JP2016514879A5 - - Google Patents

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Figure 2016514879
本発明の実施態様の一部を以下の項目[1]−[14]に記載する。
[1]
タッチパネルであって、
透明基板と、
前記基板上に設けられた透明導電材料と、
前記透明導電材料上に設けられたAg−Pd−Nd合金層と、を有するタッチパネル。
[2]
前記透明導電材料と、前記Ag−Pd−Nd合金層との間に設けられ、Mo、Ag、Ni、Cu、Ti、Crからなる群から選択された少なくとも1つの金属により形成される金属層をさらに有することを特徴とする、項目1に記載のタッチパネル。
[3]
前記金属層は、Mo、Mo−Ag合金、Ni−Cu−Ti合金、またはNi−Cr合金により形成されることを特徴とする、項目2に記載のタッチパネル。
[4]
Mo、Ag、Ni、Cu、Ti、Crからなる群から選択された金属により形成される金属層と、
前記金属層上に設けられた、Mo、Ag、Ni、Cu、Ti、Crからなる群から選択された少なくとも2つの金属により形成される金属合金層と、を
前記透明導電材料と前記Ag−Pd−Nd合金層との間にさらに有することを特徴とする、項目1に記載のタッチパネル。
[5]
前記Ag−Pd−Nd合金層は、合金の総重量パーセント100に対して、
Agを97.9〜99.2重量パーセント、
Pdを0.7〜1.8重量パーセント、
Ndを0.1〜0.3重量パーセント
含有することを特徴とする、項目1に記載のタッチパネル。
[6]
前記Ag−Pd−Nd合金層は、合金の総重量パーセント100に対して、
Agを98.45〜99.05重量パーセント、
Pdを0.8〜1.3重量パーセント、
Ndを0.15〜0.25重量パーセント
含有することを特徴とする、項目5に記載のタッチパネル。
[7]
前記透明基板は、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリフェニレンスルフィド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ガラスからなる群から選択されることを特徴とする、項目1に記載のタッチパネル。
[8]
前記透明基板は、ポリエチレンテレフタレート(PET)であることを特徴とする、項目7に記載のタッチパネル。
[9]
前記透明導電材料は、インジウムスズ酸化物(ITO)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)、酸化亜鉛(ZnO)、インジウム亜鉛スズ酸化物(IZTO)、カドミウムスズ酸化物(CTO)、PEDOT(ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン))、カーボンナノチューブ(CNT)、銀ナノワイヤーからなる群から選択されることを特徴とする、項目1に記載のタッチパネル。
[10]
前記透明導電材料は、インジウムスズ酸化物(ITO)であることを特徴とする、項目1に記載のタッチパネル。
[11]
前記Ag−Pd−Nd合金層は、蒸着またはスパッタリングにより前記透明導電材料上に形成されることを特徴とする、項目1に記載のタッチパネル。
[12]
項目1に記載のタッチパネルを作成する方法であって、
透明膜またはガラスにより形成される透明基板を設ける工程と、
前記透明基板上に透明導電材料を積層する工程と、
前記透明導電材料上に、スパッタリングによりAg−Pd−Nd合金層を形成する工程と、を含む方法。
[13]
項目1に記載のタッチパネルを有するディスプレイ。
[14]
タッチパネル用のAg−Pd−Nd合金であって、合金の総重量パーセント100に対して、
Agを97.9〜99.2重量パーセント、
Pdを0.7〜1.8重量パーセント、
Ndを0.1〜0.3重量パーセント
含有する合金。

Claims (8)

  1. タッチパネルであって、
    透明基板と、
    前記基板上に設けられた透明導電材料と、
    前記透明導電材料上に設けられたAg−Pd−Nd合金層と、を有するタッチパネル。
  2. 前記透明導電材料と、前記Ag−Pd−Nd合金層との間に設けられ、Mo、Ag、Ni、Cu、Ti、Crからなる群から選択された少なくとも1つの金属により形成される金属層をさらに有する、請求項1に記載のタッチパネル。
  3. Mo、Ag、Ni、Cu、Ti、Crからなる群から選択された金属により形成される金属層と、
    前記金属層上に設けられた、Mo、Ag、Ni、Cu、Ti、Crからなる群から選択された少なくとも2つの金属により形成される金属合金層と、を
    前記透明導電材料と前記Ag−Pd−Nd合金層との間にさらに有する、請求項1に記載のタッチパネル。
  4. 前記Ag−Pd−Nd合金層は、合金の総重量パーセント100に対して、
    Agを97.9〜99.2重量パーセント、
    Pdを0.7〜1.8重量パーセント、
    Ndを0.1〜0.3重量パーセント
    含有する、請求項1に記載のタッチパネル。
  5. 前記Ag−Pd−Nd合金層は、合金の総重量パーセント100に対して、
    Agを98.45〜99.05重量パーセント、
    Pdを0.8〜1.3重量パーセント、
    Ndを0.15〜0.25重量パーセント
    含有する、請求項に記載のタッチパネル。
  6. 請求項1に記載のタッチパネルを作成する方法であって、
    透明膜またはガラスにより形成される透明基板を設ける工程と、
    前記透明基板上に透明導電材料を積層する工程と、
    前記透明導電材料上に、スパッタリングによりAg−Pd−Nd合金層を形成する工程と、を含む方法。
  7. 請求項1に記載のタッチパネルを有するディスプレイ。
  8. タッチパネル用のAg−Pd−Nd合金であって、合金の総重量パーセント100に対して、
    Agを97.9〜99.2重量パーセント、
    Pdを0.7〜1.8重量パーセント、
    Ndを0.1〜0.3重量パーセント
    含有する合金。
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170038894A (ko) 2014-08-07 2017-04-07 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 반사 시트 및 그의 제조 방법
US9857930B2 (en) 2015-12-16 2018-01-02 3M Innovative Properties Company Transparent conductive component with interconnect circuit tab comprising cured organic polymeric material
CN106980399B (zh) * 2016-01-15 2023-10-24 宸鸿科技(厦门)有限公司 触控面板
CN107881470A (zh) * 2017-11-22 2018-04-06 朱秋华 一种ZnO透明导电薄膜及其制备方法
SE545102C2 (en) 2018-04-25 2023-04-04 Bactiguard Ab A surface coating for use in the prophylaxis of allergy

Family Cites Families (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5886763A (en) 1997-09-26 1999-03-23 Ois Optical Imaging Systems, Inc. LCD heater utilizing Z-axis conductive adhesive to attach bus bars to ito
US6744425B2 (en) * 2000-12-26 2004-06-01 Bridgestone Corporation Transparent electroconductive film
JP2004002929A (ja) 2001-08-03 2004-01-08 Furuya Kinzoku:Kk 銀合金、スパッタリングターゲット、反射型lcd用反射板、反射配線電極、薄膜、その製造方法、光学記録媒体、電磁波遮蔽体、電子部品用金属材料、配線材料、電子部品、電子機器、金属膜の加工方法、電子光学部品、積層体及び建材ガラス
KR100788310B1 (ko) 2002-03-07 2007-12-27 엘지.필립스 엘시디 주식회사 인듐-틴-옥사이드 전극 위에 은을 무전해 도금하는 방법
SG106070A1 (en) 2002-04-23 2004-09-30 Agency Science Tech & Res Method for elelctroless deposition of a metal layer on selected portions of a substrate
WO2003101733A1 (en) 2002-06-04 2003-12-11 Western Life Sciences, Llc Method of forming a polymer tie layer on metal surface
US6811815B2 (en) * 2002-06-14 2004-11-02 Avery Dennison Corporation Method for roll-to-roll deposition of optically transparent and high conductivity metallic thin films
US7217344B2 (en) * 2002-06-14 2007-05-15 Streaming Sales Llc Transparent conductive film for flat panel displays
US20040040148A1 (en) 2002-08-29 2004-03-04 Parlex Corporation Manufacture of flexible printed circuit boards
JP2005029849A (ja) * 2003-07-07 2005-02-03 Kobe Steel Ltd リフレクター用Ag合金反射膜、及び、このAg合金反射膜を用いたリフレクター、並びに、このAg合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット
WO2005031016A1 (ja) 2003-09-26 2005-04-07 Furuya Metal Co., Ltd. 銀合金、そのスパッタリングターゲット材及びその薄膜
US20050153162A1 (en) * 2003-12-04 2005-07-14 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.) Ag-base interconnecting film for flat panel display, Ag-base sputtering target and flat panel display
EP1734140A4 (en) * 2003-12-10 2009-06-24 Tanaka Precious Metal Ind SILVER ALLOY WITH EXCELLENT REFLECTION FORMAT PROPERTIES
US7291816B2 (en) 2004-05-17 2007-11-06 Shu-Lien Chen Transparent electrothermal body and the method of making it
WO2006132410A1 (ja) 2005-06-10 2006-12-14 Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. 電極、配線及び電磁波遮蔽用の銀合金
JPWO2006132411A1 (ja) 2005-06-10 2009-01-08 田中貴金属工業株式会社 電極、配線及び電磁波遮蔽用の銀合金
WO2006132412A1 (ja) 2005-06-10 2006-12-14 Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. 電極、配線及び電磁波遮蔽用の銀合金
WO2006132413A1 (ja) 2005-06-10 2006-12-14 Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. 電極、配線及び電磁波遮蔽用の銀合金
JP2008041294A (ja) * 2006-08-02 2008-02-21 Dainippon Printing Co Ltd 導電膜基板
JP2008080743A (ja) * 2006-09-28 2008-04-10 Optrex Corp タッチパネル装置
US20080188020A1 (en) 2007-02-05 2008-08-07 Kuo Wei-Min Method of LED packaging on transparent flexible film
US20100328247A1 (en) 2008-02-22 2010-12-30 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.) Touch panel sensor
US20100051973A1 (en) * 2008-08-28 2010-03-04 Seiko Epson Corporation Light-emitting device, electronic equipment, and process of producing light-emitting device
KR100908101B1 (ko) 2008-10-01 2009-07-16 신와전공 주식회사 터치패널의 제조방법 및 이에 의해 제조되는 터치패널
KR101172113B1 (ko) * 2008-11-14 2012-08-10 엘지이노텍 주식회사 터치스크린 및 그 제조방법
KR101172112B1 (ko) * 2008-11-14 2012-08-10 엘지이노텍 주식회사 터치 스크린 및 그 제조방법
JP2010157497A (ja) * 2008-12-02 2010-07-15 Geomatec Co Ltd 透明導電膜付き基板とその製造方法
TWI404994B (zh) 2009-12-14 2013-08-11 Wintek Corp 觸控面板
WO2011081023A1 (ja) 2009-12-28 2011-07-07 東レ株式会社 導電積層体およびそれを用いてなるタッチパネル
TW201145125A (en) 2010-06-03 2011-12-16 J Touch Corp Touch panel manufacturing method and structure thereof
KR101969186B1 (ko) * 2010-09-29 2019-04-15 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 터치스크린 패널 센서 필름
CN102543266B (zh) * 2010-12-27 2014-04-02 迎辉科技股份有限公司 具有铜导线的透明导电膜
JP5914036B2 (ja) * 2011-04-20 2016-05-11 日東電工株式会社 導電性積層フィルムの製造方法
US8629944B2 (en) * 2011-05-03 2014-01-14 Innovation & Infinity Global Corp. Transparent conductive structure applied to a touch panel and method of making the same
KR20120139076A (ko) * 2011-06-16 2012-12-27 삼성디스플레이 주식회사 디스플레이 장치
JP5473990B2 (ja) * 2011-06-17 2014-04-16 日東電工株式会社 導電性積層体、パターン配線付き透明導電性積層体、および光学デバイス。
JP2013177667A (ja) * 2012-02-02 2013-09-09 Kobe Steel Ltd 反射膜および/または透過膜、もしくは電気配線および/または電極に用いられるAg合金膜、並びにAg合金スパッタリングターゲットおよびAg合金フィラー
KR20170038894A (ko) * 2014-08-07 2017-04-07 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 반사 시트 및 그의 제조 방법

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