JP2016198255A - 加熱処理装置 - Google Patents

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保 藤井
加賀 忠
Tadashi Kaga
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Abstract

【課題】加熱処理装置において、過熱蒸気が遮蔽室の内壁面に付着して結露することを防止する。
【解決手段】搬送コンベヤ14は物品を缶体11内に供給排出する。処理室13は缶体11内に設けられ、搬送コンベヤ14により搬送される物品が通過可能な仕切壁12によって区画される。噴射ノズル16は処理室13内に設けられ、物品に過熱蒸気を噴射して加熱処理を行う。排出側遮蔽室32は処理室13の下流側に仕切壁12を介して連通され、また出口34が形成される。ジャケット41と供給通路44とヒータ45とブロア46は、天井35と排気ダクト36と側壁37を加熱する。
【選択図】図1

Description

本発明は、食品等の物品に対し、搬送しつつ過熱蒸気を噴射して殺菌や焼成などの加熱処理を行う加熱処理装置に関する。
従来、加熱処理装置は、搬送コンベヤによって搬送される物品に対して、缶体内に設けられた処理室内を通過する間に過熱蒸気を噴射して加熱処理するように構成されている(例えば特許文献1)。缶体において、処理室の上流側と下流側には、過熱蒸気が外部へ漏れ出すのを抑えるために遮蔽室がそれぞれ設けられている。これらの遮蔽室と処理室の間は仕切壁によって区画されるが、物品を通過させるため、仕切壁には開口が形成されている。したがって過熱蒸気は開口を通って遮蔽室へ流入し、遮蔽室に設けられた排気ダクトから外部へ排出される。
特開2013−148285号公報
過熱蒸気の温度が300℃を超える高温である場合、遮蔽室において若干低下し、過熱蒸気は排気ダクトから外部へ排出される。一方、物品に対する加熱処理の目的に応じて、過熱蒸気は例えば150℃程度の相対的に低い温度に定められることがある。これに対して、遮蔽室は外部と連通しているため、遮蔽室の天井や内壁の温度は常温に近く、したがって過熱蒸気の温度が比較的低い場合、処理室から遮蔽室に流入した過熱蒸気が内壁面に付着すると結露し、水滴となってしまう。この水滴が落下して加熱処理後の物品に付着すると、加熱処理の効果がなくなるという問題が生じる。
本発明の目的は、加熱処理装置において、過熱蒸気が遮蔽室の内壁面に付着して結露することを防止することである。
本発明に係る加熱処理装置は、物品を缶体内に供給排出する搬送コンベヤと、缶体内に設けられ、搬送コンベヤにより搬送される物品が通過可能な仕切壁によって区画された処理室と、処理室内に設けられ、物品に過熱蒸気を噴射して加熱処理を行う噴射ノズルと、処理室の下流側に仕切壁を介して連通されるとともに、出口が形成された排出側遮蔽室と、排出側遮蔽室の外気と接触する壁を加熱する排出側加熱手段とを備えることを特徴としている。
処理室の上流側に仕切壁を介して連通され、入口が形成された供給側遮蔽室において、外気と接触する壁を加熱する供給側加熱手段をさらに備えてもよい。一方、排出側加熱手段は、排出側遮蔽室の壁に設けられた加熱媒体通路と、この加熱媒体通路に加熱媒体を供給する加熱媒体供給手段とを備えることが好ましい。また本発明は、噴射ノズルに過熱蒸気を供給するための過熱蒸気供給手段をさらに備えていてもよく、この場合、過熱蒸気供給手段は加熱媒体通路へ過熱蒸気を供給する。噴射ノズルから噴射される過熱蒸気は例えば250℃以下である。
本発明によれば、加熱処理装置において、過熱蒸気が遮蔽室の内壁面に付着して結露することを防止することができる。
本発明の第1実施形態である加熱処理装置の概略的な構成を示す縦断面図である。 図1に示す加熱処理装置の横断面図である。 排出側遮蔽室の要部の構造を模式的に示す図である。 第2実施形態における排出側遮蔽室の要部の構造を模式的に示す図である。
本発明の第1実施形態である加熱処理装置の概略的な構成を、図1および図2を参照して説明する。缶体11は水平方向に延びる箱体であり、その内部は仕切壁12によって複数の処理室13に区画される。搬送コンベヤ14は缶体11内に物品を供給排出するために設けられ、缶体11内を、その長手方向に沿って通過する。仕切壁12には、搬送コンベヤ14により搬送される物品と搬送コンベヤ14が通過可能な開口15が形成される。
本実施形態では、処理室13は缶体11の長手方向に沿って4つ設けられており、最も上流側に位置する処理室13の上流側には供給側遮蔽室31が、また最も下流側に位置する処理室13の下流側には排出側遮蔽室32が設けられる。供給側遮蔽室31の上流側の端部壁には入口33が形成され、供給側遮蔽室31と処理室13は仕切壁12に形成された開口15を介して連通する。同様に、排出側遮蔽室32の下流側の端部壁には出口34が形成され、排出側遮蔽室32と処理室13は仕切壁12に形成された開口15を介して連通する。
各処理室13内には、搬送コンベヤ14によって搬送される物品に過熱蒸気を噴射するための噴射ノズル16が設けられる。噴射ノズル16は搬送コンベヤ14の上下にそれぞれ配置され、物品は上下方向から過熱蒸気を噴射され、加熱処理される。一方、供給側遮蔽室31との間に設けられる仕切壁12の開口15の上下縁部には、この開口15に飽和蒸気のエアカーテンを形成するために飽和蒸気噴射ノズル18が設けられる。同様に、排出側遮蔽室32の仕切壁12の開口15にも、この開口15に飽和蒸気のエアカーテンを形成するために飽和蒸気噴射ノズル19が設けられる。
上流側に位置する2つの処理室13の天井には1つの循環ダクト21が設けられる。すなわち循環ダクト21は隣接する2つの処理室13の天井に跨って設けられている。循環ダクト21には循環通路22の上流端部が接続され、循環通路22の下流端部は噴射ノズル16に接続される。下流端部は4つに分岐しており、隣接する2つの処理室13に設けられた4つの噴射ノズル16に接続される。
循環ダクト21の途中にはブロア23とヒータ24が設けられる。ブロア23とヒータ24の間には飽和蒸気供給源であるボイラ25から延びる供給管路26が接続される。ボイラ25から供給される飽和蒸気はヒータ24に加熱されて過熱蒸気となり、ブロア23の作用により噴射ノズル16に供給される。処理室13から循環ダクト21を通って循環通路22に流入する蒸気はブロア23によってヒータ24側に供給され、再び加熱されて噴射ノズル16に供給される。すなわち循環通路22とブロア23とヒータ24とボイラ25は、噴射ノズル16に過熱蒸気を供給するための過熱蒸気供給手段を構成する。
下流側に位置する2つの処理室13も同様に、上流側の2つの処理室13と同じ構成を有する循環通路22によって過熱蒸気が供給される。すなわち本実施形態では、2つの循環通路22が設けられている。
次に、供給側遮蔽室31と排出側遮蔽室32の内壁面が結露することを防止するための構成を説明する。図3に示すように、排出側遮蔽室32の天井35には排気ダクト36が設けられ、天井35と排気ダクト36と側壁37の各外周面はジャケット41により覆われる。ジャケット41には熱風を通すための通路が形成され、天井35と排気ダクト36と側壁37は全体的に加熱される。
ジャケット41には熱風の供給口42と排出口43が形成され、供給口42に接続される供給通路44にはヒータ45とブロア46が設けられる。ブロア46は空気を噴出し、この空気はヒータ45によって約100℃に加熱され、熱風としてジャケット41に供給される。ジャケット41内の通路を通過した熱風は排出口43から外部へ排出される。このようにジャケット41と供給通路44とヒータ45とブロア46は、天井35と排気ダクト36と側壁37を加熱する排出側加熱手段を構成する。また供給通路44とヒータ45とブロア46は、ジャケット41に形成された通路(加熱媒体通路)に加熱媒体(熱風)を供給する加熱媒体供給手段を構成する。
供給側遮蔽室31も排出側遮蔽室32と同様に構成されており、排気ダクト38と天井と側壁の各外周面はジャケット39により覆われる。ジャケット39には形成された通路には、供給通路47に設けられたヒータ48とブロア49によって熱風が供給され、これにより天井と排気ダクト38と側壁が加熱される。すなわち、ジャケット39と供給通路47とヒータ48とブロア49は、供給側遮蔽室31の壁を加熱する供給側加熱手段を構成する。また供給通路47とヒータ48とブロア49は、ジャケット39形成された通路(加熱媒体通路)に加熱媒体(熱風)を供給する加熱媒体供給手段を構成する。
本実施形態の作用を説明する。
物品は例えばカボチャやジャガイモ等の野菜であり、搬送コンベヤ14によって搬送され、処理室13を通過する間に噴射ノズル16から噴射される過熱蒸気によって焼成される。この例において過熱蒸気の温度は150〜200℃である。焼成された物品は排出側遮蔽室32を通って出口34から外部に排出される。
排出側遮蔽室32は隣接する処理室13と連通している。したがって、この処理室13に供給された過熱蒸気が開口15を通って排出側遮蔽室32に流入する可能性がある。この過熱蒸気は比較的低温(150〜200℃)であるため、排出側遮蔽室32の外気と接触する壁(天井35、側壁37、排気ダクト36)の温度が低いと、これらの壁が結露するおそれがある。しかし本実施形態では、ジャケット41に約100℃の熱風を供給しているので、排出側遮蔽室32の内壁面が結露することはない。
供給側遮蔽室31においても同様に、隣接する処理室13から過熱蒸気が流入する可能性があるが、ジャケット39に約100℃の熱風を供給しているので、供給側遮蔽室31の内壁面が結露することはない。
図4は第2実施形態における排出側遮蔽室32の内壁面の結露を防止するための構成を示している。この実施形態では、ジャケット41に形成された加熱媒体通路には循環通路22から分岐した分岐通路51が接続される。すなわち、ボイラ25において発生し、ヒータ24によって加熱された過熱蒸気は噴射ノズル16だけでなく、ジャケット41にも供給される。この構成によっても、排出側遮蔽室32および供給側遮蔽室31の壁を加熱して壁面が結露することを防止できる。
なお遮蔽室31、32の壁を加熱する構成としては、上述した実施形態の他に、壁に電熱線を取付けることも可能である。
また第1および第2の実施形態は、排出側遮蔽室32と供給側遮蔽室31の両者の壁を加熱するように構成されているが、排出側遮蔽室32の壁のみを加熱するようにしてもよい。
11 缶体
12 仕切壁
13 処理室
14 搬送コンベヤ
16 噴射ノズル
31 供給側遮蔽室
32 排出側遮蔽室
33 入口
34 出口
39、41 ジャケット
44、47 供給通路
45、48 ヒータ
46、49 ブロア


Claims (5)

  1. 物品を缶体内に供給排出する搬送コンベヤと、
    前記缶体内に設けられ、前記搬送コンベヤにより搬送される物品が通過可能な仕切壁によって区画された処理室と、
    前記処理室内に設けられ、前記物品に過熱蒸気を噴射して加熱処理を行う噴射ノズルと、
    前記処理室の下流側に前記仕切壁を介して連通されるとともに、出口が形成された排出側遮蔽室と、
    前記排出側遮蔽室の外気と接触する壁を加熱する排出側加熱手段とを備えることを特徴とする加熱処理装置。
  2. 前記処理室の上流側に前記仕切壁を介して連通されるとともに、入口が形成された供給側遮蔽室と、前記供給側遮蔽室の外気と接触する壁を加熱する供給側加熱手段とをさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の加熱処理装置。
  3. 前記排出側加熱手段は、前記排出側遮蔽室の壁に設けられた加熱媒体通路と、この加熱媒体通路に加熱媒体を供給する加熱媒体供給手段とを備えることを特徴とする請求項1に記載の加熱処理装置。
  4. 前記噴射ノズルに過熱蒸気を供給するための過熱蒸気供給手段をさらに備え、前記過熱蒸気供給手段は前記加熱媒体通路へ過熱蒸気を供給することを特徴とする請求項3に記載の加熱処理装置。
  5. 前記噴射ノズルから噴射される過熱蒸気は250℃以下であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の加熱処理装置。
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