JP2016181626A - 処理システム、処理方法、及び、プログラム - Google Patents
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Abstract
Description
処理室内に収容された被処理体の処理内容に応じた処理条件および装置状況に関する適用条件を記憶する処理条件記憶手段と、
前記処理条件の変化と、処理結果の変化との関係を示す処理変化モデルを記憶する処理変化モデル記憶手段と、
前記被処理体の目標とする処理結果に関する情報を受信する処理情報受信手段と、
前記処理情報受信手段により受信された目標とする処理結果に関する情報と、前記処理条件記憶手段により記憶された処理条件とに基づいて、必要な処理条件を特定する処理条件特定手段と、
前記処理条件特定手段により特定された処理条件で前記被処理体に処理を実行する処理実行手段と、
前記処理実行手段で実行した処理における装置状況が、前記処理条件特定手段により特定された処理条件に対応する装置状況に関する適用条件に適合しているか否かを判別する判別手段と、
前記判別手段により装置状況に関する適用条件に適合していると判別されると、前記処理実行手段により実行された処理条件と、当該処理条件で処理した処理結果と、前記処理変化モデル記憶手段に記憶された処理変化モデルとに基づいて、前記目標とする処理結果に近い処理条件を算出する処理条件算出手段と、
前記処理条件算出手段により算出された処理条件を前記処理条件特定手段により特定された処理条件に更新する処理条件更新手段と、
を備える、ことを特徴とする。
前記処理結果は前記被処理体に形成された薄膜の膜厚または膜中不純物濃度である。
処理室内に収容された被処理体の処理内容に応じた処理条件および装置状況に関する適用条件を記憶する処理条件記憶工程と、
前記処理条件の変化と、処理結果の変化との関係を示す処理変化モデルを記憶する処理変化モデル記憶工程と、
前記被処理体の目標とする処理結果に関する情報を受信する処理情報受信工程と、
前記処理情報受信工程で受信された目標とする処理結果に関する情報と、前記処理条件記憶工程で記憶された処理条件とに基づいて、必要な処理条件を特定する処理条件特定工程と、
前記処理条件特定工程で特定された処理条件で前記被処理体に処理を実行する処理実行工程と、
前記処理実行工程で実行した処理における装置状況が、前記処理条件特定工程で特定された処理条件に対応する装置状況に関する適用条件に適合しているか否かを判別する判別工程と、
前記判別工程で装置状況に関する適用条件に適合していると判別されると、前記処理実行工程で実行された処理条件と、当該処理条件で処理した処理結果と、前記処理変化モデル記憶工程で記憶された処理変化モデルとに基づいて、前記目標とする処理結果に近い処理条件を算出する処理条件算出工程と、
前記処理条件算出工程で算出された処理条件を前記処理条件特定工程で特定された処理条件に更新する処理条件更新工程と、
を備える、ことを特徴とする。
コンピュータを、
処理室内に収容された被処理体の処理内容に応じた処理条件および装置状況に関する適用条件を記憶する処理条件記憶手段、
前記処理条件の変化と、処理結果の変化との関係を示す処理変化モデルを記憶する処理変化モデル記憶手段、
前記被処理体の目標とする処理結果に関する情報を受信する処理情報受信手段、
前記処理情報受信手段により受信された目標とする処理結果に関する情報と、前記処理条件記憶手段により記憶された処理条件とに基づいて、必要な処理条件を特定する処理条件特定手段、
前記処理条件特定手段により特定された処理条件で前記被処理体に処理を実行する処理実行手段、
前記処理実行手段で実行した処理における装置状況が、前記処理条件特定手段により特定された処理条件に対応する装置状況に関する適用条件に適合しているか否かを判別する判別手段、
前記判別手段により装置状況に関する適用条件に適合していると判別されると、前記処理実行手段により実行された処理条件と、当該処理条件で処理した処理結果と、前記処理変化モデル記憶手段に記憶された処理変化モデルとに基づいて、前記目標とする処理結果に近い処理条件を算出する処理条件算出手段、
前記処理条件算出手段により算出された処理条件を前記処理条件特定手段により特定された処理条件に更新する処理条件更新手段、
として機能させる、ことを特徴とする。
RAM55は、CPU57のワークエリアなどとして機能する。
2 反応管
3 マニホールド
6 蓋体
9 ウエハボート
10 ヒータ部
11〜15 ヒータ
16〜20 電力コントローラ
21〜23 処理ガス供給管
24〜26 流量調整部
50 制御部
51 モデル記憶部
52 レシピ記憶部
53 ログ記憶部
54 ROM
55 RAM
57 CPU
W 半導体ウエハ
Claims (5)
- 処理室内に収容された被処理体の処理内容に応じた処理条件および装置状況に関する適用条件を記憶する処理条件記憶手段と、
前記処理条件の変化と、処理結果の変化との関係を示す処理変化モデルを記憶する処理変化モデル記憶手段と、
前記被処理体の目標とする処理結果に関する情報を受信する処理情報受信手段と、
前記処理情報受信手段により受信された目標とする処理結果に関する情報と、前記処理条件記憶手段により記憶された処理条件とに基づいて、必要な処理条件を特定する処理条件特定手段と、
前記処理条件特定手段により特定された処理条件で前記被処理体に処理を実行する処理実行手段と、
前記処理実行手段で実行した処理における装置状況が、前記処理条件特定手段により特定された処理条件に対応する装置状況に関する適用条件に適合しているか否かを判別する判別手段と、
前記判別手段により装置状況に関する適用条件に適合していると判別されると、前記処理実行手段により実行された処理条件と、当該処理条件で処理した処理結果と、前記処理変化モデル記憶手段に記憶された処理変化モデルとに基づいて、前記目標とする処理結果に近い処理条件を算出する処理条件算出手段と、
前記処理条件算出手段により算出された処理条件を前記処理条件特定手段により特定された処理条件に更新する処理条件更新手段と、
を備える、ことを特徴とする処理システム。 - 前記処理内容は成膜処理であり、
前記処理結果は前記被処理体に形成された薄膜の膜厚または膜中不純物濃度である、ことを特徴とする請求項1に記載の処理システム。 - 前記装置状況に関する適用条件は、前記処理室内に収容された被処理体の枚数と位置を示す被処理体の移載レイアウト、トータル移載枚数、ダミー被処理体の枚数と位置を示すダミー被処理体レイアウト、モニター被処理体の枚数と位置を示すモニター被処理体レイアウト、前記処理室内に付着した累積膜厚、および、ダミー被処理体に付着した累積膜厚の少なくとも1つである、ことを特徴とする請求項1または2に処理システム。
- 処理室内に収容された被処理体の処理内容に応じた処理条件および装置状況に関する適用条件を記憶する処理条件記憶工程と、
前記処理条件の変化と、処理結果の変化との関係を示す処理変化モデルを記憶する処理変化モデル記憶工程と、
前記被処理体の目標とする処理結果に関する情報を受信する処理情報受信工程と、
前記処理情報受信工程で受信された目標とする処理結果に関する情報と、前記処理条件記憶工程で記憶された処理条件とに基づいて、必要な処理条件を特定する処理条件特定工程と、
前記処理条件特定工程で特定された処理条件で前記被処理体に処理を実行する処理実行工程と、
前記処理実行工程で実行した処理における装置状況が、前記処理条件特定工程で特定された処理条件に対応する装置状況に関する適用条件に適合しているか否かを判別する判別工程と、
前記判別工程で装置状況に関する適用条件に適合していると判別されると、前記処理実行工程で実行された処理条件と、当該処理条件で処理した処理結果と、前記処理変化モデル記憶工程で記憶された処理変化モデルとに基づいて、前記目標とする処理結果に近い処理条件を算出する処理条件算出工程と、
前記処理条件算出工程で算出された処理条件を前記処理条件特定工程で特定された処理条件に更新する処理条件更新工程と、
を備える、ことを特徴とする処理方法。 - コンピュータを、
処理室内に収容された被処理体の処理内容に応じた処理条件および装置状況に関する適用条件を記憶する処理条件記憶手段、
前記処理条件の変化と、処理結果の変化との関係を示す処理変化モデルを記憶する処理変化モデル記憶手段、
前記被処理体の目標とする処理結果に関する情報を受信する処理情報受信手段、
前記処理情報受信手段により受信された目標とする処理結果に関する情報と、前記処理条件記憶手段により記憶された処理条件とに基づいて、必要な処理条件を特定する処理条件特定手段、
前記処理条件特定手段により特定された処理条件で前記被処理体に処理を実行する処理実行手段、
前記処理実行手段で実行した処理における装置状況が、前記処理条件特定手段により特定された処理条件に対応する装置状況に関する適用条件に適合しているか否かを判別する判別手段、
前記判別手段により装置状況に関する適用条件に適合していると判別されると、前記処理実行手段により実行された処理条件と、当該処理条件で処理した処理結果と、前記処理変化モデル記憶手段に記憶された処理変化モデルとに基づいて、前記目標とする処理結果に近い処理条件を算出する処理条件算出手段、
前記処理条件算出手段により算出された処理条件を前記処理条件特定手段により特定された処理条件に更新する処理条件更新手段、
として機能させる、ことを特徴とするプログラム。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP2015061610A JP6378639B2 (ja) | 2015-03-24 | 2015-03-24 | 処理システム、処理方法、及び、プログラム |
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JP2015061610A JP6378639B2 (ja) | 2015-03-24 | 2015-03-24 | 処理システム、処理方法、及び、プログラム |
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Publication Number | Publication Date |
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JP6378639B2 JP6378639B2 (ja) | 2018-08-22 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2015061610A Active JP6378639B2 (ja) | 2015-03-24 | 2015-03-24 | 処理システム、処理方法、及び、プログラム |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180109717A (ko) * | 2017-03-28 | 2018-10-08 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 시스템, 제어 장치, 성막 방법 및 프로그램 |
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2015
- 2015-03-24 JP JP2015061610A patent/JP6378639B2/ja active Active
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