JP2016505676A5 - - Google Patents

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本発明の他の一面によれば、過酸化物硬化性ブチルゴムアイオノマーから作製した過酸化物硬化物品であって、少なくとも一部に0.51mm以下の厚さを有する該物品の少なくとも一部は630nmの波長に対し75%以上の光透明性を示す前記過酸化物硬化物品の製造方法が提供される。この製造方法は、少なくとも1種のイソオレフィンモノマーから誘導された繰返し単位及び合計量で0.5〜2.5モル%存在する1種以上のマルチオレフィンモノマーから誘導された繰返し単位を有すると共に1つ以上のアリル性ハロゲン部分(allylic halogen moiety)を有するハロゲン化ブチルゴム重合体を用意する(provide)工程;該ハロゲン化ブチルゴム重合体を、ビニル側基を有する窒素系(based)又は燐系求核剤と混合する工程;前記アリル性ハロゲン部分を該求核剤と反応させて、過酸化物硬化性ブチルゴムアイオノマーを形成する工程;該過酸化物硬化性ブチルゴムアイオノマーを60℃以下の温度で4〜8分間、過酸化物硬化剤と混合する行程;過酸化物硬化剤と混合した前記過酸化物硬化性ブチルゴムアイオノマーを、RMS表面粗さが10nm以下の2つの加熱表面間で物品に成形する(form)工程;該物品を前記過酸化物硬化剤に好適な条件下で硬化する工程;及び得られた硬化物品を、30℃を超える温度にある間、前記加熱表面から剥離する工程を含む。
本発明の他の面は、以下の説明を参照すれば当業者に明らかになろう。
本発明を一層明白に理解するため、その好ましい実施形態を添付の図面を参照して説明する。

Claims (35)

  1. a)少なくとも1種のイソオレフィンモノマーから誘導された繰返し単位及び1種以上のマルチオレフィンモノマーから誘導された繰返し単位を含有すると共に1つ以上のアリル性ハロゲン部分(allylic halogen moiety)を有するハロゲン化ブチルゴム重合体を用意する(provide)工程、
    b)該ハロゲン化ブチルゴム重合体を、ビニル側基を有する窒素系(based)又は燐系求核剤と100℃以下の温度で混合する工程、
    c)過酸化物硬化性ブチルゴムアイオノマー(ionomer)を過酸化物硬化剤と混合する工程、
    d)過酸化物硬化剤と混合した該過酸化物硬化性ブチルゴムアイオノマーを、RMS表面粗さが0.1〜10nmの2つの加熱表面間で物品に成形する(form)工程、
    e)前記アリル性ハロゲン部分を求核剤と反応させて過酸化物硬化性ブチルゴムアイオノマーを形成する工程、
    f)前記物品を前記過酸化物硬化剤に好適な条件下で硬化する工程、及び
    g)得られた硬化物品を前記2つの加熱表面から剥離する工程、
    を含む、過酸化物硬化性ブチルゴムアイオノマーから作製した光学的に透明な過酸化物硬化物品の製造方法。
  2. 工程b)が25〜100℃の温度で行われる請求項1に記載の方法。
  3. 工程b)が25〜60℃の温度で行われる請求項2に記載の方法。
  4. 工程c)の前に、ハロゲン化ブチルゴム重合体を過酸化物硬化剤と混合すると同時に、過酸化物硬化剤をハロゲン化ブチルゴム重合体及び/又は求核剤と反応させる工程を更に含む請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。
  5. 過酸化物硬化剤が、ジクミルパーオキシド、ジ−tert−ブチルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシド、2,2’−ビス(tert−ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン、ベンゾイルパーオキシド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、又は2,5−ビス(tert−ブチルパーオキシ)−2,5−ジメチルヘキサンを含む請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法。
  6. 過酸化物硬化剤が0.1〜7phrの量で添加される請求項1〜5のいずれか1項に記載の方法。
  7. 前記過酸化物硬化剤及び前記アイオノマーを過酸化物硬化助剤と混合する工程を更に含む請求項1〜のいずれか1項に記載の方法。
  8. 過酸化物硬化助剤がトリアリルイソシアヌレート(TAIC)、N,N’−m−フェニレンジマレイミド、トリアリルシアヌレート(TAC)又は液体ポリブタジエンからなる請求項7に記載の方法。
  9. 前記アイオノマーが、ブチルゴムとビニル側基との合計不飽和を1.0モル%以上の量で含む請求項1〜8のいずれか1項に記載の方法。
  10. 前記2つの加熱表面が剥離層で被覆される請求項1〜9のいずれか1項に記載の方法。
  11. 剥離層がポリ(ジメチルシロキサン)(PDMS)、シリコーンゴム重合体、又はフルオロ重合体を含む請求項10に記載の方法。
  12. 工程f)の硬化条件が、100〜200℃の硬化温度で1〜30分の硬化時間である請求項1〜11のいずれか1項に記載の方法。
  13. 硬化温度が160〜175℃の範囲である請求項12に記載の方法。
  14. 物品が、100℃以下の温度内の2つの加熱表面間から剥離される請求項1〜13のいずれか1項に記載の方法。
  15. 物品が、30℃以上の温度内の2つの加熱表面間から剥離される請求項1〜14のいずれか1項に記載の方法。
  16. 硬化物品のRMS表面粗さが7nm未満である請求項1〜15のいずれか1項に記載の方法。
  17. 0.51mm以下の厚さで提供された場合、物品の少なくとも一部は、630nmの波長に対し75%以上の光透明度を示す請求項1〜16のいずれか1項に記載の方法。
  18. 少なくとも1種のイソオレフィンモノマーから誘導された繰返し単位;及び1種以上のマルチオレフィンモノマーと、ビニル側基を有する1種以上の窒素系又は燐系求核剤とのハロゲン化後の反応生成物から誘導された繰返し単位を含む過酸化物硬化性ブチルゴムアイオノマーから作製した過酸化物硬化物品であって、該物品の少なくとも一部が0.51mm以下の厚さで提供された場合、630nmの波長に対し75%以上の光透明度を示す前記過酸化物硬化物品。
  19. イソオレフィンモノマーがC〜Cイソモノオレフィンモノマーを含む請求項18に記載の物品。
  20. イソオレフィンモノマーがイソブチレンである請求項19に記載の物品。
  21. マルチオレフィンモノマーがC〜C11共役脂肪族ジエンモノマーを含む請求項18〜20のいずれか1項に記載の物品。
  22. マルチオレフィンモノマーがイソプレンである請求項21に記載の物品。
  23. マルチオレフィンモノマーがハロゲン化の前に0.5〜2.5モル%の合計量で存在する請求項18〜22のいずれか1項に記載の物品。
  24. 前記ブチルゴムアイオノマーが1種以上の共重合性アルキル置換ビニル芳香族コモノマーを更に含む請求項18〜23のいずれか1項に記載の物品。
  25. コモノマーがC〜Cアルキル置換スチレンを含む請求項24に記載の物品。
  26. コモノマーがα−メチルスチレン、p−メチルスチレン、クロロスチレン、シクロペンタジエン又はメチルシクロペンタジエンを含む請求項25に記載の物品。
  27. 窒素系又は燐系求核剤が式

    (式中、Aは窒素又は燐であり、R,R及びRは、独立に直鎖又は分岐鎖のC〜C18アルキル置換基;単環式か又はC〜C縮合環からなるアリール置換基;又はそれらの組合わせから選ばれて構成され、R,R及びRの少なくとも1つはビニル側基を有する)
    に従って選択される請求項18〜26のいずれか1項に記載の物品。
  28. 求核剤が、ジフェニルホスフィノスチレン(DPPS)、アリルジフェニルホスフィン、ジアリルフェニルホスフィン、ジフェニルビニルホスフィン、トリアリルフェニルホスフィン、N−ビニルカプロラクタム、N−ビニルフタルイミド、9−ビニルカルバゾール、N−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]メタクリルアミド、ジフェニルビニルホスフィン−メチル−N−ビニルアセトアミド、N−アリル−N−ブチル−2−プロペン−1−アミン、1−ビニル−2−ピロリドン、2−イソプロペニル−2−オキサゾリン、2−ビニルピリド−4−ビニルピリジン、N−エチル−2−ビニルカルバゾール及びそれらの混合物よりなる群から選ばれる請求項27に記載の物品。
  29. 求核剤がジフェニルホスフィノスチレンDPPSを含む請求項28に記載の物品。
  30. 硬化物品のRMS表面粗さが0.1〜10nmの範囲である請求項18〜29のいずれか1項に記載の物品。
  31. 光透明性が83%以上である請求項18〜30のいずれか1項に記載の物品。
  32. 物品が7.5dNmを超える硬化状態Mを有する請求項18〜31のいずれか1項に記載の物品。
  33. 200%モジュラスが1.3MPaより大きい請求項18〜32のいずれか1項に記載の物品。
  34. 物品が光学的に透明な充填剤を更に含む請求項18〜33のいずれか1項に記載の物品。
  35. 充填剤が溶融シリカを含む請求項34に記載の物品。
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