JP2016529535A - 走査装置 - Google Patents

走査装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2016529535A
JP2016529535A JP2016520283A JP2016520283A JP2016529535A JP 2016529535 A JP2016529535 A JP 2016529535A JP 2016520283 A JP2016520283 A JP 2016520283A JP 2016520283 A JP2016520283 A JP 2016520283A JP 2016529535 A JP2016529535 A JP 2016529535A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical system
scan
polygon mirror
post
mirror
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2016520283A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6255490B2 (ja
Inventor
ウルリヒ クリューガー
ウルリヒ クリューガー
トーマス ドレッスラー
トーマス ドレッスラー
シュテファン ハイネマン
シュテファン ハイネマン
Original Assignee
イエーノプティーク オプティカル システムズ ゲーエムベーハー
イエーノプティーク オプティカル システムズ ゲーエムベーハー
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by イエーノプティーク オプティカル システムズ ゲーエムベーハー, イエーノプティーク オプティカル システムズ ゲーエムベーハー filed Critical イエーノプティーク オプティカル システムズ ゲーエムベーハー
Publication of JP2016529535A publication Critical patent/JP2016529535A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6255490B2 publication Critical patent/JP6255490B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/10Scanning systems
    • G02B26/12Scanning systems using multifaceted mirrors
    • G02B26/125Details of the optical system between the polygonal mirror and the image plane
    • G02B26/126Details of the optical system between the polygonal mirror and the image plane including curved mirrors
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/10Scanning systems
    • G02B26/12Scanning systems using multifaceted mirrors
    • G02B26/124Details of the optical system between the light source and the polygonal mirror
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/0025Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration
    • G02B27/0031Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration for scanning purposes
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70383Direct write, i.e. pattern is written directly without the use of a mask by one or multiple beams
    • G03F7/704Scanned exposure beam, e.g. raster-, rotary- and vector scanning

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

走査装置は、光源(1)と、ポリゴンミラー(2.1)を有するスキャンユニット(2)と、プリスキャン光学系(3)と、ポストスキャン光学系(4)とを備える。プリスキャン光学系(3)は、光源(1)からの光束(1.1)が、クロス走査平面において入射角(α)でポリゴンミラー(2.1)に当たるように、ポリゴンミラー(2.1)の上流に配置されており、ポストスキャン光学系(4)の光軸は、ポリゴンミラー(2.1)の反射方向に配置されている。光源(1)を走査線(5)に撮像する際に生じる歪み(台形歪み及び走査曲がり)は、ポストスキャン光学系(4)のシリンドリカルミラー(4.2)がクロス走査平面内のポリゴンミラー(2.1)の表面法線に対して第1の傾斜角(β)で傾いており、ポストスキャン光学系(4)の2つの矯正レンズ(4.1.1、4.1.2)の一方が、ポストスキャン光学系(4)の光軸に対して第2の傾斜角(γ)で傾いており、かつ、距離(a)でオフセットされるように配置されていることで、最小化される。

Description

本発明は、例えば特許文献1から一般的に知られているアナモルフィックな反射屈折のポストスキャン光学系を有する走査装置に向けられている。
走査装置は、例えば、プリント回路基板の直接露光に用いられ、対象表面が走査方向に対して垂直に走る前方送り方向に移動される間、走査方向の走査線に沿った平面対象表面上に光束を走査する。特許文献1に開示されているような一般的な走査装置は、光源と、スキャンユニットと、スキャンユニットの上流に配置され、光源からスキャンユニットへ向かって進むビーム束を形成して導く光学系(プリスキャン光学系)と、スキャンユニットの下流に配置され、スキャンユニットによって屈折されたビーム束を形成して対象表面に導く光学系(ポストスキャン光学系)とを含む。
上記引用した特許文献1の実施形態によれば、プリスキャン光学系は、シリンドリカルミラーと、二重円筒の屈折要素とを備え、ポストスキャン光学系に必要とされるビーム束のアナモルフィック特性をもたらすように、ポストスキャン光学系に光源を写し出す。走査装置の上流に配置されている偏向ミラーと入射ミラーは、ビーム束のビーム軸とポリゴンミラーのポリゴンミラーファセットの表面法線によって形成されるクロス走査平面(引用文献での矢状入射角の下)において、入射角でもって単にビームを偏向したり、又はビームを偏向してポリゴンミラーによって形成された走査装置の中へ結合したりする役目を果たす。
ポリゴンミラーファセットは、クロス走査平面における光束を入射角に等しい反射角でポストスキャン光学系に反射する。
ポストスキャン光学系は、最小化すべき様々なタイプの歪みが発生し得るFθ対物レンズである。この歪みは、走査曲がり(scan bow)と台形歪みを含む。
走査曲がりは、走査平面に対する走査線の湾曲であり、それは全てのFθ対物レンズで生じ、ポストスキャン光学系の光軸からの結像位置の距離の増加に伴って増加する。
台形歪みは、画像が投影面の様々な高さに投影されるときの投影配置として知られている。そして、その画像は一般に、画像の下縁よりも上縁で広くなっている。このタイプの歪みは、対象及び/又は画像が、投影対物レンズの光軸に垂直に配置されていないときに生じる。Fθ対物レンズにおいて、入射角と場合によっては入射角に対するポストスキャン光学系の中心の配置が、この点での要因を決定している。
したがって、上記の特許文献1に係る走査装置の両配置について、ポリゴンミラーの下流にあるポストスキャン光学系は、ポリゴンミラーに関して中心になるように配置されると示唆されている。すなわち、ポリゴンミラーで反射されるビーム束が、入射角に等しいポストスキャン光学系の光軸に対する角度でポストスキャン光学系に入射し、光軸を含む平面にある画像点における対象物に結像されるように、ポストスキャン光学系の光軸はポリゴンミラーの回転軸に直角に交わることが示唆されている。ポリゴンに対するポストスキャン光学系の中心配置は、わずかな歪みを有する配置である。しかしながら、同時にこれは、入射ビーム束のより大きい入射角度の場合には、かなりかさばる構造となってしまう。
一構成によれば、ポストスキャン光学系は、ビーム方向に配列された、球面メニスカスレンズと平面シリンドリカルレンズとを含み、それらは共に二重、球面シリンドリカルレンズを形成する。本発明に係る走査装置の矯正用対物レンズに相当して、上記3つの光学系要素は、テレセントリックビーム経路を生成するための後続のミラー配置によって補償され得ない像収差を取り除くか、又は最小限にする目的を有する。後続のミラー配置は、第1の球面ミラーと第2の球面ミラーとを含み、球面シリンドリカルレンズを介して、上記した全ての要素を備えるポストスキャン光学系の焦点面にビーム束を反射する。
上記特許文献1に係る走査装置は、特に大きな走査長(すなわち、通例、走査方向におけるポストスキャン光学系の長い焦点距離)には不向きである。注目すべき不利な点は、生成される走査線の約2倍の長さを有する第1の球面ミラーによる、ミラー配置の大きな構造上のサイズにある。
WO99/03012A1
本発明の目的は、最小限の光学構成部品で大きな走査線のための走査装置を見つけることであり、次いでそれら光学構成部品は、場所、重量及びコストの削減となる可能な限り最小の構造サイズを有することである。また、光学構成部品は、製造が簡単でなければならない。
この目的は、光源と、ポリゴンミラーを有するスキャンユニットと、ポリゴンミラーの上流にあるプリスキャン光学系と、ポリゴンミラーの下流にあるポストスキャン光学系とを備え、走査線に沿ってビーム束を撮像するための走査装置によって解決される。プリスキャン光学系は、ビーム束がクロス走査平面において入射角でポリゴンミラーに当たるように、ポリゴンミラーの上流に配置される。
ポストスキャン光学系の光軸が、ポリゴンミラーの反射方向に配置されていることは、本発明の鍵である。ポストスキャン光学系は、少なくとも第1の矯正レンズと第2の矯正レンズを有する矯正用対物レンズと、単一のシリンドリカルミラーと、シリンドリカルレンズとを、ビーム軸の方向に連続して備える。
シリンドリカルミラーは、クロス走査平面においてポリゴンミラーの表面法線に対して第1の傾斜角で傾いており、第1の傾斜角βは、入射角αによって決定される。2つの矯正レンズの一方は、ポストスキャン光学系の光軸に対して第2の傾斜角γで傾いており、距離aだけオフセットされるように配置されている。
第1の傾斜角βは、0.97α<β<1.03αの範囲内であることが有利である。
単一のシリンドリカルレンズ4.3でポストスキャン光学系のテレセントリック性の条件を満足するために、シリンドリカルミラーの物体側焦点は、反射ポリゴンミラーファセットに近いポリゴンミラー内に配置されている。また、シリンドリカルミラーは、走査平面、クロス走査方向に垂直に配置された平面内で集束効果を有する。
シリンドリカルミラーの自然像面湾曲(natural image field curvature)が部分的に補償され、シリンドリカルミラーと走査線の間の距離が短く保たれるように、ビーム束が2つの矯正レンズの一方を介して弱収束又は発散の方法で形成されるとき、有利である。
ポリゴンミラーの回転面に垂直な上面図における走査装置の光学的概略図である。 図1に示された光学的概略の側面図である。
以下より、図面を参照しながら走査装置を詳細に説明する。
従来技術に記載の走査装置と同様に、本発明に係る走査装置は、ビーム軸1.1.1に沿ってビーム束1.1を発する光源1と、ポリゴンミラー2.1を有するスキャンユニット2と、ビーム軸1.1.1の方向でポリゴンミラー2.1の上流にあるプリスキャン光学系3と、ビーム軸1.1.1の方向でポリゴンミラー2.1の下流にあるポストスキャン光学系4とを含む。
ポリゴンミラー2.1は、回転軸2.1.2を中心に回転可能であり、回転軸2.1.2に垂直なポリゴンミラー2.1の回転面に対する表面法線を有する複数のポリゴンミラーファセット2.1.1を有する。
クロス走査平面は、プリスキャン光学系3の光軸と、ポリゴンミラー2.1の回転軸2.1.2を含む平面を意味する。したがってそれは、図2に示す光学系概略図において、描画平面の回転面2.1.3の上方と、描画平面の回転面2.1.3の下方にある。
非偏向ポリゴンミラーの位置は、プリスキャン光学系3によりポストスキャン光学系4に反射されたビーム軸が、依然としてクロス走査平面内にあるようなポリゴンミラー2.1の位置である。
回転するポリゴンミラー2.1とシリンドリカルミラー4.2において、ビーム束1.1の変化する偏向とともに位置が変化する走査平面は、各場合においてクロス走査平面に垂直であり、非偏向ポリゴンミラー位置におけるビーム軸を含む。
ポストスキャン光学系4の結像特性は、クロス走査平面と、それに垂直な平面で非常に異なり、ビーム束1.1の非常に異なる形状をもたらす。
クロス走査平面において、ポリゴンミラー2.1のポリゴンミラーファセット2.1.1に入射角αで当たるビーム束1.1は、同じ大きさの反射角でポストスキャン光学系4の光軸、したがって、下流の矯正用対物レンズ4.1の光軸に反射され、この方向に何ら屈折力を有しないシリンドリカルミラー4.2を経由して、ピント位置におけるポストスキャン光学系4の像側焦点面にシリンドリカルレンズ4.3で結像される。走査線5は、偏向されないポリゴン位置にこのピント位置を含み、クロス走査平面に垂直に方向を合わせられる。
ポストスキャン光学系4は、ビーム束1.1がポストスキャン光学系4の光軸に結合されるように、ポリゴンミラー2.1に対して配置されているため、上記特許文献1にて不利であると記載された2つのタイプの歪み(台形歪み及び走査曲がり)が発生する。
より正確に説明するように、これら2つのタイプの歪みは、本発明にしたがって、ポストスキャン光学系4の光軸に対するシリンドリカルミラー4.2と矯正レンズ4.1.1、4.1.2の一方の特別な配置により、非常に小さく維持される。
光源1からのビーム束1.1は、プリスキャン光学系3により実質的にクロス走査平面に垂直に広がり、ポリゴンミラー2.1に当たるときに、ポリゴンミラーファセット2.1.1が、それぞれの場合中央に照射されるように、弱収束ビーム束1.1に成形されて、案内される。それは、ポリゴンミラー2.1にてポストスキャン光学系4に斜めに反射され、矯正用対物レンズ4.1及びシリンドリカルミラー4.2を介してポストスキャン光学系4の像側焦点面に結像される。
ポストスキャン光学系4は、少なくとも第1の矯正レンズ4.1.1及び第2の矯正レンズ4.1.2を有する矯正用対物レンズ4.1と、シリンドリカルミラー4.2と、シリンドリカルレンズ4.3とを、ビーム軸1.1.1の方向に連続して備える。
上記特許文献1のポストスキャン光学系と比べ、本発明に係るポストスキャン光学系4は、単一のシリンドリカルミラー4.2と、矯正レンズ4.1.1、4.1.2とで間に合い、特に、シリンドリカルミラー4.2が比較的小さく、シンプルなものとして製造されるように、考案され、計算されている。設けられた複数の矯正レンズが特に、大きな走査長のために短冊状(strip−shaped)に構成されるとき、一般に有利である。例えば300mmよりも大きく、このより大きい長さによってポストスキャン光学系の大焦点距離を有する。
本発明によれば、ポストスキャン光学系4がポリゴンミラー2.1によって反射されるビーム束1.1に対して中央に配置され、したがって、ビーム束1.1がポストスキャン光学系4に結合される方向に同軸に配置されるという事実から、短冊状の複数の矯正レンズが、高品質を実現するため、自身の光軸周りの領域を物理的に取り囲むように一般に製造されていると仮定すれば、矯正レンズ4.1.1、4.1.2の短冊形状の高さは比較的低い。
この配置とクロス走査平面における像側テレセントリック性の結果として生じる走査曲がりは、シリンドリカルミラー4.2がクロス走査平面に第1の傾斜角βで傾斜して、入射角αに適合するということで、最小化される。0.97α<β<1.03αの範囲内の傾斜角βの設定は、走査曲がりとテレセントリック性からの偏向を最小限に抑える。
残りの台形歪みは、第1の矯正レンズ4.1.1又は第2の矯正レンズ4.1.2が、距離aのオフセットをしており、クロス走査平面において、ポストスキャン光学系4の光軸に対して第2の傾斜角γで傾いていることで、低減される。最大の屈折力を有する2つの矯正レンズ4.1.1、4.1.2からなる矯正レンズは、この目的のために最適である。距離aのオフセットと第2の傾斜角γは、台形歪みが十分に小さくなるように互いに適合されており、例えば画像品質といった、他の撮像パラメータの全ての影響は、ごくわずかである。
したがって、矯正用対物レンズ4.1を通してビーム束1.1の結合が、第1の矯正レンズ4.1.1と第2の矯正レンズ4.1.2のより小さな短冊形状の高さによって同様に促進されるように、プリスキャン光学系3は、クロス走査平面で考慮されたわずかな入射角αでポストスキャン光学系4上に配置できる。これにより、ポリゴンミラー2.1の近傍の偏向要素を除くことができ、配置の安定性の明らかな改善をもたらす。
プリスキャン光学系3の目的は、ポストスキャン光学系4が必要とするビーム束1.1のアナモルフィック特性を与えるように、ポストスキャン光学系4に光源1を写すことである。従来技術に対応して、プリスキャン光学系3は、任意のウォブル誤差が最小化されるように、クロス走査平面においてポリゴンミラー2.1の可能な限り近くに焦点を有する。
それに垂直な平面において、弱収束ビーム束1.1は、ポストスキャン光学系4の自然像面湾曲に適合される。光源1は、この目的のために必要な像側の開口が、走査線5に生じるように結像される。
ポストスキャン光学系4の主な機能は、走査平面に作用するシリンドリカルミラー4.2とクロス走査平面に作用するシリンドリカルレンズ4.3を介して実現される。テレセントリック性の条件を満たすように、シリンドリカルミラー4.3の物体側焦点は、反射するポリゴンミラーファセット2.1.1の近くのポリゴンミラー2.1内に配置される。同時に、シリンドリカルミラー4.3は、平行ビーム束1.1がポストスキャン光学系4の像側焦点において結像されるように、走査平面において集束効果を有する。(弱)集束又は発散ビーム束1.1を介して、シリンドリカルミラー4.2の自然像面湾曲を部分的に補償することができる。
しかしながら、これは、少ない像側開口数に対してのみ十分である。約600mmの走査長と、15個のポリゴンミラーファセット2.1.1のあるポリゴンミラー2.1とを有する走査装置では、0.012の像側開口数よりも上の場合、像面湾曲も大き過ぎであり、それは、シリンドリカルミラー4.2よりもかなり低い屈折力を有する矯正レンズ4.1.1、4.1.2のいずれかによって補償される。
コマ(coma)は、同じ走査方向の走査エッジに向けて像側開口数>0.015でもって著しく増加し、それは、矯正レンズ4.1.1、4.1.2の他、実質的に同心のメニスカスレンズによって補償される。
2つの矯正レンズ4.1.1、4.1.2は、ポリゴンミラー2.1の近傍に配置され、このことは走査装置の小さな構造状のサイズをもたらす。
広帯域光源1の適用のため、矯正用対物レンズ4.1のスペクトル効果は最小化されなければならなく、必要な場合、2つの矯正レンズ4.1.1、4.1.2の適切な材料の選択や、更に第3の矯正レンズ4.1.3を無色化のために用いる必要がある。
クロス走査平面での撮像は、矯正用対物レンズ4.1とシリンドリカルミラー4.2から、ほとんど影響を受けない。プリスキャン光学系3を介してポリゴンミラー2.1の近傍で生成される光源1の像の合焦は、球面シリンドリカルレンズ4.3の手段により達成される。このシリンドリカルレンズ4.3は、球面収差と、十分に大きな像側開口数を有する縦色収差を生成する。両方の収差は、走査線5の長さに沿ってほぼ一定であり、したがって、プリスキャン光学系3により相殺できる。
1 光源
1.1 ビーム束
1.1.1 ビーム軸
2 スキャンユニット
2.1 ポリゴンミラー
2.1.1 ポリゴンミラーファセット
2.1.2 ポリゴンミラーの回転軸
2.1.3 ポリゴンミラーの回転面
3 プリスキャン光学系
3.0 プリスキャン光学系の光軸
4 ポストスキャン光学系
4.0 ポストスキャン光学系の光軸
4.1 矯正用対物レンズ
4.1.1 第1の矯正レンズ
4.1.2 第2の矯正レンズ
4.2 シリンドリカルミラー
4.3 シリンドリカルレンズ
5 走査線
α 入射角
β 第1の傾斜角
γ 第2の傾斜角
a 距離

Claims (4)

  1. ビーム軸(1.1.1)に沿ってビーム束(1.1)を発する光源(1)と、ポリゴンミラー(2.1)を有するスキャンユニット(2)と、前記ビーム軸(1.1.1)の方向で、前記ポリゴンミラー(2.1)の上流にあるプリスキャン光学系(3)と、光軸(4.0)に沿って前記ビーム軸(1.1.1)の方向で、前記ポリゴンミラー(2.1)の下流にあるポストスキャン光学系(4)と、を備え、
    前記プリスキャン光学系(3)は、前記ビーム束(1.1)がクロス走査平面において入射角(α)で前記ポリゴンミラー(2.1)に当たるように、前記ポリゴンミラー(2.1)の上流に配置されている、走査線(5)に沿って前記ビーム束(1.1)を撮像するための走査装置において、
    前記ポストスキャン光学系(4)の前記光軸(4.0)は、前記ポリゴンミラー(2.1)の反射方向に配置され、
    前記ポストスキャン光学系(4)は、少なくとも第1の矯正レンズ(4.1.1)と第2の矯正レンズ(4.1.2)を有する矯正用対物レンズ(4.1)と、単一のシリンドリカルミラー(4.2)と、シリンドリカルレンズ(4.3)とを前記ビーム軸(1.1.1)の方向に連続して備え、
    前記シリンドリカルミラー(4.2)は、前記クロス走査平面において前記ポリゴンミラー(2.1)の表面法線に対して第1の傾斜角(β)で傾いており、前記第1の傾斜角(β)は前記入射角(α)によって決定され、
    前記2つの矯正レンズ(4.1.1、4.1.2)の一方は、前記ポストスキャン光学系(4)の前記光軸(4.0)に対して第2の傾斜角(γ)で傾いており、かつ、距離(a)でオフセットされるように配置されていることを特徴とする走査装置。
  2. 前記第1の傾斜角(β)は、0.97α<β<1.03αの範囲内にあることを特徴とする請求項1に記載の走査装置。
  3. 前記シリンドリカルミラー(4.2)の物体側焦点は、反射するポリゴンミラーファセット(2.1.1)に近い前記ポリゴンミラー(2.1)内に配置され、
    前記シリンドリカルミラー(4.2)は、テレセントリック性の条件が単一の前記シリンドリカルレンズ(4.3)で満たされるように、走査平面、クロス走査方向に垂直に配置された平面において、集束効果を有することを特徴とする請求項1又は2に記載の走査装置。
  4. 前記ビーム束(1.1)が、前記2つの矯正レンズ(4.1.1、4.1.2)の一方を介して弱収束又は発散の方法で形成され、前記シリンドリカルミラー(4.2)の自然像面湾曲が部分的に補償され、前記シリンドリカルミラー(4.2)と前記走査線(5)の間の距離が短く保たれることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の走査装置。
JP2016520283A 2013-06-21 2014-06-20 走査装置 Active JP6255490B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102013106533.3 2013-06-21
DE102013106533.3A DE102013106533A1 (de) 2013-06-21 2013-06-21 Scaneinrichtung
PCT/DE2014/100204 WO2014202057A1 (de) 2013-06-21 2014-06-20 Scaneinrichtung

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016529535A true JP2016529535A (ja) 2016-09-23
JP6255490B2 JP6255490B2 (ja) 2017-12-27

Family

ID=51257218

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016520283A Active JP6255490B2 (ja) 2013-06-21 2014-06-20 走査装置

Country Status (8)

Country Link
US (1) US9488830B2 (ja)
EP (1) EP3011393B1 (ja)
JP (1) JP6255490B2 (ja)
KR (1) KR101868238B1 (ja)
CN (1) CN105324722B (ja)
DE (1) DE102013106533A1 (ja)
IL (1) IL243161B (ja)
WO (1) WO2014202057A1 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2020066402A1 (ja) * 2018-09-25 2021-08-30 株式会社小糸製作所 光照射装置
US11500070B2 (en) * 2019-09-04 2022-11-15 Lumentum Operations Llc Optical device having two scanning components, one configured to compensate for field distortion
JP7548828B2 (ja) 2021-01-21 2024-09-10 東日本旅客鉄道株式会社 踏切制御子の制御区間長測定方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61203421A (ja) * 1985-03-06 1986-09-09 Nippon Steel Corp レ−ザスキヤニング装置
JP2000019443A (ja) * 1998-07-06 2000-01-21 Canon Inc 光走査光学系及びそれを用いた画像形成装置
JP2000267031A (ja) * 1999-03-12 2000-09-29 Fuji Xerox Co Ltd 光走査装置
JP2001194601A (ja) * 2000-01-07 2001-07-19 Canon Inc 光走査光学系
JP2001509613A (ja) * 1997-07-08 2001-07-24 エテック システムズ インコーポレイテッド レーザースキャナのためのアナモルフィックな走査レンズ
JP2007225948A (ja) * 2006-02-24 2007-09-06 Fujifilm Corp 光走査装置
JP2012013867A (ja) * 2010-06-30 2012-01-19 Brother Ind Ltd 走査光学装置

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2550814C3 (de) * 1975-11-12 1979-08-09 Erwin Sick Gmbh Optik-Elektronik, 7808 Waldkirch Zeilentastvorrichtung für Materialbahnen zur Fehlstellenermittlung
CN1076783A (zh) * 1993-02-23 1993-09-29 上海城市建设学院 光滑圆柱零件表面裂纹检测方法
JP3192552B2 (ja) * 1994-05-23 2001-07-30 松下電器産業株式会社 走査光学系およびそれを用いた画像形成装置
US6400488B1 (en) * 1999-09-27 2002-06-04 Minolta Co., Ltd. Light beam scanner
EP1889110A1 (en) * 2005-05-13 2008-02-20 Carl Zeiss SMT AG A six-mirror euv projection system with low incidence angles
JP5164345B2 (ja) * 2005-08-22 2013-03-21 キヤノン株式会社 光走査装置及びそれを用いた画像形成装置
KR101084929B1 (ko) * 2009-08-31 2011-11-17 삼성전기주식회사 스캐너 장치
JP4943493B2 (ja) * 2009-12-04 2012-05-30 シャープ株式会社 光学走査装置及びそれを備えた画像形成装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61203421A (ja) * 1985-03-06 1986-09-09 Nippon Steel Corp レ−ザスキヤニング装置
JP2001509613A (ja) * 1997-07-08 2001-07-24 エテック システムズ インコーポレイテッド レーザースキャナのためのアナモルフィックな走査レンズ
JP2000019443A (ja) * 1998-07-06 2000-01-21 Canon Inc 光走査光学系及びそれを用いた画像形成装置
JP2000267031A (ja) * 1999-03-12 2000-09-29 Fuji Xerox Co Ltd 光走査装置
JP2001194601A (ja) * 2000-01-07 2001-07-19 Canon Inc 光走査光学系
JP2007225948A (ja) * 2006-02-24 2007-09-06 Fujifilm Corp 光走査装置
JP2012013867A (ja) * 2010-06-30 2012-01-19 Brother Ind Ltd 走査光学装置

Also Published As

Publication number Publication date
WO2014202057A1 (de) 2014-12-24
IL243161B (en) 2020-11-30
KR20160022902A (ko) 2016-03-02
EP3011393A1 (de) 2016-04-27
EP3011393B1 (de) 2020-06-17
US20160131897A1 (en) 2016-05-12
US9488830B2 (en) 2016-11-08
DE102013106533A1 (de) 2014-12-24
JP6255490B2 (ja) 2017-12-27
KR101868238B1 (ko) 2018-06-15
CN105324722A (zh) 2016-02-10
CN105324722B (zh) 2017-08-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3164232B2 (ja) 光ビームを走査するための平らなフィ−ルドの、テレセントリック光学システム
US9041762B2 (en) 2-D straight-scan on imaging surface with a raster polygon
JP3095173B2 (ja) F―θレンズ
JPH06265810A (ja) 反射型走査光学系
JP2009510535A (ja) Fシータ対物レンズおよびfシータ対物レンズを備えたスキャナ装置
JPH10197820A (ja) 回折型色収差補正走査光学系
KR20140025425A (ko) 회절 한계의 성능을 갖는 플랫 필드 텔레센트릭 스캐너
JPH077151B2 (ja) 走査装置
JP6255490B2 (ja) 走査装置
JP2722269B2 (ja) 走査光学系
JP2007140418A (ja) 走査装置及び走査光学系
US20220390713A1 (en) Optical arrangement with an f-theta lens
JP4345856B2 (ja) レーザー走査装置
JP4395340B2 (ja) 走査光学系
JP2016194675A (ja) 光走査装置
KR101964490B1 (ko) 단색 에프-세타 대물렌즈를 구비한 무색 스캐너
JP3441624B2 (ja) 走査結像光学系および光走査装置
JP3472205B2 (ja) 光走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置
TWI426297B (zh) 雷射掃描裝置之短聚光距二片式fΘ鏡片(二)
JP3752124B2 (ja) 走査光学系
JP2017191143A (ja) 光走査装置及びそれを備える画像形成装置
JP2001125028A (ja) 走査光学系および光走査装置および画像形成装置
JP2002116398A (ja) 走査光学系および走査光学装置
CN118829925A (zh) F-θ镜组及配备有该F-θ镜组的扫描仪装置
JP2017167536A (ja) 光走査装置および画像形成装置並びに外観検査装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170403

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20170403

A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20170502

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170530

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170829

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20171107

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20171204

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6255490

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250