JP2005322416A - 大気圧低温プラズマ装置と表面処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 誘電体が空隙を介して対向する内部と外部の二重管状体を構成し、少くともその一方の端部が外方に向けて開放されているトーチ型構造を有し、内部誘電体(1A)の内側と外部誘電体(2A)の外側の各々には電極(1B)(2B)が配置され、その一方が接地電極で、他方が高周波電源に接続されており、内部と外部の誘電体(1A)(2A)との間の空隙(3)には不活性ガスもしくはこれと反応性ガスとの混合ガスが流通され、前記高周波電源による高周波電圧の印加によって、二重管状体の開放端部より、大気圧下で生成された低温プラズマが噴出されることを特徴とする大気圧低温プラズマ装置とする。
【選択図】 図5
Description
〔1〕誘電体が空隙を介して対向する内部と外部の二重管状体を構成し、少くともその一方の端部が外方に向けて開放されているトーチ型構造を有し、内部誘電体の内側と外部誘電体の外側の各々には電極が配置され、その一方が接地電極で、他方が高周波電源に接続されており、内部と外部の誘電体との空隙には不活性ガスもしくはこれと反応性ガスとの混合ガスが流通され、前記高周波電源による高周波電圧の印加によって、二重管状体の開放端部より、大気圧下で生成された低温プラズマが噴出されることを特徴とする大気圧低温プラズマ装置。
〔2〕対向する内部と外部の誘電体が共に円筒状もしくは短冊状であることを特徴とする上記の大気圧低温プラズマ装置。
〔3〕上記の対向する内部と外部の誘電体間の空隙距離が、軸心に直交する断面において均一であることを特徴とする大気圧低温プラズマ装置。
〔4〕上記の対向する内部と外部の誘電体が、軸心に直交する断面において同心円状に配置されていることを特徴とする大気圧低温プラズマ装置。
〔5〕軸心に直交する断面として、内部誘電体の外径と外部誘電体の内径は、開放端部に向って漸縮小もしくは漸拡大されていることを特徴とする上記いずれかの大気圧低温プラズマ装置。
〔6〕軸心に直交する断面において、内部と外部の誘電体の各々の断面積が可変とされていることを特徴とする大気圧低温プラズマ装置。
〔7〕内部誘電体は、二重管状体の開放端部側の端部において、その内側の電極の先端を覆うように閉じていることを特徴とする大気圧低温プラズマ装置。
〔8〕二重管状体の開放端部において、軸心長さ方向で、外部誘電体外側の電極端位置に対して内部誘電体内側の電極端位置が可変とされていることを特徴とする大気圧低温プラズマ装置。
〔9〕外部誘電体外側の電極端位置に対して内部誘電体内側の電極位置が二重管状体の開放端部からより内側に配置されていることを特徴とする大気圧低温プラズマ装置。
〔10〕以上のいずれかのプラズマ装置において、トーチ型構造部が手持ち可動とされていることを特徴とする大気圧低温プラズマ装置。
〔11〕上記プラズマ装置によって生成させた低温プラズマで固体物質の表面処理を行うことを特徴とする表面処理方法。
〔12〕開放端部より噴出させた低温プラズマを固体物質表面に射出して表面処理を行うことを特徴とする表面処理方法。
図1に示すプラズマトーチにおいて、外部誘電体(2A)としてガラス管(外径:10mm、内径:8mm)を、内部誘電体(1A)としてガラス管(外径:6mm、内径4mm)を用いた。また、外部誘電体(2A)と内部誘電体(1A)との間の空隙(3)の距離Lは1mmとした。さらに、外部電極(2B)及び内部電極(1B)にはアルミニウムを使用し、フローガスとしてヘリウムを用いた。
<実施例2>
図5において、プラズマトーチの外部誘電体(2A)と外部電極(2B)の開放端部(7)からの内部電極(1B)先端部との距離(±l)の相違によるプラズマ生成について検討した。内部電極(1B)先端部が外方に突出している場合を+lとし、内方に引込まれている場合を−lとした。
<実施例3>
実施例2のプラズマトーチによるプラズマ噴流を用いて、実施例1と同様にポリマーフィルムの処理を行った。
1B 内部電極
2A 外部誘電体
2B 外部電極
3 空隙
7 開放端面
Claims (12)
- 誘電体が空隙を介して対向する内部と外部の二重管状体を構成し、少くともその一方の端部が外方に向けて開放されているトーチ型構造を有し、内部誘電体の内側と外部誘電体の外側の各々には電極が配置され、その一方が接地電極で、他方が高周波電源に接続されており、内部と外部の誘電体との空隙には不活性ガスもしくはこれと反応性ガスとの混合ガスが流通され、前記高周波電源による高周波電圧の印加によって、二重管状体の開放端部より、大気圧下で生成された低温プラズマが噴出されることを特徴とする大気圧低温プラズマ装置。
- 対向する内部と外部の誘電体が共に円筒状もしくは短冊状であることを特徴とする請求項1の大気圧低温プラズマ装置。
- 対向する内部と外部の誘電体間の空隙距離が、軸心に直交する断面において均一であることを特徴とする請求項1または2の大気圧低温プラズマ装置。
- 対向する内部と外部の誘電体が、軸心に直交する断面において同心円状に配置されていることを特徴とする請求項1から3のいずれかの大気圧低温プラズマ装置。
- 軸心に直交する断面として、内部誘電体の外径と外部誘電体の内径は、開放端部に向って漸縮小もしくは漸拡大されていることを特徴とする請求項1から4のいずれかの大気圧低温プラズマ装置。
- 軸心に直交する断面において、内部と外部の誘電体の各々の断面積が可変とされていることを特徴とする請求項1から5のいずれかの大気圧低温プラズマ装置。
- 内部誘電体は、二重管状体の開放端部側の端部において、その内側の電極の先端を覆うように閉じていることを特徴とする請求項1から6のいずれかの大気圧低温プラズマ装置。
- 二重管状体の開放端部において、軸心長さ方向で、外部誘電体外側の電極端位置に対して内部誘電体内側の電極端位置が可変とされていることを特徴とする請求項1から7のいずれかの大気圧低温プラズマ装置。
- 外部誘電体外側の電極端位置に対して内部誘電体内側の電極位置が二重管状体の開放端部からより内側に配置されていることを特徴とする請求項1から8のいずれかの大気圧低温プラズマ装置。
- 請求項1から9のいずれかのプラズマ装置において、トーチ型構造部が手持ち可動とされていることを特徴とする大気圧低温プラズマ装置。
- 請求項1から10のいずれかのプラズマ装置によって生成させた低温プラズマで固体物質の表面処理を行うことを特徴とする表面処理方法。
- 開放端部より噴出させた低温プラズマを固体物質表面に射出して表面処理を行うことを特徴とする請求項11の表面処理方法。
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