JP2016507058A - パターン化された欠陥の輪郭ベースのアレイ検査 - Google Patents

Abstract

一実施形態は、基板上のセルのアレイを検査する方法に関する。基準画像は、欠陥がないことが前もって決定されていたセル画像を使用して生成される。基準画像の輪郭を含む基準輪郭画像も生成される。基準輪郭画像は、基板上のセルのアレイの欠陥を検出するために用いる。別の実施形態は、基板上のアレイの欠陥を検出するシステムに関する。他の実施形態、態様、および特徴も開示される。

Description

本願は、「ゴールデンセル輪郭を用いる半導体ウエハーのパターン化された欠陥のＥビームアレイ検査（検出および分類）」と題する、２０１３年１月２９日に出願された米国仮特許出願第６１／７５７，８０７号の利益を主張するものである。本開示の内容全体を参照によって本願明細書に引用する。

本発明は、例えば、半導体ウエハーおよびリソグラフィ用のレチクルのような基板の検査およびレビューに関する。

従来の電子ビーム（Ｅビーム）検査装置において製造された基板（例えば、シリコンウエハーまたはレチクル）は、基板表面から二次電子の放出を生じる電子の集束ビームにより走査される。放出された電子は検出されて、検出データは、通常、試料の表面の画像に変換される。これらの画像は、それから、製造された基板の異常（欠陥と呼ばれる）を検出するために数値的に分析される。検出欠陥は、更なる画像処理によって続いてレビューすることができる。

検出欠陥はまた、手動で、または自動的に、いろいろなクラスまたはカテゴリに分類されることができる。適切な調整がその歩留まりを改善するために製造プロセスで行われることができるように、欠陥の分類はその原因を決定するために用いることができる。

米国特許出願公開第２０１２／０２９８８６２号

電子ビーム計測によって画像化される欠陥の検出および分類のための方法と装置を改善することが大変望ましい。

一実施形態は、基板上のセルのアレイを検査する方法に関する。基準画像は、欠陥がないことが前もって決定されていたセル画像を使用して生成される。基準画像の輪郭を含む基準輪郭画像も生成される。基準輪郭画像は、基板上のセルのアレイの欠陥を検出するために用いる。

別の実施形態は、基板上のアレイの欠陥を検出するシステムに関する。ソースは入射電子ビームを発生し、そして走査システムは、二次電子が目標領域から放出されるように、基板上の目標領域の上の入射電子ビームを走査するために、入射電子ビームを制御可能に偏向させる。検出システムは二次電子を検出して、目標領域の画像データ・フレームを生成する。制御コードを有する制御および処理システムは、欠陥がないことが前もって決定されていたセル画像を使用して基準画像を生成して、基準画像の輪郭を含む基準輪郭画像を生成して、基板上のセルのアレイの欠陥を検出するために基準輪郭画像を使用するようにプログラムされる。

他の実施形態、態様、および特徴も開示される。

本発明の実施形態によるＥビーム装置の概略図である。 本発明の実施形態によるアレイ欠陥検出のための方法および分類のフロー図である。 本発明の実施形態によるゴールデンセルのセットアップおよび画定手順のフロー図である。 本発明の実施形態による典型的なピッチ計算手順のフロー図である。 本発明の実施形態による二次元セルアレイのためのセル位置選択例を表す。 本発明の実施形態による一次元セルアレイのためのセル位置選択例を表す。 本発明の実施形態による高解像度ゴールデンセル画像獲得および位置調整のための典型的な手順のフロー図である。 本発明の実施形態によるゴールデンセル輪郭抽出およびコンテキストＲＯＩ画定のための典型的な手順のフロー図である。 本発明の実施形態によるステッチされたゴールデンセルの中の前の層、最上層、およびコンテキストＲＯＩの多角形例を表す。 本発明の実施形態によるゴールデンセル輪郭を用いる自動化された欠陥検出のための典型的な手順のフロー図である。

ウエハーのアレイ領域の欠陥検出の従来の方法は、セルとセル（Ｃ２Ｃ）の比較またはセルと基準セルの比較に依存する（例えば、米国特許第７，８６９，６４３号明細書参照）。しかしながら、電子ビーム（Ｅビーム）検査で、不十分な数のセルをセルとセルの比較を実行するために所与のフレームで利用できるようにする非常に小さい画素サイズを有することは可能である。

そのような場合、ユーザーは、通常、基準セルとして隣接ダイのセル、または基準セルのための前もって決定されていた欠陥がないセル画像（いわゆる「ゴールデン」セル画像）を使用してアレイ領域を検査することを強いられる。前者の場合、隣接ダイのセルを使用する必要に因る感度およびスループットの不利な損失がある。後者の場合、ゴールデン（前もって決定されていた欠陥がない）セル画像がテスト画像と比較して非常に異なる画質によって得られることがありえるので、感度の不利な損失がある。

Ｃ２Ｃ比較を実行するために所与のフレームに充分な数のセルがある場合であっても、Ｃ２Ｃ比較のためにフレームの別のセル（またはゴールデンセル）を使用することの感度は、いくらか制限されることがありえて、本願明細書に開示されるように、「ゴールデン」セル輪郭を用いた方法と装置の使用によって改善できる。

Ｅビーム装置を使用する輪郭ベースの欠陥検出および分類のための方法と装置が本願明細書に開示される。これらの方法と装置は、従来の方法に対して比較されるときに欠陥検出の感度を実質的に改善するために使用できる。

特に、本願明細書に開示されるゴールデンセル輪郭を使用するアレイ欠陥検出は、例えば基準として隣接セルまたはゴールデンセルを使用して、以前の方法より高い感度を有する。以前の方法はまた、セルまたはダイにわたるプロセス変動に因るより高いノイズ・フロアを有する。しかし、本願明細書に開示される輪郭ベースの欠陥検出技術は、ノイズ・フロアを実質的に減らして、このことにより感度を実質的に向上させるために、輪郭ベースのセグメンテーションおよびローカル・ディファレンシングを使用する。

図１は、本発明の実施形態に従って利用できるＥビーム検査装置１００の断面図を示す。図１に示すように、ソース１０１は、入射電子ビーム（一次電子ビーム）１０２を発生する。入射電子ビーム１０２はウィーンフィルタ１０４を通過する。ウィーンフィルタ１０４は、交差する電磁場を発生するように構成される光学素子である。走査デフレクタ１０６および集束電子レンズ１０７が利用される。走査デフレクタ１０６は、目標基板１１０の表面にわたってＥビームを走査するために利用される。目標基板１１０は、例えば、製造される集積回路またはリソグラフィ用レチクルのようなパターン化された基板でありえる。

集束電子レンズ１０７は、ウエハーまたは他の基板サンプル１１０の表面上のビームスポットに入射電子ビーム１０２を集束するために利用される。一実施形態に従って、集束レンズ１０７は、電場および／または磁場を発生することによって作動できる。

入射電子ビーム１０２の走査の結果として、二次電子は、目標基板１１０（それは、例えば、半導体ウエハーまたはレチクルでありえる）の表面から放出されるかまたは散乱される。目標基板１１０は、可動ステージ１１１により保持されることができる。二次電子は、それから、対物（最終）レンズ１０８の電磁場への露出によって目標基板１１０から抽出される。電磁場は、入射電子ビーム光軸から比較的小さい距離の範囲内に放出電子を限定して、これらの電子をカラムの中まで加速するように作用する。このようにして、二次Ｅビーム１１２は二次電子から形成される。

ウィーンフィルタ１０４は、二次Ｅビーム１１２を入射電子ビーム１０２の光軸から検出軸（装置の検出システム１１４のための光軸）へ偏向させる。これは、散乱Ｅビーム１１２を入射電子ビーム１０２から分離するのに役立つ。検出システム１１４は、二次Ｅビーム１１２を検出して、目標基板の表面の画像を生成するために利用できるデータ信号を発生する。

計測器制御およびデータ処理（制御／処理）システム１５０は、一つ以上のプロセッサ（すなわち、マイクロプロセッサまたはマイクロコントローラ）１５２、データストレージ（例えば、ハードディスク・ドライブ・ストレージおよびメモリチップを含む）１５４、ユーザー・インタフェース１５７、およびディスプレイ・システム１５８を含むことができる。データストレージ１５４は、コンピュータ可読のプログラムコード（命令）１５５およびデータ１５６を格納するかまたは保持することができ、そしてプロセッサ１５２はプログラムコード１５５を実行して、データ１５６を処理できる。ユーザー・インタフェース１５７は、ユーザー入力を受け取ることができる。ディスプレイ・システム１５８は、画像データおよび他の情報をユーザーに表示するように構成できる。

制御／処理システム１５０は、Ｅビームコラムのさまざまな構成要素に接続することができて、本願明細書に開示される方法または手順を実施するように、それらを制御するために用いることができる。例えば、ステージ１１１の移動、およびデフレクタ１０６による走査は、制御／処理システム１５０により実行されるコンピュータ可読プログラムコード１５５によって制御できる。

加えて、制御／処理システム１５０は、検出システム１１４からの電子画像データを処理することもできる。特に、制御／処理システム１５０のコンピュータ可読プログラムコード１５５は、本願明細書に記載されているように、パターン化された欠陥の輪郭ベースのアレイ検査に関する手順を実施するために用いることができる。

さらにまた、本発明の実施形態に従って、制御／処理システム１５０は、任意に、デザインサーバ１７０とインタフェースすることができる。デザインサーバ１７０は、プレＯＰＣ（光学的プロキシミティ補正）デザインパターン１７２およびポストＯＰＣデザインパターン１７４を格納できる。検査実行の間、デザインサーバ１７０は、Ｅビーム検査装置１００の制御／処理システム１５０の要求により、リアルタイムでデザインクリップの前記データを提供できる。

デザインサーバが利用できない実施形態の場合は、画像編集ツールは、ゴールデン輪郭（すなわち、前もって決定された欠陥のない画像の輪郭）を手動で描くために、ユーザーによって用いることができる。画像編集ツールは、ゴールデン輪郭を描く際にユーザーを案内するために、入力ＳＥＭ画像を表示できる。

図２は、本発明の実施形態によるアレイ欠陥の検出および分類のための方法２００のフロー図である。図示するように、方法２００は、ゴールデンセル・セットアップおよび画定手順３００ならびにゴールデンセル輪郭を使用する欠陥検出のための手順９００を含むことができる。これらの手順の両方とも更に以下で説明される。

検査のさまざまなモードが、アレイおよび非アレイモードを含んで、システムにより提供されることができることに留意されたい。一実施形態では、ユーザーは検査のアレイモードを選択できる。加えて、アレイモードの下で、複数の検出技術がシステムにより提供されることができる。ユーザーは、輪郭ベースの検出技術を選択できる。さらに、輪郭ベースの技術の下で、複数のタイプの基準セルを使用できる。本発明の実施形態に従って、ユーザーは、「ゴールデンセル」（すなわち、周知の欠陥のないセル）として基準タイプを特定できる。

図３は、本発明の実施形態によるゴールデンセルのセットアップおよび画定手順３００のフロー図である。この手順（そして本明細書の他の部分）におけるユーザー入力ステップは、ディスプレイ・スクリーンおよびユーザー・インタフェース（例えば、マウス、タッチスクリーン、またはトラックボール）を使用して実施できる。

図示するように、ピッチ計算手順４００を実行できる。典型的なピッチ計算手順４００を図４に関して後述する。

次に、高解像度ゴールデンセル画像獲得および位置調整のための手順６００を実行できる。典型的なこの種の手順６００を図６に関して後述する。

その後、ゴールデンセル輪郭抽出およびコンテキスト関心領域（ＲＯＩ）画定手順７００を実行できる。典型的なこの種の手順７００を図７に関して後述する。

図４は、本発明の実施形態による典型的なピッチ計算手順４００のフロー図である。図２の方法２００において、この処置４００は、図３のゴールデンセルのセットアップおよび画定手順３００の一部として実行できる。この手順におけるユーザー入力ステップは、ディスプレイ・スクリーンおよびユーザー・インタフェース（例えば、マウス、タッチスクリーン、またはトラックボール）を使用して実施できる。

ステップ４０１において、システムは、アレイの大きい視野（ＦｏＶ）画像を提供できる。大きなＦｏＶ画像は、各寸法において１つのセルより長い。

ステップ４０２において、ユーザーは、単位セルおよびアレイ・セル・ブロックを大きいＦｏＶ画像の中に画定する。アレイ・セル・ブロックは、二次元（二次元アレイに配置される複数のセルによって）または一次元（一次元アレイに配置される複数のセルによって）でありえる。一実施形態では、ステップ４０２は、ステップ４０４および４０６によって実施できる。

ステップ４０４で、ユーザーは、アレイ・セル・ブロックの１つの角で単位セルの左上（セルＬｏｃ１）および右下（セルＬｏｃ２）（すなわち、対向する角）を選択できる。一実施形態では、画定済み単位セルは、アレイ・セル・ブロックの左上角のセルでありえる。ステップ４０６で、ユーザーは、アレイ・セル・ブロックの右下（セルＬｏｃ３）（すなわち、アレイ・セル・ブロックの右下のセルの右下）を選択できる。

ステップ４０７において、システムは、単位セルの正確なサイズを決定して、アレイ・セル・ブロックの各寸法のピッチを計算できる。この決定は、セルＬｏｃ１、セルＬｏｃ２、およびセルＬｏｃ３のためのユーザー入力に基づくことができる。

図５Ａは、本発明の実施形態による二次元セルアレイのためのセル位置選択例を表す。図示するように、セルＬｏｃ１およびセルＬｏｃ２は、アレイ・セル・ブロックの左上の単位セルの対向する角を画定する。セルＬｏｃ３は、アレイ・セル・ブロックの右下のセルの右下角を画定する。セルＬｏｃ１、セルＬｏｃ２、およびセルＬｏｃ３から、水平および垂直ピッチは、二次元セルアレイのセルのために計算できる。

図５Ｂは、本発明の実施形態による一次元セルアレイのためのセル位置選択例を表す。図示するように、セルＬｏｃ１およびセルＬｏｃ２は、アレイ・セル・ブロックの左側に単位セルの対向する角を画定する。セルＬｏｃ３は、アレイ・セル・ブロックの右側にセルの右下角を画定する。セルＬｏｃ１、セルＬｏｃ２、およびセルＬｏｃ３から、水平ピッチは、一次元セルアレイのセルのために計算できる。

図６は、本発明の実施形態による高解像度ゴールデンセル画像獲得および位置調整のための手順６００のフロー図である。図３の方法３００において、この手順６００は、図４のピッチ計算手順４００の後に実行できる。この手順におけるユーザー入力ステップは、ディスプレイ・スクリーンおよびユーザー・インタフェース（例えば、マウス、タッチスクリーン、またはトラックボール）を使用して実施できる。

ブロック６１０で、システムは、高解像度でゴールデン（すなわち、欠陥がないかまたは「周知の良品」であると前もって決定された）セル画像を得ることができる。図示するように、ゴールデンセル画像獲得は、典型的な実施態様において、いくつかのステップを含むことができる。ステップ６１１において、システムは、システムの高解像度設定でゴールデンセル画像を得るために必要な視野（ＦｏＶ）の数を計算できる。ＦｏＶの数の計算は、セルサイズ、ステージに因る位置不確定性、およびＦｏＶ（または画素サイズ）に基づくことができる。ステップ６１２において、複数のＦｏＶが得られて、各ＦｏＶは単位セルの一部をカバーして、隣接するＦｏＶに重なる。加えて、全単位セルをカバーするより低い解像度（すなわち、より大きいＦｏＶ）画像は、ステップ６１５で得ることができて、低解像度画像は、ステップ６１６でアップサンプリングすることができる。より低い解像度画像が、ステップ６１２において得られる高解像度画像に対して画素対画素で比較されることができるように、アップサンプリングは画像の画素数を増加させる。ブロック６１８で、高解像度画像は、配列オフセットを決定するガイドとしてアップサンプリングされたより低い解像度画像を使用して整列配置することができる。高解像度画像は、それから、高解像度でゴールデンセル画像を生成するために、配列オフセットに基づいてステッチされることができる。

ブロック６２０で、システムはゴールデンセル画像の位置を調整できる。図示するように、位置調整は、典型的な実施態様におけるいくつかのステップを使用して実行できる。第１のステップ６２２において、システムは、タイル張りのステッチされたゴールデンの複数のセル画像を生成するために、ゴールデンセルをタイル張りして、ステッチすることができる。このステップは、高解像度ゴールデンセル画像のコピーをタイル張りして、タイル張りのステッチされたゴールデンの複数のセル画像を生成するために、タイル張りのコピーを共にステッチすることによって実行できる。換言すれば、高解像度ゴールデンセル画像は、複製されて、それから、高解像度複数のセル画像を生成するためにステッチされる。その後、第２のステップ６２４において、システムは、タイル張りのステッチされたゴールデンの複数のセル画像の上に長方形をかぶせることができる。長方形は、前もって決定されたアレイピッチに従って大きさを設定できる。第３のステップ６２６において、ユーザーは、それから、タイル張りのステッチされたゴールデンの複数のセル画像の中で単一のステッチされたゴールデンセルの角（例えば、左上角）を特定するために長方形の位置を調整できる。最後に、第４のステップ６２８において、ユーザーは、ユーザー位置決め長方形に基づいて単一のゴールデンセルを選択するために、「クリップ・ゴールデンセル」のラベルが付いたボタンをクリックすることができる。換言すれば、所望の位置で選択される単一のゴールデンセルを含む画素のより小さいフレームが得られる。

図７は、本発明の実施形態によるゴールデンセル輪郭抽出およびコンテキストＲＯＩ画定のための手順７００のフロー図である。この手順７００は、図６の手順６００の後に実行できる。この手順におけるユーザー入力ステップは、ディスプレイ・スクリーンおよびユーザー・インタフェース（例えば、マウス、タッチスクリーン、またはトラックボール）を使用して実施できる。

ブロック７２０（それは図６のブロック６２０の後に実行できる）で、ユーザーは、ゴールデンセル輪郭を選択されたゴールデンセルから抽出するための技術を選択できる。示されるように、複数の技術オプション、例えば、Ａ）滑らかになるデザイン技術、Ｂ）半自動輪郭抽出技術、およびＣ）滑らかになる手動で描かれる多角形技術を提供できる。滑らかになる技術は、最上層および最下層のスムージングプレＯＰＣデザインデータを含むことができる。半自動輪郭抽出技術は分岐点技術でもよい。半自動輪郭抽出技術は、輪郭抽出のために用いる最上層および最下層のためのシード長方形または多角形を特定するユーザーを含むことができる。一実施態様では、多角形のデザインが、輪郭を抽出するためのシードとして使うことができる。滑らかになる手動で描かれる多角形技術は、その次に滑らかにされることができる最上層および最下層を生成するために、画像編集ツールを使用して多角形を手動で描くユーザーを含むことができる。

ブロック７３０で、システムは、それから、選択された技術を使用してゴールデンセル輪郭を抽出できる。輪郭は、点または位置のリストとして定められて、格納することができる。ゴールデンセル輪郭は、それから、ユーザーに対するディスプレイでゴールデンセル画像の上にかぶせることが可能である。

ブロック７４０で、ユーザーは、それから、コンテキスト関心領域（ＲＯＩ）を特定するために、多角形を描くことができる。コンテキストＲＯＩは、次のビンニングおよび迷惑フィルタリングのために使うことになっている。

ブロック７５０で、システムは、検査レシピにおいてゴールデンセル輪郭およびコンテキストＲＯＩを保存できる。検査レシピは、セルのパターン化されたアレイを有する基板の領域を検査するために、その後に用いることができる。ゴールデンセル輪郭および／またはコンテキストＲＯＩは、例えば、マスク画像を生成して、欠陥検出、迷惑フィルタリング、ならびにビンニングおよび／または分類のためのユーザー指定セグメンテーションを提供するために用いることができる。

図８は、本発明の実施形態によるステッチされたゴールデンセルの中の最下層、最上層、およびコンテキストＲＯＩ多角形の例を表す。図８に、タイル張りのステッチされたゴールデンの複数のセル画像の外形、およびその中の選択されたステッチされたゴールデンセル８２０が示される。また、最下層（すなわち、前の層）多角形８３０および最上層（すなわち、後の層）多角形８４０も示される。加えて、コンテキストＲＯＩ多角形の例８５０が示される。

図９は、本発明の実施形態によるゴールデンセル輪郭を使用する自動化した欠陥検出（すなわち、自動化した検査）のための手順９００のフロー図である。この手順９００は、図３の手順３００の後に実行できる。

ブロック９１０で、抽出されたゴールデンセル輪郭は、対応する２×２のタイル張りしたゴールデンセル輪郭基準画像を生成するためにタイルを張ることが可能である。好ましくは、若干の付加的縁辺が、ステージ不確実性の責任を負うように、２×２セルよりわずかに大きい基準画像を生成するために加えられる。

ブロック９２０で、テスト画像は、それから、ゴールデンセル輪郭基準画像に調整されて、整列配置されることができる。テスト画像は、ゴールデンセル輪郭基準画像に対する比較によって欠陥を検査される領域の画像である。

ブロック９３０で、輪郭ベースの欠陥検出手順は、テスト画像およびゴールデンセル輪郭基準画像を使用して実行できる。図９に示すように、この手順はいくつかのステップを必要とする。第１のステップ９３２において、輪郭ベースのセグメンテーションは、ゴールデンセル輪郭基準画像の輪郭に基づいて実行できる。換言すれば、テスト画像は、ゴールデンセル輪郭基準画像の輪郭に基づいて領域にセグメント化されるか、または分割できる。一実施態様では、ゴールデンセル輪郭の端からのさまざまな距離の角および／または輪郭は、欠陥検出感度を改善するために、セグメント化されることができる。第２のステップ９３４において、局所的コントラストは、テスト画像の各画像画素で実行できる。局所差分画像は、それから、輪郭ベースのセグメンテーションを使用して画像領域（または画像セグメント）にセグメント化されることができる。第３のステップ９３６において、自動閾値化は、欠陥候補画素リストを生成するために、セグメント化された差分画像で実行されることができる。第４のステップ９３８において、欠陥マージング（すなわち、候補欠陥画素のマージング）および属性ベースの迷惑フィルタリングは、欠陥ブロブリストを生成するために実行できる。

ブロック９４０で、コンテキストＲＯＩは、更なる迷惑フィルタリングを実行して、最終的な欠陥リストを生成するために用いることができる。ブロック９５０で、コンテキストＲＯＩは、ビンコードを最終的な欠陥リストの欠陥に割り当てるために用いる。

上前の説明において、多数の特定の詳細が、本発明の実施形態の完全な理解を提供するために与えられる。しかしながら、本発明の例示の実施形態の前記説明は、すべてを尽くすかまたは本発明を開示された正確な形に制限することを目的としない。当業者は、本発明が、特定の詳細の一つ以上なしで、または他の方法、構成要素などにより実施されることができると認識する。他の例において、周知の構造または動作は、本発明の態様を不明確にすることを回避するために、詳細に示されないかまたは説明されない。本発明の特定の実施形態およびその実施例が、例示を目的として本願明細書に記載されているが、当業者が認識するように、さまざまな等価な変更態様は本発明の範囲内で可能である。

これらの変更態様は、上記の詳細な説明を考慮して本発明になされることができる。以下の請求項において、使用する用語は、本明細書および特許請求の範囲において開示される特定の実施形態に本発明を限定するように解釈されてはならない。むしろ、本発明の範囲は特許請求の範囲により決定されることであって、それは請求項解釈の確立した原則に従って解釈されるべきである。

Claims (20)

1. 基板上のセルのアレイを検査する方法であって、
   欠陥がないことが前もって決定されていたセル画像を使用して基準画像を生成するステップと、
   前記基準画像の輪郭を含む基準輪郭画像を生成するステップと、
   前記基板上のセルの前記アレイの欠陥を検出するために前記基準輪郭画像を使用するステップと、
   を含む方法。
2. 前記基板上のセルの前記アレイのテスト画像を得るステップと、
   前記基準輪郭画像に前記テスト画像を整列配置するステップと、
   を更に含む請求項１に記載の方法。
3. 欠陥がないことが前もって決定されていた第１のセル画像を得るステップと、
   前記第１のセル画像のコピーをタイル張りして、ステッチすることによって、アレイ画像を生成するステップと、
   前記アレイ画像の中に第２のセル画像を画定するステップと、
   前記第２のセル画像のコピーをタイル張りして、ステッチすることによって、前記基準画像を生成するステップと、
   を更に含む請求項１に記載の方法。
4. セルの複数の重なり合うより高い解像度の部分的な画像を得るステップと、
   前記セルのより低い解像度の完全な画像を得るステップと、
   前記第１のセル画像を得るために、前記部分的な画像を整列配置して、ステッチするステップと、
   を更に含む請求項３に記載の方法。
5. 前記第２のセル画像からセル輪郭画像を生成するステップと、
   前記セル輪郭画像のコピーをタイル張りすることによって、前記基準輪郭画像を生成するステップと、
   を更に含む請求項３に記載の方法。
6. 前記セル輪郭画像を生成するステップは、分岐点技術を使用してセル輪郭を抽出するステップを含む請求項５に記載の方法。
7. 前記セル輪郭画像を生成するステップは、セル輪郭を抽出するためのシードとしてデザインの多角形を使用するステップを含む請求項５に記載の方法。
8. 前記セル輪郭画像を生成するステップは、プリ光学プロキシミティ補正デザインを滑らかにすることによってセル輪郭を得るステップを含む請求項５に記載の方法。
9. 前記セル輪郭画像を生成するステップは、画像編集ツールを使用してセル輪郭を手動で描くステップを含む請求項５に記載の方法。
10. 欠陥検出のためにユーザー指定セグメンテーションを提供するためにマスク画像を生成するステップを更に含む請求項１に記載の方法。
11. 特徴は、セル輪郭の端からの距離に応じてセグメントに分けられる請求項１０に記載の方法。
12. 前記ユーザー指定セグメンテーションは、欠陥分類のために更に使われる請求項１０に記載の方法。
13. 基板上のアレイの欠陥を検出するシステムであって、
    入射電子ビームを発生するためのソースと、
    二次電子が目標領域から放出されるように、前記基板上の前記目標領域の上の前記入射電子ビームを走査するために、前記入射電子ビームを制御可能に偏向させるための走査システムと、
    前記二次電子を検出して、前記目標領域の画像データ・フレームを生成するための検出システムと、
    欠陥がないことが前もって決定されていたセル画像を使用して基準画像を生成し、前記基準画像の輪郭を含む基準輪郭画像を生成し、そして前記基板上のセルの前記アレイの欠陥を検出するために、前記基準輪郭画像を使用するようにプログラムされる制御コードを有する制御および処理システムと、
    を備えるシステム。
14. 前記制御コードは、前記基板上のセルの前記アレイのテスト画像を得て、前記テスト画像を前記基準輪郭画像に整列配置するように更にプログラムされる請求項１３に記載のシステム。
15. 前記制御コードは、欠陥がないことが前もって決定されていた第１のセル画像を得て、前記第１のセル画像のコピーをタイル張りして、ステッチすることによってアレイ画像を生成し、前記アレイ画像の中に第２のセル画像を画定し、そして前記第２のセル画像のコピーをタイル張りして、ステッチすることによって前記基準画像を生成するように更にプログラムされる請求項１３に記載のシステム。
16. 前記制御コードは、セルの複数の重なり合うより高い解像度の部分的な画像を得て、前記セルのより低い解像度の完全な画像を得て、そして前記第１のセル画像を得るために、前記部分的な画像を整列配置して、ステッチするように更にプログラムされる請求項１５に記載のシステム。
17. 前記制御コードは、前記第２のセル画像からセル輪郭画像を生成し、そして前記セル輪郭画像のコピーをタイル張りすることによって、前記基準輪郭画像を生成するように更にプログラムされる請求項１５に記載のシステム。
18. 前記制御コードは、欠陥検出のためにユーザー指定セグメンテーションを提供するためにマスク画像を生成するように更にプログラムされる請求項１３に記載のシステム。
19. 特徴は、セル輪郭の端からの距離に応じてセグメントに分けられる請求項１８に記載のシステム。
20. 前記ユーザー指定セグメンテーションは、欠陥分類のために更に使われる請求項１８に記載のシステム。

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