JP2016172242A - 塗布装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】グラビア及び小径グラビア塗布において、基材のテンション調整に煩雑さを要せず、シワやうねりをもつような変形を有する基材においても、基材の幅方向及び搬送方向において均一な膜厚で塗布することができ、かつ生産性を確保した塗布装置を提供する。【解決手段】塗布液を貯蔵する貯蔵部と、塗布液を供給部を介して前記貯蔵部とインキパン内の塗布液を循環させる循環部と、塗布液を基材に塗布するためのグラビア版とドクターと前記インキパンを備える塗布部と、前記基材上に形成された塗布膜を乾燥させる乾燥部と、を有するグラビア装置において、前記塗布部には、前記グラビア版から前記基材に塗布液が転写する工程の前に、前記グラビア版によって掻き揚げられた余分な塗布液を掻き落とす第1ドクターが設置され、前記転写工程後であって前記インキパン内の塗布液中に回転ロールを備えていることを特徴とする塗布装置である。【選択図】 図2
Description
本発明は、グラビア及び小径グラビア塗布に関する。
グラビア及び小径グラビア塗布において生産速度が高速化するに従い、版の回転速度が上昇し、それに伴って版に同伴する空気層(以下同伴風)も増加する。ある一定以上同伴風が成長すると、液パンに進入し、泡の発生や版への液の充填を妨げ、塗布ヌケが発生するという問題がある。
特許文献1では、基材に搬送される同伴風に対して、塗布部直前に減圧空間を用いることで同伴風を引き剥がし、基材と塗液の接触を安定させるという方法が提案されている。
しかし、この技術を今回の課題に転用する場合、グラビア塗布の場合は塗布を行った後の版にも塗液が残留しているため、この状態で減圧やエアを吹きつける工程は急激な乾燥を促進し、版を詰まらせる原因となる。そのため、同伴風による問題を発生させない領域での塗布は生産性を犠牲にしてしまう。
しかし、この技術を今回の課題に転用する場合、グラビア塗布の場合は塗布を行った後の版にも塗液が残留しているため、この状態で減圧やエアを吹きつける工程は急激な乾燥を促進し、版を詰まらせる原因となる。そのため、同伴風による問題を発生させない領域での塗布は生産性を犠牲にしてしまう。
また、特許文献2では、グラビア版に設置された第2ドクターを用いて同伴風を除去する方法が提案されているが、第2ドクターとグラビア版の間で発生する摩擦による発熱や振動が問題となり、品質の安定性を低下するという問題がある。
本発明は生産速度の高速化に従って成長する同伴風によって、液パン内に気泡の発生や版への液の充填が妨げられ発生する塗布抜けを抑制しつつ、グラビア版とドクターの間で発生する摩擦熱等による塗液の変質や振動を防ぎ、生産性を確保した塗布装置を提供することを課題とする。
上記課題を解決するために請求項1に係る発明としては、塗布液を貯蔵する貯蔵部と、塗布液を供給部を介して前記貯蔵部とインキパン内の塗布液を循環させる循環部と、塗布液を基材に塗布するためのグラビア版とドクターと前記インキパンを備える塗布部と、前記基材上に形成された塗布膜を乾燥させる乾燥部と、を有するグラビア装置において、前記塗布部には、前記グラビア版から前記基材に塗布液が転写する工程の前に、前記グラビア版によって掻き揚げられた余分な塗布液を掻き落とす第1ドクターが設置され、前記転写工程後であって前記インキパン内の塗布液中に回転ロールを備えていることを特徴とする塗布装置である。
また、請求項2に係る発明としては、前記回転ロールは前記グラビア版表面から5mm以下の相対距離にあり、かつ前記グラビア版に接触しない位置に設置されていることを特徴とする塗布装置である。
また、請求項3に係る発明としては、記回転ロールの回転方向は版回転方向と同一方向に回転することを特徴とする塗布装置である。
また、請求項4に係る発明としては、前記回転ロールが前記インキパン内の塗布液中に浸漬していることを特徴とする塗布装置である。
本発明は生産速度の高速化に従って、成長する同伴風によって、インキパン内に気泡の発生やグラビア版への液の充填が妨げられ発生する塗布ヌケを抑制しつつ、摩擦熱等による塗液の変質や振動を防ぐことができるので、安定生産が可能となり、生産性の向上が期待できる。
図1は、本発明の製造工程の一例の説明図であり、これに限定されるものではない。
図1と図2に示すグラビア装置において、供給部2(送液ポンプ)により貯蔵タンク1中の塗布液をインキパン3内に供給され、インキパン3内の塗布液はグラビア版4によって掻き揚げられる。グラビア版にはドクター8が備えられており、巻出し部5から巻き出された長尺状の樹脂フィルム10上の表面にグラビア版4の版面から塗布液が転写することにより塗布膜が形成され、乾燥部6を経由して巻取り部7で塗布膜が形成された樹脂フィルム10が巻き取られる塗布装置である。
図2に示す塗布装置のインキパン3を有する塗布部には、ドクター8と回転ロール9を備えている。インキパン3内に貯留された塗布液がグラビア版4の凹部(セル)内に塗布液が充填され、グラビア版の凹部のみに塗布液が存在するようにドクター8で余分な塗布液を掻き落とす。余分な塗布液を掻き落とした後、塗布液はグラビア版の版面から樹脂フィルム10の表面に転写されて塗布膜が形成される。
グラビア及び小径グラビア塗布では、生産性を上げるためにグラビア版4の回転速度を上げると、回転速度が上げることに伴って同伴する同伴風が増加する現象が起こる。ある一定以上の同伴風が成長すると、同伴風の気泡がインキパン3内に侵入し、グラビア版4の凹部内に塗布液が充填できない、塗布膜に塗布抜けが発生するなど品質不良を引き起こす。
本発明の塗布装置では、回転するグラビア版4の凹部がインキパン3内に進入する位置に回転ロール9が設置されており、塗布作業中は回転ロール9が回転する構造を有している。グラビア版4に設置されるドクター8によって余分な塗布液を掻き落とし、グラビア版4がインキパン3内に侵入すると、グラビア版4とドクター8との摩擦熱によって塗布液が温められ、その塗布液が滞留して変質するという問題があった。
本発明の塗布装置では、グラビア版4と隣接するようにインキパン3内に回転ロール9が設置されることでインキパン3内の塗布液の滞留を防ぎ、塗布液の変質を抑制することができる。また、同伴風がインキパン3内に侵入しても、回転ロール9によって欠陥レベル以下になる程度に気泡を押し潰し、塗布抜けの発生も抑えることができる。
樹脂フィルムはポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、6−ナイロン、6,6−ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコールなどを用いることが望ましいがこれに限定するものではない。
塗布液においては、熱硬化性塗液であればよく特に規定はしない。例えば主剤としてはポリオールなどを有するウレタン樹脂、フッ素樹脂、アクリル樹脂などである。また硬化剤は例えばイソシアネートなどがあるが、これらに限定するものではない。撹拌方法も特に規定はしないが一般的なディスパー、ミクサーなどを用いることができる。
塗布液を供給部2を介して貯蔵タンク1と塗布部へ塗布液を循環させる工程において、供給部2は定量送液方法が望ましく、モーノポンプ、ダイアフラムポンプ、ギアポンプ、レビトロポンプなどを用いることができるが、これに限定するものではない。
塗布部より貯蔵タンク1への送液は、自重による循環が望ましいが特に限定はしない。
塗布液を樹脂フィルム10上に塗布する工程は、グラビアコーター、小径グラビアコーターを用いることができるがこれに限ったものではない。
回転ロール9はインキパン3内で回転ロール9の全体もしくは一部が浸漬され、一定速度で回転できればよく、特に材質や形状は制限されない。
樹脂フィルム10上の塗布膜を乾燥・加熱する工程においては、加熱方法は熱風、赤外線乾燥、マイクロ波いずれかの単独もしくは併用でもよく、構成は問わない。
次に、本発明の実施例について説明する。この説明を行う目的は、本発明の理解を進めるためのものであり、ここに記載した内容に限定するものではない。
<実施例1>
・基材 :ポリエチレンテレフタレートフィルム(75μm)
・塗布液組成1:
主剤(デュラノールT5650J 旭化成ケミカル製):60重量部
硬化剤(タケネート D−204) :10重量部
アセトン :30重量部
回転ロール :38L/inch、深さ255μm
[基材の表面処理工程]
基材をコロナ放電処理装置(AGI−043、春日電機社製)を用いて下記条件で処理を行う。
表面処理条件:24W・min/m2
[送液工程]
上記の塗布液を作成完了より5分以内に貯蔵タンクより、1000ml/minにてダイアフラムポンプ(スムーズフローポンプ株式会社タクミナ製)にて送液し、液パンからは自重により、貯蔵タンクに液を戻す。
[塗布工程]
マイクログラビアコーターを用いて版直径50mmを用い、塗布基材端両部にてΔhが4mmになるよう設置し、版周速50m/minで塗布を行い、回転ロールは版の垂直位置から上流側に20°、版との相対距離500μmに設置し、版に対する回転速度比は150%とした。
[乾燥工程]
塗膜の乾燥は塗面近傍の風速10m/sになるように塗膜面より直接熱風を当て、塗膜温度が170℃になるように30s間加熱した。
<実施例1>
・基材 :ポリエチレンテレフタレートフィルム(75μm)
・塗布液組成1:
主剤(デュラノールT5650J 旭化成ケミカル製):60重量部
硬化剤(タケネート D−204) :10重量部
アセトン :30重量部
回転ロール :38L/inch、深さ255μm
[基材の表面処理工程]
基材をコロナ放電処理装置(AGI−043、春日電機社製)を用いて下記条件で処理を行う。
表面処理条件:24W・min/m2
[送液工程]
上記の塗布液を作成完了より5分以内に貯蔵タンクより、1000ml/minにてダイアフラムポンプ(スムーズフローポンプ株式会社タクミナ製)にて送液し、液パンからは自重により、貯蔵タンクに液を戻す。
[塗布工程]
マイクログラビアコーターを用いて版直径50mmを用い、塗布基材端両部にてΔhが4mmになるよう設置し、版周速50m/minで塗布を行い、回転ロールは版の垂直位置から上流側に20°、版との相対距離500μmに設置し、版に対する回転速度比は150%とした。
[乾燥工程]
塗膜の乾燥は塗面近傍の風速10m/sになるように塗膜面より直接熱風を当て、塗膜温度が170℃になるように30s間加熱した。
<実施例2>
実施例1と同条件にて回転ロールの版との相対距離を1mmで塗布を行った。
実施例1と同条件にて回転ロールの版との相対距離を1mmで塗布を行った。
<実施例3>
実施例1と同条件にて回転ロールの版との相対距離5mmで塗布を行った。
実施例1と同条件にて回転ロールの版との相対距離5mmで塗布を行った。
<実施例4>
実施例2と同条件にて版に対する回転ロールの回転速度比を100%にて塗布を行った。
実施例2と同条件にて版に対する回転ロールの回転速度比を100%にて塗布を行った。
<実施例5>
実施例3と同条件にて版に対する回転ロールの回転速度比を100%にて塗布を行った。
実施例3と同条件にて版に対する回転ロールの回転速度比を100%にて塗布を行った。
<比較例1>
実施例1と同条件にて回転ロールを使用せず、塗布を行った。
実施例1と同条件にて回転ロールを使用せず、塗布を行った。
<比較例2>
次に、比較例について説明する。
実施例1と同条件にて回転ロールの版との相対距離を6mmで塗布を行った。
次に、比較例について説明する。
実施例1と同条件にて回転ロールの版との相対距離を6mmで塗布を行った。
<比較例3>
比較例1と同条件にて版に対する回転ロールの回転速度比を100%にて塗布を行った。
比較例1と同条件にて版に対する回転ロールの回転速度比を100%にて塗布を行った。
実施例1〜5、比較例1〜3の測定結果を表1にまとめて示した。塗布時に同伴風による塗布ヌケが発生しなかったものは○、塗布抜けが0.5個/m2未満は△、0.5個/m2以上発生したものを×とし、○と△を良品、×を不良品として塗布抜けの評価を行った。
実施例1から3では、グラビア版に対する回転ロールの速度比を150%とし回転ロールとグラビア版との相対距離を0.5mm、1mm、5mmとした場合の塗布膜には塗布抜けなどの欠陥は観察されなかった。実施例4及び5では速度比を100%としたが、相対距離を1mm、5mmとした場合に5mmで塗布抜けが発生したが、不良品となるレベルではなかった。
比較例1で相対距離を6mmとした場合の塗布膜は、0.4個/m2の塗布抜けが観察された。回転ロールを設置しなかった場合、0.5個/m2以上の欠陥が観察され、欠陥の発生頻度も高く良品を作成することができなかった。
比較例2及び比較例3では、比較例1よりも数は減少したものの、不良品レベルの0.4個塗布抜けが観察された。
以上のようにより、インキパン内に回転ロールを設置することにより、塗布抜けの不良欠陥を抑えることに有効であることを確認した。
本発明の塗布装置は塗布抜けの欠陥発生を抑制し、生産性を向上することが可能である。
1・・・貯蔵タンク
2・・・供給部
3・・・インキパン
4・・・グラビア版
5・・・巻出し部
6・・・乾燥部
7・・・巻取り部
8・・・ドクター
9・・・回転ロール
10・・・樹脂フィルム
2・・・供給部
3・・・インキパン
4・・・グラビア版
5・・・巻出し部
6・・・乾燥部
7・・・巻取り部
8・・・ドクター
9・・・回転ロール
10・・・樹脂フィルム
Claims (4)
- 塗布液を貯蔵する貯蔵部と、塗布液を供給部を介して前記貯蔵部とインキパン内の塗布液を循環させる循環部と、塗布液を基材に塗布するためのグラビア版とドクターと前記インキパンを備える塗布部と、前記基材上に形成された塗布膜を乾燥させる乾燥部と、を有するグラビア装置において、前記塗布部には、前記グラビア版から前記基材に塗布液が転写する工程の前に、前記グラビア版によって掻き揚げられた余分な塗布液を掻き落とす第1ドクターが設置され、前記転写工程後であって前記インキパン内の塗布液中に回転ロールを備えていることを特徴とする塗布装置。
- 前記回転ロールは前記グラビア版表面から5mm以下の相対距離にあり、かつ前記グラビア版に接触しない位置に設置されていることを特徴とする請求項1に記載の塗布装置。
- 前記回転ロールの回転方向は版回転方向と同一方向に回転することを特徴とする請求項1または2のいずれかに記載の塗布装置。
- 前記回転ロールが前記インキパン内の塗布液中に浸漬していることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の塗布装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015054456A JP2016172242A (ja) | 2015-03-18 | 2015-03-18 | 塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020146613A (ja) * | 2019-03-12 | 2020-09-17 | 株式会社リコー | 塗布装置 |
-
2015
- 2015-03-18 JP JP2015054456A patent/JP2016172242A/ja active Pending
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