JP2016507752A5 - - Google Patents

Claims (20)

1. 干渉計システムであって、
   異なる複数のスペクトル光分布を生成するように構成された照明モジュールと、
   多素子検出器と、
   試験光を用いて試験対象物の表面の像を前記多素子検出器上に映すように、且つ前記試験光を基準光と前記多素子検出器上で組み合わせて干渉パターンを形成するように構成されたイメージング・モジュールであって、前記試験光及び基準光が、前記照明モジュールから供給される、前記イメージング・モジュールと、
   少なくとも前記照明モジュール及び前記多素子検出器と通信可能に結合された電子制御モジュールであって、動作中に、
   前記照明モジュールに、前記異なる複数のスペクトル光分布で前記試験対象物の表面を順次的に照明させながら、それに対応して、前記多素子検出器が、前記試験対象物の表面の干渉パターン及び像を記録し、
   （ｉ）少なくとも部分的に、前記異なる複数のスペクトル光分布のうちの１つ又は複数に記録された前記干渉パターンから前記試験対象物の表面の形状と、（ｉｉ）少なくとも部分的に、前記複数のスペクトル光分布のうちの２つ以上に記録された像から前記試験対象物の表面の色と、に関する情報を決定し、
   決定された情報から前記試験対象物の表面の形状及び色の表現を生成する前記電子制御モジュールと、を備える干渉計システム。
2. 記録される干渉パターンを形成するために用いられる前記複数のスペクトル光分布のうちの１つ又は複数が、第１のスペクトル光分布であり、
   記録される像に用いられる前記複数のスペクトル光分布のうちの２つ以上が、
   （ｉ）第１のスペクトル光分布及び第２のスペクトル光分布、または
   （ｉｉ）第２のスペクトル光分布及び第３のスペクトル光分布のうちのいずれかである、請求項１に記載の干渉計システム。
3. 記録される干渉パターンを形成するために用いられる前記複数のスペクトル光分布のうちの１つ又は複数が、広帯域光分布であり、
   記録される像に用いられる前記複数のスペクトル光分布のうちの２つ以上が、赤色、緑色又は青色光分布のうちの２つ以上であり、
   前記照明モジュールが、
   前記広帯域光分布を放射する白色光源と、
   （ｉ）赤色フィルタ、緑色フィルタ又は青色フィルタのうちの２つ以上であって、前記赤色フィルタ、緑色フィルタ、及び青色フィルタが、前記赤色、緑色及び青色光分布をそれぞれ取得するために、前記白色光源によって供給される前記広帯域光分布をフィルタリングするように構成される、または
   （ｉｉ）前記赤色、緑色及び青色光分布をそれぞれ放射する赤色光源、緑色光源又は青色光源の２つ以上のうちのいずれかと、を含む、請求項１に記載の干渉計システム。
4. 前記電子制御モジュールが、
   前記干渉パターンを形成するために用いられる前記複数のスペクトル光分布のうちの１つ又は複数と、前記像を記録するために用いられる前記複数のスペクトル光分布のうちの２つ以上との間で前記照明モジュールを、前記多素子検出器のフレームレート又はフレームレートの整数分の１で切り替える、請求項１に記載の干渉計システム。
5. 前記電子制御モジュールが、
   前記干渉パターンが前記多素子検出器によって記録される場合に、前記複数のスペクトル光分布のうちの１つ又は複数を維持し、
   色情報に用いられる前記像が前記多素子検出器によって記録される場合に、前記複数のスペクトル光分布のうちの２つ以上を、前記多素子検出器のフレームレート又はフレームレートの整数分の１で切り替える、請求項１に記載の干渉計システム。
6. 前記試験光と前記基準光との間の光路長差を変更するように配置されたステージであって、前記イメージング・モジュールに対応して前記試験対象物の表面を位置付けるように構成される前記ステージと、
   前記電子制御モジュールと通信可能に結合され、前記試験光と基準光との間の複数の光路長差に対応する位置に前記ステージをシフトするように構成されたアクチュエータであって、前記複数の光路長差のそれぞれが、前記複数の干渉パターンから関連干渉パターンを形成するアクチュエータと、を更に備える、請求項１に記載の干渉計システム。
7. 前記像が前記多素子検出器によって合焦して記録されるように、前記電子制御モジュールが、前記試験対象物の表面の形状に関する決定された情報に基づいて、前記イメージング・モジュールの焦点深度内に前記試験対象物の表面を配置する、請求項６に記載の干渉計システム。
8. ２つ以上の波長の試験光を放射するように構成された波長可変光源と、
   前記試験光の２つ以上の波長と異なるスペクトル光分布を有する照明光を放射するように構成された第２の光源と、を備え、
   記録される像に用いられる前記複数のスペクトル光分布の２つ以上が、前記波長可変光源によって放射される光の２つ以上の波長の１つと、前記第２の光源によって放射される前記照明光の前記スペクトル光分布とであり、
   前記イメージング・モジュールが、前記試験光と前記基準光との間のゼロでない光路長差を定義し、
   前記電子制御モジュールが、前記試験光と前記基準光との間で２つ以上の位相差を導入するために前記試験光の２つ以上の波長間でシフトし、前記２つ以上の位相差のそれぞれが、前記複数の干渉パターンから関連干渉パターンを形成する、請求項１に記載の干渉計システム。
9. トゥルーカラー画像の各画素が、前記複数のスペクトル光分布のうちの２つ以上でそれぞれ照明された前記試験対象物の表面の像の対応する画素の平均を含むように、前記試験対象物の表面の色に関する情報が、前記トゥルーカラー画像として前記電子制御モジュールによって決定される、請求項１に記載の干渉計システム。
10. 前記複数のスペクトル光分布のうちの２つ以上でそれぞれ照明された前記試験対象物の表面の像における干渉パターンの縞が、前記トゥルーカラー画像に関連する前記平均の生成に先立って、前記電子制御モジュールによって除去される、請求項９に記載の干渉計システム。
11. 前記像に干渉パターンがないように、前記イメージング・モジュールが、前記複数のスペクトル光分布のうちの２つ以上でそれぞれ照明された前記試験対象物の表面の像の取得中に迂回される干渉計モジュールを含む、請求項９に記載の干渉計システム。
12. 前記照明モジュール及び前記イメージング・モジュールの各々は、
    非鏡面反射光だけが前記多素子検出器に達することができるように構成され配置された整合アパーチャを含むビームストップを含み、
    前記電子制御モジュールは、
    前記多素子検出器が前記干渉パターンを記録する場合に前記ビームストップを作用させず、
    前記多素子検出器が、前記複数のスペクトル光分布のうちの２つ以上でそれぞれ照明された前記試験対象物の表面の像を取得する場合に、前記ビームストップを作用させる、請求項１に記載の干渉計システム。
13. 非鏡面反射光だけが前記イメージング・モジュールに入るように、前記照明モジュールが、前記試験対象物の表面に対して特定の入射角で、記録される像に用いられる前記複数のスペクトル光分布のうちの２つ以上をそれぞれ供給するように構成され配置される、請求項１に記載の干渉計システム。
14. ディスプレイ装置を更に備え、
    前記電子制御モジュールが、前記試験対象物の表面の干渉パターンを記録する前に、
    前記照明モジュールに、前記２つ以上のスペクトル光分布で前記試験対象物の表面を順次的に照明させながら、それに対応して、前記多素子検出器が、前記試験対象物の表面の像を記録し、
    少なくとも部分的に、前記複数のスペクトル光分布のうちの２つ以上のために記録された前記像から前記試験対象物の表面の色に関する情報を決定し、
    前記試験対象物の表面の色に関する決定された情報に基づいて、前記試験対象物の表面のトゥルーカラー画像のシーケンスを前記ディスプレイ装置上に実時間で表示し、
    前記トゥルーカラー画像のシーケンスの表示に応答して、前記試験対象物の表面の形状及び色の表示が生成される、前記トゥルーカラー画像のシーケンス内に位置する測定箇所の細目を受信する、請求項１に記載の干渉計システム。
15. 干渉測定法であって、
    多素子検出器上の撮像光学系により、試験光を用いて試験対象物の表面の像を映すことと、
    前記多素子検出器上の前記撮像光学系によって、前記試験光を基準光と組み合わせて干渉パターンを形成することであって、前記試験光及び基準光が、異なる複数のスペクトル光分布を放射する光源から供給される、前記干渉パターンを形成すること、
    前記異なる複数のスペクトル光分布で前記試験対象物の前記表面を順次的に照明しながら、それに対応して、前記多素子検出器によって、前記試験対象物の表面の干渉パターン及び像を記録すること、
    （ｉ）少なくとも部分的に、前記異なる複数のスペクトル光分布のうちの１つ又は複数のために記録された前記干渉パターンから、前記試験対象物の表面の形状と、（ｉｉ）少なくとも部分的に、前記複数のスペクトル光分布のうちの２つ以上のために記録された像から、前記試験対象物の表面の色と、に関する情報を、コントローラモジュールによって決定すること、
    決定された情報から、前記試験対象物の表面の形状及び色の表現を前記コントローラモジュールによって生成すること、を備える干渉測定法。
16. 記録される干渉パターンを形成するために用いられる前記複数のスペクトル光分布のうちの１つ又は複数が、第１のスペクトル光分布であり、
    記録される像に用いられる前記複数のスペクトル光分布のうちの２つ以上が、
    （ｉ）第１のスペクトル光分布及び第２のスペクトル光分布、または
    （ｉｉ）第２のスペクトル光分布及び第３のスペクトル光分布のうちのいずれかである、請求項１５に記載の干渉測定法。
17. 前記干渉パターンを形成するために用いられる前記複数のスペクトル光分布のうちの１つ又は複数と、前記像を記録するために用いられる前記複数のスペクトル光分布のうちの２つ以上との間で前記光源を、前記多素子検出器のフレームレート又はフレームレートの整数分の１で切り替えることを更に備える、請求項１６に記載の干渉測定法。
18. 前記干渉パターンが前記多素子検出器によって記録される場合に、前記複数のスペクトル光分布のうちの１つ又は複数を維持すること、
    色情報に用いられる前記像が前記多素子検出器によって記録される場合に、前記複数のスペクトル光分布のうちの２つ以上を、前記多素子検出器のフレームレート又はフレームレートの整数分の１で切り替えること、を更に備える、請求項１６に記載の干渉測定法。
19. トゥルーカラー画像の各画素が、前記複数のスペクトル光分布のうちの２つ以上でそれぞれ照明された前記試験対象物の表面の像の対応する画素の平均を含むように、前記試験対象物の表面の色に関する情報を決定することは、トゥルーカラー画像を生成することを含む、請求項１５に記載の干渉測定法。
20. 非鏡面反射光だけが前記撮像光学系に入るように、前記試験対象物の表面に対して特定の入射角で、前記像をそれぞれ形成するために用いられる前記複数のスペクトル光分布のうちの２つ以上を前記光源によって供給することを更に備える、請求項１５に記載の干渉測定法。