のうちの１つの上面の最長直径の合計（Ｐ）に対する前記微細突起のうちの１つの微細突起の幅（Ｄ）の比率（Ｄ／Ｐ）が０．１〜０．５、または０．２〜０．４であってもよい。前記１つの微細突起の幅は、前記フィルムとの接触面方向への前記微細突起の最大幅を意味する。

発明の他の実施形態によれば、フィルムとの接触面と、これに対面する上面と、前記接触面と上面とを連結する側壁とを含み、前記側壁とフィルムとの接触面のなす内角が鈍角の立体形状を有する線状の微細パターンを２以上含む、撥水性および撥油性を有するフィルムが提供される。

本発明者らは、前記特定の立体構造を有する線状の微細パターンが２以上表面に形成されたフィルムが、水に対してのみならず、有機成分に対しても高い接触角を有して超撥水性および超撥油性を実現することができ、転写される汚染物質の量を最少化しながらも、転写された汚染物質を容易に除去可能な特性を有するという点を、実験を通して確認し、発明を完成した。

特に、前記特定の立体形状を有する微細パターンが線状に前記フィルム上に配列することによって、独立した立体形状（例えば、円錐台、多角錐台、逆円錐台、または逆多角錐台など）の微細突起が形成されているフィルムに比べてより高い耐久性と表面強度などの機械的物性を確保することができ、前記一実施形態のフィルムは、表面に形成される微細パターンの形状とこれに伴う効果をより長時間維持することができる。

前記微細パターンは、前記フィルムの外部に突出するように形成され、ｎｍまたはμｍ単位の高さや幅を有する構造体を意味する。

前記線状の微細パターンは、前記フィルムの外部に突出して形成された立体形状が連結されてなる線状のパターンを意味する。上述のように、前記一実施形態のフィルム上において１以上の線状の微細パターンが形成できる。

前記微細パターンの高さは、突出方向への最長長さを意味し、前記微細パターンの幅は、突出方向と垂直方向への最長直径を意味する。そして、このような微細突起の高さと幅は、前記微細突起が単一物質からなったり、２以上の物質からなるか、または複数の積層構造または構造体を含む場合にも、１つとして認識可能な外部構造や形態の高さおよび幅で定義できる。

上述のように、前記微細パターンは、フィルムとの接触面と、これに対面する上面と、接触面と上面とを連結する側壁とを有し、前記側壁とフィルムとの接触面のなす内角は鈍角の形状を有してもよい。つまり、前記微細パターンは、フィルムの接触面から上面に上るに伴って側壁の断面の直径が次第に大きくなり得る。

前記フィルムとの接触面は、前記微細突起が前記フィルムの基材面と接する下部面を意味する。また、前記上面は、前記微細突起の高さ方向の最上部に位置し、前記接触面に対面する上部面を意味する。前記側壁は、前記微細突起が有する立体形状の側面をなすことになる。

前記互いに隣り合う線状の微細パターン間の間隔が１μｍ〜１０００μｍ、または１０μｍ〜５００μｍであってもよい。前記互いに隣り合う線状の微細パターン間の間隔が上述した範囲に限定されることにより、表面に転写された有機物成分や水分成分に対する接触角がより高められ、前記成分の接触する面積を低減することができ、前記微細パターンとフィルムの基材面で定義される空間にエアポケットをより容易に形成し維持することができる。

前記互いに隣り合う線状の微細パターン間の間隔が大きすぎると、前記微細パターンとフィルムの基材面で定義される空間に形成されるエアポケット（ａｉｒ ｐｏｃｋｅｔ）が崩壊しやすくなり得る。また、前記互いに隣り合う線状の微細パターン間の間隔が小さすぎると、前記微細パターンとフィルムの基材面で定義される空間がエアポケット（ａｉｒ ｐｏｃｋｅｔ）を形成するのに適切な体積や形状を有しにくいことがある。

前記微細パターンの上面部の最大直径は、０．１μｍ〜１００μｍ、１μｍ〜５０μｍ、または３μｍ〜３０μｍであってもよい。

前記微細パターンの上面の最長直径（幅）が大きすぎると、前記フィルムの表面において前記微細パターンの上面の占める広さの比率が過度に大きくなったり、有機物成分や水分成分の前記フィルムに接する面積が過度に広くなって、前記実施形態のフィルムが上述した撥水性および撥油性の特性を同時に確保できないことがある。

また、前記微細パターンの上面の最長直径が小さすぎると、前記微細パターンの機械的耐久性が顕著に低下することがあり、エアポケット（ａｉｒ ｐｏｃｋｅｔ）を形成するのに適切な体積や形状を有しにくく、前記微細パターンの上面が過度に小さくなって、前記一実施形態のフィルムの外部面が微細突起の形成されない平面と実質的に差がなくなり、上述した撥水性および撥油性の特性を同時に確保しにくいことがある。

前記一実施形態のフィルムには前記線状の微細パターンが２以上含まれてもよいし、前記互いに隣り合う２つの前記微細突起の上面間の距離および前記微細突起のうちの１つの上面の最長直径の合計（Ｐ）に対する１つの微細パターンの上面部の最長直径（Ｄ）の比率（Ｄ／Ｐ）が０．１〜０．７、または０．２〜０．５であってもよい。

このように、前記互いに隣り合う微細パターン間の間隔に対する１つの微細パターンの上面部の最長直径の比率が上述した範囲に特定されることによって、表面に転写された有機物成分や水分成分に対する接触角がより高められ、前記成分の接触する面積を低減することができ、前記微細パターンとフィルムの基材面で定義される空間にエアポケットをより容易に形成し維持することができる。

また、前記撥水性および撥油性を有するフィルムが有機物成分やまたは水に対してより低い相互作用エネルギーを有するようにして、転写される有機物成分や水分の量を最小化しながらも、転写された有機物を容易に除去可能である。

前記比率（Ｄ／Ｐ）が小さすぎると、例えば、前記（Ｐ）が大きすぎると、前記微細パターンとフィルムの基材面で定義される空間に形成されるエアポケット（ａｉｒ ｐｏｃｋｅｔ）が崩壊しやすくなり得る。また、前記比率（Ｄ／Ｐ）が大きすぎると、例えば、前記（Ｐ）が小さすぎると、前記微細パターンとフィルムの基材面で定義される空間がエアポケット（ａｉｒ ｐｏｃｋｅｔ）を形成するのに適切な体積や形状を有しにくいことがある。

前記微細パターンの高さが０．１μｍ〜４０μｍ、１μｍ〜２０μｍ、または５μｍ〜１５μｍであってもよい。

前記微細パターンの高さが小さすぎると、前記微細パターンとフィルムの基材面で定義される空間がエアポケット（ａｉｒ ｐｏｃｋｅｔ）を形成するのに適切な体積や形状を有しにくかったり、形成されるエアポケットが崩壊しやすくなり得、前記フィルムの外部面が微細突起の形成されない平面と実質的に差のない構造的特徴または表面特徴を有して、上述した撥水性および撥油性の特性を同時に確保しにくいことがある。また、前記微細パターンの高さが大きすぎると、前記フィルムや微細パターン自体の機械的硬度や物性が低下することがある。

前記微細パターンの側壁とフィルムとの接触面のなす内角が１００°〜１７０°、または１１０°〜１５０°であってもよい。これによって、前記微細パターンの断面の幅は、前記断面の最初の幅から一定角度の傾斜に伴って次第に増加することができる。

前記フィルムの基材面と微細パターンの外部側壁とが上述した内角をなすことによって、前記一実施形態のフィルム上においてエアポケットがより容易に形成可能であり、有機成分や水を含む液体に対してより高い反発力および高い接触角を実現することができる。

前記微細パターンは、製造方法によって立体形状の外部が一部曲面や傾斜を有してもよい。例えば、前記微細パターンの上面の終端が丸い屈曲を有してもよい。このように、前記微細パターンの上面の終端が丸い屈曲を有する場合、前記隣り合う微細パターン間の距離は、隣り合う微細パターンの丸い屈曲間の最短距離で定義できる。

前記一実施形態のフィルムは、前記微細パターンの外部表面に積層されたフッ素系化合物層をさらに含んでもよい。前記フッ素系化合物層は、前記フィルムに転写される有機物成分または水分成分などに対して高い反発力を有し、これによって、時間の経過や、外部の圧力や液体に作用する重力、または毛細管現象などによってエアポケットが崩壊して、フィルム表面に転写された前記成分が内部に食い込む現象を防止することができる。

前記フッ素系化合物層は、５ｎｍ〜５μｍ、または１０ｎｍ〜１μｍの厚さを有してもよい。

前記フッ素系化合物層は、フッ素系単分子化合物、フッ素系高分子化合物、またはこれらの混合物を含んでもよい。

前記フッ素系単分子化合物は、フッ素が置換された脂肪族、脂環族または芳香族の官能基を含むシロキサン系分子であるか、パーフルオロポリエーテル系化合物であってもよいし、このような化合物または分子は、前記微細突起、または一実施形態のフィルムの表面と結合可能なエポキシシラン、メトキシシラン、クロロシランなどの官能基を末端に含んでもよい。

前記フッ素系高分子化合物は、フッ素を含む官能基を含む反応性単量体を用いて合成される重合体または共重合体を含んでもよい。

具体的には、前記フッ素系高分子化合物は、フッ素系官能基が置換された（メタ）アクリレート系高分子化合物を含んでもよい。このようなフッ素系官能基が置換された（メタ）アクリレート系高分子化合物は、炭素数２〜１２のパーフルオロアルキル（メタ）アクリレート、ペンタフルオロフェニル（メタ）アクリレート、ペンタフルオロベンジル（メタ）アクリレート、またはこれらの２種以上の混合物を重合または共重合して得られる。

また、前記フッ素系高分子化合物は、ポリテトラフルオロエチレン（Ｐｏｌｙｔｅｔｒａｆｌｕｏｒｏｅｔｈｙｌｅｎｅ）、ポリテトラフルオロエチレンオキシド（Ｐｏｌｙｔｅｔｒａｆｌｕｏｒｏｅｔｈｙｌｅｎｅ ｏｘｉｄｅ）、ポリテトラフルオロプロピレンオキシド（ｐｏｌｙｈｅｘａｆｌｕｏｒｏｐｒｏｐｙｌｅｎｅ ｏｘｉｄｅ）、またはこれらの混合物を含んでもよい。

前記フッ素系化合物層は、多様なコーティング方法や蒸着方法により前記微細パターンの外面に形成されてもよく、前記微細パターンのみならず、前記フィルムの基材面に積層されてもよい。
前記フッ素系化合物層は、多様なコーティング方法や蒸着方法により前記微細パターンの外面に形成されてもよく、前記微細パターンのみならず、前記フィルムの基材面に積層されてもよい。

前記フッ素系化合物層の形成または積層には多様なコーティング方法および蒸着方法が使用可能であり、より均一で適切な厚さを有するフッ素系化合物層を形成するためには、熱的蒸着方法、熱線化学気相蒸着（ＨＷ−ＣＶＤ）方法、またはラジカル重合法が用いられる。

前記熱線化学気相蒸着（ＨＷ−ＣＶＤ）方法を用いると、前記柱部および板状部を含む微細パターンの全体領域にわたって均一な厚さを有するフッ素系化合物層を形成することができる。

これによって、前記フッ素系化合物層は、熱線気相化学蒸着方法を用いて、前記フッ素系高分子樹脂またはその前駆体を前記２微細突起の外部に積層することによって形成できる。

一方、前記一実施形態のフィルムは、オレイン酸または蒸留水に対して高い接触角を有することができ、例えば、前記一実施形態のフィルムは、３ｕｌの蒸留水に対して１２０°以上の静接触角を有し、３ｕｌのオレイン酸（ｏｌｅｉｃ ａｃｉｄ）に対して１００°以上の静接触角を有してもよい。

あるいは、前記一実施形態のフィルムは、３ｕｌの蒸留水に対して１３０°〜１６０°の接触角を有してもよく、３ｕｌのオレイン酸（ｏｌｅｉｃ ａｃｉｄ）に対して１１０°〜１６０°の接触角を有してもよい。つまり、前記耐指紋性フィルムは、有機物成分および水分成分共に対してＣａｓｓｉｅ−Ｂａｘｔｅｒ ｓｔａｔｅを実現することができ、超撥水性および超撥油性を共に有することができる。

前記一実施形態のフィルムに指紋や液体が転写される場合、前記微細突起と前記耐指紋性フィルムの基材面がその内部に形成される所定の空間にエアポケット（ａｉｒ ｐｏｃｋｅｔ）を形成して、指紋に含まれる成分または水に対して高い反発力と高い接触角を持たせることができる。

一方、前記微細パターンは、ガラス、シリコン、金属でドーピングされたシリコン、ポリシリコン、シリコン系高分子、金属、ウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、（メタ）アクリレート系高分子樹脂、ポリエチレンまたはポリプロピレンなどのポリオレフィン系樹脂、および感光性高分子樹脂からなる群より選択された１種以上を含んでもよい。

例えば、前記微細パターンの材質として使用可能な成分が含まれている基材上にエッチングマスクを用いて前記微細パターンの上部を形成することができ、その後に残った材料をエッチングして前記微細パターンを形成することができる。

また、所定の基材上に前記微細パターンをなす成分を積層し、エッチングマスクを用いて所定形状のパターンを形成し、残った材料をエッチングすることによって、上述した微細パターンを形成することができる。

さらに、前記微細突起は、感光性樹脂組成物を所定の基板（例えば、シリコン基板、有機基板、または高分子基板など）に塗布し、露光およびアルカリ現像して、一定のパターンを形成して得られる。例えば、感光性樹脂組成物を所定の基板で塗布した後、特定パターンのフォトマスクを用い、微細突起の突出方向側またはその後面方向で露光し現像して、側面が傾斜を有する逆円錐台の形状を有する微細突起を形成することができる。

一方、発明のさらに他の実施形態によれば、フィルムとの接触面と、これに対面する上面と、前記接触面と上面とを連結する側壁とを含み、前記側壁とフィルムとの接触面のなす内角が鈍角の立体形状を有する連続状の微細パターンを含む、撥水性および撥油性を有するフィルムが提供される。

本発明者らは、前記特定の立体構造を有する連続状の微細パターンが表面に形成されたフィルムが、水に対してのみならず、有機成分に対しても高い接触角を有して超撥水性および超撥油性を実現することができ、転写される汚染物質の量を最少化しながらも、転写された汚染物質を容易に除去可能な特性を有するという点を、実験を通して確認し、発明を完成した。

特に、前記特定の立体形状を有する微細パターンが連続状の形態で前記フィルム上に位置することによって、独立した立体形状（例えば、円錐台、多角錐台、逆円錐台、または逆多角錐台など）の微細突起が形成されているフィルムに比べてより高い耐久性と表面強度などの機械的物性を確保することができ、前記一実施形態のフィルムは、表面に形成される微細パターンの形状とこれに伴う効果をより長時間維持することができる。

前記微細パターンは、前記フィルムの外部に突出するように形成され、ｎｍまたはμｍ単位の高さや幅を有する構造体を意味する。

前記連続状の微細パターンは、前記フィルムの外部に突出して形成された立体形状全体が連結されて１つの立体をなすパターンを意味する。

前記微細パターンの高さは、突出方向への最長長さを意味し、前記微細パターンの幅は、突出方向と垂直方向に対する前記連続状の微細パターンの断面が有する最長直径を意味する。そして、このような微細突起の高さと幅は、前記微細突起が単一物質からなったり、２以上の物質からなるか、または複数の積層構造または構造体を含む場合にも、１つとして認識可能な外部構造や形態の高さおよび幅で定義できる。

上述のように、前記微細パターンは、フィルムとの接触面と、これに対面する上面と、接触面と上面とを連結する側壁とを有し、前記側壁とフィルムとの接触面のなす内角は鈍角の形状を有してもよい。つまり、前記微細パターンは、フィルムの接触面から上面に上るに伴って側壁の断面の直径が次第に大きくなり得る。

前記フィルムとの接触面は、前記微細パターンが前記フィルムの基材面と接する下部面を意味する。また、前記上面は、前記微細パターンの高さ方向の最上部に位置し、前記接触面に対面する上部面を意味する。

後述するように、前記連続状の微細パターンに前記微細パターンの側壁と前記フィルムの基材面で定義される凹部が形成される場合、前記上面は、前記凹部によって空き空間となる部分を除いた微細パターンの上部の連続した面を意味する。

前記側壁は、前記微細パターンが有する立体形状の側面をなすことになる。

前記連続状の微細パターン上には、前記微細パターンの側壁と前記フィルムの基材面で定義される凹部が形成されてもよい。

前記フィルムの基材面方向に対する前記凹部の断面が円形、楕円形、または多角形であってもよい。

前記フィルムの基材面方向に対する前記凹部の断面の最長直径が１μｍ〜１０００μｍ、または１０μｍ〜５００μｍであってもよい。

前記フィルムの基材面方向に対する前記凹部の断面の最長直径が大きすぎると、前記微細パターンとフィルムの基材面で定義される空間に形成されるエアポケット（ａｉｒ ｐｏｃｋｅｔ）が崩壊しやすくなり得る。また、前記フィルムの基材面方向に対する前記凹部の断面の最長直径が小さすぎると、前記微細パターンとフィルムの基材面で定義される空間がエアポケット（ａｉｒ ｐｏｃｋｅｔ）を形成するのに適切な体積や形状を有しにくいことがある。

前記連続状の微細パターンの幅は、０．１μｍ〜１００μｍ、１μｍ〜５０μｍ、または３μｍ〜３０μｍであってもよい。前記連続状の微細パターンの幅は、微細パターンが満たしている側壁と側壁との間の最長距離を意味する。

前記連続状の微細パターンの幅が大きすぎると、前記フィルムの表面において前記微細パターンの上面の占める広さの比率が過度に大きくなったり、有機物成分や水分成分の前記フィルムに接する面積が過度に広くなって、前記実施形態のフィルムが上述した撥水性および撥油性の特性を同時に確保できないことがある。

前記連続状の微細パターンの幅が小さすぎると、前記微細パターンの機械的耐久性が顕著に低下することがあり、エアポケット（ａｉｒ ｐｏｃｋｅｔ）を形成するのに適切な体積や形状を有しにくく、前記微細パターンの上面が過度に小さくなって、前記一実施形態のフィルムの外部面が微細突起の形成されない平面と実質的に差がなくなり、上述した撥水性および撥油性の特性を同時に確保しにくいことがある。

前記フィルムの基材面方向に対する前記凹部の断面に対する前記連続状の微細パターンの幅の比率（Ｒ２）は、０．１〜０．７、または０．２〜０．５であってもよい。

このように、前記比率（Ｒ２）が上述した範囲に特定されることによって、表面に転写された有機物成分や水分成分に対する接触角がより高められ、前記成分の接触する面積を低減することができ、前記微細パターンとフィルムの基材面で定義される空間にエアポケットをより容易に形成し維持することができる。

また、前記撥水性および撥油性を有するフィルムが有機物成分やまたは水に対してより低い相互作用エネルギーを有するようにして、転写される有機物成分や水分の量を最小化しながらも、転写された有機物を容易に除去可能である。

前記比率（Ｒ２）が小さすぎると、前記微細パターンとフィルムの基材面で定義される空間がエアポケットを形成するのに十分でないことがあり、表面に転写された有機物成分や水分成分に対する接触角が低くなったり、これらに対する反発力が低下することがある。また、前記比率（Ｒ２）が大きすぎると、前記微細パターンおよび基材で定義される空間内に形成されるエアポケットが崩壊しやすくなり得、表面に転写された有機物成分や水分成分が基材側の内部に向かって食い込みやすくなり得る。

前記微細パターンの高さが０．１μｍ〜４０μｍ、１μｍ〜２０μｍ、または５μｍ〜１５μｍであってもよい。

前記微細パターンの高さが小さすぎると、前記微細パターンとフィルムの基材面で定義される空間がエアポケット（ａｉｒ ｐｏｃｋｅｔ）を形成するのに適切な体積や形状を有しにくかったり、形成されるエアポケットが崩壊しやすくなり得、前記フィルムの外部面が微細突起の形成されない平面と実質的に差のない構造的特徴または表面特徴を有して、上述した撥水性および撥油性の特性を同時に確保しにくいことがある。また、前記微細パターンの高さが大きすぎると、前記フィルムや微細パターン自体の機械的硬度や物性が低下することがある。

前記微細パターンの側壁とフィルムとの接触面のなす内角が１００°〜１７０°、または１１０°〜１５０°であってもよい。これによって、前記微細パターンの断面の幅は、前記断面の最初の幅から一定角度の傾斜に伴って次第に増加することができる。

前記フィルムの基材面と微細パターンの外部側壁が上述した内角をなすことによって、前記一実施形態のフィルム上においてエアポケットがより容易に形成可能であり、有機成分や水を含む液体に対してより高い反発力および高い接触角を実現することができる。

前記微細パターンは、製造方法によって立体形状の外部が一部曲面や傾斜を有してもよい。例えば、前記微細パターンの上面の終端が丸い屈曲を有してもよい。このように、前記微細パターンの上面の終端が丸い屈曲を有する場合、前記隣り合う微細パターン間の距離は、隣り合う微細パターンの丸い屈曲間の最短距離で定義できる。

前記一実施形態のフィルムは、前記微細パターンの外部表面に積層されたフッ素系化合物層をさらに含んでもよい。前記フッ素系化合物層は、前記フィルムに転写される有機物成分または水分成分などに対して高い反発力を有し、これによって、時間の経過や、外部の圧力や液体に作用する重力、または毛細管現象などによってエアポケットが崩壊して、フィルム表面に転写された前記成分が内部に食い込む現象を防止することができる。

前記フッ素系化合物層は、５ｎｍ〜５μｍ、または１０ｎｍ〜１μｍの厚さを有してもよい。

前記フッ素系化合物層は、フッ素系単分子化合物、フッ素系高分子化合物、またはこれらの混合物を含んでもよい。

前記フッ素系化合物層に含まれる具体的な成分および前記フッ素系化合物層の形成方法に関する内容は、前記一実施形態の該当する部分で上述した内容を含む。

一方、前記一実施形態のフィルムは、オレイン酸または蒸留水に対して高い接触角を有することができ、例えば、前記実施形態のフィルムは、３ｕｌの蒸留水に対して１２０°以上の静接触角を有し、３ｕｌのオレイン酸（ｏｌｅｉｃ ａｃｉｄ）に対して１００°以上の静接触角を有してもよい。

あるいは、前記実施形態のフィルムは、３ｕｌの蒸留水に対して１３０°〜１６０°の接触角を有してもよく、３ｕｌのオレイン酸（ｏｌｅｉｃ ａｃｉｄ）に対して１１０°〜１６０°の接触角を有してもよい。つまり、前記耐指紋性フィルムは、有機物成分および水分成分の両方に対してＣａｓｓｉｅ−Ｂａｘｔｅｒ ｓｔａｔｅを実現することができ、超撥水性および超撥油性を共に有することができる。

前記一実施形態のフィルムに指紋や液体が転写される場合、前記微細突起と前記耐指紋性フィルムの基材面がその内部に形成される所定の空間にエアポケット（ａｉｒ ｐｏｃｋｅｔ）を形成して、指紋に含まれる成分または水に対して高い反発力と高い接触角を持たせることができる。

一方、前記微細パターンは、ガラス、シリコン、金属でドーピングされたシリコン、ポリシリコン、シリコン系高分子、金属、ウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、（メタ）アクリレート系高分子樹脂、ポリエチレンまたはポリプロピレンなどのポリオレフィン系樹脂、および感光性高分子樹脂からなる群より選択された１種以上を含んでもよい。

例えば、前記微細パターンの材質として使用可能な成分が含まれている基材上にエッチングマスクを用いて前記微細パターンの上部を形成することができ、その後に残った材料をエッチングして前記微細パターンを形成することができる。

また、所定の基材上に前記微細パターンをなす成分を積層し、エッチングマスクを用いて所定形状のパターンを形成し、残った材料をエッチングすることによって、上述した微細パターンを形成することができる。

さらに、前記微細突起は、感光性樹脂組成物を所定の基板（例えば、シリコン基板、有機基板、または高分子基板など）に塗布し、露光およびアルカリ現像して、一定のパターンを形成して得られる。例えば、感光性樹脂組成物を所定の基板で塗布した後、特定パターンのフォトマスクを用い、微細突起の突出方向側またはその後面方向で露光し現像して、側面が傾斜を有する逆円錐台の形状を有する微細突起を形成することができる。

一方、発明のさらに他の実施形態によれば、上述したいずれか１つの耐指紋性フィルムを含む電気電子装置が提供される。

前記耐指紋性フィルムおよび前記フィルムに形成される微細突起に関する具体的な内容は上述した通りである。

前記フィルムは、３μｌのオレイン酸（ｏｌｅｉｃ ａｃｉｄ）に対して１２０°以上の接触角、または１３０°〜１６０°の接触角を有してもよい。

また、前記フィルムは、３μｌの蒸留水に対して１２０°以上の接触角、または１３０°〜１６０°の接触角を有してもよい。

前記フィルムでは、有機物成分や水分成分に対して極めて高い接触角と高い反発力を有することができ、このような有機物成分や水分成分が接触する面積も極めて小さい。前記フィルムは、有機物成分および水分成分共に対してＣａｓｓｉｅ−Ｂａｘｔｅｒ ｓｔａｔｅを実現することができる。

前記電気電子装置は、各種電気素子、ディスプレイ装置、半導体装置、家電製品などを全て含む意味である。

このような電気電子装置の例としては、テレビ、コンピュータモニタ、携帯電話の液晶装置、多様なＬＣＤ、ＬＥＤまたはＯＬＥＤ装置などのディスプレイ装置；ダイオードとトランジスタなどからなる集積回路素子、熱電子放出素子、電子式カメラの電荷結合素子、太陽電池または発光素子などの電気素子；または冷蔵庫、エアコン、洗濯機、食器洗浄機、炊飯器、オーブンなどの家電製品などが挙げられる。

前記耐指紋性フィルムは、前記電気電子装置の内部または外部の少なくとも一面に形成または結合されてもよい。特に、前記耐指紋性フィルムは、ディスプレイ装置の画面部表面に形成されてもよい。

本発明によれば、製品の表面に指紋が転写されることを最小化しながらも、転写された指紋を容易に除去可能な特性を有し、超撥水性および超撥油性を共に実現することのできる、耐指紋性フィルムおよび前記耐指紋性フィルムを含むディスプレイ装置が提供可能である。

また、前記耐指紋性フィルムは、製品の表面に転写される汚染物質の量を最小化することができ、転写された汚染物質を容易に除去可能な特性を有しながらも、高い光透過度特性と低いヘイズ特性および耐指紋特性を有することができる。

前記耐指紋性フィルムを含むディスプレイ装置は、指紋の転写や外部の汚染物によって画質の低下などの現象を防止することができ、転写された指紋や外部汚染物をより容易に除去可能で、優れた耐汚染性などの品質と高い画質実現力などを有することができる。

実施例１の耐指紋性フィルムの微細突起の側面ＳＥＭ写真を示したものである。 実施例１の耐指紋性フィルムの平面ＳＥＭ写真を示したものである。 実施例２の耐指紋性フィルムの微細突起の断面ＳＥＭ写真を示したものである。 実施例２の耐指紋性フィルムの４５度側面ＳＥＭ写真を示したものである。 実施例３の耐指紋性フィルムの微細突起の側面ＳＥＭ写真を示したものである。 一定基材上に載せられた液体のスライディング角度と、該スライディング角度において前記基材が液体の前端方向の表面となす接触角（θａ）および後端方向の表面となす接触角（θｒ）を示したものである。 実施例５の高透明度および低ヘイズ特性を有する耐指紋性フィルムの微細突起の側面ＳＥＭ写真を示したものである。 実施例８におけるフィルムの断面およびフィルムの上方視平面に対するＳＥＭ写真をそれぞれ示したものである。 実施例９におけるフィルムの断面およびフィルムの上方視平面に対するＳＥＭ写真をそれぞれ示したものである。 実施例１０におけるフィルムの断面およびフィルムの上方視平面に対するＳＥＭ写真をそれぞれ示したものである。 実施例１１におけるフィルムの断面およびフィルムの上方視平面に対するＳＥＭ写真をそれぞれ示したものである。

発明を下記の実施例でより詳細に説明する。ただし、下記の実施例は本発明を例示するものに過ぎず、本発明の内容が下記の実施例によって限定されるものではない。

＜実施例：耐指紋性フィルムの製造＞
実施例１
（１）微細突起の形成
有機基板上に、スパッタ（ｓｐｕｔｔｅｒ）を用いてクロム（Ｃｒ）を約２００ｎｍの厚さに蒸着した。前記蒸着されたクロム層上にネガティブフォトレジストを塗布し、フォトマスクを用いて直径６μｍの円形パターンの逆相が形成されるように紫外線を照射した。そして、フォトレジスト剥離液を用いて硬化されていない領域を除去した［フォトマスクの製造］。

以降、前記円形パターンが形成されたクロム層上にネガティブフォトレジストを７μｍの厚さに塗布し、屈折率整合剤（Ｉｎｄｅｘ ｍａｔｃｈｉｎｇ ｌｉｑｕｉｄ）とディフューザー（Ｄｉｆｆｕｓｅｒ）を用いて紫外線を露光して、逆円錐台または逆多角錐台の形状を有する微細突起が含まれているフォトレジスト（ＰＲ）を形成した。

前記微細突起が含まれているフォトレジスト（ＰＲ）上にフッ素表面処理を施した後、ｐｏｌｙｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｏｘａｎｅを用いてモールドを製造した。そして、前記モールド上にフッ素表面処理を施した後、前記モールドにｐｏｌｙｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｏｘａｎｅを注入して、微細突起が形成されたフィルムを製造した。

（２）フッ素系化合物層の形成
前記耐指紋性フィルム上に酸素プラズマ処理を施した後、２＊１０^−６ｔｏｒｒの真空条件、４００℃の温度および２Å／ｓの蒸着速度で、加熱蒸着（ｔｈｅｒｍａｌ ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）して、２０ｎｍの厚さのｐｅｒｆｌｕｏｒｏｐｏｌｙｅｔｈｅｒ（ＰＦＰＥ）フッ素系化合物層を形成した。

前記微細突起が形成されたフィルムの側面図および平面図は、それぞれ図１および図２に示した通りである。

実施例２
（１）微細突起の形成
シリコンウエハ上に、ＰＥＣＶＤ（Ｐｌａｓｍａ−ｅｎｈａｎｃｅｄ ｃｈｅｍｉｃａｌ ｖａｐｏｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）を用いて５００ｎｍの厚さのＳｉＯ_２層を形成した。前記ＳｉＯ_２層上にネガティブフォトレジストを塗布し、フォトマスクを用いて直径１５μｍの板状部のパターンが形成されるように紫外線を照射した。そして、フォトレジスト剥離液を用いて前記板状部のパターン（エッチングマスクの役割）だけを残して他の部分は除去した。

以降、ＢＯＥ（ｂｕｆｆｅｒｅｄ ｏｘｉｄｅｄ ｅｔｃｈａｎｔ）を用いて前記ＳｉＯ_２層をエッチングして、前記板状部のパターンとしても実現される微細突起の板状部［厚さ：０．３μｍ］を形成し、水酸化カリウム溶液（シリコンウエハエッチング）を用いてシリコンをエッチングして、３μｍの高さのパターンの柱部を形成した。

前記板状部および柱部を含む微細突起が形成されたフィルムの断面図および平面図は、それぞれ図３および図４に示した通りである。

（２）フッ素系化合物層の形成
前記形成された板状部および柱部を含む微細突起が形成されたフィルムの表面に気相蒸着方式でｆｌｕｏｒｏｃｔａｔｒｉｃｈｌｏｒｏｓｉｌａｎｅ（ＦＯＴＳ）を積層し、１００℃のオーブンで３０分間熱処理を施した。前記熱処理後、ｎ−ヘキセンを用いて未積層残留ＦＯＴＳを除去して、フッ素系化合物層が表面に積層されたフィルムを得た。

実施例３
（１）微細突起の形成
有機基板上に、スパッタ（ｓｐｕｔｔｅｒ）を用いてクロム（Ｃｒ）を約２００ｎｍの厚さに蒸着した。前記蒸着されたクロム層上にネガティブフォトレジストを塗布し、フォトマスクを用いて直径６μｍの円形パターンの逆相が形成されるように紫外線を照射した。そして、フォトレジスト剥離液を用いて硬化されていない領域を除去した［フォトマスクの製造］。

以降、前記円形パターンが形成されたクロム層上にネガティブフォトレジストを７μｍの厚さに塗布し、屈折率整合剤（Ｉｎｄｅｘ ｍａｔｃｈｉｎｇ ｌｉｑｕｉｄ）とディフューザー（Ｄｉｆｆｕｓｅｒ）を用いて紫外線を露光して、逆円錐台または逆多角錐台の形状を有する微細突起が含まれているフォトレジスト（ＰＲ）を形成した。

前記微細突起が含まれているフォトレジスト（ＰＲ）上にフッ素表面処理を施した後、ｐｏｌｙｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｏｘａｎｅを用いてモールドを製造した。そして、前記モールド上にフッ素表面処理を施した後、前記モールドにポリウレタンアクリレート樹脂を注入し、これをＵＶ硬化して、微細突起が形成されたフィルムを製造した。

前記微細突起が形成されたフィルムの表面ＳＥＭ写真は、図５に示した通りである。

［比較例１および２：フィルムの製造］
比較例１
１ｔｏｒｒの圧力、ヘキサフルオロプロピレンオキシド（ＨＦＰＯ）５０ｓｃｃｍ、熱線温度６５０℃を適用して、ガラス基板上にポリテトラフルオロエチレン（Ｐｏｌｙｔｅｔｒａｆｌｕｒｏｅｔｈｙｌｅｎｅ、ＰＴＦＥ）を熱線化学気相蒸着（ＨＷ−ＣＶＤ）した。

比較例２
ガラス基板を酸素プラズマ処理を施した後、２＊１０^−６ｔｏｒｒの真空条件、４００℃の温度および２Å／ｓの蒸着速度で、加熱蒸着（ｔｈｅｒｍａｌ ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）して、前記耐指紋性フィルム上に２０ｎｍの厚さのｐｅｒｆｌｕｏｒｏｐｏｌｙｅｔｈｅｒ（ＰＦＰＥ）層を形成した。

［実験例１：静接触角、動接触角および相互作用エネルギー（Ｉｎｔｅｒａｃｔｉｏｎ Ｅｎｅｒｇｙ）の測定］
前記実施例および比較例で得られたフィルム表面が有するオレイン酸に対する静接触角および動接触角を測定し、このような測定結果に基づいて相互作用エネルギーを求めた。

（１）静接触角の測定
タンジェント方法（Ｔａｎｇｅｎｔ ｍｅｔｈｏｄ）によって水とオレイン酸（ｏｌｅｉｃ ａｃｉｄ）それぞれ３μｌを前記実施例および比較例で得られたフィルム上に載せ、ＤＳＡ１００測定装置を用いて静接触角を測定した。

（２）動接触角の測定
前記実施例および比較例で得られたフィルム上に３０μｌのオレイン酸（ｏｌｅｉｃ ａｃｉｄ）を載せた後に、前記フィルムを一方を持ち上げて傾斜角を設けながら、前記オレイン酸が流れる時点の角度［スライディング角度、ｓｌｉｄｉｎｇ ａｎｇｌｅ］、前記スライディング角度において前記フィルムと前記オレイン酸の前端方向の表面とのなす接触角（前進角、Ａｄｖａｎｃｉｎｇ Ａｎｇｌｅ）、および前記スライディング角度において前記フィルムと前記液体の後端方向の表面とのなす接触角（後進角、Ｒｅｃｅｄｉｎｇ ａｎｇｌｅ）をチルティングテーブル方法（Ｔｉｌｔｉｎｇ ｔａｂｌｅ ｍｅｔｈｏｄ）でＤＳＡ１００測定装置を用いて測定した。

（３）相互作用エネルギー（Ｋ_Ａ）の測定
１）前記実施例１における耐指紋性フィルムの相互作用エネルギーは、下記一般式１を用いて測定した。
［一般式１］

前記一般式１において、αは前記実施例１のフィルム上に載せられたオレイン酸のスライディング角度（ｓｌｉｄｉｎｇ ａｎｇｌｅ）であり、θ’は実施例１のフィルム上に載せられたオレイン酸の静接触角であり、θは平面のフィルム上のオレイン酸の静接触角であり、ρはオレイン酸の密度であり、ｍはオレイン酸の重量であり、ｇは重力加速度である。

２）比較例１および２のフィルムの相互作用エネルギーは、下記一般式２を用いて測定した。
［一般式２］

前記一般式２において、αは前記フィルム上に載せられたオレイン酸のスライディング角度（ｓｌｉｄｉｎｇ ａｎｇｌｅ）であり、θは静接触角であり、ρはオレイン酸の密度であり、ｍはオレイン酸の重量であり、ｇは重力加速度である。

前記測定結果は下記表１に示した。

前記表１に示されているように、実施例１のフィルムは、比較例１および２のフィルムに比べて、水およびオレイン酸に対する静接触角は大きいながらも、オレイン酸に対するスライディング角度と相互作用エネルギーは相対的に小さいという点が確認された。

つまり、実施例のフィルムは、有機物成分および水分成分の両方に対して極めて高い接触角と高い反発力を有することができ、表面に指紋に含まれる有機物成分や水分成分が転写される場合にも、その接触する面積も極めて小さいという点が確認された。

（４）耐指紋性の測定結果
［実施例１−１］
０．５ｍｍのＬＣＤガラス上に、前記実施例１と同様の方法で製造した耐指紋性フィルムを積層し、これに対して透過度（ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ）およびヘイズ（Ｈａｚｅ）の測定結果を下記表２に示した。

前記透過度およびヘイズは、ＨＭ１５０装置を用いてＡ光源上に測定した。

［実施例１−２］
０．５ｍｍのＬＣＤガラス上に、前記実施例１と同様の方法で製造した耐指紋性フィルムを積層し、これに対して透過度（ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ）およびヘイズ（Ｈａｚｅ）の測定結果を下記表３に示した。前記透過度およびヘイズは、ＨＭ１５０装置を用いてＡ光源上に測定した。

前記表３から確認されるように、実施例の耐指紋性フィルムの場合、指紋の転写前後におけるヘイズ（ｈａｚｅ）値に大きな変化がなく、指紋の転写される量があまり多くないことが確認された。これに対し、参考例のフィルムの場合、指紋が転写された後にヘイズ値が大きく増加することを確認することができた。

具体的には、参考例を基準として実施例の指紋転写量を対比すれば、最小７％〜最大７１％であることが明らかになり、実施例の耐指紋性フィルムは、製品の表面に指紋が転写されることを大きく低減できるという点が確認された。

＜実施例４〜５：高透明度の耐指紋性フィルムの製造＞
実施例４
（１）微細突起の形成
有機基板上に、スパッタ（ｓｐｕｔｔｅｒ）を用いてクロム（Ｃｒ）を約２００ｎｍの厚さに蒸着した。前記蒸着されたクロム層上にネガティブフォトレジストを塗布し、フォトマスクを用いて直径６μｍの円形パターンの逆相が形成されるように紫外線を照射した。そして、フォトレジスト剥離液を用いて硬化されていない領域を除去した［フォトマスクの製造］。

以降、前記円形パターンが形成されたクロム層上にネガティブフォトレジストを７μｍの厚さに塗布し、屈折率整合剤（Ｉｎｄｅｘ ｍａｔｃｈｉｎｇ ｌｉｑｕｉｄ）とディフューザー（Ｄｉｆｆｕｓｅｒ）を用いて紫外線を露光して、逆円錐台または逆多角錐台の形状を有する微細突起が含まれているフォトレジスト（ＰＲ）を形成した。

前記微細突起が含まれているフォトレジスト（ＰＲ）上にフッ素表面処理を施した後、ｐｏｌｙｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｏｘａｎｅを用いてモールドを製造した。そして、前記モールド上にフッ素表面処理を施した後、前記モールドにｐｏｌｙｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｏｘａｎｅを注入して、微細突起が形成されたフィルムを製造した。

（２）フッ素系化合物層の形成
２＊１０^−６ｔｏｒｒの真空条件、４００℃の温度および２Å／ｓの蒸着速度で、加熱蒸着（ｔｈｅｒｍａｌ ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）して、ＰＦＰＥ（Ｐｅｒｆｌｕｏｒｏ ｐｏｌｙｅｔｈｅｒ）を前記得られたフィルムの表面に約２０ｎｍの厚さに蒸着して、フッ素系化合物層を形成した。

実施例５
０．５ｍｍのＬＣＤガラス上に、前記実施例１と同様の方法で製造した高透明度低ヘイズの耐指紋性フィルムを積層し、これに対して透過度（ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ）およびヘイズ（Ｈａｚｅ）の測定結果を下記表４に示した。

この時、前記高透明度の耐指紋性フィルム上に形成される微細突起の上部直径、高さ、Ｄ／Ｐ ｒａｔｉｏは全て同じ水準に維持し、製造時の紫外線の露光量を１２，０００ｍＪとして、微細突起の幅（Ｄ）に対する側壁と上面との連結される曲面の内部曲率半径（ｒ）の比率（ｒ／Ｄ）が０．０７となるように調節した。

前記微細突起が形成されたフィルムの側面図は、図７に示した通りである。

前記透過度およびヘイズは、ＨＭ１５０装置を用いてＡ光源上に測定した。

実施例６
０．５ｍｍのＬＣＤガラス上に、前記実施例１と同様の方法で製造した高透明度低ヘイズの耐指紋性フィルムを積層し、これに対して透過度（ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ）およびヘイズ（Ｈａｚｅ）の測定結果を下記表４に示した。

この時、前記高透明度の耐指紋性フィルム上に形成される微細突起の上部直径、高さ、Ｄ／Ｐ ｒａｔｉｏは全て同じ水準に維持し、製造時の紫外線の露光量を１１，０００ｍＪとして、微細突起の幅（Ｄ）に対する側壁と上面との連結される曲面の内部曲率半径（ｒ）の比率（ｒ／Ｄ）が０．１となるように調節した。

前記透過度およびヘイズは、ＨＭ１５０装置を用いてＡ光源上に測定した。

前記表４に示されているように、実施例５および６の耐指紋性フィルムの構造による
ヘイズの増加が低い水準であるという点が確認された。

［実施例７］
０．５ｍｍのＬＣＤガラス上に、前記実施例２と同様の方法で製造した高透明度の耐指紋性フィルムを積層し、これに対して透過度（ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ）およびヘイズ（Ｈａｚｅ）の測定結果を下記表２に示した。前記透過度およびヘイズは、ＨＭ１５０装置を用いてＡ光源上に測定した。

前記表５から確認されるように、実施例７の高透明度低ヘイズの耐指紋性フィルムの場合、指紋の転写前後におけるヘイズ（ｈａｚｅ）値に大きな変化がなく、指紋の転写される量があまり多くないことが確認された。

＜実施例８〜１１：フィルムの製造＞
実施例８
（１）微細突起の形成
有機基板上に、スパッタ（ｓｐｕｔｔｅｒ）を用いてクロム（Ｃｒ）を約２００ｎｍの厚さに蒸着した。前記蒸着されたクロム層上にネガティブフォトレジストを塗布し、フォトマスクを用いて２１μｍの幅を有する直線のパターンの逆相が形成されるように紫外線を照射した。そして、フォトレジスト剥離液を用いて硬化されていない領域を除去した［フォトマスクの製造］。

以降、前記パターンが形成されたクロム層上にネガティブフォトレジストを７μｍの厚さに塗布し、屈折率整合剤（Ｉｎｄｅｘ ｍａｔｃｈｉｎｇ ｌｉｑｕｉｄ）とディフューザー（Ｄｉｆｆｕｓｅｒ）を用いて紫外線を露光して、逆円錐台または逆多角錐台の形状を有する微細突起が含まれているフォトレジスト（ＰＲ）を形成した。

前記微細突起が含まれているフォトレジスト（ＰＲ）上にフッ素表面処理を施した後、ｐｏｌｙｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｏｘａｎｅを用いてモールドを製造した。そして、前記モールド上にフッ素表面処理を施した後、前記モールドにｐｏｌｙｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｏｘａｎｅを注入して、線状の微細パターンが形成されたフィルムを製造した。

（２）フッ素系化合物層の形成
２＊１０^−６ｔｏｒｒの真空条件、４００℃の温度および２Å／ｓの蒸着速度で、加熱蒸着（ｔｈｅｒｍａｌ ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）方法を用いてＰＦＰＥ（Ｐｅｒｆｌｕｏｒｏ ｐｏｌｙｅｔｈｅｒ）を前記得られたフィルムの表面に約２０ｎｍの厚さに蒸着して、フッ素系化合物層を形成した。

前記線状の微細パターンが形成されたフィルムの断面図および平面図は、図８に示した通りである。

実施例９
（１）微細突起の形成
有機基板上に、スパッタ（ｓｐｕｔｔｅｒ）を用いてクロム（Ｃｒ）を約２００ｎｍの厚さに蒸着した。前記蒸着されたクロム層上にネガティブフォトレジストを塗布し、フォトマスクを用いて横および縦それぞれ１９μｍの長さを有する正方形が含まれている格子状のパターンの逆相が形成されるように紫外線を照射した。そして、フォトレジスト剥離液を用いて硬化されていない領域を除去した［フォトマスクの製造］。

以降、前記パターンが形成されたクロム層上にネガティブフォトレジストを７μｍの厚さに塗布し、屈折率整合剤（Ｉｎｄｅｘ ｍａｔｃｈｉｎｇ ｌｉｑｕｉｄ）とディフューザー（Ｄｉｆｆｕｓｅｒ）を用いて紫外線を露光して、逆円錐台または逆多角錐台の形状を有する微細突起が含まれているフォトレジスト（ＰＲ）を形成した。

前記微細突起が含まれているフォトレジスト（ＰＲ）上にフッ素表面処理を施した後、ｐｏｌｙｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｏｘａｎｅを用いてモールドを製造した。そして、前記モールド上にフッ素表面処理を施した後、前記モールドにｐｏｌｙｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｏｘａｎｅを注入して、連続状の微細パターンが形成されたフィルムを製造した。

（２）フッ素系化合物層の形成
２＊１０^−６ｔｏｒｒの真空条件、４００℃の温度および２Å／ｓの蒸着速度で、加熱蒸着（ｔｈｅｒｍａｌ ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）方法を用いてＰＦＰＥ（Ｐｅｒｆｌｕｏｒｏ ｐｏｌｙｅｔｈｅｒ）を前記得られたフィルムの表面に約２０ｎｍの厚さに蒸着して、フッ素系化合物層を形成した。

前記連続状の微細パターンが形成されたフィルムの断面図および平面図は、図９に示した通りである。

実施例１０
前記モールドに注入する高分子をポリウレタンアクリレートに切り替えた点を除いて、実施例８と同様の方法で線状の微細パターンが形成されたフィルムを製造し、その上にフッ素系化合物層を形成した。

前記線状の微細パターンが形成されたフィルムの断面図および平面図は、図１０に示した通りである。

実施例１１
前記モールドに注入する高分子をポリウレタンアクリレートに切り替えた点を除いて、実施例９と同様の方法で連続状の微細パターンが形成されたフィルムを製造し、その上にフッ素系化合物層を形成した。

前記線状の微細パターンが形成されたフィルムの断面図および平面図は、図１１に示した通りである。

＜実験例：フィルムの物性の測定＞
１．静接触角の測定
タンジェント方法（Ｔａｎｇｅｎｔ ｍｅｔｈｏｄ）によって水とオレイン酸（ｏｌｅｉｃ ａｃｉｄ）それぞれ３μｌを前記実施例で得られたフィルム上に載せ、ＤＳＡ１００測定装置を用いて静接触角を測定した。前記測定結果を下記表６に示した。

前記表６から確認されるように、実施例８〜１１で得られたフィルムは、３ｕｌの蒸留水および３ｕｌのオレイン酸に対して高い静接触角を有するという点が確認され、これによって、実施例のフィルムは撥水性および撥油性を共に有することができる。

２．鉛筆硬度の測定結果
前記実施例８〜１１で得られたフィルムに対して、ＡＳＴＭ Ｄ３３６３試験規格に基づいた方法で錘５００ｇを適用して鉛筆硬度を測定し、その結果を下記表８に示した。

前記表８から確認されるように、実施例で得られたフィルムは高い表面硬度を有するという点が確認された。つまり、実施例で得られたフィルム表面には上述した特定構造の微細パターンが形成され、より高い耐久性と表面強度などの機械的物性を有することができる。

３．光学特性および指紋の転写程度の測定
０．５ｍｍのＬＣＤガラス上に前記実施例８および９のフィルムをそれぞれ積層し、これに対して透過度（ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ）およびヘイズ（Ｈａｚｅ）の測定結果を下記表９に示した。前記透過度およびヘイズは、ＨＭ１５０装置を用いてＡ光源上に測定した。

前記表９から確認されるように、実施例８および９の耐指紋性フィルムの場合、指紋の転写前後におけるヘイズ（ｈａｚｅ）値に大きな変化がなく、指紋の転写される量があまり多くないことが確認された。これに対し、参考例のフィルムの場合、指紋が転写された後にヘイズ値が大きく増加することを確認することができた。

また、前記フッ素系高分子化合物は、ポリテトラフルオロエチレン（Ｐｏｌｙｔｅｔｒａｆｌｕｏｒｏｅｔｈｙｌｅｎｅ）、ポリテトラフルオロエチレンオキシド（Ｐｏｌｙｔｅｔｒａｆｌｕｏｒｏｅｔｈｙｌｅｎｅ ｏｘｉｄｅ）、ポリヘキサフルオロプロピレンオキシド（ｐｏｌｙｈｅｘａｆｌｕｏｒｏｐｒｏｐｙｌｅｎｅ ｏｘｉｄｅ）、またはこれらの混合物が含まれる。

前記フッ素系化合物層は、多様なコーティング方法や蒸着方法により前記微細突起の外面に形成されてもよく、前記微細突起のみならず、前記フィルムの基材面に積層されてもよい。

また、前記フッ素系高分子化合物は、ポリテトラフルオロエチレン（Ｐｏｌｙｔｅｔｒａｆｌｕｏｒｏｅｔｈｙｌｅｎｅ）、ポリテトラフルオロエチレンオキシド（Ｐｏｌｙｔｅｔｒａｆｌｕｏｒｏｅｔｈｙｌｅｎｅ ｏｘｉｄｅ）、ポリヘキサフルオロプロピレンオキシド（ｐｏｌｙｈｅｘａｆｌｕｏｒｏｐｒｏｐｙｌｅｎｅ ｏｘｉｄｅ）、またはこれらの混合物を含んでもよい。

前記フッ素系化合物層は、多様なコーティング方法や蒸着方法により前記微細パターンの外面に形成されてもよく、前記微細パターンのみならず、前記フィルムの基材面に積層されてもよい。

Claims (21)

1. フィルムとの接触面と、これに対面する上面と、接触面と上面とを連結する側壁とを有し、前記側壁とフィルムとの接触面のなす内角は鈍角の形状を有するナノまたはマイクロスケールの微細突起を含み、
   下記一般式１で定義される相互作用エネルギー（Ｋ_Ａ）が３ｍＪ／ｍ^２以下である、耐指紋性フィルム：
   ［一般式１］
   

   

   前記一般式１において、
   αは前記微細突起を含むフィルム上に載せられた液体のスライディング角度（ｓｌｉｄｉｎｇ ａｎｇｌｅ）であり、
   θ’は前記微細突起を含むフィルムと前記液体とのなす接触角であり、
   θは平面フィルムと前記液体とのなす接触角であり、
   ρは前記液体の密度であり、ｍは前記液体の重量であり、ｇは重力加速度である。
2. 前記相互作用エネルギー（Ｋ_Ａ）が０．５ｍＪ／ｍ^２〜２．０ｍＪ／ｍ^２である、請求項１に記載の耐指紋性フィルム。
3. ３０μｌのオレイン酸（ｏｌｅｉｃ ａｃｉｄ）に対するスライディング角度（ｓｌｉｄｉｎｇ ａｎｇｌｅ）が２０°以下である、請求項１に記載の耐指紋性フィルム。
4. ３μｌのオレイン酸（ｏｌｅｉｃ ａｃｉｄ）および３μｌの蒸留水に対してそれぞれ１２０°以上の静接触角を有する、請求項１に記載の耐指紋性フィルム。
5. 前記微細突起を２以上含み、
   互いに隣り合う２つの前記微細突起の上面間の距離および前記微細突起のうちの１つの上面の最長直径の合計（Ｐ）に対する前記微細突起のうちの１つの上面の最長直径（Ｄ）の比率（Ｄ／Ｐ）が０．１〜０．７である、請求項１に記載の耐指紋性フィルム。
6. 前記微細突起の高さが０．１μｍ〜４０μｍである、請求項１に記載の耐指紋性フィルム。
7. 前記微細突起の上面の最長直径が０．２μｍ〜１００μｍである、請求項１に記載の耐指紋性フィルム。
8. 前記側壁とフィルムとの接触面のなす内角が１００°〜１７０°である、請求項１に記載の耐指紋性フィルム。
9. 前記上面が前記側壁と曲面をなして連結され、
   前記微細突起の幅（Ｄ）に対する前記側壁と上面との連結される曲面の内部曲率半径（ｒ）の比率（ｒ／Ｄ）が０．１以下である、請求項１に記載の耐指紋性フィルム。
10. 前記微細突起は、ガラス、シリコン、金属でドーピングされたシリコン、ポリシリコン、シリコン系高分子、金属、ウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、（メタ）アクリレート系高分子樹脂、ポリオレフィン樹脂、および感光性高分子樹脂からなる群より選択された１種以上を含む、請求項１に記載の耐指紋性フィルム。
11. 前記微細突起の外部に積層され、５ｎｍ〜５μｍの厚さを有するフッ素系化合物層をさらに含む、請求項１に記載の耐指紋性フィルム。
12. 前記フッ素系化合物層は、フッ素系単分子化合物、フッ素系高分子化合物、またはこれらの混合物を含む、請求項１１に記載の耐指紋性フィルム。
13. フィルムとの接触面と、これに対面する上面と、前記接触面と上面とを連結する側壁とを含み、前記側壁とフィルムとの接触面のなす内角が鈍角の立体形状を有する連続状の微細パターン；または
    フィルムとの接触面と、これに対面する上面と、前記接触面と上面とを連結する側壁とを含み、前記側壁とフィルムとの接触面のなす内角が鈍角の立体形状を有する線状の微細パターンを２以上；含む、耐指紋性フィルム。
14. 前記互いに隣り合う線状の微細パターン間の間隔が１μｍ〜１０００μｍである、請求項１３に記載の耐指紋性フィルム。
15. 前記互いに隣り合う線状の微細パターン間の間隔および１つの微細パターンの上面部の最長直径の間の合計に対する１つの微細パターンの上面部の最長直径の比率が０．１〜０．７である、請求項１３に記載の耐指紋性フィルム。
16. 前記線状の微細パターンまたは連続状の微細パターンそれぞれの上面部の最大直径が０．１μｍ〜１００μｍである、請求項１３に記載の耐指紋性フィルム。
17. 前記線状の微細パターンまたは連続状の微細パターンそれぞれの高さが０．１μｍ〜４０μｍである、請求項１３に記載の耐指紋性フィルム。
18. 前記連続状の微細パターン上には、前記微細パターンの側壁と前記フィルムの基材面で定義される凹部が形成される、請求項１３に記載の耐指紋性フィルム。
19. 前記フィルムの基材面方向に対する前記凹部の断面が円形、楕円形、または１〜３０の内角を有する多角形である、請求項１８に記載の耐指紋性フィルム。
20. 前記線状の微細パターンまたは連続状の微細パターンそれぞれの外部表面に積層されたフッ素系化合物層をさらに含む、請求項１３に記載の耐指紋性フィルム。
21. 請求項１または１３に記載の耐指紋性フィルムを含む電気電子装置。

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