JP2016218381A - 近接露光用照明装置、近接露光装置及び近接露光方法 - Google Patents
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Abstract
Description
(1) 光源と、
複数のレンズ素子を有し、前記光源からの光を均一にして出射するフライアイレンズと、
前記フライアイレンズから出射された光の光路を変更する反射鏡と、
を備え、
露光パターンが形成されたマスクとワークとをギャップを介して近接配置し、前記マスクを介して前記光源からの露光光を前記ワーク上に照射して前記露光パターンを前記ワークに露光転写するための近接露光用照明装置であって、
前記光源と前記フライアイレンズとの間に配置されて露光面での照度分布を変更可能な光学フィルタを更に備え、
前記光学フィルタは、前記フライアイレンズのレンズ素子と同数のマトリクス状に分割された複数のセルを有し、
前記各セルは、前記ワークの露光結果が均一化されるように前記露光面での照度分布を変更可能な光透過率分布を有することを特徴とする近接露光用照明装置。
(2) 前記各セルは、前記ワークの露光結果が均一化されるように、前記マスクと前記ワークとの間のギャップの分布に応じて、前記露光面での照度分布を変更可能な、それぞれ同一の光透過率分布を有することを特徴とする(1)に記載の近接露光用照明装置。
(3) 前記各セルは、中心部から周辺部に向かって、次第に光透過率が低下する同一の光透過率分布を有することを特徴とする(2)に記載の近接露光用照明装置。
(4) 前記光学フィルタは、前記光の光軸に沿って移動可能であることを特徴とする(1)〜(3)のいずれかに記載の近接露光用照明装置。
(5) マスクを保持するマスク保持部と、
ワークを保持するワーク保持部と、
(1)〜(4)のいずれかに記載の近接露光用照明装置と、
を備え、
前記マスクと前記ワークとをギャップを介して近接配置し、前記マスクを介して前記光源からの露光光を前記ワークに照射して前記露光パターンを前記ワークに露光転写することを特徴とする近接露光装置。
(6) (5)に記載の近接露光装置を使用し、前記マスクと前記ワークとをギャップを介して近接配置し、前記マスクを介して前記光源からの露光光を前記ワークに照射して前記露光パターンを前記ワークに露光転写する近接露光方法。
なお、上下微動装置8は、モータ17とボールねじによってスライド体12を駆動する代わりに、リニアモータによってスライド体12を駆動するようにしてもよい。
なお、上下微動装置8によってワークステージ2の高さを十分に調整できる場合には、上下粗動装置7を省略してもよい。
なお、必要に応じて、光学フィルタ90を光路ELに沿って移動させることで露光光の全体強度を調節可能であり、光学フィルタ90によって照度低下量を調節することもできる。
例えば、上記実施形態では、マスクの中心部のギャップが最も狭くなるとして説明したが、マスクとワークとの間のギャップの最小値は、マスクの中心部である必要はなく、ギャップの最小値がマスクの中心部からずれている場合は、光学フィルタの各セルの光透過率分布を、光透過率の高い部分が、ギャップが最小となる位置に対応するように設定すればよい。
2 ワークステージ(ワーク保持部)
3 近接露光用照明装置
60 ランプユニット(光源)
63,66,68 平面ミラー(反射鏡)
65 フライアイレンズ
65a レンズ素子
67 コリメーションミラー(反射鏡)
90 光学フィルタ
91 セル
EL 光路
G ギャップ
M マスク
PE 近接露光装置
W ワーク
Claims (6)
- 光源と、
複数のレンズ素子を有し、前記光源からの光を均一にして出射するフライアイレンズと、
前記フライアイレンズから出射された光の光路を変更する反射鏡と、
を備え、
露光パターンが形成されたマスクとワークとをギャップを介して近接配置し、前記マスクを介して前記光源からの露光光を前記ワーク上に照射して前記露光パターンを前記ワークに露光転写するための近接露光用照明装置であって、
前記光源と前記フライアイレンズとの間に配置されて露光面での照度分布を変更可能な光学フィルタを更に備え、
前記光学フィルタは、前記フライアイレンズのレンズ素子と同数のマトリクス状に分割された複数のセルを有し、
前記各セルは、前記ワークの露光結果が均一化されるように前記露光面での照度分布を変更可能な光透過率分布を有することを特徴とする近接露光用照明装置。 - 前記各セルは、前記ワークの露光結果が均一化されるように、前記マスクと前記ワークとの間のギャップの分布に応じて、前記露光面での照度分布を変更可能な、それぞれ同一の光透過率分布を有することを特徴とする請求項1に記載の近接露光用照明装置。
- 前記各セルは、中心部から周辺部に向かって、次第に光透過率が低下する同一の光透過率分布を有することを特徴とする請求項2に記載の近接露光用照明装置。
- 前記光学フィルタは、前記光の光軸に沿って移動可能であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の近接露光用照明装置。
- マスクを保持するマスク保持部と、
ワークを保持するワーク保持部と、
請求項1〜4のいずれか1項に記載の近接露光用照明装置と、
を備え、
前記マスクと前記ワークとをギャップを介して近接配置し、前記マスクを介して前記光源からの露光光を前記ワークに照射して前記露光パターンを前記ワークに露光転写することを特徴とする近接露光装置。 - 請求項5に記載の近接露光装置を使用し、前記マスクと前記ワークとをギャップを介して近接配置し、前記マスクを介して前記光源からの露光光を前記ワークに照射して前記露光パターンを前記ワークに露光転写する近接露光方法。
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JP2015106048A JP2016218381A (ja) | 2015-05-26 | 2015-05-26 | 近接露光用照明装置、近接露光装置及び近接露光方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2019028224A (ja) * | 2017-07-28 | 2019-02-21 | キヤノン株式会社 | 照明光学系、露光装置、及び、物品製造方法 |
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2015
- 2015-05-26 JP JP2015106048A patent/JP2016218381A/ja active Pending
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