JP2016205981A - テラヘルツ照射位置の可視化装置 - Google Patents
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- 238000012800 visualization Methods 0.000 title claims abstract description 29
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims abstract description 7
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims abstract description 7
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 19
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 19
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 6
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 5
- 239000003086 colorant Substances 0.000 abstract 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 16
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 239000003550 marker Substances 0.000 description 9
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 230000001151 other effect Effects 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011089 carbon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
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- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
Description
しかし、テラヘルツ波の照射位置(例えば照射点)が3次元空間上にあり、その位置にテラヘルツ波の存在を示す物体(センサ、試料、など)がない場合には、その位置を正確に認識又は可視化することはできない。その結果、従来は、計測ポイントが不正確になる問題点があった。
前記3次元ポインタは、前記可視光線レーザーを出力する1又は複数のレーザー装置である。
前記3次元ポインタは、前記可視光線レーザーを出力するレーザー装置と、
前記可視光線レーザーを前記照射点に集光させる集光光学系と、を有する。
前記透過レーザーを前記照射点に向けて反射する反射ミラーと、を有し、
前記ビームスプリッターは、前記反射レーザーを前記照射点に向けて反射する。
前記発光源からの前記可視光をテラヘルツ波の光軸に沿って前記照射点に集光させる。
また、照射点を可視光のみで可視化するので、テラヘルツ波の特性への影響はほんどなく、かつ発光源を消すことで影響を完全に無くしてテラヘルツ波を測定することができる。
この図において、1,2はレーザー、3は放射素子(エミッタ)、4a,4bは軸外し放物面鏡、5a,5bは反射ミラー、6は検出素子(デテクタ)、7は計測制御装置、8a,8bは集光レンズである。
また、レーザー2は、複数の反射ミラーMを介して集光レンズ8bに入射し、集光レンズ8bにより検出素子6に集光される。レーザー2は、この例ではプローブ光である。
本発明の可視化装置は、3次元空間上に位置するテラヘルツ波の照射点Fで交差する可視光11を出力する3次元ポインタ10を備える。
複数の可視光線レーザーは、好ましくは、赤色(波長:約625−740nm)、緑色(波長:約500−560nm)、及び青色(波長:約445−485nm)を含み、加法混色により照射点Fを白色に発光させるようになっている。
また、赤色、緑色、及び青色を含む可視光線レーザー12a,12bにより、加法混色により照射点Fを白色に発光させることで、照射点Fを白く光らせることができ、照射点Fをより明確に目視で確認できる。
この撮像装置14を用いて、テラヘルツ波の照射点Fの近傍の画像をディスプレイ装置(図示せず)に拡大表示することができ、照射点Fを容易に目視確認できる。
この図において、可視光11は、照射点Fで交差する複数(この例で2つ)の可視光線レーザー12a,12bである。また、3次元ポインタ10は、可視光線レーザー12cを出力する単一のレーザー装置20cを有する。
ビームスプリッター21は、可視光線レーザー12cを透過レーザーaと反射レーザーbとに分割する。反射レーザーbは可視光線レーザー12bである。ビームスプリッター21は、反射レーザーb(可視光線レーザー12b)を照射点Fに向けて反射する。
反射ミラー22は、透過レーザーaを照射点Fに向けて可視光線レーザー12aとして反射する。
その他の構成は、第1実施形態と同様である。
第2実施形態の効果は、第1実施形態と同様である。
この例において3次元ポインタ10は、可視光線レーザー12dをテラヘルツ波の光軸に沿って出力するレーザー装置20dと、可視光線レーザー12dを照射点Fに集光させる集光光学系23と、を有する。集光光学系23は例えば凸レンズである。
その他の構成は、第1実施形態と同様である。
また、この構成により、可視光線レーザー12dが照射点Fに焦点を結ぶので、照射点Fを集光された可視光線レーザー12dの焦点として精密に可視化できる。
その他の効果は、第1実施形態と同様である。
この図において、可視光11は、照射点Fで交差する複数(この例で3つ)の可視光線レーザー12a,12b,12dである。また、3次元ポインタ10は、可視光線レーザー12a,12b,12dを出力する複数(この例で3つ)のレーザー装置20a,20b,20dである。
なお、図5における集光光学系23は省略されている。
その他の構成は、第1、第3実施形態と同様である。
その他の効果は、第1、第3実施形態と同様である。
この図において、本発明の3次元ポインタ10は、可視光11を発光する発光源24aを有する。
発光源24a(発光ダイオード)から出た可視光11は、テラヘルツ波の光軸に沿ってテラヘルツ波の光学系により照射点Fを囲む位置に集光する。すなわち、可視光11は、反射ミラー5aと軸外し放物面鏡4aを介して照射点Fを囲む位置に集光される。
上述した第5実施形態の構成により、可視光11が3次元空間上に位置するテラヘルツ波の照射点Fを囲む位置に焦点を結ぶので、照射点Fを集光された可視光11の焦点として精密に可視化できる。
なお、可視光11の焦点を容易に目視できるように、照射点Fの周辺にドライアイス等でガスを形成したり、背景を暗くしたりしてもよい。
この例で、発光源24bは、テラヘルツ波の放射素子3の放射点の鏡像位置に位置する発光ダイオードである。反射ミラー5aは、発光源24bからの可視光11をテラヘルツ波の光軸に沿って通す可視光窓9bを有する。可視光窓9bは可視光11を通す限りで貫通穴、透明体、半透明体、又はハーフミラーであるのがよい。
その他の構成と効果は、第5実施形態と同様である。
上述した第6実施形態の構成により、可視光11が3次元空間上に位置するテラヘルツ波の照射点Fに焦点を結ぶので、照射点Fを集光された可視光11の焦点として精密に可視化できる。
また、照射点Fを可視光11のみで可視化するので、テラヘルツ波の特性への影響はほんどなく、かつ発光源を消すことで影響を完全に無くしてテラヘルツ波を測定することができる。
4a,4b 軸外し放物面鏡、5a,5b 反射ミラー、
6 検出素子(デテクタ)、7 計測制御装置、8a,8b 集光レンズ、
9a,9b 可視光窓、10 3次元ポインタ、11 可視光、
12a,12b,12c,12d 可視光線レーザー、14 撮像装置、
20a,20b,20c,20d レーザー装置、
21 ビームスプリッター、22 反射ミラー、23 集光光学系、
24a,24b 発光源(発光ダイオード)
Claims (10)
- 3次元空間上に位置するテラヘルツ波の照射点で交差する又は焦点を結ぶ可視光を出力する3次元ポインタを備える、ことを特徴とするテラヘルツ照射位置の可視化装置。
- 前記可視光は、前記照射点で交差する複数の可視光線レーザーであり、
前記3次元ポインタは、前記可視光線レーザーを出力する1又は複数のレーザー装置である、ことを特徴とする請求項1に記載のテラヘルツ照射位置の可視化装置。 - 前記可視光は、前記照射点で焦点を結ぶ1又は複数の可視光線レーザーであり、
前記3次元ポインタは、前記可視光線レーザーを出力するレーザー装置と、
前記可視光線レーザーを前記照射点に集光させる集光光学系と、を有する、ことを特徴とする請求項1に記載のテラヘルツ照射位置の可視化装置。 - 前記可視光線レーザーのうち少なくとも1つは、前記テラヘルツ波の光軸に沿って前記照射点を通る、ことを特徴とする請求項2又は3に記載のテラヘルツ照射位置の可視化装置。
- 複数の前記可視光線レーザーは、赤色、緑色、及び青色を含み、加法混色により前記照射点を白色に発光させる、ことを特徴とする請求項2乃至4のいずれか一項に記載のテラヘルツ照射位置の可視化装置。
- 前記3次元ポインタは、前記可視光線レーザーを透過レーザーと反射レーザーとに分割するビームスプリッターと、
前記透過レーザーを前記照射点に向けて反射する反射ミラーと、を有し、
前記ビームスプリッターは、前記反射レーザーを前記照射点に向けて反射する、ことを特徴とする請求項2に記載のテラヘルツ照射位置の可視化装置。 - 前記3次元ポインタは、前記可視光を発光する発光源を有し、
前記発光源からの前記可視光をテラヘルツ波の光軸に沿って前記照射点に集光させる、ことを特徴とする請求項1に記載のテラヘルツ照射位置の可視化装置。 - 前記発光源は、テラヘルツ波の放射素子の放射点を囲む発光ダイオードである、ことを特徴とする請求項7に記載のテラヘルツ照射位置の可視化装置。
- 前記発光源は、テラヘルツ波の放射素子の放射点の鏡像位置に位置する発光ダイオードである、ことを特徴とする請求項7に記載のテラヘルツ照射位置の可視化装置。
- さらに、前記テラヘルツ波の前記照射点の近傍を撮像する撮像装置を備える、ことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか一項に記載のテラヘルツ照射位置の可視化装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2015087318A JP6748933B2 (ja) | 2015-04-22 | 2015-04-22 | テラヘルツ照射位置の可視化装置 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2016205981A true JP2016205981A (ja) | 2016-12-08 |
JP6748933B2 JP6748933B2 (ja) | 2020-09-02 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2015087318A Active JP6748933B2 (ja) | 2015-04-22 | 2015-04-22 | テラヘルツ照射位置の可視化装置 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019138752A (ja) * | 2018-02-09 | 2019-08-22 | セイコーエプソン株式会社 | 検出装置 |
CN111239134A (zh) * | 2020-02-26 | 2020-06-05 | 中国人民解放军第四军医大学 | 研究高频电磁辐射对体外可兴奋细胞生物电效应的系统及方法 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS534553A (en) * | 1976-07-02 | 1978-01-17 | Asahi Optical Co Ltd | Light guide |
JPS55129729A (en) * | 1979-03-29 | 1980-10-07 | Agency Of Ind Science & Technol | Sample position adjusting method in spectroscopic analysis |
JPS63108981A (ja) * | 1986-10-28 | 1988-05-13 | Mitsubishi Electric Corp | 距離計測装置 |
JPH01113192A (ja) * | 1987-10-23 | 1989-05-01 | Hitachi Ltd | レーザ加工機用集光装置 |
JPH01204661A (ja) * | 1988-02-10 | 1989-08-17 | Olympus Optical Co Ltd | レーザ照射装置 |
JP2000015464A (ja) * | 1998-07-02 | 2000-01-18 | Keyence Corp | 位置指示装置及びレーザマーキング装置 |
JP2002228578A (ja) * | 2001-01-30 | 2002-08-14 | Anritsu Corp | ガス検出装置及び該装置の焦点合わせ方法 |
JP2008055455A (ja) * | 2006-08-30 | 2008-03-13 | Sumitomo Electric Ind Ltd | レーザ加工方法およびレーザ加工装置 |
JP2013002859A (ja) * | 2011-06-14 | 2013-01-07 | Toshiba Corp | テラヘルツ波を用いた検査装置及び検査方法 |
JP2015038468A (ja) * | 2013-07-16 | 2015-02-26 | キヤノン株式会社 | 照射野制限装置、それを備えたx線発生ユニット及びx線撮影システム |
-
2015
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Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS534553A (en) * | 1976-07-02 | 1978-01-17 | Asahi Optical Co Ltd | Light guide |
JPS55129729A (en) * | 1979-03-29 | 1980-10-07 | Agency Of Ind Science & Technol | Sample position adjusting method in spectroscopic analysis |
JPS63108981A (ja) * | 1986-10-28 | 1988-05-13 | Mitsubishi Electric Corp | 距離計測装置 |
JPH01113192A (ja) * | 1987-10-23 | 1989-05-01 | Hitachi Ltd | レーザ加工機用集光装置 |
JPH01204661A (ja) * | 1988-02-10 | 1989-08-17 | Olympus Optical Co Ltd | レーザ照射装置 |
JP2000015464A (ja) * | 1998-07-02 | 2000-01-18 | Keyence Corp | 位置指示装置及びレーザマーキング装置 |
JP2002228578A (ja) * | 2001-01-30 | 2002-08-14 | Anritsu Corp | ガス検出装置及び該装置の焦点合わせ方法 |
JP2008055455A (ja) * | 2006-08-30 | 2008-03-13 | Sumitomo Electric Ind Ltd | レーザ加工方法およびレーザ加工装置 |
JP2013002859A (ja) * | 2011-06-14 | 2013-01-07 | Toshiba Corp | テラヘルツ波を用いた検査装置及び検査方法 |
JP2015038468A (ja) * | 2013-07-16 | 2015-02-26 | キヤノン株式会社 | 照射野制限装置、それを備えたx線発生ユニット及びx線撮影システム |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019138752A (ja) * | 2018-02-09 | 2019-08-22 | セイコーエプソン株式会社 | 検出装置 |
JP7069786B2 (ja) | 2018-02-09 | 2022-05-18 | セイコーエプソン株式会社 | 検出装置 |
CN111239134A (zh) * | 2020-02-26 | 2020-06-05 | 中国人民解放军第四军医大学 | 研究高频电磁辐射对体外可兴奋细胞生物电效应的系统及方法 |
CN111239134B (zh) * | 2020-02-26 | 2022-08-26 | 中国人民解放军第四军医大学 | 研究高频电磁辐射对体外可兴奋细胞生物电效应的系统及方法 |
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