JP2016520543A - パーハロアルキル基を含有するヒンダードアニリンからのアミドの製造方法 - Google Patents
パーハロアルキル基を含有するヒンダードアニリンからのアミドの製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
Description
工程a)
式(I)の化合物を式(II)の化合物と反応させて式(II)の化合物を得る工程:
工程b)
式(III)の化合物を式(IV)の化合物と反応させて式(V)の化合物を得る工程:
工程c)
式(V)の化合物を水性塩基と反応させて式(VI)の化合物を得る工程:
式中、X1及びX2は、それぞれ独立して、ハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4ハロアルコキシ、C1〜C4アルコキシメチル、C1〜C4アルキルスルホニル、C1〜C4ハロアルキルスルホニル、C1〜C4アルキルスルフィニル、C1〜C4ハロアルキルスルフィニル、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4ハロアルキルチオであり;
X3は、ヘプタフルオロプロピ−2−ル、1−[クロロ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチル、1−[ブロモ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチル又はナノフルオロブチ−2−ルであり;
X4は、ハロゲン、C1〜C6アルキル−C(O)O−、フェニル−C(O)O−、C1〜C6アルコキシ−C(O)O−、フェノキシ−C(O)O−、ベンジルオキシ−C(O)O−及びインダゾール−1−イルから選択される脱離基であり;
R1は、H、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキルであり;
R2は、H又はC1〜C4アルキルであり;
R3は、H、フッ素、メトキシであり;
R3aは、H又はCNであり;
Q1は、4−シアノ−フェニル、2−メチル−4−シアノ−フェニル、3−ピリジル又は4−ピリジルである。
X3は、ヘプタフルオロプロピ−2−ル、1−[クロロ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチル、1−[ブロモ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチル又はナノフルオロブチ−2−ルであり;
X4は、ハロゲン、C1〜C6アルキル−C(O)O−、フェニル−C(O)O−、C1〜C6アルコキシ−C(O)O−、フェノキシ−C(O)O−、ベンジルオキシ−C(O)O−及びインダゾール−1−イルから選択される脱離基であり;
R1は、H、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキルであり;
R2は、H又はC1〜C4アルキルであり;
R3は、H、フッ素、メトキシであり;
R3aは、H又はCNであり;
Q1は、4−シアノ−フェニル、2−メチル−4−シアノ−フェニル、3−ピリジル又は4−ピリジルであり;
ただし、R3は、R3aがCNである場合Hであり、そしてR3は、R3aがHである場合フッ素又はメトキシである。
X3は、ヘプタフルオロプロピ−2−ル、1−[クロロ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチル、1−[ブロモ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチル又はナノフルオロブチ−2−ルであり;
X4は、ハロゲン、C1〜C6アルキル−C(O)O−、フェニル−C(O)O−、C1〜C6アルコキシ−C(O)O−、フェノキシ−C(O)O−、ベンジルオキシ−C(O)O−及びインダゾール−1−イルから選択される脱離基であり;
R1は、H、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキルであり;
R2は、H又はC1〜C4アルキルであり;
R3は、H、フッ素、メトキシであり;
R3aは、H又はCNであり;
Q1は、4−シアノ−フェニル、2−メチル−4−シアノ−フェニル、3−ピリジル又は4−ピリジルであり;
ただし、R3及びR3aが両方ともHであることはなく;
及びただし、R3は、R3aがCNである場合Hであり、そしてR3は、R3aがHである場合フッ素又はメトキシである。
X3は、ヘプタフルオロプロピ−2−ル、1−[クロロ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチル、1−[ブロモ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチル又はナノフルオロブチ−2−ルであり;
R1は、H、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキルである)
により規定される化合物に関する。
R2はC1〜C4アルキルであり;
R3は、H、フッ素又はメトキシであり;
R3aは、H又はCNであり;
Q1は、2−メチル−4−シアノ−フェニル、3−ピリジル又は4−ピリジルである;
ただし、R3及びR3aが両方ともHであることはない)
により規定される化合物に関する。
R2は、C1〜C4アルキルであり;
R3は、H、フッ素又はメトキシであり;
R3aは、H又はCNであり;
Q1は、2−メチル−4−シアノ−フェニル、3−ピリジル又は4−ピリジルである;
ただし、R3及びR3aが両方ともHであることはなく;
及びただし、R3は、R3aがCNである場合Hであり、そしてR3は、R3aがHである場合フッ素又はメトキシである。
X3は、ヘプタフルオロプロピ−2−ル、1−[クロロ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチル、1−[ブロモ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチル又はナノフルオロブチ−2−ルであり;
R1は、H、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキルであり;
R2は、H又はC1〜C4アルキルであり;
R3は、H、フッ素、メトキシであり;
R3aは、H又はCNであり;
ただし、R3は、R3aがCNである場合Hであり;
Q1は、4−シアノ−フェニル、2−メチル−4−シアノ−フェニル、3−ピリジル又は4−ピリジルである)
により規定される化合物に関する。
好ましい一実施形態ではR3は、Hであり;
別の好ましい実施形態ではR3は、フッ素であり;
更に別の好ましい実施形態ではR3は、メトキシである。
好ましい一実施形態では、R3aは、Hであり;
別の好ましい実施形態では、R3aは、シアノである;
好ましい一実施形態ではR3は、フッ素であり、R3aは、Hであり;
好ましい一実施形態ではR3は、メトキシであり、R3aは、Hであり;
好ましい一実施形態ではR3は、Hであり、R3aは、CNである。
より好ましいX1及びX2は、それぞれ独立して、ハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、C1〜C4ハロアルコキシであり;
最も好ましいX1及びX2は、それぞれ独立して、ハロゲン、メチル、エチル、トリフルオロメチル又はジフルオロメトキシである。
より好ましいX3は、ヘプタフルオロプロピ−2−ル、1−[クロロ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチル又は1−[ブロモ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチルである。
更により好ましいX3は、ヘプタフルオロプロピ−2−ル又は1−[ブロモ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチルである。
より好ましいX4は、ハロゲン、C1〜C6アルキル−C(O)O−から選択される脱離基であり;
更により好ましいX4は、ハロゲンから選択される脱離基であり;
最も好ましいX4は、クロリドである。
より好ましいR1は、H、メチルであり;
最も好ましいR1はメチルである。
より好ましいR2は、H又はエチルである。
より好ましい実施形態では、Q1は、2−メチル−4−シアノ−フェニル又は4−ピリジルであり;
更により好ましい実施形態では、Q1は、4−シアノ−フェニルであり;
更により好ましい実施形態では、Q1は、4−ピリジルであり;
その上更により好ましい実施形態ではQ1は、2−メチル−4−シアノ−フェニルである。
好ましくはX1及びX2は、それぞれ独立して、ハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4ハロアルコキシ、C1〜C4アルコキシメチルであり;
より好ましいX1及びX2は、それぞれ独立して、ハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、C1〜C4ハロアルコキシであり;
最も好ましいX1及びX2は、それぞれ独立して、ハロゲン、メチル、エチル、トリフルオロメチル又はジフルオロメトキシである。
より好ましいX3は、ヘプタフルオロプロピ−2−ル、1−[クロロ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチル又は1−[ブロモ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチルである。
更により好ましいX3は、ヘプタフルオロプロピ−2−ル又は1−[ブロモ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチルである。
より好ましいX4は、ハロゲン、C1〜C6アルキル−C(O)O−から選択される脱離基であり;
更により好ましいX4は、ハロゲンから選択される脱離基であり;
最も好ましいX4は、クロリドである。
より好ましいR1は、H又はメチルであり;
最も好ましいR1は、メチルである。
より好ましいR2は、エチルである。
更に好ましいQ1は、4−ピリジルであり;
更に好ましいQ1は、4−シアノ−フェニルであり
更に好ましいQ1は、3−ピリジル又は4−ピリジルである。
好ましくはX1及びX2は、それぞれ独立して、ハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4ハロアルコキシ、C1〜C4アルコキシメチルであり;
より好ましいX1及びX2は、それぞれ独立して、ハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、C1〜C4ハロアルコキシであり;
最も好ましいX1及びX2は、それぞれ独立して、ハロゲン、メチル、エチル、トリフルオロメチル又はジフルオロメトキシである。
より好ましいX3は、ヘプタフルオロプロピ−2−ル、1−[クロロ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチル又は1−[ブロモ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチルである。
更により好ましいX3は、ヘプタフルオロプロピ−2−ル又は1−[ブロモ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチルである。
より好ましいX4は、ハロゲン、C1〜C6アルキル−C(O)O−から選択される脱離基であり;
更により好ましいX4は、ハロゲンから選択される脱離基であり;
最も好ましいX4は、クロリドである。
より好ましいR1は、H又はメチルであり;
最も好ましいR1は、メチルである。
より好ましいR2は、エチルである。
更に好ましいQ1は、4−ピリジルであり;
更に好ましいQ1は、4−シアノ−フェニルであり;
更に好ましいQ1は、3−ピリジル又は4−ピリジルである;
好ましくは、X1及びX2は、それぞれ独立して、ハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4ハロアルコキシ、C1〜C4アルコキシメチルであり;
より好ましいX1及びX2は、それぞれ独立して、ハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル又はC1〜C4ハロアルコキシであり;
最も好ましいX1及びX2は、それぞれ独立して、ハロゲン、メチル、エチル、トリフルオロメチル又はジフルオロメトキシである。
より好ましいX3は、ヘプタフルオロプロピ−2−ル、1−[クロロ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチル又は1−[ブロモ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチルである。
更により好ましいX3は、ヘプタフルオロプロピ−2−ル又は1−[ブロモ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチルである。
より好ましいX4は、ハロゲン、C1〜C6アルキル−C(O)O−から選択される脱離基であり;
更により好ましいX4は、ハロゲンから選択される脱離基であり;
最も好ましいX4は、クロリドである。
より好ましいR1は、H又はメチルであり;
最も好ましいR1は、メチルである。
より好ましいR2は、エチルである。
更に好ましいQ1は、4−ピリジルであり;
更に好ましいQ1は、4−シアノ−フェニルであり;
更に好ましいQ1は、3−ピリジル又は4−ピリジルである;
好ましくは、X1及びX2はそれぞれ独立して、ハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4ハロアルコキシ又はC1〜C4アルコキシメチルであり;
より好ましいX1及びX2は、それぞれ独立して、ハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル又はC1〜C4ハロアルコキシであり;
最も好ましいX1及びX2は、それぞれ独立して、ハロゲン、メチル、エチル、トリフルオロメチル又はジフルオロメトキシである。
より好ましいX3は、ヘプタフルオロプロピ−2−ル、1−[クロロ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチル又は1−[ブロモ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチルである。
更により好ましいX3は、ヘプタフルオロプロピ−2−ル又は1−[ブロモ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチルである。
より好ましいX4は、ハロゲン、C1〜C6アルキル−C(O)O−から選択される脱離基であり;
更により好ましいX4は、ハロゲンから選択される脱離基であり;
最も好ましいX4は、クロリドである。
より好ましいR1は、H又はメチルであり;
最も好ましいR1は、メチルである。
より好ましいR2は、エチルである。
更に好ましいQ1は、4−ピリジルであり;
更に好ましいQ1は、4−シアノ−フェニルであり
更に好ましいQ1は、3−ピリジル又は4−ピリジルである;
好ましくは、X1及びX2は、それぞれ独立して、ハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4ハロアルコキシ又はC1〜C4アルコキシメチルであり;
より好ましいX1及びX2は、それぞれ独立して、ハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル又はC1〜C4ハロアルコキシであり;
最も好ましいX1及びX2は、それぞれ独立して、ハロゲン、メチル、エチル、トリフルオロメチル又はジフルオロメトキシである。
より好ましいX3は、ヘプタフルオロプロピ−2−ル、1−[クロロ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチル又は1−[ブロモ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチルである。
更により好ましいX3は、プタフルオロプロピ−2−ル又は1−[ブロモ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチルである。
より好ましいX4は、ハロゲン、C1〜C6アルキル−C(O)O−から選択される脱離基であり;
更により好ましいX4は、ハロゲンから選択される脱離基であり;
最も好ましいX4は、クロリドである。
より好ましいR1は、H又はメチルであり;
最も好ましいR1は、メチルである。
最も好ましいR2は、エチルである。
更に好ましいQ1は、4−ピリジルであり;
更に好ましいQ1は、4−シアノ−フェニルであり
更に好ましいQ1は、3−ピリジル又は4−ピリジルである;
更に好ましい実施形態(A)ではQ1は、4−ピリジルであり;
更に好ましい実施形態(A)ではQ1は、4−シアノ−フェニルであり;
更に好ましい実施形態(a)ではQ1は、3−ピリジル又は4−ピリジルである;
更に好ましい実施形態(B)ではQ1は、4−ピリジル;
更に好ましい実施形態(B)ではQ1は、4−シアノ−フェニルであり;
更に好ましい実施形態(B)ではQ1は、3−ピリジル又は4−ピリジルである;
更に好ましい実施形態(C)ではQ1は、4−ピリジルであり;
更に好ましい実施形態(C)ではQ1は、4−シアノ−フェニルであり;
更に好ましい実施形態(C)ではQ1は、3−ピリジル又は4−ピリジルである;
更に好ましい実施形態(D)ではQ1は4−ピリジルであり;
更に好ましい実施形態(D)ではQ1は4−シアノ−フェニルであり;
更に好ましい実施形態(D)ではQ1は、3−ピリジル又は4−ピリジルである;
更に好ましい実施形態(E)ではQ1は、4−ピリジルであり;
更に好ましい実施形態(E)ではQ1は、4−シアノ−フェニル;
更に好ましい実施形態(E)ではQ1は、3−ピリジル又は4−ピリジルである;
X3は、ヘプタフルオロプロピ−2−ル、1−[クロロ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチル、1−[ブロモ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチル又はナノフルオロブチ−2−ルであり;
X4は、ハロゲン、C1〜C6アルキル−C(O)O−、フェニル−C(O)O−、C1〜C6アルコキシ−C(O)O−から選択される脱離基であり;
R1は、H又はC1〜C4アルキルであり;
R2は、メチル又はエチルであり;
Q1は、2−ピリジル又は4−ピリジルである。
X3は、ヘプタフルオロプロピ−2−ル、1−[クロロ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチル、1−[ブロモ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチル又はナノフルオロブチ−2−ルであり;
X4は、ハロゲン、C1〜C6アルキル−C(O)O−、フェニル−C(O)O−、C1〜C6アルコキシ−C(O)O−から選択される脱離基であり;
R1は、H、C1〜C4アルキルであり;
R2は、メチル又はエチルであり;
Q1は、4−シアノ−フェニル、3−ピリジル又は4−ピリジルである。
X3は、ヘプタフルオロプロピ−2−ルであり;
X4は、ハロゲン、C1〜C6アルキル−C(O)O−から選択される脱離基であり;
R1は、H又はメチルであり;
R2は、エチルであり;
Q1は、4−ピリジルである。
X3は、1−[クロロ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチルであり;
X4は、ハロゲン、C1〜C6アルキル−C(O)O−から選択される脱離基であり;
R1は、H、メチルであり;
R2は、エチルであり;
Q1は、4−ピリジルである。
X3は、1−[ブロモ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチルであり;
X4は、ハロゲン、C1〜C6アルキル−C(O)O−から選択される脱離基であり;
R1は、H、メチルであり;
R2は、エチルであり;
Q1は、4−ピリジルである。
X3は、ナノフルオロブチ−2−ルであり;
X4は、ハロゲン、C1〜C6アルキル−C(O)O−から選択される脱離基であり;
R1は、H、メチルであり;
R2は、エチルであり;
Q1は、4−ピリジルである。
より好ましいR3は、フッ素であり;R3aはHであり;
より好ましいR3は、Hであり;R3aはCNであり;
より好ましいR3は、Hであり;R3aはHである。
式(III)の化合物は、式(I)の化合物を式(II)の化合物と反応させることによって製造することができる。
式(V)の化合物は、式(III)の化合物を式(IV)の化合物と反応させることによって製造することができる。
式(VI)の化合物は、式(V)の化合物を好適な塩基と反応させることによって製造することができる。好適な塩基としては、NaOH、LiOH又はK2CO3の水溶液が挙げられるが、それらに限定されない。
2)RがOHである式(IV)のカルボン酸は、RがC1〜C6アルコキシである式(IV)のエステルから、THFと水との混合物などの、溶媒中で、水酸化リチウムなどの、アルカリ水酸化物でのエステルの処理によって形成され得る。
3)RがC1〜C6アルコキシである式(IV)のエステルは、RがC1〜C6アルコキシである式(VII)の化合物を、R4がOHである式(VIII)のカルボン酸での又はR4がCl、F又はBrである式(VIII)の酸ハロゲン化物でのアシル化により、RがC1〜C6アルコキシである式(VII)の化合物を反応させることによって製造され得る。R4がOHである場合、そのような反応は、ピリジン、トリエチルアミン、4−(ジメチルアミノ)ピリジン又はジイソプロピルエチルアミンなどの、塩基の存在下で、及びヒドロキシベンゾトリアゾールなどの求核触媒の存在下であってもよく、DCC(N,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミド)、EDC(1−エチル−3−[3−ジメチルアミノ−プロピル]カルボジイミド塩酸塩)又はBOP−Cl(ビス(2−オキソ−3−オキサゾリジニル)ホスホン酸クロリド)などの、カップリング剤の存在下で実施され得る。R4がClである場合、そのような反応は、塩基性条件下で、例えばピリジン、トリエチルアミン、4−(ジメチルアミノ)ピリジン又はジイソプロピルエチルアミンの存在下で、及び求核触媒の存在下であってもよく実施され得る。あるいは、反応は、有機溶媒、好ましくは酢酸エチルと、水性溶媒、好ましくは重炭酸ナトリウムの溶液とを含む二相系で行われてもよい。R4がC1〜C6アルコキシである場合、エステルは、熱プロセスでエステルとアミンとを一緒に加熱することによって直接アミドに転化されてもよい。
4)RがC1〜C6アルコキシである式(VII)の化合物は、式(IX)の化合物から、順次の酸性条件下でのアルコールR−OHでの処理、次にN−R1結合の形成によって製造され得る。例えば、還元的アミノ化は、アルデヒド又はケトン及びシアノ水素化ホウ素ナトリウムなどの還元剤での処理によって達成され得る。あるいは、アルキル化は、アミンを、塩基の存在下であってもよく、アルキルハロゲン化物などのアルキル化剤で処理することによって達成され得る。
6a)あるいは、RがC1〜C6アルコキシである式(VII)の化合物は、RがC1〜C6アルコキシである式(XI)の化合物から、金属触媒とアセトアルデヒド又はアセトニトリルなどの好適な2個炭素構成単位との存在下での還元によって製造され得る。例えばJ.Org.Chem.2007,72,9815又はOrg.Lett.2005,7,471を参照されたい。
表2:X1がBrであり、X2がClであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表3:X1がIであり、X2がClであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表4:X1がメチルであり、X2がClであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表5:X1がエチルであり、X2がClであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表6:X1がトリフルオロメチルであり、X2がClであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表7:X1がトリフルオロメトキシであり、X2がClであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表8:X1がジフルオロメトキシであり、X2がClであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表9:X1がトリフルオロメチルチオであり、X2がClであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表10:X1がトリフルオロメチルスルフィニルであり、X2がClであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表11:X1がBrであり、X2がBrであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表12:X1がIであり、X2がBrであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表13:X1がメチルであり、X2がBrであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表14:X1がエチルであり、X2がBrであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表15:X1がトリフルオロメチルであり、X2がBrであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表16:X1がトリフルオロメトキシであり、X2がBrであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表17:X1がジフルオロメトキシであり、X2がBrであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表18:X1がトリフルオロメチルチオであり、X2がBrであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表19:X1がトリフルオロメチルスルフィニルであり、X2がBrであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表20:X1がIであり、X2がIであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表21:X1がメチルであり、X2がIであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表22:X1がエチルであり、X2がIであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表23:X1がトリフルオロメチルであり、X2がIであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表24:X1がトリフルオロメトキシであり、X2がIであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表25:X1がジフルオロメトキシであり、X2がIであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表26:X1がトリフルオロメチルチオであり、X2がIであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表27:X1がトリフルオロメチルスルフィニルであり、X2がIであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表28:X1がメチルであり、X2がメチルであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表29:X1がエチルであり、X2がメチルであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表30:X1がトリフルオロメチルであり、X2がメチルであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表31:X1がトリフルオロメトキシであり、X2がメチルであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表32:X1がジフルオロメトキシであり、X2がメチルであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表33:X1がトリフルオロメチルチオであり、X2がメチルであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表34:X1がトリフルオロメチルスルフィニルであり、X2がメチルであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表35:X1がエチルであり、X2がエチルであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表36:X1がトリフルオロメチルであり、X2がエチルであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表37:X1がトリフルオロメトキシであり、X2がエチルであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表38:X1がジフルオロメトキシであり、X2がエチルであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表39:X1がトリフルオロメチルチオであり、X2がエチルであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表40:X1がトリフルオロメチルスルフィニルであり、X2がエチルであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表41:X1がトリフルオロメチルであり、X2がトリフルオロメチルであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表42:X1がトリフルオロメトキシであり、X2がトリフルオロメチルであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表43:X1がジフルオロメトキシであり、X2がトリフルオロメチルであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表44:X1がトリフルオロメチルチオであり、X2がトリフルオロメチルであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表45:X1がトリフルオロメチルスルフィニルであり、X2がトリフルオロメチルであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表46:X1がトリフルオロメトキシであり、X2がトリフルオロメトキシであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表47:X1がジフルオロメトキシであり、X2がトリフルオロメトキシであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表48:X1がトリフルオロメチルチオであり、X2がトリフルオロメトキシであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表49:X1がトリフルオロメチルスルフィニルであり、X2がトリフルオロメトキシであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表50:X1がジフルオロメトキシであり、X2がジフルオロメトキシであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表51:X1がトリフルオロメチルチオであり、X2がジフルオロメトキシであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表52:X1がトリフルオロメチルスルフィニルであり、X2がジフルオロメトキシであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表53:X1がトリフルオロメチルチオであり、X2がトリフルオロメチルチオであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表54:X1がトリフルオロメチルスルフィニルであり、X2がトリフルオロメチルチオであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表55:X1がトリフルオロメチルスルフィニルであり、X2がトリフルオロメチルスルフィニルであり、各化合物についての置換基X3、R1、R2、R3及びQ1の組み合わせが、表AのラインA.1〜A.156に相当する式(V)の化合物。
表57:X4がFであり、各化合物についての置換基R2、R3及びQ1の組み合わせが、表BのラインB.1〜B.20に相当する式(IV)の化合物。
表58:X4がBrであり、各化合物についての置換基R2、R3及びQ1の組み合わせが、表BのラインB.1〜B.20に相当する式(IV)の化合物。
表59:X4がIであり、各化合物についての置換基R2、R3及びQ1の組み合わせが、表BのラインB.1〜B.20に相当する式(IV)の化合物。
表60:X4がアセトキシであり、各化合物についての置換基R2、R3及びQ1の組み合わせが、表BのラインB.1〜B.20に相当する式(IV)の化合物。
表61:X4がホルミルオキシであり、各化合物についての置換基R2、R3及びQ1の組み合わせが、表BのラインB.1〜B.20に相当する式(IV)の化合物。
表62:X4がベンゾイルオキシであり、各化合物についての置換基R2、R3及びQ1の組み合わせが、表BのラインB.1〜B.20に相当する式(IV)の化合物。
表63:X4がメトキシカルボニルオキシであり、各化合物についての置換基R2、R3及びQ1の組み合わせが、表BのラインB.1〜B.20に相当する式(IV)の化合物。
表64:X4がエトキシカルボニルオキシであり、各化合物についての置換基R2、R3及びQ1の組み合わせが、表BのラインB.1〜B.20に相当する式(IV)の化合物。
表65:X4がイソプロポキシカルボニルオキシであり、各化合物についての置換基R2、R3及びQ1の組み合わせが、表BのラインB.1〜B.20に相当する式(IV)の化合物。
表66:X4がフェノキシカルボニルオキシであり、各化合物についての置換基R2、R3及びQ1の組み合わせが、表BのラインB.1〜B.20に相当する式(IV)の化合物。
表67:X4がベンジルオキシカルボニルオキシであり、各化合物についての置換基R2、R3及びQ1の組み合わせが、表BのラインB.1〜B.20に相当する式(IV)の化合物。
表68:X4がイミダゾール−1−イルであり、各化合物についての置換基R2、R3及びQ1の組み合わせが、表BのラインB.1〜B.20に相当する式(IV)の化合物。
表70:X3がヘプタフルオロプロピ−2−ルであり、R1がメチルであり、各化合物についての置換基X1及びX2の組み合わせが、表CのラインC.1〜C.55に相当する式(III)の化合物。
表71:X3がヘプタフルオロプロピ−2−ルであり、R1がエチルであり、各化合物についての置換基X1及びX2の組み合わせが、表CのラインC.1〜C.55に相当する式(III)の化合物。
表72:X3がヘプタフルオロプロピ−2−ルであり、R1がイソプロピルであり、各化合物についての置換基X1及びX2の組み合わせが、表CのラインC.1〜C.55に相当する式(III)の化合物。
表73:X3がノナフルオロブチ−2−ルであり、R1がHであり、各化合物についての置換基X1及びX2の組み合わせが、表CのラインC.1〜C.55に相当する式(III)の化合物。
表74:X3がノナフルオロブチ−2−ルであり、R1がメチルであり、各化合物についての置換基X1及びX2の組み合わせが、表CのラインC.1〜C.55に相当する式(III)の化合物。
表75:X3がノナフルオロブチ−2−ルであり、R1がエチルであり、各化合物についての置換基X1及びX2の組み合わせが、表CのラインC.1〜C.55に相当する式(III)の化合物。
表76:X3がノナフルオロブチ−2−ルであり、R1がイソプロピルであり、各化合物についての置換基X1及びX2の組み合わせが、表CのラインC.1〜C.55に相当する式(III)の化合物。
表77:X3がヘプタフルオロプロピ−2−ルであり、R1がHであり、各化合物についての置換基X1及びX2の組み合わせが、表CのラインC.1〜C.55に相当する式(IIIa)の化合物。
表78:X3がヘプタフルオロプロピ−2−ルであり、R1がメチルであり、各化合物についての置換基X1及びX2の組み合わせが、表CのラインC.1〜C.55に相当する式(IIIa)の化合物。
表79:X3がヘプタフルオロプロピ−2−ルであり、R1がエチルであり、各化合物についての置換基X1及びX2の組み合わせが、表CのラインC.1〜C.55に相当する式(IIIa)の化合物。
表80:X3がヘプタフルオロプロピ−2−ルであり、R1がイソプロピルであり、各化合物についての置換基X1及びX2の組み合わせが、表CのラインC.1〜C.55に相当する式(IIIa)の化合物。
表81:X3がノナフルオロブチ−2−ルであり、R1がHであり、各化合物についての置換基X1及びX2の組み合わせが、表CのラインC.1〜C.55に相当する式(IIIa)の化合物。
表82:X3がノナフルオロブチ−2−ルであり、R1がメチルであり、各化合物についての置換基X1及びX2の組み合わせが、表CのラインC.1〜C.55に相当する式(IIIa)の化合物。
表83:X3がノナフルオロブチ−2−ルであり、R1がエチルであり、各化合物についての置換基X1及びX2の組み合わせが、表CのラインC.1〜C.55に相当する式(IIIa)の化合物。
表84:X3がノナフルオロブチ−2−ルであり、R1がイソプロピルであり、各化合物についての置換基X1及びX2の組み合わせが、表CのラインC.1〜C.55に相当する式(IIIa)の化合物。
表85:X3が1−[クロロ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチルであり、R1がHであり、各化合物についての置換基X1及びX2の組み合わせが、表CのラインC.1〜C.55に相当する式(III)の化合物。
表86:X3が1−[クロロ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチルであり、R1がメチルであり、各化合物についての置換基X1及びX2の組み合わせが、表CのラインC.1〜C.55に相当する式(III)の化合物。
表87:X3が1−[クロロ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチルであり、R1がエチルであり、各化合物についての置換基X1及びX2の組み合わせが、表CのラインC.1〜C.55に相当する式(III)の化合物。
表88:X3が1−[クロロ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチルであり、R1がイソプロピルであり、各化合物についての置換基X1及びX2の組み合わせが、表CのラインC.1〜C.55に相当する式(III)の化合物。
表89:X3が1−[ブロモ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチルであり、R1がHであり、各化合物についての置換基X1及びX2の組み合わせが、表CのラインC.1〜C.55に相当する式(III)の化合物。
表90:X3が1−[ブロモ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチルであり、R1がメチルであり、各化合物についての置換基X1及びX2の組み合わせが、表CのラインC.1〜C.55に相当する式(III)の化合物。
表91:X3が1−[ブロモ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチルであり、R1がエチルであり、各化合物についての置換基X1及びX2の組み合わせが、表CのラインC.1〜C.55に相当する式(III)の化合物。
表92:X3が1−[ブロモ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチルであり、R1がイソプロピルであり、各化合物についての置換基X1及びX2の組み合わせが、表CのラインC.1〜C.55に相当する式(III)の化合物。
表93:X3が1−[クロロ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチルであり、R1がHであり、各化合物についての置換基X1及びX2の組み合わせが、表CのラインC.1〜C.55に相当する式(IIIa)の化合物。
表94:X3が1−[クロロ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチルであり、R1がメチルであり、各化合物についての置換基X1及びX2の組み合わせが、表CのラインC.1〜C.55に相当する式(IIIa)の化合物。
表95:X3が1−[クロロ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチルであり、R1がエチルであり、各化合物についての置換基X1及びX2の組み合わせが、表CのラインC.1〜C.55に相当する式(IIIa)の化合物。
表96:X3が1−[クロロ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチルであり、R1がイソプロピルであり、各化合物についての置換基X1及びX2の組み合わせが、表CのラインC.1〜C.55に相当する式(IIIa)の化合物。
表97:X3が1−[ブロモ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチルであり、R1がHであり、各化合物についての置換基X1及びX2の組み合わせが、表CのラインC.1〜C.55に相当する式(IIIa)の化合物。
表98:X3が1−[ブロモ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチルであり、R1がメチルであり、各化合物についての置換基X1及びX2の組み合わせが、表CのラインC.1〜C.55に相当する式(IIIa)の化合物。
表99:X3が1−[ブロモ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチルであり、R1がエチルであり、各化合物についての置換基X1及びX2の組み合わせが、表CのラインC.1〜C.55に相当する式(IIIa)の化合物。
表100:X3が1−[ブロモ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチルであり、R1がイソプロピルであり、各化合物についての置換基X1及びX2の組み合わせが、表CのラインC.1〜C.55に相当する式(IIIa)の化合物。
実施例
以下の省略形をこのセクションの全体にわたって用いた:s=シングレット;bs=幅広いシングレット;d=ダブレット;dd=ダブルダブレット;dt=ダブルトリプレット;t=トリプレット、tt=トリプルトリプレット、q=カルテット、sept=セプテット;m=マルチプレット;Me=メチル;Et=エチル;Pr=プロピル;Bu=ブチル;M.p.=融点。
1H NMR(400MHz,CDCl3):7.77−7.58(m,1H),7.55−7.35(m,4H),7.32−7.20(m,1H),7.12−6.99(m,1H),4.20(bs,1H),3.88(s,3H),3.83(s,3H),3.73−3.61(m,1H),1.33−1.21(m,3H)ppm
1H NMR(400MHz,CDCl3):7.98−7−78(m,1H),7.68−7.29(m,5H),7.25−7.10(m,1H),4.30(bs,1H),3.91(s,3H),3.71−3.57(m,1H),1.42−1.19(m,3H)ppm
1H NMR(400MHz,CDCl3):7.77(s,1H),7.66(s,1H),7.18(brs,1H),2.24(brs,3H)ppm.
1H NMR(400MHz,CDCl3):7.88(brs,1H),7.81−7.73(m,1H),7.56−7.41(m,4H),7.39−7.31(m,1H),7.17−7.07(m,1H),7.04−6.94(m,1H),4.34−4.19(m,1H),3.90(s,3H),3.73−3.59(m,1H),2.02−1.87(m,3H),1.36−1.22(m,3H)ppm.
1H NMR(400MHz,CDCl3):8.78(bs,1H),8.04(d,1H),7.81(s,1H),7.70(s,1H),7.55(d,1H),7.40−7.55(m,4H),7.43(t,1H),4.34−4.48(m,1H),3.96(s,3H),3.67−3.80(m,1H),1.48(t,3H)ppm.
1H NMR(400MHz,CDCl3):8.44(s,2H),7.65(d,1H),7.30−7.11(m,3H),7.09−6.98(m,1H),4.31−4.17(m,1H),3.88(s,3H),3.84(s,3H),3.71−3.59(m,1H),1.33−1.23(m,3H)ppm.
1H NMR(400MHz,CDCl3):8.48(s,2H),7.89(d,1H),7.43−7.32(m,1H),7.27−7.09(m,3H),4.38−4.24(m,1H),3.92(s,3H),3.70−3.58(m,1H),1.40−1.27(m,3H)ppm.
1H NMR(400MHz,CDCl3):8.56−8.41(m,2H),7.87(s,1H),7.75(d,1H),7.44−7.32(m,1H),7.26−7.08(m,3H),7.05−6.93(m,1H),4.34−4.20(m,1H),3.91(s,3H),3.71−3.58(m,1H),2.67(d,3H),1.35−1.21(m,3H)ppm.
1H NMR(400MHz,CDCl3):8.79(s,1H),8.47(s,2H),8.06(d,1H),7.79(s,1H),7.68(s,1H),7.53−7.47(m,1H),7.35−7.27(m,1H),7.23−7.13(m,2H),4.46−4.33(m,1H),3.96(s,3H),3.76−3.64(m,1H),1.48−1.38(m,3H)ppm.
1H NMR(400MHz,CDCl3):7.77(s,1H),7.48(s,1H),6.93(brs,1H),6.52(t,1H),2.26(s,3H)ppm.
1H NMR(400MHz,CDCl3):7.55(s,1H),7.24(s,1H),6.50(t,1H),4.60(brs,2H)ppm.
1H NMR(400MHz,CDCl3):7.28(m,2H),6.82(d,1H),6.49(t,1H),4.12(brs,2H)ppm.
1H NMR(400MHz,CDCl3):7.51(s,1H),7.74(s,1H),6.91(brs,1H),2.71(q,2H),2.25(s,3H),1.23(t,3H)ppm.
1H NMR(400MHz,CDCl3):7.53(s,1H),7.20(s,1H),4.38(brs,2H),2.56(q,2H),1.27(t,3H)ppm.
1H NMR(400MHz,CDCl3):7.26(m,2H),6.70(d,1H),3.85(brs,2H),2.53(q,2H),1.27(t,3H)ppm.
1H NMR(400MHz,CDCl3):7.82(s,2H),7.00(brs,1H),2.26(brs,3H)ppm.
1H NMR(400MHz,CDCl3):7.33(s,2H),6.70(brs,1H),2.63(q,4H),2.24(s,3H),1.20(t,6H)ppm.
1H NMR(400MHz,CDCl3):7.60(s,1H),7.41(s,1H),6.92(brs,1H),6.53(t,1H),2.24(s,3H)ppm.
1H NMR(400MHz,CDCl3):7.62(s,2H),6.95(brs,1H),2.25(brs,3H)ppm.
1H NMR(400MHz,CDCl3):7.52(s,1H),7.39(s,1H),6.96ppm(brs,1H),2.37(s,3H),2.26(s,3H)ppm.
1H NMR(400MHz,CDCl3):7.54(s,1H),7.42(s,1H),6.88(brs,1H),2.70(q,2H),2.27(s,3H),1.23(t,3H)ppm.
1H NMR(400MHz,CDCl3):7.88(s,1H),7.17(s,1H),4.33brs,2H),2.56(q,2H),1.28(t,3H)ppm.
1.0gの2−ブロモ−6−エチル−4−[1,2,2,2−テトラフルオロ−1−(トリフルオロメチル)エチル]アニリンから、実施例4に記載されたのと同じ手順に従って、N−[2−ブロモ−6−エチル−4−[1,2,2,2−テトラフルオロ−1−(トリフルオロメチル)エチル]フェニル]アセトアミドが得られた(098g、88%)。
1H NMR(400MHz,CDCl3):7.70(s,1H),7.45(s,1H),6.87(brs,1H),2.41(q,2H),2.25(s,3H),1.22(t,3H)ppm.
1H NMR(400MHz,CDCl3):7.75(s,1H),7.46(s,1H),6.95(brs,1H),6.52(t,1H),2.24(s,3H)ppm.
1H NMR(400MHz,CDCl3):7.70(s,1H),7.48(s,1H),7.01(brs,1H),2.70(q,2H),2.25(s,3H),1.22(t,3H)ppm.
1H NMR(400MHz,CDCl3):7.84(s,2H),7.01(brs,1H),2.28(s,3H)ppm.
1H NMR(400MHz,CDCl3):7.64(s,2H),6.95(brs,1H),2.27(s,3H)ppm.
1H NMR(400MHz,CDCl3):8.50(brs,2H),7.77(m,1H),7.43(brs,1H),7.20−7.30(m,幅,4H),7.05(m,1H),6.45(t,幅,1H),3.88(s,3H),3.43(brs,3H),1.96(brs,3H)ppm.
1H NMR(400MHz,CDCl3):8.73(brs,1H),8.47(brs,2H),8.03(d,1H),7.75(s,1H),7.53(d,1H),7.45(s,1H),7.35(t,1H),7.17(brs,2H),6.53(t,1H),3.62(brs,3H),3.58(brs,3H)ppm.
Claims (15)
- 式(VI)で示される化合物の製造方法であって、以下の工程、
工程a)
下記(I)の化合物を、酸の存在下で下記式(II)の化合物と反応させて、下記式(III)の化合物を得る工程:
次に、
工程b)
式(III)の化合物を、式(IV)の化合物と反応させて式(V)の化合物を得る工程:
次に
工程c)
式(V)の化合物を水性塩基と反応させて式(VI)の化合物を得る工程:
を含み、式中、
X1及びX2は、それぞれ独立して、ハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4ハロアルコキシ、C1〜C4アルコキシメチル、C1〜C4アルキルスルホニル、C1〜C4ハロアルキルスルホニル、C1〜C4アルキルスルフィニル、C1〜C4ハロアルキルスルフィニル、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4ハロアルキルチオであり;
X3は、ヘプタフルオロプロピ−2−ル、1−[クロロ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチル、1−[ブロモ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチル又はナノフルオロブチ−2−ルであり;
X4は、ハロゲン、C1〜C6アルキル−C(O)O−、フェニル−C(O)O−、C1〜C6アルコキシ−C(O)O−、フェノキシ−C(O)O−、ベンジルオキシ−C(O)O−及びインダゾール−1−イルから選択される脱離基であり;
R1は、H、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキルであり;
R2は、C1〜C4アルキルであり;
R3は、H、フッ素、メトキシであり;
R3aは、H又はCNであり、
Q1は、4−シアノ−フェニル、3−ピリジル又は4−ピリジルである、
ことを特徴とする製造方法。 - 式(III)
(式中
X1及びX2は、それぞれ独立して、ハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4ハロアルコキシ、C1〜C4アルコキシメチル、C1〜C4アルキルスルホニル、C1〜C4ハロアルキルスルホニル、C1〜C4アルキルスルフィニル、C1〜C4ハロアルキルスルフィニル、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4ハロアルキルチオであり;
X3は、ヘプタフルオロプロピ−2−ル、1−[クロロ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチル、1−[ブロモ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチル又はナノフルオロブチ−2−ルであり;
R1は、H、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキルである)
で規定される化合物。 - 式(V)
X1及びX2は、それぞれ独立して、ハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4ハロアルコキシ、C1〜C4アルコキシメチル、C1〜C4アルキルスルホニル、C1〜C4ハロアルキルスルホニル、C1〜C4アルキルスルフィニル、C1〜C4ハロアルキルスルフィニル、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4ハロアルキルチオであり、
X3は、ヘプタフルオロプロピ−2−ル、1−[クロロ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチル、1−[ブロモ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチル又はナノフルオロブチ−2−ルであり;
R1は、H、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキルであり;
R2は、C1〜C4アルキルであり;
R3は、H、フッ素、メトキシであり;
R3aは、H又はCNであり、
Q1は、4−シアノ−フェニル、3−ピリジル又は4−ピリジルである)
で規定される化合物。 - X1及びX2は、それぞれ独立して、ハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4ハロアルコキシ、C1〜C4アルコキシメチルであり;
X3は、ヘプタフルオロプロピ−2−ル、1−[クロロ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチル、1−[ブロモ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチル又はナノフルオロブチ−2−ルであり;
X4は、ハロゲン、C1〜C6アルキル−C(O)O−、フェニル−C(O)O−、C1〜C6アルコキシ−C(O)O−から選択される脱離基であり;
R1は、H、C1〜C4アルキルであり;
R2は、メチル又はエチルであり;
Q1は、4−シアノ−フェニル、3−ピリジル又は4−ピリジルである、
請求項1に記載の方法又は請求項4に記載の化合物。 - X1及びX2は、それぞれ独立して、ハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4ハロアルコキシ、C1〜C4アルコキシメチルであり;
X3は、1−[クロロ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチル、1−[ブロモ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチルであり;
X4は、ハロゲン、C1〜C6アルキル−C(O)O−、フェニル−C(O)O−、C1〜C6アルコキシ−C(O)O−から選択される脱離基であり;
R1は、H、C1〜C4アルキルであり;
R2は、メチル又はエチルであり;
Q1は、3−ピリジ又は4−ピリジルである、
請求項1に記載の方法又は請求項4に記載の化合物。 - X1及びX2は、それぞれ独立して、ハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、C1〜C4ハロアルコキシであり、
X3は、ヘプタフルオロプロピ−2−ルであり;
X4は、ハロゲン、C1〜C6アルキル−C(O)O−から選択される脱離基であり;
R1は、H、メチルであり;
R2は、エチルであり;
Q1は、4−ピリジルである、
請求項1に記載の方法又は請求項4に記載の化合物。 - X1及びX2は、それぞれ独立して、ハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、C1〜C4ハロアルコキシであり;
X3は、ヘプタフルオロプロピ−2−ルであり;
X4は、ハロゲン、C1〜C6アルキル−C(O)O−から選択される脱離基であり;
R1は、H、メチルであり;
R2は、エチルであり;
Q1は4−ピリジルである、
請求項1に記載の方法又は請求項4に記載の化合物。 - X1及びX2は、それぞれ独立して、ハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、C1〜C4ハロアルコキシであり;
X3は1−[クロロ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチルであり;
X4は、ハロゲン、C1〜C6−アルキル−C(O)O−から選択される脱離基であり;
R1は、H、メチルであり;
R2は、エチルであり;
Q1は、4−ピリジルである、
請求項1に記載の方法又は請求項4に記載の化合物。 - X1及びX2は、それぞれ独立して、ハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、C1〜C4ハロアルコキシであり;
X3が1−[ブロモ(ジフルオロ)メチル]−1,2,2,2−テトラフルオロ−エチルであり;
X4は、ハロゲン、C1〜C6−アルキル−C(O)O−から選択される脱離基であり;
R1は、H、メチルであり;
R2は、エチルであり;
Q1は、4−ピリジルである、
請求項1に記載の方法又は請求項4に記載の化合物。 - X1及びX2は、それぞれ独立して、ハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、C1〜C4ハロアルコキシであり;
X3は、ナノフルオロブチ−2−ルであり;
X4は、ハロゲン、C1〜C6アルキル−C(O)O−から選択される脱離基であり;
R1は、H、メチルであり;
R2は、エチルであり;
Q1は、4−ピリジルである、
請求項1に記載の方法又は請求項4に記載の化合物。 - R3は、メトキシであり、R3aは、Hである、請求項1に記載の方法又は請求項3もしくは4に記載の化合物。
- R3は、フッ素であり、R3aは、Hである請求項1に記載の方法又は請求項3もしくは4に記載の化合物。
- R3は、Hであり、R3aは、CNである請求項1に記載の方法又は請求項3もしくは4に記載の化合物。
- R3は、Hであり、R3aは、Hである請求項1に記載の方法又は請求項4に記載の化合物。
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