JP2016149365A5 - - Google Patents

Claims (14)

1. 遠隔プラズマ源であって、
   前記遠隔プラズマ源は、
   第１の電極と、
   第２の電極であって、前記第１または第２の電極の一方は、少なくとも部分的に、他方を囲む、第２の電極と、
   少なくとも部分的に、チャンバ壁によって封入されているチャンバであって、前記チャンバは、大気圧未満処理チャンバに外部から結合されるように構成されており、
   前記チャンバは、
   前記チャンバの中への第１の流体の流入のための第１の経路と、
   第２の流体を前記処理チャンバに提供するように構成されている第２の経路であって、前記第２の流体は、前記第１の流体から生成された解離流体の少なくとも一部を含む、第２の経路と
   を含む、チャンバと、
   ＲＦ電源に結合するように構成されているＲＦ電源入力であって、前記ＲＦ電源入力は、ＲＦ電力を前記ＲＦ電源から前記第１の電極に提供するように構成されており、前記ＲＦ電力は、前記第２の電極に静電的に結合することにより、前記チャンバの少なくとも一部内にプラズマを静電的に持続させる、ＲＦ電源入力と、
   前記第１の電極を前記プラズマから分離する第１の誘電構成要素と、
   前記第２の電極を前記プラズマから分離する第２の誘電構成要素と
   を備えている、遠隔プラズマ源。
2. 前記第２の電極は、前記第１の電極より長い、請求項１に記載の遠隔プラズマ源。
3. 前記第２の電極は、接地されている、請求項１に記載の遠隔プラズマ源。
4. 前記第１および第２の電極は、１つ以上の傾斜した縁を有する、請求項１に記載の遠隔プラズマ源。
5. 前記第１の経路は、前記第１の流体を前記チャンバ中に半径方向に提供する、請求項１に記載の遠隔プラズマ源。
6. 大気圧未満の圧力の範囲にわたる前記遠隔プラズマ源の動作を可能にするように前記ＲＦ電源および前記第１の電極に結合されている制御可能なインピーダンス整合回路をさらに備えている、請求項１に記載の遠隔プラズマ源。
7. 前記第１および第２の電極は、同心円状に整列されている、請求項１に記載の遠隔プラズマ源。
8. 前記チャンバ壁は、前記第１または第２の電極のうちの一方の内側表面である、請求項１に記載の遠隔プラズマ源。
9. 容量結合された遠隔プラズマ源内でプラズマを持続させる方法であって、
   前記方法は、
   前記遠隔プラズマ源を処理チャンバに外部から搭載することと、
   前記遠隔プラズマ源および前記処理チャンバで大気圧未満封入部を生成することと、
   ２つの容量結合された電極間にＲＦ電源からのＲＦ電力を通すことと、
   前記プラズマに容量結合されている前記ＲＦ電力によって、プラズマを持続させることと、
   第１の流体を前記チャンバの中に提供することと、
   前記プラズマとの相互作用によって、前記第１の流体の少なくとも一部を解離させることと、
   第２の流体を前記容量結合された遠隔プラズマ源に結合された処理チャンバに通すことと、
   第１の誘電構成要素によって、第１の電極を前記プラズマから分離することと、
   第２の誘電構成要素によって、第２の電極を前記プラズマから分離することと、
   大気圧未満の圧力の範囲にわたる前記遠隔プラズマ源の動作を可能にするように前記ＲＦ電源で前記プラズマのインピーダンスを選択可能に整合させることと
   を含む、方法。
10. 前記第１または第２の電極の一方を接地することをさらに含む、請求項９に記載の方法。
11. 前記第１の流体は、前記チャンバの中に軸方向に提供されている、請求項９に記載の方法。
12. 前記第１の流体は、前記チャンバの中に半径方向に提供されている、請求項９に記載の方法。
13. 前記第１および第２の電極を同心円状に配置することをさらに含む、請求項９に記載の方法。
14. 前記チャンバの壁は、前記第１または第２の電極の一方の内側表面である、請求項９に記載の方法。