JP2016148092A - ナノ粒子製造システム - Google Patents

Abstract

【課題】キャビティ内の冷却液体の影響を受けて反射や屈折などのような光学効果が生じることを防止できるナノ粒子製造システムの提供。
【解決手段】冷却液体をアブレーションキャビティ１１に投入するとともに、光導管１５を使用してレーザー源１４から提供されるレーザー光をアブレーションキャビティ１１内に位置するターゲット材２の表面に直接にガイドさせ、光導管１５の光導出端１５２とターゲット材２との間の距離を特定距離（＜５ｍｍ）に制御するナノ粒子製造システム。
【選択図】図２

Description

本発明は、ナノ粒子の技術分野に係り、特に、ナノ粒子製造システムに関するものである。

ナノ粒子とは、十数個から数百個の原子から構成される固体微細顆粒であり、一般的に粒径が１ｎｍから１００ｎｍの間にある超微細顆粒を意味し、非常に特別な物理特性と化学特性を有する。化学分野において、ナノ技術を利用して作成される触媒は、極めて高い触媒効率が現われる。電子分野において、ナノ級の金属導線は、金属メッシュ（ｍｅｔａｌ ｍｅｓｈ）に作成されてタッチパネルの中に応用される。また、アルミニウムや鉛などの特殊な金属は、ナノ技術で超伝導体に作成される。このことから分かるように、ナノ技術とナノ材料は、既に化学、材料、光電、生物や医薬などの分野の中に広汎に応用されている。

ナノ材料が広汎な応用を有することに鑑みて、科学者は、各種のナノ顆粒またはナノユニットを製造する方法の研究開発を積極的に試みる。金属ナノ粒子の準備は、レーザーアブレーション法（ｌａｓｅｒ ａｂｌａｔｉｏｎ ｍｅｔｈｏｄ）、金属気相成長法（ｍｅｔａｌ ｖａｐｏｒ ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ ｍｅｔｈｏｄ）及び化学還元法（ｃｈｅｍｉｃａｌ ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ ｍｅｔｈｏｄ）に分けられる。その中で、レーザーアブレーション法は、ナノ顆粒またはナノユニットの製造方法として常用されている。

図１に示す従来のレーザーアブレーション設備の構成図を参照する。図１に示すように、従来のレーザーアブレーション設備１’は、レーザー源１０’と、基板１１’と、合焦レンズ１２’と、アブレーションキャビティ１３’と、第１混合キャビティ１４’と、第１ポンプ１５’と、第２混合キャビティ１４ａ’と、第２ポンプ１５ａ’とを備える。その中で、前記基板１１’は、前記アブレーションキャビティ１３’の底部に設置され、かつその上に例えば金属ブラックのようなターゲット材２’が置かれる。

上記に続いて、レーザー源１０’から発射されるレーザー光は、合焦レンズ１２’を経由して合焦させ、そして前記レーザー光は、アブレーションキャビティ１３’の頂部に設置される透明窓１３０’を通過してアブレーションキャビティ１３’の底部に置かれる前記ターゲット材２’に向けて射出される。パワーを９０ｍＪ／ｐｕｌｓｅに制御するレーザー光の照射により、ターゲット材２’の上に金属アブレーション現象が発生することで、高密度金属原子雲がターゲット材２’の上に生成される。さらに、前記アブレーションキャビティ１３’の中に注入する界面活性剤３’の作用（例えばｓｏｄｉｕｍ ｄｏｄｅｃｙｌ ｓｕｌｆａｔｅ，ＳＤＳと略称）により、複数の金属ナノ粒子が前記アブレーションキャビティ１３’の中に生成される。

図１に示すように、生成される金属ナノ粒子は、第１収集管路１３１’と第２収集管路１３１ａ’を経由してそれぞれ第１混合キャビティ１４’と第２混合キャビティ１４ａ’に搬送される。その中、第１ポンプ１５’は、第１溶液送入管路１５１’を介して第１高分子溶液を送入して前記第１混合キャビティ１４’の中に入れ、かつ第２ポンプ１５ａ’は、第２溶液送入管路１５１ａ’ を介して第２高分子溶液（または前記第１高分子溶液）を送入して前記第２混合キャビティ１４ａ’の中に入れる。こうして、複数の金属ナノ粒子と第１高分子溶液とを第１混合キャビティ１４’の中に第１ナノ高分子溶液になるように混合させ、かつ前記複数の金属ナノ粒子と第２高分子溶液とを第２混合キャビティ１４ａ’の中に第２ナノ高分子溶液になるように混合させる。
最後に、前記第１ナノ高分子溶液及び第２ナノ高分子溶液とを第１排出管路１４１’と一第２排出管路１４１ａ’を経由してそれぞれ後端の第１段階製品加工区（ｆｉｒｓｔ ｐｒｏｄｕｃｔ ｐｒｏｃｅｓｓ ｓｔａｇｅ）と第２段階加工区（ｓｅｃｏｎｄ ｐｒｏｄｕｃｔ ｐｒｏｃｅｓｓ ｓｔａｇｅ）に搬送されることにより、次段階加工を経由して第１複合ナノユニットと第２複合ナノユニットになる。

図１に図示されるレーザーアブレーション設備１’は、既に各種の複合ナノ製品の作製に広汎に応用されているが、かかるレーザーアブレーション設備１’は、依然として以下の主要な欠点がある。

（１）前記レーザーアブレーション設備１’の中には、レーザー光のパワーを９０ｍＪ／ｐｕｌｓｅに精密に制御する必要があり、こうすることで、ターゲット材２’の上に金属アブレーション現象が生じる。このことから分かるように、前記レーザーアブレーション設備１’の中に応用されるレーザー源１０’は、高パワー、高精度のレーザー生成装置でなければならないので、その購買コストが必然的に相当高額とならざるを得ない。

（２）ほかに、前記レーザーアブレーション設備１’は、合焦レンズ１２’を使用してレーザー光をターゲット材２’の上に合焦させ、これにより、レーザー光の高エネルギーによってターゲット材２’の上に金属アブレーション現象を引き起こす。しかしながら、ターゲット材２’（即ち、金属ブロック材）の表面が凹凸不平坦になる可能性があるため、金属アブレーション現象により生成される複数の金属ナノ粒子が粒径の均一性に欠ける可能性がある。

（３）上記第（１）点に続いて、前記アブレーションキャビティ１３’の中には、界面活性剤３’が注入されるため、レーザー光が前記アブレーションキャビティ１３’の内部に入射する時に、一部のレーザー光は、界面活性剤３’の影響を受けて例えば反射や屈折などのような光学効果が生じてしまい、レーザー光の入射率の低下につながり、設備の使用コストの増加をもたらす。

そのため、従来のレーザーアブレーション設備１’の実務応用上には数多くの欠点が現われる。これに鑑みて、本願の発明者は、極力研究発明した結果、本発明のナノ粒子製造システムを研究開発して完成させた。

本発明の主要な目的は、従来のナノ粒子製造設備と異なるナノ粒子製造システムを提供することである。このナノ粒子製造システムは、光導管を使用してレーザー源から提供されるレーザー光をアブレーションキャビティ内に位置するターゲット材の表面に直接にガイドさせ、この方式によりレーザー光がアブレーションキャビティ内の冷却液体の影響を受けて例えば反射や屈折などのような光学効果が生じるのを防止することができる。ほかに、本発明が提供するナノ粒子製造システムにおいて、光導管の光導出端と前記ターゲット材との間の距離を特定距離（＜５ｍｍ）に制御する。このように設計すれば、レーザー源から提供されるレーザー光が低パワー（＜３０ｍＪ／ｐｕｌｓｅ）のレーザー光であっても、前記レーザー光をレーザーアブレーションにより、前記ターゲット材を複数個のナノ粒子に作成することができる。

従って、本発明の主要な目的を達成するために、本願の発明者は、ナノ粒子製造システムを提出する。

かかるナノ粒子製造システムは、その頂部に透明窓が設けられるアブレーションキャビティと、前記アブレーションキャビティの中に設けられ、ターゲット材を置くための基板と、冷却液体輸送管を介して前記アブレーションキャビティに連結され、冷却液体を前記アブレーションキャビティの中に流入させるための冷却液体投入装置と、レーザー光を提供するレーザー源と、光導入端と光導出端とを有する少なくとも１つの光導管とを備え、前記冷却液体の液面高さと前記透明窓の設置高さとの間に第１距離が隔てられ、また、前記液面高さと前記ターゲット材の表面との間に第２距離が隔てられ、前記光導入端は、前記レーザー源に連結され、かつ前記光導出端は、前記アブレーションキャビティの内部に延入することにより、前記光導出端と前記ターゲット材の表面との間に第３距離を隔てさせ、前記レーザー光は、前記少なくとも１つの光導管を経て前記アブレーションキャビティの内部に導入されると共に、前記ターゲット材に向けて射出した後、前記ターゲット材は、前記レーザー光により複数個のナノ粒子になるようにアブレーションされる。

従来のレーザーアブレーション設備の構成図である。 本発明のナノ粒子製造システムの模式的構成図である。 アブレーションキャビティ、光導管と低圧均質装置との模式的連結構成図である。 ナノユニット製造システムの第１模式的構成図である。 ナノユニット製造システムの第２模式的構成図である。

本発明が提出したナノ粒子製造システムをより明瞭に記述するために、添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施例を以下に詳述する。

図２は、本発明のナノ粒子製造システムの模式的構成図である。図２を参照して示すように、前記ナノ粒子製造システム１は、アブレーションキャビティ１１と、基板１２と、冷却液体投入装置１３と、レーザー源１４と、少なくとも１つの光導管１５と、ターゲット材送給装置１Ａと、液面制御装置１Ｂと、低圧均質装置１Ｃと、恒温システム（未図示）とを備える。その中、前記アブレーションキャビティ１１は、ポリフルオロエテン（Ｐｏｌｙｔｅｔｒａｆｌｕｏｒｏｅｔｈｅｎｅ，ＰＴＦＥ）から作成され、かつその頂部に透明窓１１１が設けられる。

続いて図２を参照すると共に、図３に示すアブレーションキャビティ、光導管と低圧均質装置との模式的連結構成図を同時に参照する。図示のように、前記基板１２は、前記アブレーションキャビティ１１内に設けられ、ターゲット材２を置くためのものである。操作上、作業員が前記アブレーションキャビティ１１に連結されるターゲット材送給装置１Ａを操作することで、前記ターゲット材２を前記アブレーションキャビティ１１の中に送り込むことができる。
本発明において、前記ターゲット材２は、不活性金属ターゲット材であり、かつ前記基板１２の材質は、前記ターゲット材２の材質と同じである。なお、前記冷却液体投入装置１３は、冷却液体輸送管１３１を介して前記アブレーションキャビティ１１に連結され、冷却液体を前記アブレーションキャビティ１１の中に投入させるためのものである。その内、前記冷却液体は、有機相冷凝縮液または水相冷凝縮液のいずれか１種であってもよい。特に言及すべきは、前記冷却液体の液面高さと前記透明窓１１１の設置高さとの間に第１距離ｄ１が隔てられ、かつ前記液面高さと前記ターゲット材２の表面との間に第２距離ｄ２が隔てられる。その内、前記アブレーションキャビティ１１に連結される前記液面制御装置１Ｂは、前記冷却液体を注入／抽出する方式で、前記液面高さと前記設置高さとの間の距離を前記第１距離ｄ１に制御する。

前記レーザー源１４は、少なくとも１つの光導管１５を介してレーザー光を前記ターゲット材２の表面に提供する。図２と図３に示すように、前記光導管１５は、光ファイバーまたは石英ガラス柱のいずれか１種であってもよく、光導入端１５１と光導出端１５２とを有し、その中、前記光導入端１５１は、前記レーザー源１４に連結され、かつ前記光導出端１５２は、前記アブレーションキャビティ１１の内部に延入することにより、前記光導出端１５２と前記ターゲット材２の表面との間に第３距離ｄ３を隔てさせる。
さらに、前記レーザー光は、前記少なくとも１つの光導管１５を経て前記アブレーションキャビティ１１の内部に導入されると共に、前記ターゲット材２に向けて射出した後、前記ターゲット材２は、前記レーザー光により複数個のナノ粒子になるようにアブレーションされる。ここで、補充説明すべき点は、基板１２の材質は、ターゲット材２の材質と同じであるため、レーザー光がターゲット材２を射出通過しても、ターゲット材２を射出通過したレーザー光がさらに基板１２に向けて射出される点である。このように設計すれば、ターゲット材２を射出通過したレーザー光をアブレーションキャビティ１１の内壁面に向けて直接に射出して不要な汚染物の生成を防止することができる。

本発明のナノ粒子製造システム１は、低圧均質装置１Ｃと、恒温システム（未図示）とをさらに備え、その中、前記低圧均質装置１Ｃは、前記アブレーションキャビティ１１に連結され、前記アブレーションキャビティ１１内の前記冷却液体を循環させて、前記複数個のナノ粒子を前記冷却液体の中に生成するように加速させるためのものである。なお、前記恒温システムは、前記アブレーションキャビティ１１に連結され、前記冷却液体の温度を維持するためのものである。

上記説明から分かるように、図２と図３に示すようなナノ粒子製造システム１は、アブレーションレーザー設備であり、不活性金属ターゲット材を複数個のナノ粒子に作成するためのものである。さらに、図２に示すようなナノ粒子製造システム１は、その他の加工設備と合わせてナノユニット製造システムになることができる。
図４に示すナノユニット製造システムの第１模式的構成図を参照する。図４に示すように、前記ナノユニット製造システムは、図２に示すようなナノ粒子製造システム１を含むほかに、一次混合装置１６と、高分子材料投入装置１７と、二次混合装置１８と、ナノユニット成形装置１９と、第１高圧均質装置１Ｄと、第２高圧均質装置１Ｅとをさらに備える。

上記に続いて、前記一次混合装置１６は、ナノ粒子輸送管１１２を介して前記アブレーションキャビティ１１に連結され、かつ前記高分子材料投入装置１７は、高分子材料輸送管１７１を介して前記一次混合装置１６に連結される。このように設置すれば、前記複数個のナノ粒子は、前記ナノ粒子輸送管１１２を通過して前記アブレーションキャビティ１１から前記一次混合装置１６に輸送されると同時に、前記高分子材料投入装置１７は、前記高分子材料輸送管１７１を通過して高分子溶液を前記一次混合装置１６の中に送入して、前記複数個のナノ粒子と前記高分子溶液とを前記一次混合装置１６の中に一次混合溶液になるように混合させる。ここで、補充説明すべき点は、前記高分子溶液は、有機相高分子溶液または水相高分子溶液のいずれか１種であってもよい点である。

前記二次混合装置１８は、第１混合溶液輸送管１６１を介して前記一次混合装置１６に連結され、かつ前記ナノユニット成形装置１９は、第２混合溶液輸送管１８１を介して前記二次混合装置１８に連結される。このように設置すれば、前記一次混合溶液は、一次混合装置１６から前記二次混合装置１８に送入され、前記二次混合装置１８が実行する再混合工程により前記一次混合溶液をナノ／高分子混合溶液になるように混合する。
さらに、前記ナノ／高分子混合溶液は、前記二次混合装置１８から前記ナノユニット成形装置１９まで送出されると共に、前記ナノユニット成形装置１９の中に複合ナノユニットに成形される。補充説明すべき点は、本発明において、前記アブレーションキャビティ１１、前記一次混合装置１６、前記二次混合装置１８と前記ナノユニット成形装置１９の内部は、いずれも真空環境に設置される点である。

また、冷却液体及び高分子溶液の送入流速を制御するために、前記ナノユニット製造システムは、それぞれ前記冷却液体輸送管１３１と前記高分子材料輸送管１７１の上に第１流速制御弁１３２と第２流速制御弁１７２が付加的に取り付けられる。また、一次混合工程と二次混合工程の作業を加速させるために、前記第１高圧均質装置１Ｄは、前記一次混合装置１６に連結されて前記複数個のナノ粒子と前記高分子溶液との混合を加速させると同時に、前記第２高圧均質装置１Ｅは、前記二次混合装置１８に連結されて前記再混合工程の完了を加速させる。

図４に開示するナノユニットの製造システムは、図１に示すようなナノ粒子製造システム１、一次混合装置１６、高分子材料投入装置１７、二次混合装置１８、ナノユニット成形装置１９、第１高圧均質装置１Ｄ及び第２高圧均質装置１Ｅから構成されるが、しかしながら、これらは前記ナノユニット製造システムの実施態様を限定するものではない。
図５に示すナノユニット製造システムの第２模式的構成図を参照する。図５に示すように、前記ナノユニット製造システムは、図１に示すようなナノ粒子製造システム１を含むほかに、製粉装置１Ｒ及び前記高分子材料投入装置１７をさらに備える。その内、前記製粉装置１Ｒは、前記ナノ粒子輸送管１１２を介して前記アブレーションキャビティ１１に連結されて、前記複数個のナノ粒子を前記アブレーションキャビティ１１から前記製粉装置１Ｒの中に輸送することができる。なおかつ、前記高分子材料投入装置１７は、前記高分子材料輸送管１７１を介して前記製粉装置１Ｒに連結され、前記高分子溶液を前記製粉装置１Ｒの中に送入するためのものである。こうして、前記複数個のナノ粒子と前記高分子溶液とを前記製粉装置１Ｒの中に粉状ナノユニットになるように作成することができる。

上記の説明のように、本発明のナノ粒子製造システムの構成要素と技術的特徴を十分かつ明瞭に開示した。さらに、上記によれば、本発明のナノ粒子製造システムは、下記の三点の利点を有することが分かる。

（１）従来のナノ粒子製造設備と異なって、本発明のナノ粒子製造システムは、光導管１５を使用してレーザー源１４から提供されるレーザー光をアブレーションキャビティ１１内に位置するターゲット材２の表面に直接にガイドさせ、この方式によりレーザー光がアブレーションキャビティ１１内の冷却液体の影響を受けて例えば反射や屈折などのような光学効果が生じるのを防止することができる。

（２）ほかに、本発明において、光導管１５の光導出端１５２と前記ターゲット材２との間の距離を特定距離（＜５ｍｍ）に制御する。このように設計すれば、レーザー源１４から提供されるレーザー光が低パワー（＜３０ｍＪ／ｐｕｌｓｅ）のレーザー光であっても、前記レーザー光をレーザーアブレーションにより、前記ターゲット材２を複数個のナノ粒子に作成することができる。

（３）上記第（２）点に続いて、本発明は、光導管１５の光導出端１５２と前記ターゲット材２との間の距離を特定距離（＜５ｍｍ）に制御するため、ターゲット材２’は、凹凸不平坦な表面を有しても、レーザー源１４から提供されるレーザー光は、ターゲット材２を粒径均一性を有する複数の金属ナノ粒子になることができる。

強調すべき点は、上記の詳細な説明は、本発明の実施可能な実施例を具体的に説明したものであり、本発明の特許範囲はこれらの実施例に限定されるものではなく、本発明の技芸精神を逸脱しない限り、その等効果の実施又は変更は、なお、本願の特許請求の範囲内に含まれる点である。

１ ナノ粒子製造システム
１１ アブレーションキャビティ
１２ 基板
１３ 冷却液体投入装置
１４ レーザー源
１５ 光導管
１Ａ ターゲット材送給装置
１Ｂ 液面制御装置
１Ｃ 低圧均質装置
１１１ 透明窓
２ ターゲット材
１３１ 冷却液体輸送管
ｄ１ 第１距離
ｄ２ 第２距離
ｄ３ 第３距離
１５１ 光導入端
１５２ 光導出端
１６ 一次混合装置
１７ 高分子材料投入装置
１８ 二次混合装置
１９ ナノユニット成形装置
１Ｄ 第１高圧均質装置
１Ｅ 第２高圧均質装置
１１２ ナノ粒子輸送管
１７１ 高分子材料輸送管
１６１ 第１混合溶液輸送管
１８１ 第２混合溶液輸送管
１３２ 第１流速制御弁
１７２ 第２流速制御弁
１Ｒ 製粉装置
１’ レーザーアブレーション設備
１０’ レーザー源
１１’ 基板
１２’ 合焦レンズ
１３’ アブレーションキャビティ
１４’ 第１混合キャビティ
１５’ 第１ポンプ
１４ａ’ 第２混合キャビティ
１５ａ’ 第２ポンプ
２’ ターゲット材
１３０’ 透明窓
３’ 界面活性剤
１３１’ 第１収集管路
１３１ａ’ 第２収集管路
１５１’ 第１溶液送入管路
１５１ａ’ 第２溶液送入管路
１４１’ 第１排出管路
１４１ａ’ 第２排出管路

Claims (15)

1. ナノ粒子製造システムであって、
   その頂部に透明窓が設けられるアブレーションキャビティと、
   前記アブレーションキャビティの中に設けられ、ターゲット材を置くための基板と、
   冷却液体輸送管を介して前記アブレーションキャビティに連結され、冷却液体を前記アブレーションキャビティの中に投入させるための冷却液体投入装置と、
   レーザー光を提供するレーザー源と、
   光導入端と光導出端とを有する少なくとも１つの光導管とを備え、
   前記冷却液体の液面高さと前記透明窓の設置高さとの間に第１距離が隔てられ、また、前記液面高さと前記ターゲット材の表面との間に第２距離が隔てられ、
   前記光導入端は、前記レーザー源に連結され、かつ前記光導出端は、前記アブレーションキャビティの内部に延入することにより、前記光導出端と前記ターゲット材の表面との間に第３距離を隔てさせ、
   前記レーザー光は、前記少なくとも１つの光導管を経て前記アブレーションキャビティの内部に導入されると共に、前記ターゲット材に向けて射出した後、前記ターゲット材は、前記レーザー光により複数個のナノ粒子になるようにアブレーションされることを特徴とする、
   ナノ粒子製造システム。
2. 前記冷却液体は、有機相冷凝縮液または水相冷凝縮液のいずれか１種であることを特徴とする、請求項１に記載のナノ粒子製造システム。
3. 前記アブレーションキャビティは、ポリフルオロエテン（Ｐｏｌｙｔｅｔｒａｆｌｕｏｒｏｅｔｈｅｎｅ，ＰＴＦＥ）から作成されることを特徴とする、請求項１に記載のナノ粒子製造システム。
4. 前記ターゲット材は、不活性金属ターゲット材であることを特徴とする、請求項１に記載のナノ粒子製造システム。
5. 前記光導管は、光ファイバーまたは石英ガラス柱のいずれか１種であることを特徴とする、請求項１に記載のナノ粒子製造システム。
6. 前記第１距離が５ｍｍよりも小さく、前記第２距離が５ｃｍよりも小さく、かつ前記第３距離が５ｍｍよりも小さいことを特徴とする、請求項１に記載のナノ粒子製造システム。
7. 前記アブレーションキャビティに連結され、前記ターゲット材を前記アブレーションキャビティ内に送り込むためのターゲット材送給装置と、前記アブレーションキャビティに連結され、前記冷却液体の前記液面高さを検出すると共に、前記冷却液体を注入／抽出する方式で、前記液面高さと前記設置高さとの間の距離を前記第１距離に制御するための液面制御装置と、前記アブレーションキャビティに連結され、前記アブレーションキャビティ内の前記冷却液体を循環させて、前記複数個のナノ粒子を前記冷却液体の中に生成するように加速させるための低圧均質装置と、前記アブレーションキャビティに連結され、前記冷却液体の温度を維持するための恒温システムとをさらに備えることを特徴とする、請求項１に記載のナノ粒子製造システム。
8. 前記基板の材質は、前記ターゲット材の材質と同じであることを特徴とする、請求項４に記載のナノ粒子製造システム。
9. ナノ粒子輸送管を介して前記アブレーションキャビティに連結される製粉装置をさらに備えることを特徴とする、請求項７に記載のナノ粒子製造システム。
10. ナノ粒子輸送管を介して前記アブレーションキャビティに連結される一次混合装置と、高分子材料輸送管を介して前記一次混合装置に連結され、高分子溶液を前記一次混合装置の中に送入して、前記複数個のナノ粒子と前記高分子溶液とを前記一次混合装置の中に一次混合溶液になるように混合させるための高分子材料投入装置と、第１混合溶液輸送管を介して前記一次混合装置に連結される二次混合装置と、第２混合溶液輸送管を介して前記二次混合装置に連結されるナノユニット成形装置とをさらに備え、前記一次混合溶液は、前記一次混合装置から前記二次混合装置に送入され、前記二次混合装置が実行する再混合工程により前記一次混合溶液をナノ／高分子混合溶液になるように混合し、前記ナノ／高分子混合溶液は、前記二次混合装置から前記ナノユニット成形装置まで送出されると共に、前記ナノユニット成形装置の中に複合ナノユニットに成形されることを特徴とする、請求項７に記載のナノ粒子製造システム。
11. 前記高分子材料輸送管を介して製粉装置に連結され、前記高分子溶液を前記製粉装置の中に送入するための高分子材料投入装置をさらに備え、前記複数個のナノ粒子と前記高分子溶液とを前記製粉装置の中に粉状ナノユニットになるように作成させるための高分子材料投入装置をさらに備えることを特徴とする、請求項１０に記載のナノ粒子製造システム。
12. 前記高分子溶液は、有機相高分子溶液または水相高分子溶液のいずれか１種であることを特徴とする、請求項１０に記載のナノ粒子製造システム。
13. 前記一次混合装置に連結され、前記複数個のナノ粒子と前記高分子溶液との混合を加速させるための第１高圧均質装置と、
    前記二次混合装置に連結され、前記再混合工程の完了を加速させるための第２高圧均質装置とをさらに備えることを特徴とする、請求項１０に記載のナノ粒子製造システム。
14. 前記アブレーションキャビティ、前記一次混合装置、前記二次混合装置と前記ナノユニット成形装置の内部は、いずれも真空環境に設置されることを特徴とする、請求項１０に記載のナノ粒子製造システム。
15. 前記冷却液体輸送管と前記高分子材料輸送管の上に、それぞれ第１流速制御弁と第２流速制御弁が取り付けられることを特徴とする、請求項１０に記載のナノ粒子製造システム。

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