JP2016170084A - 回転方向検出装置及び回転方向検出方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】CP3,CP4は、ブリッジ回路6,7の出力と遅延回路DL1,DL2の出力との大小を比較する。CP1,CP2は、ブリッジ回路6,7の出力と基準電圧の大小を比較する。第5の比較部51は、ブリッジ回路6の出力と遅延回路DL1の出力との差の基準電圧との差分の絶対値と、ブリッジ回路7の出力と遅延回路DL2の出力との差の基準電圧との差分の絶対値との大小を比較する。デジタル論理回路9は、第5の比較部51の出力に基づいて、CP1,CP4の出力を選択するか、あるいはCP2,CP3の出力を選択するかを切り替える。判定回路10は、第5の比較部51の出力レベル、およびデジタル論理回路9で選択された出力に基づいて、回転体の回転方向を判定する。
【選択図】図1
Description
[実施の形態1]
図1は、実施の形態1による回転方向検出センサ5と着磁ロータ2を示す図である。
図2に示すように、回転方向検出センサ5は、第1のブリッジ回路6と、第2のブリッジ回路7と、アナログ処理回路8と、デジタル論理回路9と、判定回路10とを備える。
第1のブリッジ回路6は、磁気抵抗素子1a,1b,1c,1dと、オペアンプOP1とを備える。
第2のブリッジ回路7は、磁気抵抗素子2a,2b,2c,2dと、オペアンプOP2とを備える。
デジタル論理回路9の端子OUTX,OUTC,OUTYは、判定回路10の端子INX,INC,INYと接続される。
入力端子INCがハイレベル、INXがロウレベル、INYがロウレベルの場合には、着磁ロータ2が正回転と判定される。なお、INCがハイレベルの場合には、INXのレベルはINA′のレベルであり、INYのレベルはINBのレベルであるので、INA′がロウレベル、INBがロウレベルである。
次に、本実施の形態に係る回転方向検出装置(回転方向検出センサ5)の動作について説明する。
判定回路10は、図9に示すように、入力端子INC、INX、INYのレベルに基づいて、着磁ロータ2の回転方向を判定する。
本実施の形態について、実施の形態1と異なる部分について説明する。
図10に示すように、被検出体である回転体は、凹凸部を有する磁性体からなる歯車3で構成される。回転方向検出センサ5は、バイアス磁界を印加するために磁石95を備える。
本実施の形態について、実施の形態1と異なる部分について説明する。
本実施の形態について、実施の形態1と異なる部分について説明する。
図11に示すように、TMR素子60は、第1の強磁性層(固着層)63と第2の強磁性層(自由層)61とを第1の絶縁層62を介して積層した構造を含む積層膜を、写真製版等によって加工することによって、第1の絶縁層62を挟んで上部に位置する上部電極67と下部に位置する下部電極68で構成される。
Claims (9)
- 被検出対象である回転体に対し、回転に応じて抵抗変化を生じる磁気抵抗素子で構成された第1のブリッジ回路および第2のブリッジ回路と、
前記第1のブリッジ回路の出力を遅延させる第1の遅延回路と、
前記第2のブリッジ回路の出力を遅延させる第2の遅延回路と、
前記第1のブリッジ回路の出力と基準電圧の大小を比較する第1の比較部と、
前記第2のブリッジ回路の出力と基準電圧の大小を比較する第2の比較部と、
前記第1のブリッジ回路の出力と前記第1の遅延回路の出力との大小を比較する第3の比較部と、
前記第2のブリッジ回路の出力と前記第2の遅延回路の出力との大小を比較する第4の比較部と、
前記第1のブリッジ回路の出力と前記第1の遅延回路の出力との差の基準電圧との差分の絶対値と、前記第2のブリッジ回路の出力と前記第2の遅延回路の出力との差の基準電圧との差分の絶対値との大小を比較する第5の比較部と、
前記第5の比較部の出力レベルに基づいて、前記第1の比較部の出力と前記第4の比較部の出力のセットを選択するか、あるいは前記第2の比較部の出力と前記第3の比較部の出力のセットを選択するかを切り替える論理回路と、
前記第5の比較部の出力レベル、および前記論理回路で選択されたセットのレベルに基づいて、前記回転体の回転方向を判定する判定回路とを備えた、回転方向検出装置。 - 前記第5の比較部は、
前記第1のブリッジ回路の出力と前記第1の遅延回路の出力との差を増幅する第1のオペアンプと、
前記第2のブリッジ回路の出力と前記第2の遅延回路の出力との差を増幅する第2のオペアンプと、
前記第1のオペアンプの出力を全波整流する第1の整流回路と、
前記第2のオペアンプの出力を全波整流する第2の整流回路と、
前記第1の整流回路の出力と前記第2の整流回路の出力との大小を比較するコンパレータとを含む、請求項1記載の回転方向検出装置。 - 前記第1のブリッジ回路の出力の位相と前記第2のブリッジ回路の出力の位相差は、π/2である、請求項1記載の回転方向検出装置。
- 前記第1のブリッジ回路と前記第2のブリッジ回路を前記回転体の回転方向に適当な位置だけ離して配列させることによって、前記第1のブリッジ回路の出力の位相と前記第2のブリッジ回路の出力の位相との差をπ/2とする、請求項3記載の回転方向検出装置。
- 前記第1のブリッジ回路と前記第2のブリッジ回路を構成する磁気抵抗素子は、固着層を有する磁気抵抗素子であり、
前記第1のブリッジ回路を構成する磁気抵抗素子の固着層の向きの位相と前記第2のブリッジ回路を構成する磁気抵抗素子の固着層の向きの位相との差がπ/2である、請求項3記載の回転方向検出装置。 - 前記第1のブリッジ回路を構成する磁気抵抗素子および前記第2のブリッジ回路を構成する磁気抵抗素子は、前記回転体の回転方向に対して同一の位置に配置される、請求項5記載の回転方向検出装置。
- 前記論理回路は、前記第5の比較部の出力がロウレベルの場合に、前記第1の比較部の出力と前記第4の比較部の出力のセットを選択し、前記第5の比較部の出力がハイレベルの場合に、前記第2の比較部の出力と前記第3の比較部の出力のセットを選択する、請求項1記載の回転方向検出装置。
- 前記判定回路は、
前記第5の比較部の出力がハイレベル、かつ前記選択された第2の比較部の出力がハイレベル、かつ前記選択された第3の比較部の出力がハイレベルの場合、
前記第5の比較部の出力がロウレベル、かつ前記選択された第1の比較部の出力がハイレベル、かつ前記選択された第4の比較部の出力がロウレベルの場合、
前記第5の比較部の出力がハイレベル、かつ前記選択された第2の比較部の出力がロウレベル、かつ前記選択された第3の比較部の出力がロウレベルの場合、または、
前記第5の比較部の出力がロウレベル、かつ前記選択された第1の比較部の出力がロウレベル、かつ前記選択された第4の比較部の出力がハイレベルの場合には、前記回転体の回転方向が第1の方向であると判定し、
前記第5の比較部の出力がハイレベル、かつ前記選択された第2の比較部の出力がハイレベル、かつ前記選択された第3の比較部の出力がロウレベルの場合、
前記第5の比較部の出力がロウレベル、かつ前記選択された第1の比較部の出力ロウレベル、かつ前記選択された第4の比較部の出力がロウレベルの場合、
前記第5の比較部の出力がハイレベル、かつ前記選択された第2の比較部の出力がロウレベル、かつ前記選択された第3の比較部の出力がハイレベルの場合、または、
前記第5の比較部の出力がロウレベル、かつ前記選択された第1の比較部の出力がハイレベル、かつ前記選択された第4の比較部の出力がハイレベルの場合には、前記回転体の回転方向が前記第1の方向と逆方向であると判定する、請求項7記載の回転方向検出装置。 - 請求項1〜請求項8のいずれか1項に記載の回転方向検出装置を用いて、前記被検出対象の回転方向を識別するようにした回転方向検出方法。
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JP4519038B2 (ja) * | 2005-09-07 | 2010-08-04 | 三菱電機株式会社 | 回転状態検出装置 |
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JPH0658770A (ja) * | 1992-01-10 | 1994-03-04 | Mitsubishi Materials Corp | エンコーダ |
JP4573736B2 (ja) * | 2005-08-31 | 2010-11-04 | 三菱電機株式会社 | 磁界検出装置 |
JP4519038B2 (ja) * | 2005-09-07 | 2010-08-04 | 三菱電機株式会社 | 回転状態検出装置 |
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