JP2016220181A - 放射線撮像装置、放射線撮像システムおよび露出制御方法 - Google Patents
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- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims abstract description 224
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims abstract description 72
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 20
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 67
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 50
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 11
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 8
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 8
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 8
- 230000010354 integration Effects 0.000 claims description 6
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 43
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 13
- 230000008569 process Effects 0.000 description 11
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 7
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 7
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 6
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 4
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 4
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- XQPRBTXUXXVTKB-UHFFFAOYSA-M caesium iodide Chemical compound [I-].[Cs+] XQPRBTXUXXVTKB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004613 CdTe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004611 CdZnTe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910005540 GaP Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N gadolinium atom Chemical compound [Gd] UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZXMRANICFIONG-UHFFFAOYSA-N gallium phosphide Chemical compound [Ga]#P HZXMRANICFIONG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QKEOZZYXWAIQFO-UHFFFAOYSA-M mercury(1+);iodide Chemical compound [Hg]I QKEOZZYXWAIQFO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
Images
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-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N5/00—Details of television systems
- H04N5/30—Transforming light or analogous information into electric information
- H04N5/32—Transforming X-rays
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G1/00—X-ray apparatus involving X-ray tubes; Circuits therefor
- H05G1/08—Electrical details
- H05G1/26—Measuring, controlling or protecting
- H05G1/30—Controlling
- H05G1/38—Exposure time
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/02—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
- G01N23/04—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and forming images of the material
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01T—MEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
- G01T1/00—Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
- G01T1/16—Measuring radiation intensity
- G01T1/17—Circuit arrangements not adapted to a particular type of detector
Abstract
【解決手段】放射線撮像装置210は、放射線を検出する複数の画素および複数の列信号線を有する画素アレイと、複数の列信号線に現れる信号を検出する検出部とを備える放射線検出パネル212と、制御部214とを備える。複数の画素は、それぞれ、放射線を電気信号に変換する変換素子と、変換素子と複数の列信号線のうち変換素子に対応する列信号線とを接続するスイッチとを有する。検出部は、放射線が照射され且つ複数の画素のそれぞれのスイッチが開かれた状態で、複数の列信号線のうち少なくとも1つの列信号線に現れる信号を放射線信号として検出する。制御部214は、放射線信号の積算値に基づいて、放射線源からの放射線の放射を停止させるための停止信号を発生する。
【選択図】図1
Description
Claims (13)
- 放射線を検出する複数の画素および複数の列信号線を有する画素アレイと、
前記複数の列信号線に現れる信号を検出する検出部と、
制御部と、を備え、
前記複数の画素は、それぞれ、放射線を電気信号に変換する変換素子と、前記変換素子と前記複数の列信号線のうち前記変換素子に対応する列信号線とを接続するスイッチと、を有し、
前記検出部は、放射線が照射され且つ前記複数の画素のそれぞれの前記スイッチが開かれた状態で、前記複数の列信号線のうち少なくとも1つの列信号線に現れる信号を放射線信号として検出し、
前記制御部は、前記放射線信号の積算値に基づいて、放射線源からの放射線の放射を停止させるための停止信号を発生する、
ことを特徴とする放射線撮像装置。 - 前記制御部は、前記積算値から換算される放射線の積算照射量に基づいて前記停止信号を発生する、
ことを特徴とする請求項1に記載の放射線撮像装置。 - 前記制御部は、前記複数の画素の少なくとも1つの画素の前記スイッチが閉じられた状態で前記少なくとも1つの画素から前記検出部によって読み出された信号と、前記放射線信号とに基づいて、前記積算値を前記照射量に換算するための換算係数を決定する、
ことを特徴とする請求項2に記載の放射線撮像装置。 - 前記検出部は、放射線の照射が停止された後に、前記画素アレイの前記複数の画素から信号を読み出すように構成され、
前記換算係数は、過去に実行された撮像の際に検出された前記放射線信号と、前記撮像の際に前記検出部によって前記画素アレイの前記複数の画素の少なくとも1つから読み出された信号とに基づいて決定される、
ことを特徴とする請求項3に記載の放射線撮像装置。 - 前記検出部は、放射線が照射され且つ前記複数の画素の少なくとも1つの画素の前記スイッチが閉じられた状態で前記少なくとも1つの画素の信号を第1信号として読み出し、
前記換算係数は、前記第1信号と、前記第1信号の読み出しの直前または直後に検出された前記放射線信号である第2信号と、に基づいて決定される、
ことを特徴とする請求項3に記載の放射線撮像装置。 - 前記換算係数は、前記第1信号と前記第2信号との差分を前記第2信号で割った値を有する、
ことを特徴とする請求項5に記載の放射線撮像装置。 - 前記検出部は、放射線の照射中に複数回にわたって前記第1信号を読み出し、
複数の前記第1信号に基づいて前記換算係数が決定される、
ことを特徴とする請求項5又は6に記載の放射線撮像装置。 - 前記第1信号の検出のために前記少なくとも1つの画素の前記スイッチが閉じられるタイミングは、前記放射線信号の変化に基づいて決定される、
ことを特徴とする請求項5に記載の放射線撮像装置。 - 前記画素アレイが形成された面に対する正投影において、前記複数の列信号線のそれぞれが前記複数の画素の一部と重なっている、
ことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の放射線撮像装置。 - 前記放射線信号は、前記少なくとも1つの列信号線と前記複数の画素の一部との容量結合によって前記少なくとも1つの列信号線に現れる成分を含む、
ことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の放射線撮像装置。 - 前記放射線信号は、前記少なくとも1つの列信号線に対する前記複数の画素の一部からのリーク電流による成分を含む、
ことを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載の放射線撮像装置。 - 放射線撮像システムであって、
請求項1乃至11のいずれか1項に記載の放射線撮像装置と、
放射線源と、
前記放射線源からの放射線の放射を開始させるほか、前記放射線撮像装置からの停止信号に応答して前記放射線源からの放射線の放射を停止させる曝射制御部と、
を備えることを特徴とする放射線撮像システム。 - 放射線を検出する複数の画素および複数の列信号線を有する画素アレイと、前記複数の列信号線に現れる信号を検出する検出部と、を備え、前記複数の画素が、それぞれ、放射線を検出する変換素子と、前記変換素子と複数の列信号線のうち前記変換素子に対応する列信号線とを接続するスイッチと、を有する、放射線撮像システムにおける露出制御方法であって、
前記検出部により、放射線が照射され且つ前記複数の画素の前記スイッチが開かれた状態で、前記複数の列信号線のうち少なくとも1つの列信号線に現れる信号を放射線信号として検出する工程と、
前記放射線信号の積算値に基づいて、放射線源からの放射線の放射を停止させるための停止信号を発生する工程と、
を含むことを特徴とする露出制御方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015106729A JP6576102B2 (ja) | 2015-05-26 | 2015-05-26 | 放射線撮像装置、放射線撮像システム、積算照射量を求める方法および露出制御方法 |
US15/560,212 US20180063933A1 (en) | 2015-05-26 | 2016-05-23 | Radiation imaging apparatus, radiation imaging system, and exposure control method |
PCT/JP2016/002489 WO2016189849A1 (en) | 2015-05-26 | 2016-05-23 | Radiation imaging apparatus, radiation imaging system, and exposure control method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015106729A JP6576102B2 (ja) | 2015-05-26 | 2015-05-26 | 放射線撮像装置、放射線撮像システム、積算照射量を求める方法および露出制御方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016220181A true JP2016220181A (ja) | 2016-12-22 |
JP2016220181A5 JP2016220181A5 (ja) | 2018-06-28 |
JP6576102B2 JP6576102B2 (ja) | 2019-09-18 |
Family
ID=57394129
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015106729A Active JP6576102B2 (ja) | 2015-05-26 | 2015-05-26 | 放射線撮像装置、放射線撮像システム、積算照射量を求める方法および露出制御方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20180063933A1 (ja) |
JP (1) | JP6576102B2 (ja) |
WO (1) | WO2016189849A1 (ja) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6587517B2 (ja) | 2015-11-13 | 2019-10-09 | キヤノン株式会社 | 放射線撮像システム |
JP6663210B2 (ja) | 2015-12-01 | 2020-03-11 | キヤノン株式会社 | 放射線撮像装置及びその制御方法 |
JP6706963B2 (ja) | 2016-04-18 | 2020-06-10 | キヤノン株式会社 | 放射線撮像装置、放射線撮像システム、及び、放射線撮像装置の制御方法 |
JP7067912B2 (ja) * | 2017-12-13 | 2022-05-16 | キヤノン株式会社 | 放射線撮像装置および放射線撮像システム |
JP6818724B2 (ja) | 2018-10-01 | 2021-01-20 | キヤノン株式会社 | 放射線撮像装置、その制御方法及び放射線撮像システム |
JP7170497B2 (ja) | 2018-10-22 | 2022-11-14 | キヤノン株式会社 | 放射線撮像装置及び放射線撮像システム |
US11382590B2 (en) * | 2018-12-27 | 2022-07-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Radiation imaging apparatus, radiation imaging system, control method, and storage medium |
JP7319825B2 (ja) | 2019-05-17 | 2023-08-02 | キヤノン株式会社 | 放射線撮像装置および放射線撮像システム |
JP7361516B2 (ja) | 2019-07-12 | 2023-10-16 | キヤノン株式会社 | 放射線撮影装置、放射線撮影システム、放射線撮影装置の制御方法、および、プログラム |
JP7207222B2 (ja) * | 2019-08-02 | 2023-01-18 | コニカミノルタ株式会社 | 放射線発生制御装置、放射線発生制御システム及び放射線撮影システム |
CN111588398B (zh) * | 2020-05-26 | 2022-06-07 | 广东明峰医疗科技有限公司 | 一种有效降低无效剂量的ct曝光控制方法 |
JP2022022844A (ja) | 2020-07-08 | 2022-02-07 | キヤノン株式会社 | 放射線撮像装置 |
JP7449260B2 (ja) | 2021-04-15 | 2024-03-13 | キヤノン株式会社 | 放射線撮像装置及び放射線撮像システム |
JP2022164433A (ja) | 2021-04-16 | 2022-10-27 | キヤノン株式会社 | 放射線撮像装置および放射線撮像システム |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3466684B2 (ja) * | 1993-12-29 | 2003-11-17 | 東芝医用システムエンジニアリング株式会社 | X線診断装置 |
US6404851B1 (en) * | 2000-03-30 | 2002-06-11 | General Electric Company | Method and apparatus for automatic exposure control using localized capacitive coupling in a matrix-addressed imaging panel |
WO2005124866A1 (en) * | 2004-06-18 | 2005-12-29 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | X-ray image detector |
JP5481053B2 (ja) * | 2008-09-26 | 2014-04-23 | 株式会社東芝 | X線露光量制御装置及びその方法並びにx線画像撮像装置 |
JP5587356B2 (ja) * | 2012-02-24 | 2014-09-10 | 富士フイルム株式会社 | 放射線撮影システム、放射線撮影システムの駆動制御方法および駆動制御プログラム、並びに放射線画像検出装置 |
US10039516B2 (en) * | 2013-11-08 | 2018-08-07 | Carestream Health, Inc. | Digital radiography detector image readout system and process |
-
2015
- 2015-05-26 JP JP2015106729A patent/JP6576102B2/ja active Active
-
2016
- 2016-05-23 US US15/560,212 patent/US20180063933A1/en not_active Abandoned
- 2016-05-23 WO PCT/JP2016/002489 patent/WO2016189849A1/en active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20180063933A1 (en) | 2018-03-01 |
WO2016189849A1 (en) | 2016-12-01 |
JP6576102B2 (ja) | 2019-09-18 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
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