JP2016151028A - 電解めっき装置 - Google Patents
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Abstract
Description
そして、電解めっき装置110では、攪拌部材121を、めっき対象物101の被めっき領域Mと対向する領域と同じ長さ、又は、それよりも長い区間において等速で水平方向に移動させることにより、被めっき領域Mにおけるめっき膜の厚みが均一になるようにしている。
めっき対象物の主面の、めっき処理が施されるべき被めっき領域にめっき処理を行うための電解めっき装置であって、
前記めっき対象物が浸漬されるめっき液を貯留するめっき槽と、
前記めっき槽内に配設されたアノードと、
少なくとも一部が前記めっき液に浸漬された状態で、所定の方向に往復動して、前記めっき液を攪拌する攪拌部材とを備え、
前記めっき対象物が、前記アノードと対向するように前記めっき液に浸漬され、前記アノードに対するカソードとして機能するように構成され、
前記攪拌部材が、前記めっき対象物と、前記アノードとの間の領域において、前記めっき対象物の前記主面と平行な方向に往復動して前記めっき槽内の前記めっき液を攪拌するとともに、
前記攪拌部材の移動方向についてみた場合における、前記被めっき領域の端部領域に対向する領域を通過する際の前記攪拌部材の移動速度が、前記被めっき領域の中央領域に対向する領域を通過する際の移動速度よりも遅くなるように構成されていること
を特徴としている。
また、上記構成を備えることにより、積極的にめっき膜厚を制御して、任意の位置で、所望の厚みを有するめっき膜を形成することが可能になる。
その結果、被めっき領域が方形である場合には、電流線の集中により端部領域のめっき膜厚が中央領域よりも厚くなることを効果的に抑制することが可能になり、被めっき領域の端部領域と中央領域とにおけるめっき膜厚の差の小さい、均一性の高いめっきを行うことが可能な電解めっき装置を提供することが可能になる。
したがって、本発明によれば、被めっき領域の端部領域と中央領域とにおけるめっき膜厚の差の小さい(めっき膜の厚みに位置的な偏りの小さい)、均一性の高いめっきを行うことが可能な電解めっき装置を提供することが可能になる。
図1(a),(b)および図2は、本発明の実施形態1にかかる電解めっき装置10を示す図である。
電解めっき装置10は、めっき対象物1の被めっき領域Mにめっきを施すための装置であって、めっき液12を貯留するめっき槽11と、アノード15と、めっき液12を攪拌するための攪拌部材(パドル)21とを備えている。
なお、遮蔽板13は、被めっき領域Mの形状に対応して交換することができるように構成されている。
具体的には、攪拌部材21は、往路では、被めっき領域Mの一方の端部領域Meで徐々に移動速度を上げ、中央領域Mmで一定の移動速度v1で移動し、他方の端部領域Meで徐々に移動速度を下げるように制御されている。また、復路では、その逆となるように速度制御されている。
また、被めっき領域Mの端部領域Meにおける、攪拌部材21の移動速度の傾きや段部などの態様は、上述した例に限られるものではなく、階段状や曲線状とすることも可能である。
図6(a),(b)および図7は、本発明の他の実施形態(実施形態2)にかかる電解めっき装置10Aを示す図である。この電解めっき装置10Aは、第1の攪拌部材(実施形態1で示した攪拌部材21と同じ攪拌部材)21aと、第2の攪拌部材21bを備えている。
すなわち、第1および第2の攪拌部材21a,21bは、めっき対象物1の主面1aに直交する方向からみた場合に、それぞれの移動方向が互いに直交するように構成されている。
なお、第2の攪拌部材21bは、第1の攪拌部材21aよりもアノード15側に近い位置に配設されている。
また、第1の攪拌部材21aと第2の攪拌部材21bは、互いの間隔が、例えば、0.5mm〜2mmとなるように配設されている。
その結果、平面形状が方形の被めっき領域Mの、端部領域Meの全体(4つの辺の近傍領域全体)において、電流線Rの集中により、めっき膜厚が中央領域Mmにおけるめっき膜厚よりも大きくなることを効果的に抑制することが可能になり、めっき膜厚の均一性に優れためっきを行うことができるようになる。
また、めっき対象物および被めっき領域は、方形である場合に限られるものではなく、略円形などの形状を有するものであってもよい。
さらに、被めっき領域は、めっきが行われるべき下地電極(シード電極)が、例えばマトリックス状などの態様で多数個配設された領域であってもよく、また、単一の下地電極が形成された領域(いわゆる全面電極が形成された領域)であってもよい。
1a めっき対象物の主面
10 電解めっき装置
11 めっき槽
12 めっき液
13 遮蔽板
13a 遮蔽板の内側の周縁部
13b 遮蔽板の開口
15 アノード
17 ホルダー
19 直流電源
21 攪拌部材
21a 第1の攪拌部材
21b 第2の攪拌部材
22,22a 攪拌部材の移動手段
23 天板フレーム
25 両端支持部材
M 被めっき領域
Me 被めっき領域の端部領域
Mm 被めっき領域の中央領域
R 電流線
Claims (4)
- めっき対象物の主面の、めっき処理が施されるべき被めっき領域にめっき処理を行うための電解めっき装置であって、
前記めっき対象物が浸漬されるめっき液を貯留するめっき槽と、
前記めっき槽内に配設されたアノードと、
少なくとも一部が前記めっき液に浸漬された状態で、所定の方向に往復動して、前記めっき液を攪拌する攪拌部材とを備え、
前記めっき対象物が、前記アノードと対向するように前記めっき液に浸漬され、前記アノードに対するカソードとして機能するように構成され、
前記攪拌部材が、前記めっき対象物と、前記アノードとの間の領域において、前記めっき対象物の前記主面と平行な方向に往復動して前記めっき槽内の前記めっき液を攪拌するとともに、
前記攪拌部材の移動方向についてみた場合における、前記被めっき領域の端部領域に対向する領域を通過する際の前記攪拌部材の移動速度が、前記被めっき領域の中央領域に対向する領域を通過する際の移動速度よりも遅くなるように構成されていること
を特徴とする電解めっき装置。 - 前記攪拌部材を、任意の位置で加減速させることができるように構成されていることを特徴とする請求項1記載の電解めっき装置。
- 前記被めっき対象物の前記主面に直交する方向からみた場合において、前記移動方向が互いに直交するように構成された少なくとも一対の前記攪拌部材を備えていることを特徴とする請求項1または2記載の電解めっき装置。
- 前記めっき対象物と、前記アノードとの間の領域であって、前記攪拌部材が往復動する領域よりも前記アノードに近い領域に、前記めっき対象物と対向するように配設され、前記被めっき対象物の前記被めっき領域に対向する領域よりも内側に周縁部が位置する開口を備えた遮蔽板をさらに備えていることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の電解めっき装置。
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