JP2016181635A - 基板搬送装置、基板処理装置、および基板搬送方法 - Google Patents

Abstract

【課題】動力源の数を抑えつつ、処理空間の遮断と連通とを切り替えることができる基板搬送装置、当該基板搬送装置を備えた基板処理装置、および基板処理方法を提供する。【解決手段】この基板搬送装置３０は、搬入された基板を傾斜させ、傾斜姿勢を維持したまま基板を搬出する。基板搬送装置３０は、搬入口３１１と搬出３１２とを備える筐体３１と、筐体３１の内部において基板を搬送するローラ搬送機構３２と、ローラ搬送機構３２を傾斜させる傾斜機構３３と、搬入口３１１を開閉する第１遮蔽板３４と、搬出口３１２を開閉する第２遮蔽板３５と、を有する。搬入口３１１および搬出口３１２の少なくとも一方は、傾斜駆動と連動して開閉される。このため、動力源の数を抑えつつ、処理空間の遮断と連通とを切り替えることができる。【選択図】図３

Description

本発明は、基板搬送装置、当該基板搬送装置を備えた基板処理装置、および基板搬送方法に関する。

従来、半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、ＰＤＰ用ガラス基板、有機ＥＬ用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、カラーフィルタ用基板、記録ディスク用基板、太陽電池用基板、電子ペーパー用基板などの精密電子装置用基板の製造工程では、基板を搬送する基板搬送装置が使用されている。基板は、基板搬送装置により、複数の処理室の間で順次に搬送されながら、各処理室において予め定められた処理を受ける。

各処理室の内部は、処理に必要な気体や、処理に伴い生じた気体などで、雰囲気制御されている。このため、ある処理室の内部の気体が隣接する処理室へ流れ込むと、隣接する処理室における処理が乱され、プロセス不良を招来する要因となる。そのようなプロセス不良が発生し得る場合には、処理室間を遮断し、隣接する処理室の雰囲気が互いに影響しないようにすることが必要となる。

特許文献１には、処理室の間にシャッタを備える中間室を設け、当該シャッタにより処理室間を遮断し、隣接する処理室への気流の侵入を防ぐ基板処理装置が記載されている。

特開２００９−２０２０８８号公報

しかし、シャッタにより処理室間を遮断する装置では、シャッタを動作させるための動力源が必要である。複数のシャッタに個別に動力源を設けると、装置構成が複雑化し、装置コストが増加する。また、動力源の数が増えることで、パーティクルが発生するリスクも増加する。また、動力源の数が増えると、基板の動きに合せて、各動力源の駆動タイミングを制御する必要がある。このため、基板処理装置全体としての制御も複雑となる。

本発明は、このような事情に鑑みなされたものであり、動力源の数を抑えつつ、処理空間の遮断と連通とを切り替えることができる基板搬送装置、当該基板搬送装置を備えた基板処理装置、および基板処理方法を提供することを目的とする。

上記課題を解決するため、本願の第１発明は、基板搬送装置であって、搬入口と搬出口とを備える筐体と、前記筐体の内部において、基板を支持しつつ、前記搬入口から前記搬出口へ向かう搬送方向に基板を搬送する搬送機構と、前記搬送機構に支持された基板を傾斜させる傾斜機構と、前記搬入口を開閉する第１遮蔽板と、前記搬出口を開閉する第２遮蔽板と、を有し、前記第１遮蔽板および前記第２遮蔽板の少なくとも一方が、前記傾斜機構と連動して動作する。

本願の第２発明は、第１発明の基板搬送装置であって、前記第１遮蔽板および前記第２遮蔽板の双方が、前記傾斜機構と連動して動作する。

本願の第３発明は、第１発明または第２発明の基板搬送装置であって、前記搬入口および前記搬出口のいずれか一方が開放される間は、他方は閉鎖される。

本願の第４発明は、第１発明乃至第３発明のいずれか１発明の基板搬送装置であって、前記搬送機構は、複数のローラを備え、前記複数のローラ上に支持された基板が、前記ローラの回転によって搬送される。

本願の第５発明は、第１発明乃至第４発明のいずれか１発明の基板搬送装置であって、前記第１遮蔽板または前記第２遮蔽板は、基板が通過可能な開口部を有し、前記搬入口または前記搬出口の開放時には、前記搬入口または前記搬出口に、前記開口部が重なる。

本願の第６発明は、第１発明乃至第５発明のいずれか１発明の基板搬送装置であって、前記搬入口を介して水平姿勢の基板が搬入され、前記傾斜機構により傾斜された基板が、前記搬出口から搬出される。

本願の第７発明は、第６発明の基板搬送装置であって、前記搬入口は水平に延び、前記搬出口は、傾斜後の前記基板の傾きと略同一の角度で斜めに延びる。

本願の第８発明は、第１発明乃至第７発明のいずれか１発明の基板搬送装置と、前記基板搬送装置の搬送方向下流側に隣接配置され、前記搬出口から搬出された基板に対して流体を用いた処理を行う処理室と、を備える。

本願の第９発明は、第８発明の基板処理装置であって、前記基板搬送装置の搬送方向上流側に隣接配置された処理室をさらに有し、前記処理室は、前記搬入口側へ向けて気体を供給するファンユニットを有する。

本願の第１０発明は、搬入口と搬出口とを備えた筐体の内部において、前記搬入口から前記搬出口へ向かう搬送方向に基板を搬送する基板搬送方法であって、ａ）前記筐体の内部において前記基板の姿勢を水平姿勢と傾斜姿勢との間で切り替える工程と、ｂ）前記搬入口および前記搬出口の少なくとも一方の開閉状態を切り替える工程と、を有し、前記工程ａ）と前記工程ｂ）とが、連動して実行される。

本願の第１発明から第９発明によれば、搬入口および搬出口の少なくとも一方が、傾斜機構と連動して開閉される。これにより、動力源の数を抑えつつ、処理空間の遮断と連通とを切り替えることができる。

特に、本願の第２発明によれば、搬入口と搬出口の双方が、傾斜機構と連動して開閉される。これにより、動力源の数をより少なくすることができる。

特に、本願の第３発明によれば、搬入口および搬出口が同時に開放されることはない。このため、筐体よりも搬送方向上流側の空間と筐体よりも搬送方向下流側の空間とが連通しない。これにより、処理空間の相互の影響をより抑制できる。

特に、本願の第７発明によれば、搬入時および搬出時の基板の姿勢に応じて、搬入口および搬出口を異なる形状とする。これにより、搬入口および搬出口の開口面積を小さくすることができる。

特に、本願の第８発明によれば、基板搬送装置を介して搬送方向下流側の処理室に気体が流れ、当該処理室内において基板を処理する流体が乱れることを抑制できる。

また、本願の第１０発明によれば、搬入口および搬出口の少なくとも一方が、基板の傾斜と連動して開閉される。これにより、動力源の数を抑えつつ、処理空間の遮断と連通とを切り替えることができる。

基板処理装置の全体図である。 インデクサおよび洗浄部の縦断面図である。 第１基板搬送装置の斜視図である。 水平状態のローラ搬送機構および第１遮蔽板を、搬送方向上流側から見た図である。 傾斜状態のローラ搬送機構および第１遮蔽板を、搬送方向上流側から見た図である。 水平状態のローラ搬送機構および第２遮蔽板を、搬送方向下流側から見た図である。 傾斜状態のローラ搬送機構および第２遮蔽板を、搬送方向下流側から見た図である。 第１基板搬送装置の動作の流れを示したフローチャートである。

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しつつ説明する。

＜１．基板処理装置の構成＞
図１は、第１実施形態に係る基板搬送装置を備えた基板処理装置１の構成を示した概略図である。本実施形態の基板処理装置１は、液晶表示装置用ガラス基板９（以下、単に「基板９」と称する）に対して、レジスト液の塗布、露光、および露光後の現像を行う装置である。

基板処理装置１は、複数の処理部として、インデクサ１０、洗浄部１１、デハイドベーク部１２、塗布部１３、減圧乾燥部１４、プリベーク部１５、インターフェース部１６、露光部１７、現像部１８、リンス部１９、およびポストベーク部２０を有する。基板処理装置１の各処理部１０〜２０は、上記の順に互いに隣接して配置される。基板処理装置１は、図１中の破線矢印のように、これらの処理部１０〜２０の間で基板９を搬送しながら、基板９に対して順次に処理を行う。

インデクサ１０は、処理前の基板９を収容するとともに、洗浄部１１に対して基板９を供給する。また、インデクサ１０は、処理後の基板９をポストベーク部２０から受け取り、基板処理装置１の外部へ排出する。洗浄部１１は、インデクサ１０から搬入された基板９を洗浄し、基板９の表面に付着したパーティクル、有機汚染物質、金属汚染物質、油脂、自然酸化膜等を除去する。洗浄部１１の詳細な構成については、後述する。デハイドベーク部１２は、洗浄後の基板９を加熱乾燥させる。デハイドベーク部１２では、例えば、環境温度よりも高い所定の温度に保たれた加熱プレート上に基板９が載置される。これにより、基板９の表面に付着した洗浄液が気化して、基板９が乾燥する。

塗布部１３は、乾燥後の基板９の表面に、レジスト液を塗布する。塗布部１３では、例えば、水平に配置された基板９の表面に沿って、スリット状の吐出口を有するノズルを移動させつつ、当該ノズルから基板９の表面に向けて、レジスト液を吐出する。これにより、基板９の表面にレジスト液が塗布される。減圧乾燥部１４は、基板９の表面に塗布されたレジスト液を乾燥させる。減圧乾燥部１４では、例えば、基板９の周囲の圧力を低下させることによって、基板９の表面に塗布されたレジスト液から溶媒成分を気化させる。これにより、基板９の表面にレジスト膜が形成される。

プリベーク部１５は、基板９の表面に形成されたレジスト膜を、加熱により固化させる。プリベーク部１５内では、例えば、環境温度よりも高い所定の温度に保たれた加熱プレート上に基板９が載置される。これにより、基板９の表面に形成されたレジスト膜中に残存する溶媒成分が除去されて、基板９に対するレジスト膜の密着性が向上する。

インターフェース部１６は、プリベーク部１５と露光部１７と現像部１８との間で、基板９の受け渡しを行う。露光部１７は、基板９の表面に形成されたレジスト膜に、所定の回路パターンを露光する。インターフェース部１６から露光部１７へ搬入された基板９は、露光部１７内のステージ上に水平に載置される。そして、露光部１７内の光源から、フォトマスクを介して基板９の表面に光が照射される。これにより、フォトマスク上のパターンが、基板９のレジスト膜に転写される。

その後、基板９は、露光部１７から搬出され、インターフェース部１６を介して現像部１８へ搬送される。現像部１８は、露光後の基板９を現像液に浸して、現像処理を行う。これにより、基板９の上面にパターンが形成される。リンス部１９は、基板９の表面をリンス液ですすぐことによって、基板９の表面から現像液を洗い流す。これにより、現像処理の進行が停止する。ポストベーク部２０は、基板９を加熱することによって、基板９の表面に付着したリンス液を気化させる。これにより、基板９が乾燥する。その後、基板９は、ポストベーク部２０から再びインデクサ１０へ搬送される。

＜２．インデクサおよび洗浄部について＞
続いて、インデクサ１０および洗浄部１１の詳細な構成について説明する。図２は、インデクサ１０および洗浄部１１の縦断面図である。図２に示すように、洗浄部１１は、第１基板搬送装置３０、ＵＶ照射ユニット４０、洗浄ユニット５０、エアナイフユニット６０、および第２基板搬送装置７０を有する。

上述の通り、インデクサ１０は、処理前の基板９を収容するとともに、洗浄部１１に対して基板９を供給する。インデクサ１０は、第１基板搬送装置３０の搬送方向上流側に隣接配置されている。処理前の基板９は、作業者または自動搬送装置によって、インデクサ１０へ搬入される。インデクサ１０の内部には、複数枚の基板９を収納するためのスペースが設けられている。また、インデクサ１０は、基板９を取り出して第１基板搬送装置３０の後述するローラ３２１上に載置する基板搬送ロボット（図示省略）を有する。

また、図２に示すように、インデクサ１０の外壁には、ファンフィルタユニット１０１が設けられている。ファンフィルタユニット１０１は、インデクサ１０の処理室の内部に、常時清浄な気流Ｆを導入する。これにより。インデクサ１０の内部空間が、パーティクルの少ない清浄な空間に保たれる。したがって、インデクサ１０内で待機中の基板９に対して、パーティクルが付着することを抑制できる。本実施形態では、ファンフィルタユニット１０１の気流Ｆの向きが、第１基板搬送装置３０の搬入口３１１側へ向けられている。

第１基板搬送装置３０は、インデクサ１０の基板搬送ロボットから基板９を受け取り、当該基板９をＵＶ照射ユニット４０へ搬送する。第１基板搬送装置３０は、筐体３１と、筐体３１の内部に設けられたローラ搬送機構３２とを有する。基板９は、筐体３１の上流側の側壁に設けられた搬入口３１１を介して、筐体３１内に搬入される。ローラ搬送機構３２は、複数のローラ３２１上に基板９を載置しつつ、ローラ３２１の回転により基板９を搬送する。基板９は、筐体３１の下流側の側壁に設けられた搬出口３１２を介して、後続のＵＶ照射ユニット４０へ搬出される。

ローラ搬送機構３２は、左右の端部の高さが同等となる水平状態と、左右の端部の高さが相違する傾斜状態との間で、切り替え可能となっている。インデクサ１０から基板９を受け取るときには、水平状態の複数のローラ３２１上に基板９が載置される。一方、ＵＶ照射ユニット４０へ基板９を搬出するときには、複数のローラ３２１は傾斜状態となっている。第１基板搬送装置３０のより詳細な構造については、後述する。

ＵＶ照射ユニット４０は、基板９の表面に付着した有機系の不純物を除去するためのユニットである。ＵＶ照射ユニット４０は、第１基板搬送装置３０の搬送方向下流側に隣接配置されている。ＵＶ照射ユニット４０の内部空間は、酸素濃度の高い状態に保たれている。図２に示すように、ＵＶ照射ユニット４０は、ローラ搬送機構４１とＵＶ光源４２とを有する。ローラ搬送機構４１は、第１基板搬送装置３０から傾斜姿勢で搬出された基板９を、傾斜姿勢のまま、搬送方向下流側へ搬送する。

ＵＶ光源４２は、ローラ搬送機構４１上の基板９に対して、４００ｎｍよりも短波長の紫外線を照射する。紫外線が照射されると、ＵＶ照射ユニット４０の内部の酸素が紫外線に反応して、気体のオゾンが生成される。基板９の表面に付着した有機系の不純物は、紫外線によるエネルギーと、生成されたオゾンとによって、分解される。その後、基板９は、傾斜姿勢を維持したまま、洗浄ユニット５０へ搬送される。なお、ＵＶ光源には、より強度の強い紫外線を照射できる、エキシマＵＶを用いてもよい。

洗浄ユニット５０は、基板９に付着したパーティクル等の異物を除去するためのユニットである。洗浄ユニット５０は、ＵＶ照射ユニット４０の搬送方向下流側に隣接配置されている。図２に示すように、洗浄ユニット５０は、ローラ搬送機構５１と洗浄ノズル５２とを有する。ローラ搬送機構５１は、ＵＶ照射ユニット４０から傾斜姿勢で搬出された基板９を、傾斜姿勢のまま、搬送方向下流側へ搬送する。

洗浄ノズル５２は、ローラ搬送機構５１上の基板９に対して、洗浄液供給源（図示省略）から供給される洗浄液を吐出する。これにより、基板９に付着したパーティクルを、洗浄液とともに流し落とす。このとき、基板９は傾斜姿勢を維持しているため、基板９に吐出された洗浄液は、基板９の表面に沿って効率よく流れ落ちる。これにより、基板９の表面に洗浄液が滞留することがなく、基板９の表面に新しい洗浄液が供給され続ける。その結果、洗浄液によるパーティクルの除去効果が向上する。洗浄処理が完了すると、基板９は、傾斜姿勢を維持したまま、エアナイフユニット６０へ搬送される。

エアナイフユニット６０は、基板９に付着した洗浄液を除去するためのユニットである。エアナイフユニット６０は、洗浄ユニット５０の搬送方向下流側に隣接配置されている。エアナイフユニット６０は、ローラ搬送機構６１とエアナイフ６２とを有する。ローラ搬送機構６１は、洗浄ユニット５０から傾斜姿勢で搬出された基板９を、傾斜姿勢のまま、搬送方向下流側へ搬送する。

エアナイフ６２は、ローラ搬送機構６１上の基板９に対して、エア供給源（図示省略）から供給される高圧の清浄な空気を吹き付ける。これにより、基板９の表面に付着した洗浄液が吹き飛ばされ、基板９の表面が乾燥する。その後、基板９は、傾斜姿勢を維持したまま、第２基板搬送装置７０へ搬送される。なお、エアナイフ６２から、空気に代えて窒素ガス等の不活性ガスを噴射してもよい。

第２基板搬送装置７０は、エアナイフユニット６０から搬送された基板９を、後続のデハイドベーク部１２へ搬出する。第２基板搬送装置７０は、エアナイフユニット６０の搬送方向下流側に隣接配置されている。第２基板搬送装置７０は、筐体７１と、筐体７１の内部に設けられたローラ搬送機構７２とを有する。基板９は、筐体７１の上流側の側壁に設けられた搬入口７１１を介して、筐体７１内に搬入される。ローラ搬送機構７２は、複数のローラ７２１上に基板９を載置しつつ、ローラ７２１の回転により基板９を搬送する。そして、基板９は、筐体７１の下流側の側壁に設けられた搬出口７１２を介して、後続のデハイドベーク部１２へ搬出される。

ローラ搬送機構７２の各ローラ７２１は、左右の端部の高さが同等となる水平状態と、左右の端部の高さが相違する傾斜状態との間で、切り替え可能となっている。基板９が搬入口７１１を通過する時点では、傾斜姿勢の基板９が、傾斜状態の複数のローラ７２１上に移載される。一方、基板９が搬出口７１２を通過するときには、複数のローラ７２１は水平状態となり、基板９は水平姿勢でデハイドベーク部１２へ搬出される。

＜３．第１基板搬送装置の構成＞
続いて、第１基板搬送装置３０のより詳細な構成について、説明する。図３は、第１基板搬送装置３０の斜視図である。上述の通り、第１基板搬送装置３０は、搬入口３１１から水平姿勢で基板９を搬入し、その後、基板９を傾斜姿勢に切り替えて、搬出口３１２から搬出する。図３に示すように、本実施形態の第１基板搬送装置３０は、筐体３１、ローラ搬送機構３２、傾斜機構３３、第１遮蔽板３４、および第２遮蔽板３５を有する。

筐体３１は、インデクサ１０とＵＶ照射ユニット４０との間に配置されている。ローラ搬送機構３２、傾斜機構３３、第１遮蔽板３４、および第２遮蔽板３５は、筐体３１の内部に収容される。上述のように、筐体３１は、搬入口３１１と搬出口３１２とを備えている。搬入口３１１は、筐体３１の搬送方向上流側の側壁に設けられた貫通孔である。搬入口３１１は、左右に水平に延び、基板搬送ロボットに保持された水平姿勢の基板９が通過するために、必要かつ十分な大きさに形成されている。搬出口３１２は、筐体３１の搬送方向下流側の側壁に設けられた貫通孔である。搬出口３１２は、傾斜後の基板９の傾きと略同一の角度で斜めに延び、基板９が通過するために、必要かつ十分な大きさに形成されている。

ローラ搬送機構３２は、搬送方向に配列された複数のローラ軸３２０と、各ローラ軸３２０に固定された複数のローラ３２１と、一対のサイドプレート（ローラ支持部）３２２とを有する。複数のローラ軸３２０は、それぞれ、左右方向に延びている。各ローラ軸３２０の両端部は、サイドプレート３２２に回転可能に支持されている。本実施形態のローラ３２１は、円盤状であり、その中心がローラ軸３２０に固定されている。図示しないモータを駆動させると、複数のローラ軸３２０がそれぞれ回転し、ローラ軸３２０とともに複数のローラ３２１も回転する。これにより、複数のローラ３２１上に支持された基板９が、搬入口３１１から搬出口３１２へ向かう搬送方向に搬送される。

なお、本実施形態のローラ搬送機構３２では、複数の円盤状のローラ３２１を用いているが、これに代えて、各ローラ軸３２０に、１つまたは複数の円柱状のローラが、固定されていてもよい。また、ローラ軸３２０が回転不能に固定され、ローラ軸３２０に対して各ローラ３２１が回転する構造であってもよい。

傾斜機構３３は、ローラ搬送機構３２に支持された基板９の姿勢を、水平姿勢と傾斜姿勢との間で切り替える機構である。図３に示すように、傾斜機構３３は、回転軸３３１、軸支持部３３２、昇降治具３３３、およびエアシリンダ３３４を有する。回転軸３３１は、一方のサイドプレート３２２の外側において、基板９の搬送方向と略平行に配置される。回転軸３３１の両端部は、軸支持部３３２を介してサイドプレート３２２に固定される。昇降治具３３３は、他方のサイドプレート３２２の外側の面に固定されている。エアシリンダ３３４は、空気圧によってロッドを上下に昇降させ、昇降治具３３３の高さを切り替える。

エアシリンダ３３４のロッドを下方へ降下させた状態では、ローラ搬送機構３２の一対のサイドプレート３２２の高さが一致する。このため、複数のローラ３２１は、水平に配置され、ローラ３２１上の基板９も水平姿勢となる。一方、エアシリンダ３３４のロッドを上方へ突出させると、昇降治具３３３とともに、エアシリンダ３３４側のサイドプレート３２２の高さが上昇する。これにより、回転軸３３１を中心として、複数のローラ軸３２０、複数のローラ３２１、および一対のサイドプレート３２２が、全体として傾斜する。その結果、ローラ３２１上に支持された基板９の姿勢が、水平姿勢から傾斜姿勢に切り替わる。

なお、本実施形態では、傾斜機構３３の動力源としてエアシリンダ３３４を用いているが、エアシリンダに代えて、モータ等の他の動力源を用いてもよい。

第１遮蔽板３４は、筐体３１の搬入口３１１を開閉するためのシャッタ部材である。本実施形態では、一対のサイドプレート３２２の搬送方向上流側の端部に、第１遮蔽板３４が固定されている。また、第１遮蔽板３４は、サイドプレート３２２との固定位置から下側へ向けて広がっている。傾斜機構３３を駆動させると、一対のサイドプレート３２２とともに、第１遮蔽板３４の姿勢も、水平状態と傾斜状態との間で切り替わる。

図４は、水平状態のローラ搬送機構３２および第１遮蔽板３４を、搬送方向上流側から見た図である。図５は、傾斜状態のローラ搬送機構３２および第１遮蔽板３４を、搬送方向上流側から見た図である。図４および図５では、搬入口３１１の位置が、二点鎖線で示されている。図４に示すように、水平状態のときには、搬入口３１１よりも下側に、第１遮蔽板３４が配置される。したがって、搬入口３１１は開放される。一方、図５に示すように、傾斜状態のときには、搬入口３１１と重なる位置に、第１遮蔽板３４が配置される。したがって、搬入口３１１は閉鎖される。

第２遮蔽板３５は、筐体３１の搬出口３１２を開閉するためのシャッタ部材である。本実施形態では、一対のサイドプレート３２２の搬送方向下流側の端部に、第２遮蔽板３５が固定されている。また、第２遮蔽板３５は、サイドプレート３２２との固定位置から上側へ向けて広がっている。傾斜機構３３を駆動させると、一対のサイドプレート３２２とともに、第２遮蔽板３５の姿勢も、水平状態と傾斜状態との間で切り替わる。第２遮蔽板３５には、搬送方向に貫通する開口部３５１が設けられている。開口部３５１は、基板９が通過可能な大きさを有する。

図６は、水平状態のローラ搬送機構３２および第２遮蔽板３５を、搬送方向下流側から見た図である。図７は、傾斜状態のローラ搬送機構３２および第２遮蔽板３５を、搬送方向下流側から見た図である。図６および図７では、搬出口３１２の位置が、二点鎖線で示されている。図６に示すように、水平状態のときには、搬出口３１２と重なる位置に、第２遮蔽板３５が配置される。また、第２遮蔽板３５の開口部３５１は、搬出口３１２よりも下側に配置される。したがって、搬出口３１２は閉鎖される。一方、図７に示すように、傾斜状態のときには、搬出口３１２と重なる位置に、第２遮蔽板３５の開口部３５１が配置される。したがって、搬出口３１２が開放される。

ローラ搬送機構３２の動力源であるモータと、傾斜機構３３の動力源であるエアシリンダ３３４とは、制御部８０と電気的に接続されている。図３中に概念的に示したように、制御部８０は、ＣＰＵ等の演算処理部８１、ＲＡＭ等のメモリ８２、およびハードディスクドライブ等の記憶部８３を有するコンピュータにより構成されている。記憶部８３内には、基板９の搬送を制御するためのコンピュータプログラムＰが、インストールされている。制御部８０は、記憶部８３内のコンピュータプログラムＰをメモリ８２に一時的に読み出し、当該コンピュータプログラムＰに基づいて、演算処理部８１が演算処理を行うことにより、ローラ搬送機構３２および傾斜機構３３の動作を制御する。

＜４．第１基板搬送装置における搬送動作＞
続いて、第１基板搬送装置３０における搬送動作について、説明する。図８は、第１基板搬送装置３０の動作の流れを示したフローチャートである。

第１基板搬送装置３０に基板９を搬入するときには、まず、傾斜機構３３が、ローラ搬送機構３２を水平状態にする（ステップＳ１）。そうすると、ローラ搬送機構３２とともに第１遮蔽板３４および第２遮蔽板３５も水平状態となる。これにより、筐体３１の搬出口３１２が閉鎖されるとともに、搬入口３１１が開放される。インデクサ１０の基板搬送ロボットは、開放された搬入口３１１を介して基板９を搬入し、複数のローラ３２１上に水平姿勢の基板９を載置する。

次に、第１基板搬送装置３０は、複数のローラ３２１の回転を開始させる（ステップＳ２）。そうすると、複数のローラ３２１上に載置された基板９が、搬送方向下流側へ移動する。やがて、基板９の搬送方向上流側の端部が搬入口３１１を通過すると、第１基板搬送装置３０は、複数のローラ３２１の回転を停止させる（ステップＳ３）。

続いて、第１基板搬送装置３０は、傾斜機構３３を動作させて、ローラ搬送機構３２を水平状態から傾斜状態に切り替える（ステップＳ４）。これにより、基板９の姿勢が水平姿勢から傾斜姿勢に切り替えられる。また、ローラ搬送機構３２とともに第１遮蔽板３４および第２遮蔽板３５も傾斜状態となる。その結果、筐体３１の搬入口３１１が閉鎖されるとともに、搬出口３１２が開放される。

その後、第１基板搬送装置３０は、複数のローラ３２１の回転を再開させる（ステップＳ５）。そうすると、複数のローラ３２１上に載置された基板９が、傾斜姿勢を維持したまま、搬送方向下流側に移動する。そして、搬出口３１２を通って後続のＵＶ照射ユニット４０へ、基板９が搬出される。

以上のように、この第１基板搬送装置３０では、第１遮蔽板３４および第２遮蔽板３５の双方が、傾斜機構３３によるローラ搬送機構３２の傾斜駆動と連動して、動作する。これにより、搬入口３１１および搬出口３１２の双方が、傾斜機構３３と連動して開閉される。このため、ローラ搬送機構３２の姿勢を切り替えるための動力源であるエアシリンダ３３４とは別に、第１遮蔽板３４および第２遮蔽板３５を動作させるための動力源を設ける必要がない。したがって、動力源の数を抑えつつ、搬入口３１１および搬出口３１２の開閉を切り替えることができる。動力源の数が減れば、パーティクルが発生するリスクも抑えることができる。また、傾斜機構３３によるローラ搬送機構３２の傾斜駆動と、第１遮蔽板３４および第２遮蔽板３５の動作とが、機械的に同じタイミングで実行されるため、制御部８０において、これらの動作タイミングを同期させる必要がない。

また、この第１基板搬送装置３０では、搬入口３１１が開放されている間は、搬出口３１２が閉鎖されている。また、搬出口３１２が開放されている間は、搬入口３１１が閉鎖されている。すなわち、常に、搬入口３１１および搬出口３１２のいずれか一方は閉鎖されており、搬入口３１１と搬出口３１２とが同時に開放されることはない。このため、インデクサ１０の内部空間と、ＵＶ照射ユニット４０の内部空間とが、第１基板搬送装置３０を介して一度に連通することはない。

このため、本実施形態の構造では、ファンフィルタユニット１０１によってインデクサ１０内に生じる気流が、第１基板搬送装置３０を通ってＵＶ照射ユニット４０へ流れることを、防止できる。これにより、ＵＶ照射ユニット４０内の酸素やオゾンに乱れが生じることを抑制し、基板９の表面から有機系の不純物を、より均一かつ効率的に除去できる。すなわち、ＵＶ照射ユニット４０において、ファンフィルタユニット１０１の気流Ｆに起因するプロセス不良が生じることを、抑制できる。

＜５．第２基板搬送装置について＞
第２基板搬送装置７０は、第１基板搬送装置３０を搬送方向に反転させた構造を有する。すなわち、第２基板搬送装置７０は、第１基板搬送装置３０の搬出口３１２と同様の傾斜した搬入口７１１と、第１基板搬送装置３０の搬入口３１１と同様の水平な搬出口７１２とを有する。そして、当該搬入口７１１から当該搬出口７１２へ向けて、複数のローラ７２１により基板９を搬送するローラ搬送機構７２と、複数のローラ７２１を傾斜させる傾斜機構とを有する。

この第２基板搬送装置７０においても、搬入口７１１を開閉する第１遮蔽板７４と、搬出口７１２を開閉する第２遮蔽板７５とが、傾斜機構７３により動作する。このため、搬入口７１１および搬出口７１２は、傾斜機構７３によるローラ搬送機構７２の傾斜駆動と連動して開閉される。したがって、第１基板搬送装置３０と同じように、動力源の数を抑えつつ、搬入口７１１および搬出口７１２の開閉を切り替えることができる。

＜６．変形例＞
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は、上記の実施形態に限定されるものではない。

上記の実施形態では、第１遮蔽板および第２遮蔽板が、一対のサイドプレートに対して固定されていた。これにより、エアシリンダの駆動によって、ローラ搬送機構、第１遮蔽板、および第２遮蔽板を、一体に傾斜させていた。しかしながら、エアシリンダの動力を、ギアなどを含むリンク機構を用いて、第１遮蔽板および第２遮蔽板に伝達してもよい。第１傾斜板および第２傾斜板が動く方向および角度は、必ずしもローラ搬送機構が動く方向および角度と、一致していなくてもよい。

また、第１遮蔽板および第２遮蔽板は、搬入口および搬出口を、必ずしも完全に密閉できるものでなくてもよい。

また、上記の実施形態では、第１遮蔽板および第２遮蔽板の双方を、傾斜機構により動作させていた。しかしながら、第１遮蔽板および第２遮蔽板のいずれか一方の遮蔽板のみを、傾斜機構により動作させ、他方の遮蔽板を、別の動力源により動作させてもよい。当該別の動力源の駆動タイミングは、傾斜機構と連動するように、制御部によって制御すればよい。この場合でも、ローラ搬送機構の傾斜駆動と、第１遮蔽板と、第２遮蔽板とに、それぞれ別個の動力源を用いる場合と比べれば、動力源の数を減らすことができる。すなわち、本発明の基板搬送装置では、第１遮蔽板および第２遮蔽板の少なくとも一方を、傾斜機構と連動して動作させればよい。

また、上記の実施形態では、ローラ搬送機構、傾斜機構、第１遮蔽板、および第２遮蔽板が、筐体の内部に収容されていた。しかしながら、必ずしもこれらの全てが、筐体の内部に配置されていなくてもよい。例えば、傾斜機構の一部が、筐体の外部に位置していてもよい。また、第１遮蔽板および第２遮蔽板は、筐体の外側に設けられて、筐体の外側から搬入口および搬出口を開閉してもよい。

また、上記の実施形態では、第１遮蔽板および第２遮蔽板の一方のみに、基板が通過する開口部が設けられていた。しかしながら、第１遮蔽板および第２遮蔽板の双方に、基板が通過する開口部を設けてもよい。また、第１遮蔽板および第２遮蔽板の双方に、開口部の無い板材を用いてもよい。

また、上記の実施形態では、傾斜機構の回転軸が、サイドプレートの外側に配置されていた。しかしながら、傾斜機構の回転軸は、サイドプレートよりも内側に、基板の搬送方向と略平行に配置されていてもよい。例えば、搬送機構の左右方向中央に、傾斜機構の回転軸を配置してもよい。

また、上記の実施形態の傾斜機構は、一方のサイドプレートを押し上げることで、水平状態から傾斜状態への切り替えを行っていた。しかしながら、一方のサイドプレートを引き下げることで、水平状態から傾斜状態への切り替えを行うようにしてもよい。

また、上記の実施形態では、ローラ搬送機構により基板を搬送していた。しかしながら、本発明の搬送機構は、必ずしもローラ搬送機構でなくてもよい。例えば、ローラ搬送に代えて、コンベア搬送やベルト搬送を用いてもよい。

また、上記の実施形態では、第１基板搬送装置の搬送方向下流側に、ＵＶ照射ユニットが配置されていた。しかしながら、ＵＶ照射ユニットに代えて、例えば、プラズマ処理ユニットが設けられている場合にも、本発明は特に有用である。基板搬送装置の搬送方向下流側に、何らかの流体によって基板を処理する処理ユニットが配置される場合、当該流体の乱れを防止することが好ましい。したがって、上記の基板搬送装置のように、搬入口および搬出口の少なくとも一方を必ず閉鎖するようにして、通気を抑制することが、基板の処理品質の向上に繋がる。

また、上記の実施形態の第１基板搬送装置および第２基板搬送装置は、基板に対して洗浄、乾燥、熱処理、液塗布等の処理を行うことなく、基板を搬送するものであった。しかしながら、本発明の基板搬送装置は、基板に対して洗浄、乾燥、熱処理、液塗布等の処理を行いながら、基板を搬送するものであってもよい。

また、上記の実施形態の第１基板搬送装置および第２基板搬送装置は、基板処理装置の一部であった。しかしながら、本発明の基板搬送装置は、他の処理部とともに設置されない独立した装置であってもよい。

また、上記の実施形態の基板搬送装置は、液晶表示装置用ガラス基板を処理対象としていた。しかしながら、本発明の基板搬送装置は、ＰＤＰ用ガラス基板、有機ＥＬ用ガラス基板、半導体ウエハ、フォトマスク用ガラス基板、カラーフィルタ用基板、記録ディスク用基板、太陽電池用基板などの他の精密電子装置用基板を処理対象とするものであってもよい。

また、上記の実施形態や変形例に登場した各要素を、矛盾が生じない範囲で、適宜に組み合わせてもよい。

１ 基板処理装置
９ 基板
１０ インデクサ
１１ 洗浄部
１２ デハイドベーク部
１３ 塗布部
１４ 減圧乾燥部
１５ プリベーク部
１６ インターフェース部
１７ 露光部
１８ 現像部
１９ リンス部
２０ ポストベーク部
３０ 第１基板搬送装置
３１ 筐体
３２ ローラ搬送機構
３３ 傾斜機構
３４ 第１遮蔽板
３５ 第２遮蔽板
４０ ＵＶ照射ユニット
５０ 洗浄ユニット
６０ エアナイフユニット
７０ 第２基板搬送装置
７１ 筐体
７２ ローラ搬送機構
７３ 傾斜機構
８０ 制御部
１０１ ファンフィルタユニット
３１１ 搬入口
３１２ 搬出口
３２０ ローラ軸
３２１ ローラ
３２２ サイドプレート
３３１ 回転軸
３３２ 軸支持部
３３３ 昇降治具
３３４ エアシリンダ
３５１ 開口部
７１１ 搬入口
７１２ 搬出口
７２１ ローラ
Ｐ ：コンピュータプログラム

Claims (10)

1. 搬入口と搬出口とを備える筐体と、
   前記筐体の内部において、基板を支持しつつ、前記搬入口から前記搬出口へ向かう搬送方向に基板を搬送する搬送機構と、
   前記搬送機構に支持された基板を傾斜させる傾斜機構と、
   前記搬入口を開閉する第１遮蔽板と、
   前記搬出口を開閉する第２遮蔽板と、
   を有し、
   前記第１遮蔽板および前記第２遮蔽板の少なくとも一方が、前記傾斜機構と連動して動作する基板搬送装置。
2. 請求項１に記載の基板搬送装置であって、
   前記第１遮蔽板および前記第２遮蔽板の双方が、前記傾斜機構と連動して動作する基板搬送装置。
3. 請求項１または請求項２に記載の基板搬送装置であって、
   前記搬入口および前記搬出口のいずれか一方が開放される間は、他方は閉鎖される基板搬送装置。
4. 請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の基板搬送装置であって、
   前記搬送機構は、複数のローラを備え、
   前記複数のローラ上に支持された基板が、前記ローラの回転によって搬送される基板搬送装置。
5. 請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の基板搬送装置であって、
   前記第１遮蔽板または前記第２遮蔽板は、基板が通過可能な開口部を有し、
   前記搬入口または前記搬出口の開放時には、前記搬入口または前記搬出口に、前記開口部が重なる基板搬送装置。
6. 請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の基板搬送装置であって、
   前記搬入口を介して水平姿勢の基板が搬入され、前記傾斜機構により傾斜された基板が、前記搬出口から搬出される基板搬送装置。
7. 請求項６に記載の基板搬送装置であって、
   前記搬入口は水平に延び、
   前記搬出口は、傾斜後の前記基板の傾きと略同一の角度で斜めに延びる基板搬送装置。
8. 請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載の基板搬送装置と、
   前記基板搬送装置の搬送方向下流側に隣接配置され、前記搬出口から搬出された基板に対して、流体を用いた処理を行う処理室と、
   を備えた基板処理装置。
9. 請求項８に記載の基板処理装置であって、
   前記基板搬送装置の搬送方向上流側に隣接配置された処理室
   をさらに有し、
   前記処理室は、前記搬入口側へ向けて気体を供給するファンユニットを有する基板処理装置。
10. 搬入口と搬出口とを備えた筐体の内部において、前記搬入口から前記搬出口へ向かう搬送方向に基板を搬送する基板搬送方法であって、
    ａ）前記筐体の内部において前記基板の姿勢を水平姿勢と傾斜姿勢との間で切り替える工程と、
    ｂ）前記搬入口および前記搬出口の少なくとも一方の開閉状態を切り替える工程と、
    を有し、
    前記工程ａ）と前記工程ｂ）とが、連動して実行される基板搬送方法。

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