JP2016147249A - 電極及びその製造方法、並びに前記電極を備えるタッチパネル及び有機ｅｌ照明素子 - Google Patents
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Abstract
【課題】低抵抗な金属ナノワイヤー層（導電膜）を基材の一部のみに容易に形成することができる電極及びその製造方法、並びに前記電極を備えるタッチパネル及び有機ＥＬ照明素子の提供。【解決手段】本発明の電極の製造方法は、基材の一部に金属ナノワイヤー分散液をフレキソ印刷法により塗布する塗布工程と、前記基材上に形成された金属ナノワイヤー分散液からなる分散膜を乾燥して、前記基材上に金属ナノワイヤー層を形成する金属ナノワイヤー層形成工程とを含む電極の製造方法であって、前記ナノワイヤー分散液の粘度が４０ｍＰａ・ｓ〜３００ｍＰａ・ｓであり、かつ、前記金属ナノワイヤー分散液中に、沸点が１６０℃以上の主溶剤を６０質量％以上含有する、ことを特徴とする。【選択図】図１
Description
本発明は、電極及びその製造方法、並びに前記電極を備えるタッチパネル及び有機EL照明素子に関し、特に、導電膜として金属ナノワイヤーを含む金属ナノワイヤー層が形成された電極及びその製造方法、並びに前記電極を備えるタッチパネル及び有機ＥＬ照明素子に関する。
タッチパネル等の表示パネルの表示面に設けられる透明導電膜、表示パネルの表示面側に配置される情報入力装置の透明導電膜、更には、有機ＥＬ基板のガラス基材又はポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のプラスチック基材上に形成される透明導電膜等、光透過性が要求される透明導電膜には、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）のような金属酸化物が用いられてきた。
また、近年、金属酸化物を用いた透明導電膜に代えて、塗布や印刷による成膜が可能で、しかも曲げやたわみに対する耐性も高く、且つ低抵抗を実現可能な金属ナノワイヤーを用いた透明導電膜が検討されている。金属ナノワイヤーを用いた透明導電膜は、レアメタルであるインジウムを使わない次世代の透明導電膜としても注目されている（例えば、特許文献１，２参照）。
この金属ナノワイヤーを用いた透明導電膜による基材への回路（配線パターン）の形成方法としては、例えば、（ｉ）ダイコーター等を用いて金属ナノワイヤー分散液を基材全面に塗布し（平盤スリットダイ塗布）、その後、露光現像等により回路を形成する方法、（ｉｉ）開口部によるパターンを形成したマスクを基材上に配し、その後、スプレーによって金属ナノワイヤーの吹き付け塗布（スプレー塗布）を行う方法、などが提案されている（例えば、特許文献３参照）。
しかしながら、上述した基材全面に塗布する方法では、基材の一部のみに回路を形成したい場合に、余分な場所にまで金属ナノワイヤー分散液を塗布することになり、高価な金属ナノワイヤーが無駄になることのみならず、余分な場所に塗布された金属ナノワイヤー層を除去する手間が掛かるという問題があった。また、スプレーによる塗布方法では、基材の一部のみに回路を形成することは可能であるものの、スプレーノズル又は基材をＸ−Ｙ方向に移動させる必要があるため、時間が掛かるという問題がある。さらに、スプレーによる塗布方法には、（ｉ）ノズル詰まりの問題、（ｉｉ）洗浄に手間が掛かるという問題、（ｉｉｉ）使用後に金属ナノワイヤー分散液が配管に残るため、歩留まりが悪化するという問題、などがあった。
斯かる問題を解決すべく、例えば、印刷法により、金属ナノワイヤー分散液を基材の一部に塗布し、その後、露光現像等により回路を形成する方法が検討されている（例えば、特許文献４，５参照）。
しかしながら、一般に、金属ナノワイヤー分散液は粘度が低いため、通常のスクリーン印刷や凸版印刷では、塗布が困難である。ここで、粘度を高くするために、金属ナノワイヤー分散液に増粘剤等を添加すると、印刷による塗布は可能になるものの、不導体である増粘剤が乾燥後の塗膜内に残るため、導通性を妨げるという問題があった。
しかしながら、一般に、金属ナノワイヤー分散液は粘度が低いため、通常のスクリーン印刷や凸版印刷では、塗布が困難である。ここで、粘度を高くするために、金属ナノワイヤー分散液に増粘剤等を添加すると、印刷による塗布は可能になるものの、不導体である増粘剤が乾燥後の塗膜内に残るため、導通性を妨げるという問題があった。
本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、低抵抗な金属ナノワイヤー層（導電膜）を基材の一部のみに容易に形成することができる電極及びその製造方法、並びに前記電極を備えるタッチパネル及び有機EL照明素子を提供することを目的とする。
本発明者らは、前記目的を達成すべく鋭意検討を行った結果、金属ナノワイヤー分散液の粘度が４０ｍＰａ・ｓ〜３００ｍＰａ・ｓであり、かつ、金属ナノワイヤー分散液中に、沸点が１６０℃以上の主溶剤を６０質量％以上含有することにより、低抵抗な金属ナノワイヤー層（導電膜）を基材の一部のみに容易に形成することができることを見出し、本発明の完成に至った。
本発明は、本発明者らによる前記知見に基づくものであり、前記課題を解決するための手段としては以下の通りである。即ち、
＜１＞ 基材の一部に金属ナノワイヤー分散液をフレキソ印刷法により塗布する塗布工程と、前記基材上に形成された金属ナノワイヤー分散液からなる分散膜を乾燥して、前記基材上に金属ナノワイヤー層を形成する金属ナノワイヤー層形成工程とを含む電極の製造方法であって、前記ナノワイヤー分散液の粘度が４０ｍＰａ・ｓ〜３００ｍＰａ・ｓであり、かつ、前記金属ナノワイヤー分散液中に、沸点が１６０℃以上の主溶剤を６０質量％以上含有する、ことを特徴とする電極の製造方法、である。
該＜１＞に記載の電極の製造方法において、フレキソ印刷法を用いることにより、一般に、低粘度である金属ナノワイヤー分散液を基材の一部に塗布することができる。また、該＜１＞に記載の電極の製造方法において、前記ナノワイヤ分散液の粘度が４０ｍＰａ・ｓ（ｃｐ）〜３００ｍＰａ・ｓ（ｃｐ）であることにより、十分な塗膜厚が得られ、かつ、塗膜厚のバラツキを小さくして、抵抗値を小さくすることができる。さらに、該＜１＞に記載の電極の製造方法において、金属ナノワイヤー分散液中に、沸点が１６０℃以上の主溶剤を６０質量％以上含有することにより、金属ナノワイヤー分散液を基材の一部に塗布することができ、かつ、印刷時におけるロール上での乾きを遅くして、塗布ムラが生じるのを防止することができる。ここで、「塗布ムラ」は、局所的な膜厚差であり、低膜厚の部分は導通不良や高抵抗になりやすい。
なお、本明細書において、「電極」は、「基材と、該基材上に形成された金属ナノワイヤー層とを備える構造体」を意味する。
＜２＞ 前記主溶剤の沸点が２００℃以上かつ３００℃未満である、前記＜１＞に記載の電極の製造方法である。
該＜２＞に記載の電極の製造方法において、前記主溶剤の沸点が２００℃以上であることにより、乾燥による塗布ムラをより抑制することができ、また、前記主溶剤の沸点が３００℃未満であることにより、乾燥工程後に溶剤が残留して抵抗値が上がってしまうのを防止することができる。
＜３＞ 前記金属ナノワイヤー分散液中における水の含有量が４０質量％以下である、前記＜１＞又は＜２＞に記載の電極の製造方法である。
該＜３＞に記載の電極の製造方法において、前記金属ナノワイヤー分散液中における水の含有量が４０質量％以下であれば、良好に塗布及び乾燥を行うことができる。
＜４＞ 前記基材はガラス転移温度が１５０℃以上の高分子フィルムである、前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の電極の製造方法である。
該＜４＞に記載の電極の製造方法において、前記基材をガラス転移温度が１５０℃以上の高分子フィルムとすることにより、基材の変形を抑制して、該変形により塗布厚にムラが生じて、高抵抗の部分が生じるのを防止することができる。
本発明によれば、高分子フィルムを基材として、その一部に金属ナノワイヤー分散液を塗布することが可能である。しかしながら、本発明においては、沸点が１６０℃以上の主溶剤を使用するため、乾燥温度を、例えば１５０℃位の高温に設定する必要がある。その際、高分子フィルムは、ガラス転移温度が１５０℃未満であると、若干の変形が生じることがある。斯かる高分子フィルムの変形により、塗布厚にムラが生じて、高抵抗の部分が生じる虞があるという問題がある。なお、ここで、乾燥温度を高分子フィルムのガラス転移温度未満にすれば、上記問題は生じないが、乾燥工程に時間が掛かり、生産上好ましくない。
また、フレキシブル性が求められる場合、又は、基材厚みを薄くしたい場合には、板状の基材ではなくフィルム状の基材を用いることが望ましく、ハンドリング性を上げたい場合には、上記のようにガラス転移温度が１５０℃以上の高分子フィルムを使用することが望ましい。
＜５＞ 前記基材がガラスである、前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の電極の製造方法である。
該＜５＞に記載の電極の製造方法において、前記基材がガラスであることにより、基材の変形を抑制して、該変形により塗布厚にムラが生じて、高抵抗の部分が生じるのを防止することができる。
基材の変形により塗布厚にムラが生じて、高抵抗の部分が生じる恐れがあるという問題を解決するためには、基材を、ガラス、石英、サファイヤ等の耐熱性の高い素材を用いればよい。
＜６＞ 前記基材の上にアンカー層を形成するアンカー層形成工程をさらに含み、前記金属ナノワイヤー層形成工程において、前記金属ナノワイヤー層が前記アンカー層上に形成される、前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の電極の製造方法である。
該＜６＞に記載の電極の製造方法において、前記金属ナノワイヤー層を前記アンカー層上に形成することにより、基材と電極の密着性を向上させて、耐久性に優れた電極を得ることができる。
＜７＞ 前記アンカー層形成工程において、前記基材の上にポリシラザンを塗布し、該塗布されたポリシラザンを反応させて、前記基材の上に前記アンカー層を形成する、前記＜６＞に記載の電極の製造方法である。
該＜７＞に記載の電極の製造方法において、前記基材の上にポリシラザンを塗布し、該塗布されたポリシラザンを反応させて、前記基材の上に前記アンカー層を形成することにより、基材と金属ナノワイヤー層との密着性を向上させることができる。
ポリシラザンは、特に、ガラスや有機物に対する密着性に優れているため、好ましく使用することができる。
＜８＞ 前記金属ナノワイヤー層形成工程において、前記アンカー層におけるポリシラザンの反応率が５０％〜９５％であるときに、前記アンカー層の上に前記金属ナノワイヤー層を形成する、前記＜７＞に記載の電極の製造方法である。
該＜８＞に記載の電極の製造方法において、前記アンカー層におけるポリシラザンの反応率が５０％〜９５％であるときに、前記アンカー層の上に前記金属ナノワイヤー層を形成することにより、強固な塗膜を形成して、耐久性を向上させることができる。
ここで、ポリシラザンの反応率が９５％を超えると、ガラスと同じ物質となるため、耐久性は基材にガラスを用いた場合と同様となり、アンカー層を設ける意味が無くなる。また、反応率が５０％未満であると、強固な塗膜を形成することができず、耐久性の向上を達成することができない。
＜９＞ 前記ポリシラザンがパーヒドロポリシラザンである、前記＜７＞又は＜８＞に記載の電極の製造方法である。
＜１０＞ 前記フレキソ印刷法において用いたアニロックスロールの線数が１５０線／インチ〜４００線／インチである、前記＜１＞から＜９＞のいずれかに記載の電極の製造方法である。
該＜１０＞に記載の電極の製造方法において、前記フレキソ印刷法において用いたアニロックスロールの線数を１５０線／インチ〜４００線／インチとすることにより、製造された電極の抵抗値が上昇するのを防止することができる。
ここで、アニロックスロールの線数が、１５０線／インチ未満であると、塗布量が少なく、抵抗値が上昇し、４００線／インチより大きいと、塗布量が多過ぎて塗布ムラが生じ、部分的に抵抗値が上昇する。
＜１１＞ 前記フレキソ印刷法における印刷速度が５ｍ／ｍｉｎ〜３０ｍ／ｍｉｎである、前記＜１＞から＜１０＞のいずれかに記載の電極の製造方法である。
該＜１１＞に記載の電極の製造方法において、前記フレキソ印刷法における印刷速度が５ｍ／ｍｉｎ〜３０ｍ／ｍｉｎであることにより、電極が部分的に抵抗値が上昇するのを防止することができる。
前記フレキソ印刷法における印刷速度は、５ｍ／ｍｉｎ未満では、ロール上で溶剤の乾燥が進み、塗布ムラが生じ、部分的に抵抗値が上昇し、３０ｍ／ｍｉｎより大きいと、転写時間が十分でなく、塗布ムラが生じ、部分的に抵抗値が上昇する。
＜１２＞ 前記金属ナノワイヤーが銀ナノワイヤーである、前記＜１＞から＜１１＞のいずれかに記載の電極の製造方法である。
該＜１１＞に記載の電極の製造方法において、前記金属ナノワイヤーが銀ナノワイヤーであると、電極を低抵抗にすることができる。
＜１３＞ 前記＜１＞から＜１２＞のいずれかに記載の電極の製造方法により製造されたことを特徴とする、電極である。
＜１４＞ 前記＜１３＞に記載の電極を備えることを特徴とする、タッチパネルである。
＜１５＞ 前記＜１３＞に記載の電極を備えることを特徴とする、有機ＥＬ照明素子である。
＜１＞ 基材の一部に金属ナノワイヤー分散液をフレキソ印刷法により塗布する塗布工程と、前記基材上に形成された金属ナノワイヤー分散液からなる分散膜を乾燥して、前記基材上に金属ナノワイヤー層を形成する金属ナノワイヤー層形成工程とを含む電極の製造方法であって、前記ナノワイヤー分散液の粘度が４０ｍＰａ・ｓ〜３００ｍＰａ・ｓであり、かつ、前記金属ナノワイヤー分散液中に、沸点が１６０℃以上の主溶剤を６０質量％以上含有する、ことを特徴とする電極の製造方法、である。
該＜１＞に記載の電極の製造方法において、フレキソ印刷法を用いることにより、一般に、低粘度である金属ナノワイヤー分散液を基材の一部に塗布することができる。また、該＜１＞に記載の電極の製造方法において、前記ナノワイヤ分散液の粘度が４０ｍＰａ・ｓ（ｃｐ）〜３００ｍＰａ・ｓ（ｃｐ）であることにより、十分な塗膜厚が得られ、かつ、塗膜厚のバラツキを小さくして、抵抗値を小さくすることができる。さらに、該＜１＞に記載の電極の製造方法において、金属ナノワイヤー分散液中に、沸点が１６０℃以上の主溶剤を６０質量％以上含有することにより、金属ナノワイヤー分散液を基材の一部に塗布することができ、かつ、印刷時におけるロール上での乾きを遅くして、塗布ムラが生じるのを防止することができる。ここで、「塗布ムラ」は、局所的な膜厚差であり、低膜厚の部分は導通不良や高抵抗になりやすい。
なお、本明細書において、「電極」は、「基材と、該基材上に形成された金属ナノワイヤー層とを備える構造体」を意味する。
＜２＞ 前記主溶剤の沸点が２００℃以上かつ３００℃未満である、前記＜１＞に記載の電極の製造方法である。
該＜２＞に記載の電極の製造方法において、前記主溶剤の沸点が２００℃以上であることにより、乾燥による塗布ムラをより抑制することができ、また、前記主溶剤の沸点が３００℃未満であることにより、乾燥工程後に溶剤が残留して抵抗値が上がってしまうのを防止することができる。
＜３＞ 前記金属ナノワイヤー分散液中における水の含有量が４０質量％以下である、前記＜１＞又は＜２＞に記載の電極の製造方法である。
該＜３＞に記載の電極の製造方法において、前記金属ナノワイヤー分散液中における水の含有量が４０質量％以下であれば、良好に塗布及び乾燥を行うことができる。
＜４＞ 前記基材はガラス転移温度が１５０℃以上の高分子フィルムである、前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の電極の製造方法である。
該＜４＞に記載の電極の製造方法において、前記基材をガラス転移温度が１５０℃以上の高分子フィルムとすることにより、基材の変形を抑制して、該変形により塗布厚にムラが生じて、高抵抗の部分が生じるのを防止することができる。
本発明によれば、高分子フィルムを基材として、その一部に金属ナノワイヤー分散液を塗布することが可能である。しかしながら、本発明においては、沸点が１６０℃以上の主溶剤を使用するため、乾燥温度を、例えば１５０℃位の高温に設定する必要がある。その際、高分子フィルムは、ガラス転移温度が１５０℃未満であると、若干の変形が生じることがある。斯かる高分子フィルムの変形により、塗布厚にムラが生じて、高抵抗の部分が生じる虞があるという問題がある。なお、ここで、乾燥温度を高分子フィルムのガラス転移温度未満にすれば、上記問題は生じないが、乾燥工程に時間が掛かり、生産上好ましくない。
また、フレキシブル性が求められる場合、又は、基材厚みを薄くしたい場合には、板状の基材ではなくフィルム状の基材を用いることが望ましく、ハンドリング性を上げたい場合には、上記のようにガラス転移温度が１５０℃以上の高分子フィルムを使用することが望ましい。
＜５＞ 前記基材がガラスである、前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の電極の製造方法である。
該＜５＞に記載の電極の製造方法において、前記基材がガラスであることにより、基材の変形を抑制して、該変形により塗布厚にムラが生じて、高抵抗の部分が生じるのを防止することができる。
基材の変形により塗布厚にムラが生じて、高抵抗の部分が生じる恐れがあるという問題を解決するためには、基材を、ガラス、石英、サファイヤ等の耐熱性の高い素材を用いればよい。
＜６＞ 前記基材の上にアンカー層を形成するアンカー層形成工程をさらに含み、前記金属ナノワイヤー層形成工程において、前記金属ナノワイヤー層が前記アンカー層上に形成される、前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の電極の製造方法である。
該＜６＞に記載の電極の製造方法において、前記金属ナノワイヤー層を前記アンカー層上に形成することにより、基材と電極の密着性を向上させて、耐久性に優れた電極を得ることができる。
＜７＞ 前記アンカー層形成工程において、前記基材の上にポリシラザンを塗布し、該塗布されたポリシラザンを反応させて、前記基材の上に前記アンカー層を形成する、前記＜６＞に記載の電極の製造方法である。
該＜７＞に記載の電極の製造方法において、前記基材の上にポリシラザンを塗布し、該塗布されたポリシラザンを反応させて、前記基材の上に前記アンカー層を形成することにより、基材と金属ナノワイヤー層との密着性を向上させることができる。
ポリシラザンは、特に、ガラスや有機物に対する密着性に優れているため、好ましく使用することができる。
＜８＞ 前記金属ナノワイヤー層形成工程において、前記アンカー層におけるポリシラザンの反応率が５０％〜９５％であるときに、前記アンカー層の上に前記金属ナノワイヤー層を形成する、前記＜７＞に記載の電極の製造方法である。
該＜８＞に記載の電極の製造方法において、前記アンカー層におけるポリシラザンの反応率が５０％〜９５％であるときに、前記アンカー層の上に前記金属ナノワイヤー層を形成することにより、強固な塗膜を形成して、耐久性を向上させることができる。
ここで、ポリシラザンの反応率が９５％を超えると、ガラスと同じ物質となるため、耐久性は基材にガラスを用いた場合と同様となり、アンカー層を設ける意味が無くなる。また、反応率が５０％未満であると、強固な塗膜を形成することができず、耐久性の向上を達成することができない。
＜９＞ 前記ポリシラザンがパーヒドロポリシラザンである、前記＜７＞又は＜８＞に記載の電極の製造方法である。
＜１０＞ 前記フレキソ印刷法において用いたアニロックスロールの線数が１５０線／インチ〜４００線／インチである、前記＜１＞から＜９＞のいずれかに記載の電極の製造方法である。
該＜１０＞に記載の電極の製造方法において、前記フレキソ印刷法において用いたアニロックスロールの線数を１５０線／インチ〜４００線／インチとすることにより、製造された電極の抵抗値が上昇するのを防止することができる。
ここで、アニロックスロールの線数が、１５０線／インチ未満であると、塗布量が少なく、抵抗値が上昇し、４００線／インチより大きいと、塗布量が多過ぎて塗布ムラが生じ、部分的に抵抗値が上昇する。
＜１１＞ 前記フレキソ印刷法における印刷速度が５ｍ／ｍｉｎ〜３０ｍ／ｍｉｎである、前記＜１＞から＜１０＞のいずれかに記載の電極の製造方法である。
該＜１１＞に記載の電極の製造方法において、前記フレキソ印刷法における印刷速度が５ｍ／ｍｉｎ〜３０ｍ／ｍｉｎであることにより、電極が部分的に抵抗値が上昇するのを防止することができる。
前記フレキソ印刷法における印刷速度は、５ｍ／ｍｉｎ未満では、ロール上で溶剤の乾燥が進み、塗布ムラが生じ、部分的に抵抗値が上昇し、３０ｍ／ｍｉｎより大きいと、転写時間が十分でなく、塗布ムラが生じ、部分的に抵抗値が上昇する。
＜１２＞ 前記金属ナノワイヤーが銀ナノワイヤーである、前記＜１＞から＜１１＞のいずれかに記載の電極の製造方法である。
該＜１１＞に記載の電極の製造方法において、前記金属ナノワイヤーが銀ナノワイヤーであると、電極を低抵抗にすることができる。
＜１３＞ 前記＜１＞から＜１２＞のいずれかに記載の電極の製造方法により製造されたことを特徴とする、電極である。
＜１４＞ 前記＜１３＞に記載の電極を備えることを特徴とする、タッチパネルである。
＜１５＞ 前記＜１３＞に記載の電極を備えることを特徴とする、有機ＥＬ照明素子である。
本発明によれば、従来における前記諸問題を解決し、低抵抗な金属ナノワイヤー層（導電膜）を基材の一部のみに容易に形成することができる電極及びその製造方法、並びに前記電極を備えるタッチパネル及び有機EL照明素子を提供することができる。
本発明によれば、基材の全面に印刷する（べた塗り）のではなく、基材の一部に印刷することができる（スポット塗布が可能となる）ので、数１００μｍオーダーのラフな電極であれば、露光現像等でエッチングすることなく、そのまま電極を形成することができる（ダイレクト印刷が可能となる）。
本発明によれば、基材の全面に印刷する（べた塗り）のではなく、基材の一部に印刷することができる（スポット塗布が可能となる）ので、数１００μｍオーダーのラフな電極であれば、露光現像等でエッチングすることなく、そのまま電極を形成することができる（ダイレクト印刷が可能となる）。
（電極の製造方法）
本発明の電極の製造方法は、少なくとも、塗布工程と、金属ナノワイヤー層形成工程とを含み、更に、必要に応じて適宜選択した、アンカー層形成工程、オーバーコート層形成工程、その他の工程を含む。
本発明の電極の製造方法は、少なくとも、塗布工程と、金属ナノワイヤー層形成工程とを含み、更に、必要に応じて適宜選択した、アンカー層形成工程、オーバーコート層形成工程、その他の工程を含む。
＜塗布工程＞
前記塗布工程は、基材の一部に金属ナノワイヤー分散液をフレキソ印刷法により塗布する工程である。
前記塗布工程は、基材の一部に金属ナノワイヤー分散液をフレキソ印刷法により塗布する工程である。
＜＜基材＞＞
前記基材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、無機材料、プラスチック材料等の可視光に対して透過性を有する材料からなる透明基材が好ましい。
前記透明基材は、透明導電膜を有する透明電極に必要とされる膜厚を有しており、例えばフレキシブルな屈曲性を実現できる程度に薄膜化されたフィルム状（シート状）、又は適度の屈曲性と剛性を実現できる程度の膜厚を有する平板状とすることができる。
前記無機材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、石英、サファイア、ガラス、などが挙げられる。これらの中でも、基材の変形を抑制して、該変形により塗布厚にムラが生じて、高抵抗の部分が生じるのを防止することができる点で、ガラスが好ましい。
前記プラスチック材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエステル（ＴＰＥＥ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリアミド（ＰＡ）、アラミド、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリアクリレート、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン（ＰＰ）、ジアセチルセルロース、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、エポキシ樹脂、尿素樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、などの公知の高分子材料が挙げられる。これらの中でも、高分子フィルムの変形を抑制して、該変形により塗布厚にムラが生じて、高抵抗の部分が生じるのを防止することができる点で、ガラス転移温度が１５０℃以上の高分子フィルム（例えば、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ、ガラス転移温度１５５℃）、ポリイミドフィルム（ＰＩ、宇部興産社製ユーピレックスＳ、ガラス転移温度３５９℃））、が好ましい。
斯かるプラスチック材料を用いて透明基材を構成した場合、生産性の観点から透明基材の膜厚を５μｍ〜５００μｍとすることが好ましいが、この範囲に特に限定されるものではない。
なお、透明基材の膜厚は、マイクロゲージを用いて、ＭＤ方向（流れ方向）及びＴＤ方向（流れに直角方向）に測定することができる。
前記基材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、無機材料、プラスチック材料等の可視光に対して透過性を有する材料からなる透明基材が好ましい。
前記透明基材は、透明導電膜を有する透明電極に必要とされる膜厚を有しており、例えばフレキシブルな屈曲性を実現できる程度に薄膜化されたフィルム状（シート状）、又は適度の屈曲性と剛性を実現できる程度の膜厚を有する平板状とすることができる。
前記無機材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、石英、サファイア、ガラス、などが挙げられる。これらの中でも、基材の変形を抑制して、該変形により塗布厚にムラが生じて、高抵抗の部分が生じるのを防止することができる点で、ガラスが好ましい。
前記プラスチック材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエステル（ＴＰＥＥ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリアミド（ＰＡ）、アラミド、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリアクリレート、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン（ＰＰ）、ジアセチルセルロース、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、エポキシ樹脂、尿素樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、などの公知の高分子材料が挙げられる。これらの中でも、高分子フィルムの変形を抑制して、該変形により塗布厚にムラが生じて、高抵抗の部分が生じるのを防止することができる点で、ガラス転移温度が１５０℃以上の高分子フィルム（例えば、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ、ガラス転移温度１５５℃）、ポリイミドフィルム（ＰＩ、宇部興産社製ユーピレックスＳ、ガラス転移温度３５９℃））、が好ましい。
斯かるプラスチック材料を用いて透明基材を構成した場合、生産性の観点から透明基材の膜厚を５μｍ〜５００μｍとすることが好ましいが、この範囲に特に限定されるものではない。
なお、透明基材の膜厚は、マイクロゲージを用いて、ＭＤ方向（流れ方向）及びＴＤ方向（流れに直角方向）に測定することができる。
＜＜金属ナノワイヤー分散液＞＞
前記金属ナノワイヤー分散液は、少なくとも、金属ナノワイヤーと、主溶剤とを含んでなり、更に必要に応じて、水、副溶剤、カーボンナノチューブ、透明樹脂材料（バインダー）、分散剤、その他の成分、などを含んでなる。
スリットダイ塗布又はスプレー塗布では、２０ｍＰａ・ｓ未満の低粘度の金属ナノワイヤー分散液を用いるのが好適である。しかしながら、フレキソ印刷で低粘度の金属ナノワイヤー分散液を用いた場合、走行方向の塗膜ムラが問題となる場合が多い。ここで、沸点が１６０℃以上の高沸点溶剤を用いると、印刷膜のはじきや、偏りによるムラのない、均一な印刷膜を形成することができる。以上より、本発明の製造方法にて用いるフレキソ印刷では、沸点が１６０℃以上の高沸点溶媒がリッチの組成の金属ナノワイヤー分散液を用いるのが好適である。
前記金属ナノワイヤー分散液は、少なくとも、金属ナノワイヤーと、主溶剤とを含んでなり、更に必要に応じて、水、副溶剤、カーボンナノチューブ、透明樹脂材料（バインダー）、分散剤、その他の成分、などを含んでなる。
スリットダイ塗布又はスプレー塗布では、２０ｍＰａ・ｓ未満の低粘度の金属ナノワイヤー分散液を用いるのが好適である。しかしながら、フレキソ印刷で低粘度の金属ナノワイヤー分散液を用いた場合、走行方向の塗膜ムラが問題となる場合が多い。ここで、沸点が１６０℃以上の高沸点溶剤を用いると、印刷膜のはじきや、偏りによるムラのない、均一な印刷膜を形成することができる。以上より、本発明の製造方法にて用いるフレキソ印刷では、沸点が１６０℃以上の高沸点溶媒がリッチの組成の金属ナノワイヤー分散液を用いるのが好適である。
前記金属ナノワイヤー分散液の分散手法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、攪拌、超音波分散、ビーズ分散、混錬、ホモジナイザー処理、加圧分散処理、などが好適に挙げられる。
前記金属ナノワイヤー分散液の粘度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、４０ｍＰａ・ｓ〜３００ｍＰａ・ｓが好ましく、６０ｍＰａ・ｓ〜２００ｍＰａ・ｓがより好ましい。
前記金属ナノワイヤー分散液の粘度が、４０ｍＰａ・ｓ未満であると、十分な塗膜厚が得られず、又は、塗膜厚のバラツキが大きくなって、抵抗値が高くなることがあり、３００ｍＰａ・ｓ超であると、塗膜厚のバラツキが大きくなって、抵抗値が高くなることがある。
前記金属ナノワイヤー分散液の粘度が、４０ｍＰａ・ｓ未満であると、十分な塗膜厚が得られず、又は、塗膜厚のバラツキが大きくなって、抵抗値が高くなることがあり、３００ｍＰａ・ｓ超であると、塗膜厚のバラツキが大きくなって、抵抗値が高くなることがある。
−金属ナノワイヤー−
前記金属ナノワイヤーは、金属を用いて構成されたものであって、ｎｍオーダーの径を有する微細なワイヤーであり、アスペクト比が１：１００以上である。
前記アスペクト比としては、１：１００以上である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、導電膜のネットワーク形成の点で、１：５００以上が好ましい。
本発明の電極の製造方法において、金属ナノワイヤーの代わりに金属ナノ粒子を使用すると、金属ナノワイヤー分散液内での金属ナノ粒子の沈降が大きくなり、塗布時にムラが生じやすい。よって、本発明の電極の製造方法では、金属ナノワイヤーを使用する。
前記金属ナノワイヤーの構成元素としては、金属元素である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ａｇ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｔｌ、Ｚｎ、Ｎｂ、Ｔｉ、Ｉｎ、Ｗ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｖ、Ｔａ、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
これらの中でも、Ａｇが、低抵抗で導電性が高い点で、好ましい。
また、金属ナノワイヤーの代わりに、後述するカーボンナノチューブを用いることも可能である。
前記金属ナノワイヤーは、金属を用いて構成されたものであって、ｎｍオーダーの径を有する微細なワイヤーであり、アスペクト比が１：１００以上である。
前記アスペクト比としては、１：１００以上である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、導電膜のネットワーク形成の点で、１：５００以上が好ましい。
本発明の電極の製造方法において、金属ナノワイヤーの代わりに金属ナノ粒子を使用すると、金属ナノワイヤー分散液内での金属ナノ粒子の沈降が大きくなり、塗布時にムラが生じやすい。よって、本発明の電極の製造方法では、金属ナノワイヤーを使用する。
前記金属ナノワイヤーの構成元素としては、金属元素である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ａｇ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｔｌ、Ｚｎ、Ｎｂ、Ｔｉ、Ｉｎ、Ｗ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｖ、Ｔａ、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
これらの中でも、Ａｇが、低抵抗で導電性が高い点で、好ましい。
また、金属ナノワイヤーの代わりに、後述するカーボンナノチューブを用いることも可能である。
前記金属ナノワイヤーの平均短軸径としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１ｎｍ超５００ｎｍ以下が好ましく、１０ｎｍ〜１００ｎｍがより好ましい。
前記金属ナノワイヤーの平均短軸径が、１ｎｍ以下であると、金属ナノワイヤーの導電率が劣化して、該金属ナノワイヤーを含む透明導電膜が導電膜として機能しにくいことがあり、５００ｎｍを超えると、前記金属ナノワイヤーを含む透明導電膜の全光線透過率やヘイズ（Ｈａｚｅ）が劣化することがある。一方、前記金属ナノワイヤーの平均短軸径が前記より好ましい範囲内であると、前記金属ナノワイヤーを含む透明導電膜の導電性が高く、且つ透明性が高い点で有利である。
前記金属ナノワイヤーの平均短軸径が、１ｎｍ以下であると、金属ナノワイヤーの導電率が劣化して、該金属ナノワイヤーを含む透明導電膜が導電膜として機能しにくいことがあり、５００ｎｍを超えると、前記金属ナノワイヤーを含む透明導電膜の全光線透過率やヘイズ（Ｈａｚｅ）が劣化することがある。一方、前記金属ナノワイヤーの平均短軸径が前記より好ましい範囲内であると、前記金属ナノワイヤーを含む透明導電膜の導電性が高く、且つ透明性が高い点で有利である。
前記金属ナノワイヤーの平均長軸長としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１μｍ〜１０００μｍが好ましく、１μｍ〜１００μｍがより好ましい。
前記金属ナノワイヤーの平均長軸長が、１μｍ未満であると、金属ナノワイヤー同士がつながりにくく、該金属ナノワイヤーを含む透明導電膜が導電膜として機能しにくいことがあり、１０００μｍを超えると、前記金属ナノワイヤーを含む透明導電膜の全光線透過率やヘイズ（Ｈａｚｅ）が劣化したり、透明導電膜を形成する際に用いる金属ナノワイヤー分散液における金属ナノワイヤーの分散性が劣化することがある。一方、前記金属ナノワイヤーの平均長軸長が前記より好ましい範囲内であると、前記金属ナノワイヤーを含む透明導電膜の導電性が高く、且つ透明性が高い点で有利である。
なお、金属ナノワイヤーの平均短軸径及び平均長軸長は、走査型電子顕微鏡により測定可能な、数平均短軸径及び数平均長軸長である。より具体的には、金属ナノワイヤーを少なくとも１００本以上測定し、電子顕微鏡写真から画像解析装置を用いて、それぞれのナノワイヤーの投影径及び投影面積を算出する。投影径を、短軸径とした。また、下記式に基づき、長軸長を算出した。
長軸長＝投影面積／投影径
平均短軸径は、短軸径の算術平均値とした。平均長軸長は、長軸長の算術平均値とした。
前記金属ナノワイヤーの平均長軸長が、１μｍ未満であると、金属ナノワイヤー同士がつながりにくく、該金属ナノワイヤーを含む透明導電膜が導電膜として機能しにくいことがあり、１０００μｍを超えると、前記金属ナノワイヤーを含む透明導電膜の全光線透過率やヘイズ（Ｈａｚｅ）が劣化したり、透明導電膜を形成する際に用いる金属ナノワイヤー分散液における金属ナノワイヤーの分散性が劣化することがある。一方、前記金属ナノワイヤーの平均長軸長が前記より好ましい範囲内であると、前記金属ナノワイヤーを含む透明導電膜の導電性が高く、且つ透明性が高い点で有利である。
なお、金属ナノワイヤーの平均短軸径及び平均長軸長は、走査型電子顕微鏡により測定可能な、数平均短軸径及び数平均長軸長である。より具体的には、金属ナノワイヤーを少なくとも１００本以上測定し、電子顕微鏡写真から画像解析装置を用いて、それぞれのナノワイヤーの投影径及び投影面積を算出する。投影径を、短軸径とした。また、下記式に基づき、長軸長を算出した。
長軸長＝投影面積／投影径
平均短軸径は、短軸径の算術平均値とした。平均長軸長は、長軸長の算術平均値とした。
更に、前記金属ナノワイヤーは、金属ナノ粒子が数珠状に繋がってワイヤー形状を有しているものでもよい。この場合、前記金属ナノワイヤーの長さは限定されない。
前記金属ナノワイヤーの目付量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．００１ｇ／ｍ2〜１．０００ｇ／ｍ2が好ましく、０．００３ｇ／ｍ2〜０．３ｇ／ｍ2がより好ましい。
前記金属ナノワイヤーの目付量が、０．００１ｇ／ｍ2未満であると、金属ナノワイヤーが十分に金属ナノワイヤー層中に存在せず、透明導電膜の導電性が劣化することがあり、１．０００ｇ／ｍ2を超えると、透明導電膜の全光線透過率やヘイズ（Ｈａｚｅ）が劣化することがある。一方、前記金属ナノワイヤーの目付量が前記より好ましい範囲内であると、透明導電膜の導電性が高く、且つ透明性が高い点で有利である。
前記金属ナノワイヤーの目付量が、０．００１ｇ／ｍ2未満であると、金属ナノワイヤーが十分に金属ナノワイヤー層中に存在せず、透明導電膜の導電性が劣化することがあり、１．０００ｇ／ｍ2を超えると、透明導電膜の全光線透過率やヘイズ（Ｈａｚｅ）が劣化することがある。一方、前記金属ナノワイヤーの目付量が前記より好ましい範囲内であると、透明導電膜の導電性が高く、且つ透明性が高い点で有利である。
前記金属ナノワイヤー分散液中における前記金属ナノワイヤーの含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１質量％未満が好ましく、０．０５質量％〜０．５質量％がより好ましい。
前記含有量が、１質量％以上であると、平均液滴径（液滴の平均粒径）を制御できなかったり、スプレーヘッドが詰まったりすることがある。一方、前記含有量が、前記より好ましい範囲内であると、平均液滴径（液滴の平均粒径）を容易に制御できる点で有利である。
前記含有量が、１質量％以上であると、平均液滴径（液滴の平均粒径）を制御できなかったり、スプレーヘッドが詰まったりすることがある。一方、前記含有量が、前記より好ましい範囲内であると、平均液滴径（液滴の平均粒径）を容易に制御できる点で有利である。
−−金属ナノワイヤーネットワーク−−
なお、前記金属ナノワイヤーネットワークとは、複数の金属ナノワイヤーが互いに網状に連結されて形成されたネットワーク構造を意味する。前記金属ナノワイヤーネットワークは、後述する加圧処理を経ることにより形成される。
なお、前記金属ナノワイヤーネットワークとは、複数の金属ナノワイヤーが互いに網状に連結されて形成されたネットワーク構造を意味する。前記金属ナノワイヤーネットワークは、後述する加圧処理を経ることにより形成される。
−主溶剤−
前記主溶剤としては、沸点が１６０℃以上である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エチルカルビトール（沸点２０２℃）、ジアセトンアルコール（沸点１６８℃）、ジエチレングリコール（沸点２４４℃）、トリエチレングリコール（沸点２８７℃）、フタル酸ジブチル（沸点３４０℃）、ブチルセロソルブ（沸点１７１℃）、シクロヘキサノール（沸点１６１℃）、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
これらの中でも、沸点が２００℃以上３００℃未満であるエチルカルビトール（沸点２０２℃）、ジエチレングリコール（沸点２４４℃）、トリエチレングリコール（沸点２８７℃）が、乾燥による塗布ムラをより抑制することができ、かつ、乾燥工程後に溶剤が残留して抵抗値が上がってしまうのを防止することができる点で、好ましい。
前記主溶剤の沸点は、１６０℃以上であれば、金属ナノワイヤー分散液を基板の一部に塗布することが可能であるが、２００℃以上であれば、乾燥による塗布ムラをより抑制することができる。また、前記主溶剤の沸点が３００℃以上であると、乾燥が遅いため、乾燥工程後に若干の溶剤が残留する場合があり、抵抗値を上げる要因になり得る。
なお、乾燥時間を長くすれば、溶剤の残留は生じないが、乾燥工程に時間が掛かり、生産上は好ましくない。また、乾燥温度を高くしても、この問題は生じないが、コストが増加し、また、加熱・冷却に時間が掛かるため、生産上は好ましくない。
前記主溶剤としては、沸点が１６０℃以上である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エチルカルビトール（沸点２０２℃）、ジアセトンアルコール（沸点１６８℃）、ジエチレングリコール（沸点２４４℃）、トリエチレングリコール（沸点２８７℃）、フタル酸ジブチル（沸点３４０℃）、ブチルセロソルブ（沸点１７１℃）、シクロヘキサノール（沸点１６１℃）、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
これらの中でも、沸点が２００℃以上３００℃未満であるエチルカルビトール（沸点２０２℃）、ジエチレングリコール（沸点２４４℃）、トリエチレングリコール（沸点２８７℃）が、乾燥による塗布ムラをより抑制することができ、かつ、乾燥工程後に溶剤が残留して抵抗値が上がってしまうのを防止することができる点で、好ましい。
前記主溶剤の沸点は、１６０℃以上であれば、金属ナノワイヤー分散液を基板の一部に塗布することが可能であるが、２００℃以上であれば、乾燥による塗布ムラをより抑制することができる。また、前記主溶剤の沸点が３００℃以上であると、乾燥が遅いため、乾燥工程後に若干の溶剤が残留する場合があり、抵抗値を上げる要因になり得る。
なお、乾燥時間を長くすれば、溶剤の残留は生じないが、乾燥工程に時間が掛かり、生産上は好ましくない。また、乾燥温度を高くしても、この問題は生じないが、コストが増加し、また、加熱・冷却に時間が掛かるため、生産上は好ましくない。
前記金属ナノワイヤー分散液中における主溶剤の含有量としては、６０質量％以上である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、７０質量％以上が好ましく、８０質量％以上がより好ましい。
前記金属ナノワイヤー分散液中における主溶剤の含有量が６０質量％以上であることにより、金属ナノワイヤー分散液を基材の一部に塗布することができ、かつ、印刷時におけるロール上での乾きを遅くして、塗布ムラが生じるのを防止することができる。ここで、「塗布ムラ」は、局所的な膜厚差であり、低膜厚の部分は導通不良や高抵抗になりやすい。
前記金属ナノワイヤー分散液中における主溶剤の含有量が、好ましい範囲内又はより好ましい範囲内であることにより、均一な厚みにすることができるため、導通性に優れた電極を得ることができる。
前記金属ナノワイヤー分散液中における主溶剤の含有量が６０質量％以上であることにより、金属ナノワイヤー分散液を基材の一部に塗布することができ、かつ、印刷時におけるロール上での乾きを遅くして、塗布ムラが生じるのを防止することができる。ここで、「塗布ムラ」は、局所的な膜厚差であり、低膜厚の部分は導通不良や高抵抗になりやすい。
前記金属ナノワイヤー分散液中における主溶剤の含有量が、好ましい範囲内又はより好ましい範囲内であることにより、均一な厚みにすることができるため、導通性に優れた電極を得ることができる。
−水−
前記金属ナノワイヤー分散液中における水の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、４０質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましい。
前記金属ナノワイヤー分散液中における水の含有量が４０質量％超であると、乾燥が速いため、塗布ムラが生じ易い。ここで、「塗布ムラ」は、局所的な膜厚差であり、低膜厚の部分は導通不良や高抵抗になりやすい。
一般に、金属ナノワイヤーは、水分散液の状態で提供されている。この水を沸点が１６０℃以上の溶剤に置換することは、定法により可能であるが、工程の手間が増えるという問題が生じる。よって、金属ナノワイヤー水分散液に高沸点溶剤を添加するか、又は、若干の加温等により、ある程度水を減量した状態でフレキソ印刷法による塗布を行うことが望ましい。
前記金属ナノワイヤー分散液中における水の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、４０質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましい。
前記金属ナノワイヤー分散液中における水の含有量が４０質量％超であると、乾燥が速いため、塗布ムラが生じ易い。ここで、「塗布ムラ」は、局所的な膜厚差であり、低膜厚の部分は導通不良や高抵抗になりやすい。
一般に、金属ナノワイヤーは、水分散液の状態で提供されている。この水を沸点が１６０℃以上の溶剤に置換することは、定法により可能であるが、工程の手間が増えるという問題が生じる。よって、金属ナノワイヤー水分散液に高沸点溶剤を添加するか、又は、若干の加温等により、ある程度水を減量した状態でフレキソ印刷法による塗布を行うことが望ましい。
−副溶剤−
前記副溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エタノール（沸点７８℃）、イソプロパノール（沸点８２℃）、メチルイソブチルケトン沸点１１６℃）、エチルラクテート（沸点１５５℃）、イソブチルアルコール（沸点１０８℃）、トルエン（沸点１１１℃）、などが挙げられる。
前記副溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エタノール（沸点７８℃）、イソプロパノール（沸点８２℃）、メチルイソブチルケトン沸点１１６℃）、エチルラクテート（沸点１５５℃）、イソブチルアルコール（沸点１０８℃）、トルエン（沸点１１１℃）、などが挙げられる。
−カーボンナノチューブ−
前記カーボンナノチューブとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、従来の合成法で合成されるものでもよく、また、市販のものであってもよい。
前記カーボンナノチューブの合成法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アーク放電法、レーザー蒸発法、熱ＣＶＤ法、などが挙げられる。
前記カーボンナノチューブとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、単層カーボンナノチューブ（ＳＷＮＴ）であってもよく、多層カーボンナノチューブ（ＭＷＮＴ）であってもよい。但し、前記単層カーボンナノチューブが好ましい。
前記カーボンナノチューブとしては、金属性と半導体性のカーボンナノチューブの混合物であってよく、また、また選択的に分離された半導体性カーボンナノチューブであってもよい。
前記カーボンナノチューブとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、従来の合成法で合成されるものでもよく、また、市販のものであってもよい。
前記カーボンナノチューブの合成法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アーク放電法、レーザー蒸発法、熱ＣＶＤ法、などが挙げられる。
前記カーボンナノチューブとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、単層カーボンナノチューブ（ＳＷＮＴ）であってもよく、多層カーボンナノチューブ（ＭＷＮＴ）であってもよい。但し、前記単層カーボンナノチューブが好ましい。
前記カーボンナノチューブとしては、金属性と半導体性のカーボンナノチューブの混合物であってよく、また、また選択的に分離された半導体性カーボンナノチューブであってもよい。
−−カーボンナノチューブネットワーク−−
前記カーボンナノチューブネットワークとは、複数のカーボンナノチューブが互いに網状に連結されて形成されたネットワーク構造を意味する。前記カーボンナノチューブネットワークは、後述する加圧処理を経ることにより形成される。
前記カーボンナノチューブネットワークとは、複数のカーボンナノチューブが互いに網状に連結されて形成されたネットワーク構造を意味する。前記カーボンナノチューブネットワークは、後述する加圧処理を経ることにより形成される。
−透明樹脂材料（バインダー）−
前記透明樹脂材料（バインダー）は、前記金属ナノワイヤー及び／又は前記カーボンナノチューブを分散させるものである。
前記透明樹脂材料（バインダー）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、既知の透明な、天然高分子樹脂、合成高分子樹脂、などが挙げられ、熱可塑性樹脂であってもよく、また、熱、光、電子線、放射線で硬化する熱（光）硬化性樹脂であってもよい。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記熱可塑性樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリメチルメタクリレート、ニトロセルロース、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、フッ化ビニリデン、エチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、などが挙げられる。
前記熱（光）硬化性樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メラミンアクリレート、ウレタンアクリレート、イソシアネート、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル変性シリケート等のシリコン樹脂、アジド基やジアジリン基などの感光基を主鎖及び側鎖の少なくともいずれかに導入したポリマー、などが挙げられる。
前記透明樹脂材料（バインダー）は、前記金属ナノワイヤー及び／又は前記カーボンナノチューブを分散させるものである。
前記透明樹脂材料（バインダー）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、既知の透明な、天然高分子樹脂、合成高分子樹脂、などが挙げられ、熱可塑性樹脂であってもよく、また、熱、光、電子線、放射線で硬化する熱（光）硬化性樹脂であってもよい。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記熱可塑性樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリメチルメタクリレート、ニトロセルロース、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、フッ化ビニリデン、エチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、などが挙げられる。
前記熱（光）硬化性樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メラミンアクリレート、ウレタンアクリレート、イソシアネート、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル変性シリケート等のシリコン樹脂、アジド基やジアジリン基などの感光基を主鎖及び側鎖の少なくともいずれかに導入したポリマー、などが挙げられる。
−分散剤−
前記分散剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）；ポリエチレンイミン等のアミノ基含有化合物；スルホ基（スルホン酸塩含む）、スルホニル基、スルホンアミド基、カルボン酸基（カルボン酸塩含む）、アミド基、リン酸基（リン酸塩、リン酸エステル含む）、フォスフィノ基、シラノール基、エポキシ基、イソシアネート基、シアノ基、ビニル基、チオール基、カルビノール基等の官能基を有する化合物で金属に吸着可能なもの；などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記分散剤を、前記金属ナノワイヤー又は任意に含まれるカーボンナノチューブの表面に吸着させてもよい。これにより、前記金属ナノワイヤー又は任意に含まれるカーボンナノチューブの分散性を向上させることができる。
前記分散剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）；ポリエチレンイミン等のアミノ基含有化合物；スルホ基（スルホン酸塩含む）、スルホニル基、スルホンアミド基、カルボン酸基（カルボン酸塩含む）、アミド基、リン酸基（リン酸塩、リン酸エステル含む）、フォスフィノ基、シラノール基、エポキシ基、イソシアネート基、シアノ基、ビニル基、チオール基、カルビノール基等の官能基を有する化合物で金属に吸着可能なもの；などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記分散剤を、前記金属ナノワイヤー又は任意に含まれるカーボンナノチューブの表面に吸着させてもよい。これにより、前記金属ナノワイヤー又は任意に含まれるカーボンナノチューブの分散性を向上させることができる。
また、前記分散剤を前記金属ナノワイヤー分散液に対して添加する場合は、最終的に得られる導電膜の導電性が劣化しない程度の添加量にすることが好ましい。これにより、前記分散剤を、導電膜の導電性が劣化しない程度の量で金属ナノワイヤー又は任意に含まれるカーボンナノチューブに吸着させることができる。
−その他の成分−
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、レベリング剤、界面活性剤、粘度調整剤、硬化促進触媒、可塑性、酸化防止剤や硫化防止剤等の安定剤、などが挙げられる。
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、レベリング剤、界面活性剤、粘度調整剤、硬化促進触媒、可塑性、酸化防止剤や硫化防止剤等の安定剤、などが挙げられる。
＜＜フレキソ印刷法＞＞
図１は、本発明の一実施形態に係る電極の製造方法における塗布工程で用いられるフレキソ印刷法を説明するための模式図である。
前記フレキソ印刷法は、図１に示すように、ドクターブレード１を用いて、インク２をアニロックスロ―ル（金属ロール）３に充填し、版胴４上に形成されたフレキソ樹脂版５にインク２を転写し、印刷ステージ（厚胴）６上の基材７に印刷する方法である。
図１は、本発明の一実施形態に係る電極の製造方法における塗布工程で用いられるフレキソ印刷法を説明するための模式図である。
前記フレキソ印刷法は、図１に示すように、ドクターブレード１を用いて、インク２をアニロックスロ―ル（金属ロール）３に充填し、版胴４上に形成されたフレキソ樹脂版５にインク２を転写し、印刷ステージ（厚胴）６上の基材７に印刷する方法である。
前記フレキソ印刷法における印刷速度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５ｍ／ｍｉｎ〜３０ｍ／ｍｉｎが好ましく、１０ｍ／ｍｉｎ〜２０ｍ／ｍｉｎがより好ましい。
前記印刷速度が、５ｍ／ｍｉｎ未満であると、印刷ムラによって印刷膜の外観不良が発生することがあり、３０ｍ／ｍｉｎを超えると、インク転写が不充分となり均一な膜厚が得られないことがある。一方、前記印刷速度が、前記より好ましい範囲内であると、均一な厚みにすることができるため、導通性に優れた電極膜形成の点で有利である。
前記印刷速度が、５ｍ／ｍｉｎ未満であると、印刷ムラによって印刷膜の外観不良が発生することがあり、３０ｍ／ｍｉｎを超えると、インク転写が不充分となり均一な膜厚が得られないことがある。一方、前記印刷速度が、前記より好ましい範囲内であると、均一な厚みにすることができるため、導通性に優れた電極膜形成の点で有利である。
前記フレキソ印刷法において用いたアニロックスロールの線数としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１５０線／インチ〜４００線／インチが好ましく、２００線／インチ〜３５０線／インチがより好ましい。
前記アニロックスロールの線数が、１５０線／インチ未満であると、解像度が低くなるため印刷版に供給されるインキの量が不均一となることがあり、４００線／インチを超えると、微細なパターン形状によって解像度が高くなるため印刷版に供給されるインキの量が少なくなることがある。一方、前記アニロックスロールの線数が、前記より好ましい範囲内であると、供給されるインキを均質に定量受け取った後に刷版に受け渡すことができるため適切な印刷効果が得られる点で有利である。
前記アニロックスロールの線数が、１５０線／インチ未満であると、解像度が低くなるため印刷版に供給されるインキの量が不均一となることがあり、４００線／インチを超えると、微細なパターン形状によって解像度が高くなるため印刷版に供給されるインキの量が少なくなることがある。一方、前記アニロックスロールの線数が、前記より好ましい範囲内であると、供給されるインキを均質に定量受け取った後に刷版に受け渡すことができるため適切な印刷効果が得られる点で有利である。
＜金属ナノワイヤー層形成工程＞
前記金属ナノワイヤー層形成工程は、前記基材上に形成された金属ナノワイヤー分散液からなる分散膜を乾燥して、前記基材上に金属ナノワイヤー層を形成する工程である。
前記金属ナノワイヤー層形成工程は、前記基材上に形成された金属ナノワイヤー分散液からなる分散膜を乾燥して、前記基材上に金属ナノワイヤー層を形成する工程である。
＜＜乾燥＞＞
前記乾燥における加熱温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１００℃〜２００℃が好ましく、１２０℃〜１８０℃がより好ましく、約１５０℃が特に好ましい。
前記乾燥における加熱温度が、１００℃未満であると、乾燥に要する時間が長くなり作業性が悪化することがあり、２００℃を超えると、基材のガラス転移温度（Ｔｇ）との兼ね合いで基材が歪曲することがある。一方、前記加熱温度が、前記より好ましい範囲内又は前記特に好ましい範囲内であると、金属ナノワイヤーのネットワーク形成の点で有利である。
前記乾燥における加熱時間としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１分間〜３０分間が好ましく、２分間〜１０分間がより好ましく、約５分間が特に好ましい。
前記乾燥における加熱時間が、１分間未満であると、溶媒を十分に除去することができないことがあり、３０分間を超えると、作業性及び電極の生産性が悪化することがある。一方、前記加熱時間が、前記より好ましい範囲内又は前記特に好ましい範囲内であると、金属ナノワイヤーのネットワーク形成、作業性及び電極の生産性の向上の点で有利である。
前記乾燥における加熱温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１００℃〜２００℃が好ましく、１２０℃〜１８０℃がより好ましく、約１５０℃が特に好ましい。
前記乾燥における加熱温度が、１００℃未満であると、乾燥に要する時間が長くなり作業性が悪化することがあり、２００℃を超えると、基材のガラス転移温度（Ｔｇ）との兼ね合いで基材が歪曲することがある。一方、前記加熱温度が、前記より好ましい範囲内又は前記特に好ましい範囲内であると、金属ナノワイヤーのネットワーク形成の点で有利である。
前記乾燥における加熱時間としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１分間〜３０分間が好ましく、２分間〜１０分間がより好ましく、約５分間が特に好ましい。
前記乾燥における加熱時間が、１分間未満であると、溶媒を十分に除去することができないことがあり、３０分間を超えると、作業性及び電極の生産性が悪化することがある。一方、前記加熱時間が、前記より好ましい範囲内又は前記特に好ましい範囲内であると、金属ナノワイヤーのネットワーク形成、作業性及び電極の生産性の向上の点で有利である。
＜＜金属ナノワイヤー層＞＞
前記金属ナノワイヤー層は、金属ナノワイヤー分散液を用いて形成され、該金属ナノワイヤー分散液は、前述した通りである。また、前記金属ナノワイヤー分散液に含まれ得る金属ナノワイヤー、主溶剤、水、副溶剤、カーボンナノチューブ、透明樹脂材料（バインダー）、分散剤、その他の成分は、いずれも、金属ナノワイヤー分散液の説明で前述した通りである。
前記金属ナノワイヤー層は、金属ナノワイヤー分散液を用いて形成され、該金属ナノワイヤー分散液は、前述した通りである。また、前記金属ナノワイヤー分散液に含まれ得る金属ナノワイヤー、主溶剤、水、副溶剤、カーボンナノチューブ、透明樹脂材料（バインダー）、分散剤、その他の成分は、いずれも、金属ナノワイヤー分散液の説明で前述した通りである。
前記金属ナノワイヤー層の抵抗値の標準偏差σとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２０Ω／ｓｑ以下が好ましく、１５Ω／ｓｑ以下がより好ましく、１０Ω／ｓｑ以下が特に好ましい。
前記金属ナノワイヤー層の抵抗値の標準偏差σが２０Ω／ｓｑを超えると、抵抗値の均一性が低いため、電気回路として問題が生じることがある。例えば、前記金属ナノワイヤー層を備えるタッチパネルは、パネルの場所によってタッチ部位の検出精度に差が生じ、消費電力が増大するという問題があり、また、前記金属ナノワイヤー層を備える有機ＥＬ照明素子は、輝度ムラや発熱が生じる。
前記金属ナノワイヤー層の抵抗値は、抵抗率計ＥＣ−８０Ｐを用いて、測定プローブを金属ナノワイヤー層の表面に接触させて、ＭＤ方向（流れ方向）及びＴＤ方向（流れに直角方向）に２０ｍｍ毎に測定することができる。なお、通常、２０点以上測定する。
前記金属ナノワイヤー層の抵抗値の標準偏差σが２０Ω／ｓｑを超えると、抵抗値の均一性が低いため、電気回路として問題が生じることがある。例えば、前記金属ナノワイヤー層を備えるタッチパネルは、パネルの場所によってタッチ部位の検出精度に差が生じ、消費電力が増大するという問題があり、また、前記金属ナノワイヤー層を備える有機ＥＬ照明素子は、輝度ムラや発熱が生じる。
前記金属ナノワイヤー層の抵抗値は、抵抗率計ＥＣ−８０Ｐを用いて、測定プローブを金属ナノワイヤー層の表面に接触させて、ＭＤ方向（流れ方向）及びＴＤ方向（流れに直角方向）に２０ｍｍ毎に測定することができる。なお、通常、２０点以上測定する。
前記金属ナノワイヤー層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、分散膜のウェット厚として３μｍ〜２０μｍが好ましく、５μｍ〜１５μｍがより好ましい。
前記分散膜のウェット厚が、３μｍ未満であると、金属ナノワイヤー層の形成が困難になることがあり、２０μｍを超えると、得られる透明導電膜の表面抵抗の分布が不均一になることがある。一方、前記分散膜のウェット厚が、前記より好ましい範囲内であると、分散膜の良好な形成及び得られる透明導電膜の表面抵抗の分布の均一性の点で有利である。
前記分散膜のウェット厚が、３μｍ未満であると、金属ナノワイヤー層の形成が困難になることがあり、２０μｍを超えると、得られる透明導電膜の表面抵抗の分布が不均一になることがある。一方、前記分散膜のウェット厚が、前記より好ましい範囲内であると、分散膜の良好な形成及び得られる透明導電膜の表面抵抗の分布の均一性の点で有利である。
＜アンカー層形成工程＞
前記アンカー層形成工程は、前記基材の上にアンカー層を形成する工程である。
本発明の電極の製造方法が、前記アンカー層形成工程をさらに含む場合、前記金属ナノワイヤー層は、前記アンカー層上に形成される。
前記アンカー層形成工程は、前記基材の上にアンカー層を形成する工程である。
本発明の電極の製造方法が、前記アンカー層形成工程をさらに含む場合、前記金属ナノワイヤー層は、前記アンカー層上に形成される。
−アンカー層−
前記アンカー層としては、基材と金属ナノワイヤー層との両方の密着性が高い層（例えば、分子中にＳｉ原子と有機物を同時に含む化合物等を用いて形成される層）が好ましい。
前記アンカー層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．００１μｍ〜５μｍが好ましく、０．０１μｍ〜１μｍがより好ましい。
前記アンカー層の厚みが、０．００１μｍ未満であると、基材と金属ナノワイヤー層との密着不良が生じることがあり、５μｍを超えると、電極膜の色度や全光線透過率などの光学特性において特性不良が生じることがある。一方、前記アンカー層の厚みが、前記より好ましい範囲内であると、密着性と光学特性の点で有利である。
前記アンカー層としてのポリシラザン膜のバリア膜性能により、電極の経時劣化を軽減することができる。
前記アンカー層としては、基材と金属ナノワイヤー層との両方の密着性が高い層（例えば、分子中にＳｉ原子と有機物を同時に含む化合物等を用いて形成される層）が好ましい。
前記アンカー層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．００１μｍ〜５μｍが好ましく、０．０１μｍ〜１μｍがより好ましい。
前記アンカー層の厚みが、０．００１μｍ未満であると、基材と金属ナノワイヤー層との密着不良が生じることがあり、５μｍを超えると、電極膜の色度や全光線透過率などの光学特性において特性不良が生じることがある。一方、前記アンカー層の厚みが、前記より好ましい範囲内であると、密着性と光学特性の点で有利である。
前記アンカー層としてのポリシラザン膜のバリア膜性能により、電極の経時劣化を軽減することができる。
−ポリシラザン−
前記ポリシラザンは、特に、ガラスや有機物に対する密着性に優れているため、アンカー層成分として好適に使用される。
前記ポリシラザンの重量平均分子量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５００〜５０００が好ましい。
前記ポリシラザンとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、パーヒドロポリシラザン、などが挙げられる。
前記パーヒドロポリシラザンは、下記式（１）（ｎは任意の整数を示す）によって表され、大気中の水分と反応してシリカガラスに転化する（下記反応式（２）参照）。
前記ポリシラザンは、特に、ガラスや有機物に対する密着性に優れているため、アンカー層成分として好適に使用される。
前記ポリシラザンの重量平均分子量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５００〜５０００が好ましい。
前記ポリシラザンとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、パーヒドロポリシラザン、などが挙げられる。
前記パーヒドロポリシラザンは、下記式（１）（ｎは任意の整数を示す）によって表され、大気中の水分と反応してシリカガラスに転化する（下記反応式（２）参照）。
−（ＳｉＨ2ＮＨ）−＋２Ｈ2Ｏ→ＳｉＯ2＋ＮＨ3＋２Ｈ2 ・・・（２）
−アンカー層におけるポリシラザンの反応率−
アンカー層の上に金属ナノワイヤー層を形成する時点でのアンカー層におけるポリシラザンの反応率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５０％〜９５％が好ましく、７０％〜９５％がより好ましく、８２．５％〜８７．５％が特に好ましい。
前記反応率が、５０％未満であると、耐溶剤性に劣ることがあり、９５％を超えると、アンカー層がほぼガラスと同じ構造体となるため、金属ナノワイヤーの密着性が劣ることがある。一方、前記反応率が前記より好ましい範囲内、又は、前記特に好ましい範囲内であると、耐溶剤性及び密着性の点で有利である。
前記アンカー層におけるポリシラザンの反応率は、測定対象となるサンプルの赤外分光法（ＩＲ）スペクトルを用いて算出した割合（％）であり、例えば、上記反応式（２）の反応前のパーヒドロポリシラザンのＳｉ−Ｎ基の吸収ピークの高さを１００％とした場合の、上記反応式（２）の反応後のパーヒドロポリシラザンのＳｉ−Ｎ基の吸収ピークの高さの割合（％）を指す。なお、上記反応率の算出には、事前に作成した検量線（縦軸が「Ｓｉ−Ｎ基の吸収ピークの高さ」、横軸が「反応時間」のグラフ）を用いてもよい。
アンカー層の上に金属ナノワイヤー層を形成する時点でのアンカー層におけるポリシラザンの反応率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５０％〜９５％が好ましく、７０％〜９５％がより好ましく、８２．５％〜８７．５％が特に好ましい。
前記反応率が、５０％未満であると、耐溶剤性に劣ることがあり、９５％を超えると、アンカー層がほぼガラスと同じ構造体となるため、金属ナノワイヤーの密着性が劣ることがある。一方、前記反応率が前記より好ましい範囲内、又は、前記特に好ましい範囲内であると、耐溶剤性及び密着性の点で有利である。
前記アンカー層におけるポリシラザンの反応率は、測定対象となるサンプルの赤外分光法（ＩＲ）スペクトルを用いて算出した割合（％）であり、例えば、上記反応式（２）の反応前のパーヒドロポリシラザンのＳｉ−Ｎ基の吸収ピークの高さを１００％とした場合の、上記反応式（２）の反応後のパーヒドロポリシラザンのＳｉ−Ｎ基の吸収ピークの高さの割合（％）を指す。なお、上記反応率の算出には、事前に作成した検量線（縦軸が「Ｓｉ−Ｎ基の吸収ピークの高さ」、横軸が「反応時間」のグラフ）を用いてもよい。
基材上に金属ナノワイヤ分散液を塗布して電極を形成するよりも、まず、基材上にアンカー層を形成して、アンカー層上に金属ナノワイヤ分散液を塗布して電極を形成する方が、基材と電極の密着性が良好となるため、耐久性に優れた電極を得ることができる。
アンカー層が所謂プライマー層となり、基材と金属ナノワイヤー層の中間層となることで、密着性を改善できる。アンカー層は、金属ナノワイヤー層と透明基材との両方に密着性がよいことが望ましく、例えば、分子中にＳｉ原子と有機物を同時に含む化合物等を用いることができる。
前記基材の上にアンカー層を形成する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、凸版印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、スリットダイ塗布、スプレー塗布、浸漬法、などの既存の塗布方法が挙げられる。斯かる印刷法を用いることにより、短時間で基材の一部のみにアンカー層を形成できる。
前記基材の上にアンカー層を形成する方法の具体例としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、基材の上にポリシラザンを塗布し、該塗布されたポリシラザンを反応させて、前記基材の上にアンカー層を形成する方法、などが挙げられる。
前記基材の上にアンカー層を形成する方法の具体例としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、基材の上にポリシラザンを塗布し、該塗布されたポリシラザンを反応させて、前記基材の上にアンカー層を形成する方法、などが挙げられる。
＜オーバーコート層形成工程＞
本発明において、形成した電極の保護を目的として、既存の物質によりオーバーコート層を形成してもよい。
前記金属ナノワイヤー層の上にオーバーコート層を形成する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記金属ナノワイヤー層の上にアクリレートモノマーを含有する液状物を塗布し、該塗布された液状物を硬化させて、前記金属ナノワイヤー層の上に前記オーバーコート層を形成する方法、などが挙げられる。
本発明において、形成した電極の保護を目的として、既存の物質によりオーバーコート層を形成してもよい。
前記金属ナノワイヤー層の上にオーバーコート層を形成する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記金属ナノワイヤー層の上にアクリレートモノマーを含有する液状物を塗布し、該塗布された液状物を硬化させて、前記金属ナノワイヤー層の上に前記オーバーコート層を形成する方法、などが挙げられる。
−オーバーコート層−
前記オーバーコート層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のポリマーを溶剤に溶解後、塗布／乾燥する方法、などが挙げられる。
ここで、前記オーバーコート層が架橋構造を形成し得る硬化系材料で形成されると、耐溶剤性及び耐環境試験性をより高めることができる。前記硬化系材料としては、架橋構造を形成し得る限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、透明性、速硬化性、耐溶剤性、耐環境試験の観点から、アクリル重合系材料が好ましく、特に、耐溶剤性、耐環境試験を向上する観点から、多官能アクリルモノマー含有材料がより好ましい。また、前記硬化系材料の硬化反応系としては、熱硬化及び光硬化のいずれでもよいが、部材への熱ダメージが少ない点で、光硬化系が好ましい。
前記オーバーコート層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のポリマーを溶剤に溶解後、塗布／乾燥する方法、などが挙げられる。
ここで、前記オーバーコート層が架橋構造を形成し得る硬化系材料で形成されると、耐溶剤性及び耐環境試験性をより高めることができる。前記硬化系材料としては、架橋構造を形成し得る限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、透明性、速硬化性、耐溶剤性、耐環境試験の観点から、アクリル重合系材料が好ましく、特に、耐溶剤性、耐環境試験を向上する観点から、多官能アクリルモノマー含有材料がより好ましい。また、前記硬化系材料の硬化反応系としては、熱硬化及び光硬化のいずれでもよいが、部材への熱ダメージが少ない点で、光硬化系が好ましい。
（電極）
本発明の電極は、本発明の製造方法により製造された電極であって、少なくとも、基材と、該基材上に形成された金属ナノワイヤー層とを有し、必要に応じて、その他の部材を有する。
なお、前記基材及び前記金属ナノワイヤー層は、前述した通りである。
前記その他の部材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アンカー層、オーバーコート層、などが挙げられる。
本発明の電極は、本発明の製造方法により製造された電極であって、少なくとも、基材と、該基材上に形成された金属ナノワイヤー層とを有し、必要に応じて、その他の部材を有する。
なお、前記基材及び前記金属ナノワイヤー層は、前述した通りである。
前記その他の部材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アンカー層、オーバーコート層、などが挙げられる。
（タッチパネル）
本発明のタッチパネルは、少なくとも、本発明の電極を有し、必要に応じて、その他の部材を有する。
図２は、本発明の一実施形態に係るタッチパネルの模式図である。
図２において、タッチパネル２００は、本発明の電極を有する画像表示部材１１と、画像表示部材１１上に形成された光透過性硬化樹脂層１２と、光透過性硬化樹脂層１２上に形成された光透過性カバー部材１４と、光透過性硬化樹脂層１２と光透過性カバー部材１４との間に介装された遮光層１３とを備える。
本発明のタッチパネルは、少なくとも、本発明の電極を有し、必要に応じて、その他の部材を有する。
図２は、本発明の一実施形態に係るタッチパネルの模式図である。
図２において、タッチパネル２００は、本発明の電極を有する画像表示部材１１と、画像表示部材１１上に形成された光透過性硬化樹脂層１２と、光透過性硬化樹脂層１２上に形成された光透過性カバー部材１４と、光透過性硬化樹脂層１２と光透過性カバー部材１４との間に介装された遮光層１３とを備える。
（有機ＥＬ照明素子）
本発明の有機ＥＬ照明素子は、少なくとも、本発明の電極を有し、必要に応じて、その他の部材を有する。
図３は、本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ照明素子の模式図である。
図３において、本発明の有機ＥＬ照明素子３００は、ガラス等からなる基材２１と、この基材２１の表面に成膜された陽極２２、陽極２２の表面に成膜された有機発光層２３と、有機発光層２３の表面に成膜された陰極２４と、これらの表面を封止するガラス製の封止材２５と、封止材２５の内側面に形成された乾燥剤膜２６と、基材２１と封止材２５の周囲とを接着する接着剤２７とを備える。ここで、基材２１と陽極２２とが、本発明の電極を構成する。
本発明の有機ＥＬ照明素子は、少なくとも、本発明の電極を有し、必要に応じて、その他の部材を有する。
図３は、本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ照明素子の模式図である。
図３において、本発明の有機ＥＬ照明素子３００は、ガラス等からなる基材２１と、この基材２１の表面に成膜された陽極２２、陽極２２の表面に成膜された有機発光層２３と、有機発光層２３の表面に成膜された陰極２４と、これらの表面を封止するガラス製の封止材２５と、封止材２５の内側面に形成された乾燥剤膜２６と、基材２１と封止材２５の周囲とを接着する接着剤２７とを備える。ここで、基材２１と陽極２２とが、本発明の電極を構成する。
次に、実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記実施例に制限されるものではない。
（比較例１）
＜銀ナノワイヤーインク（金属ナノワイヤー分散液）の調製＞
下記の配合にて、銀ナノワイヤーインク（金属ナノワイヤー分散液）を作製した。
（１）金属ナノワイヤー：銀ナノワイヤー（ＢｌｕｅＮａｎｏ社製、ＳＬＶ−ＮＷ−３５、平均径３５ｎｍ（メーカー値）、平均長さ１０μｍ（メーカー値））：配合量０．５００質量部
（２）バインダー：ヒドロキシプロピルメチルセルロース（アルドリッチ株式会社製、２％水溶液の２０℃における粘度２６００ｃＰ〜５６００ｃＰ）：配合量０．５００質量部
（３）増粘剤：Ａ−２０Ｌ（東亜合成株式会社製）：配合量０．００５質量部
（４）界面活性剤：ＴｒｉｔｏｎＸ１００（アルドリッチ株式会社製）：配合量０．００５質量部
（５）主溶剤：エチルカルビト―ル（沸点２０２℃）：配合量９８．９９０質量部
＜銀ナノワイヤーインク（金属ナノワイヤー分散液）の調製＞
下記の配合にて、銀ナノワイヤーインク（金属ナノワイヤー分散液）を作製した。
（１）金属ナノワイヤー：銀ナノワイヤー（ＢｌｕｅＮａｎｏ社製、ＳＬＶ−ＮＷ−３５、平均径３５ｎｍ（メーカー値）、平均長さ１０μｍ（メーカー値））：配合量０．５００質量部
（２）バインダー：ヒドロキシプロピルメチルセルロース（アルドリッチ株式会社製、２％水溶液の２０℃における粘度２６００ｃＰ〜５６００ｃＰ）：配合量０．５００質量部
（３）増粘剤：Ａ−２０Ｌ（東亜合成株式会社製）：配合量０．００５質量部
（４）界面活性剤：ＴｒｉｔｏｎＸ１００（アルドリッチ株式会社製）：配合量０．００５質量部
（５）主溶剤：エチルカルビト―ル（沸点２０２℃）：配合量９８．９９０質量部
＜銀ナノワイヤーインク（金属ナノワイヤー分散液）の粘度測定＞
粘度計（製造会社名：東機産業株式会社、商品名：ＴＶＢ１０）を用いて銀ナノワイヤーインク（金属ナノワイヤー分散液）の粘度を測定した結果、２９ｍＰａ・ｓ（２９ｃｐ）であった。
粘度計（製造会社名：東機産業株式会社、商品名：ＴＶＢ１０）を用いて銀ナノワイヤーインク（金属ナノワイヤー分散液）の粘度を測定した結果、２９ｍＰａ・ｓ（２９ｃｐ）であった。
＜銀ナノワイヤー透明導電膜の作製＞
調製した銀ナノワイヤーインク（分散液）を、フレキソ印刷装置（図１）を用いて、基材としてのＰＥＮフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製、商品名：「Ｑ６５ＨＡ」、厚み１２５ｕｍ）上に印刷して透明導電膜を作製し、その後、クリーンオーブンにて１５０℃／１０分間で乾燥した。
なお、印刷条件は、以下の通りであった。
（１）アニロックスロールの線数：１８０線／インチ
（２）印刷速度：１５ｍ／ｍｉｎ
（３）印刷押込み量： ０．１５ｍｍ
調製した銀ナノワイヤーインク（分散液）を、フレキソ印刷装置（図１）を用いて、基材としてのＰＥＮフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製、商品名：「Ｑ６５ＨＡ」、厚み１２５ｕｍ）上に印刷して透明導電膜を作製し、その後、クリーンオーブンにて１５０℃／１０分間で乾燥した。
なお、印刷条件は、以下の通りであった。
（１）アニロックスロールの線数：１８０線／インチ
（２）印刷速度：１５ｍ／ｍｉｎ
（３）印刷押込み量： ０．１５ｍｍ
＜抵抗値の測定＞
銀ナノワイヤー透明導電膜の抵抗値を、以下のように測定した。銀ナノワイヤー透明導電膜表面に、手動式非破壊抵抗測定器（ナプソン株式会社製、ＥＣ−８０Ｐ）の測定プローブを接触させて、透明導電膜（銀ナノワイヤー層）表面上の所定領域（１００ｍｍ2）に対して、２０ｍｍ毎に測定したのち測定値から平均値ａｖｅ、面内分布σを算出した。算出結果を表１に示す。
＜＜面内分布σの評価＞＞
上述したように算出した抵抗値の面内分布σを４段階で評価した。評価結果を表１に示す。
◎：５Ω／ｓｑ未満
○：５Ω／ｓｑ以上、１０Ω／ｓｑ未満
△：１０Ω／ｓｑ以上、２０Ω／ｓｑ未満
×：２０Ω／ｓｑ以上
＜＜環境試験（抵抗値変化の評価）＞＞
６０℃９０％ＲＨ／１００時間の環境試験前後の抵抗値変化を以下の基準で評価した。評価結果を表１に示す。
○：変化率１０％未満
△：変化率１０％以上２０％未満
×：変化率２０％以上
銀ナノワイヤー透明導電膜の抵抗値を、以下のように測定した。銀ナノワイヤー透明導電膜表面に、手動式非破壊抵抗測定器（ナプソン株式会社製、ＥＣ−８０Ｐ）の測定プローブを接触させて、透明導電膜（銀ナノワイヤー層）表面上の所定領域（１００ｍｍ2）に対して、２０ｍｍ毎に測定したのち測定値から平均値ａｖｅ、面内分布σを算出した。算出結果を表１に示す。
＜＜面内分布σの評価＞＞
上述したように算出した抵抗値の面内分布σを４段階で評価した。評価結果を表１に示す。
◎：５Ω／ｓｑ未満
○：５Ω／ｓｑ以上、１０Ω／ｓｑ未満
△：１０Ω／ｓｑ以上、２０Ω／ｓｑ未満
×：２０Ω／ｓｑ以上
＜＜環境試験（抵抗値変化の評価）＞＞
６０℃９０％ＲＨ／１００時間の環境試験前後の抵抗値変化を以下の基準で評価した。評価結果を表１に示す。
○：変化率１０％未満
△：変化率１０％以上２０％未満
×：変化率２０％以上
＜印刷膜外観の評価＞
印刷膜外観を３段階で評価した。評価結果を表１に示す。
○：印刷起因の欠陥（スジ等の外観不良）なし
△：印刷起因の欠陥（スジ等の外観不良）あり
×：印刷できていない（基材の下地が見えている）
印刷膜外観を３段階で評価した。評価結果を表１に示す。
○：印刷起因の欠陥（スジ等の外観不良）なし
△：印刷起因の欠陥（スジ等の外観不良）あり
×：印刷できていない（基材の下地が見えている）
（実施例１）
比較例１において、粘度が２９ｍＰａ・ｓの銀ナノワイヤーインクを用いる代わりに、粘度が４１ｍＰａ・ｓの銀ナノワイヤーインクを用いたこと以外は、比較例１と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表１に示す。
比較例１において、粘度が２９ｍＰａ・ｓの銀ナノワイヤーインクを用いる代わりに、粘度が４１ｍＰａ・ｓの銀ナノワイヤーインクを用いたこと以外は、比較例１と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表１に示す。
（実施例２）
比較例１において、粘度が２９ｍＰａ・ｓの銀ナノワイヤーインクを用いる代わりに、粘度が９６ｍＰａ・ｓの銀ナノワイヤーインクを用いたこと以外は、比較例１と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表１に示す。
比較例１において、粘度が２９ｍＰａ・ｓの銀ナノワイヤーインクを用いる代わりに、粘度が９６ｍＰａ・ｓの銀ナノワイヤーインクを用いたこと以外は、比較例１と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表１に示す。
（実施例３）
比較例１において、粘度が２９ｍＰａ・ｓの銀ナノワイヤーインクを用いる代わりに、粘度が１５０ｍＰａ・ｓの銀ナノワイヤーインクを用いたこと以外は、比較例１と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表１に示す。
＜銀ナノワイヤーインクの調製＞
下記の配合にて、銀ナノワイヤーインクを調製した。
（１）金属ナノワイヤー：銀ナノワイヤー（Ｂｌｕｅ Ｎａｎｏ社製、ＳＬＶ−ＮＷ−３５、平均短軸径１５ｎｍ（メーカー値）、平均長軸長３５μｍ（メーカー値））：配合量０．２０質量部
（２）バインダー：ヒドロキシプロピルメチルセルロース（アルドリッチ社製、２％水溶液の２０℃における粘度２，６００ｃＰ〜５，６００ｃＰ（文献値））：配合量０．２５質量部
（３）増粘剤：増粘剤（東亜合成社製、Ａ−７１８５）：配合量０．１５質量部
（４）溶剤：エチルカルビトール：配合量９９．４０質量部
比較例１において、粘度が２９ｍＰａ・ｓの銀ナノワイヤーインクを用いる代わりに、粘度が１５０ｍＰａ・ｓの銀ナノワイヤーインクを用いたこと以外は、比較例１と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表１に示す。
＜銀ナノワイヤーインクの調製＞
下記の配合にて、銀ナノワイヤーインクを調製した。
（１）金属ナノワイヤー：銀ナノワイヤー（Ｂｌｕｅ Ｎａｎｏ社製、ＳＬＶ−ＮＷ−３５、平均短軸径１５ｎｍ（メーカー値）、平均長軸長３５μｍ（メーカー値））：配合量０．２０質量部
（２）バインダー：ヒドロキシプロピルメチルセルロース（アルドリッチ社製、２％水溶液の２０℃における粘度２，６００ｃＰ〜５，６００ｃＰ（文献値））：配合量０．２５質量部
（３）増粘剤：増粘剤（東亜合成社製、Ａ−７１８５）：配合量０．１５質量部
（４）溶剤：エチルカルビトール：配合量９９．４０質量部
（実施例４）
比較例１において、粘度が２９ｍＰａ・ｓの銀ナノワイヤーインクを用いる代わりに、粘度が２９５ｍＰａ・ｓの銀ナノワイヤーインクを用いたこと以外は、比較例１と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表１に示す。
比較例１において、粘度が２９ｍＰａ・ｓの銀ナノワイヤーインクを用いる代わりに、粘度が２９５ｍＰａ・ｓの銀ナノワイヤーインクを用いたこと以外は、比較例１と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表１に示す。
（比較例２）
比較例１において、粘度が２９ｍＰａ・ｓの銀ナノワイヤーインクを用いる代わりに、粘度が４２１ｍＰａ・ｓの銀ナノワイヤーインクを用いたこと以外は、比較例１と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表１に示す。
比較例１において、粘度が２９ｍＰａ・ｓの銀ナノワイヤーインクを用いる代わりに、粘度が４２１ｍＰａ・ｓの銀ナノワイヤーインクを用いたこと以外は、比較例１と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表１に示す。
（比較例３）
実施例３において、主溶剤として、エチルカルビトール（沸点２０２℃）を用いる代わりに、エタノール（沸点７８℃）を用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表１に示す。
実施例３において、主溶剤として、エチルカルビトール（沸点２０２℃）を用いる代わりに、エタノール（沸点７８℃）を用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表１に示す。
（比較例４）
実施例３において、主溶剤として、エチルカルビトール（沸点２０２℃）を用いる代わりに、イソプロパノール（沸点８２℃）を用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表１に示す。
実施例３において、主溶剤として、エチルカルビトール（沸点２０２℃）を用いる代わりに、イソプロパノール（沸点８２℃）を用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表１に示す。
（比較例５）
実施例３において、主溶剤として、エチルカルビトール（沸点２０２℃）を用いる代わりに、メチルイソブチルケトン（沸点１１６℃）を用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表１に示す。
実施例３において、主溶剤として、エチルカルビトール（沸点２０２℃）を用いる代わりに、メチルイソブチルケトン（沸点１１６℃）を用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表１に示す。
（比較例６）
実施例３において、主溶剤として、エチルカルビトール（沸点２０２℃）を用いる代わりに、エチルラクテート（沸点１５５℃）を用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表１に示す。
実施例３において、主溶剤として、エチルカルビトール（沸点２０２℃）を用いる代わりに、エチルラクテート（沸点１５５℃）を用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表１に示す。
（実施例５）
実施例３において、主溶剤として、エチルカルビトール（沸点２０２℃）を用いる代わりに、ジアセトンアルコール（沸点１６８℃）を用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表１に示す。
実施例３において、主溶剤として、エチルカルビトール（沸点２０２℃）を用いる代わりに、ジアセトンアルコール（沸点１６８℃）を用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表１に示す。
（実施例６）
実施例３において、主溶剤として、エチルカルビトール（沸点２０２℃）を用いる代わりに、ジエチレングリコール（沸点２４４℃）を用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表１に示す。
実施例３において、主溶剤として、エチルカルビトール（沸点２０２℃）を用いる代わりに、ジエチレングリコール（沸点２４４℃）を用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表１に示す。
（実施例７）
実施例３において、主溶剤として、エチルカルビトール（沸点２０２℃）を用いる代わりに、トリエチレングリコール（沸点２８７℃）を用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表１に示す。
実施例３において、主溶剤として、エチルカルビトール（沸点２０２℃）を用いる代わりに、トリエチレングリコール（沸点２８７℃）を用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表１に示す。
（比較例７）
実施例３において、フレキソ印刷装置（図１）によるフレキソ印刷法を用いる代わりに、下記のスクリーン印刷法を用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表２に示す。
＜スクリーン印刷＞
スクリーン印刷装置（東海精機株式会社製ＳＥＲＩＡ、小型印刷機ＳＳＡ−ＴＦ１５０Ｅ）を用いて、基材としてのＰＥＮフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製、商品名：「Ｑ６５ＨＡ」、厚み１２５ｕｍ）上に印刷して透明導電膜を作製し、その後、クリーンオーブンにて１５０℃／１０分間で乾燥した。
なお、印刷条件は、以下の通りであった。
（１）スクリーン製版のメッシュ線数：３００線／インチ
（２）印刷速度：６０ｍｍ／ｓｅｃ
（３）印刷クリアランス量： １ｍｍ
実施例３において、フレキソ印刷装置（図１）によるフレキソ印刷法を用いる代わりに、下記のスクリーン印刷法を用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表２に示す。
＜スクリーン印刷＞
スクリーン印刷装置（東海精機株式会社製ＳＥＲＩＡ、小型印刷機ＳＳＡ−ＴＦ１５０Ｅ）を用いて、基材としてのＰＥＮフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製、商品名：「Ｑ６５ＨＡ」、厚み１２５ｕｍ）上に印刷して透明導電膜を作製し、その後、クリーンオーブンにて１５０℃／１０分間で乾燥した。
なお、印刷条件は、以下の通りであった。
（１）スクリーン製版のメッシュ線数：３００線／インチ
（２）印刷速度：６０ｍｍ／ｓｅｃ
（３）印刷クリアランス量： １ｍｍ
（実施例８）
実施例３において、主溶剤として、エチルカルビトール（沸点２０２℃）を用いる代わりに、フタル酸ジブチル（沸点３４０℃）を用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表２に示す。
実施例３において、主溶剤として、エチルカルビトール（沸点２０２℃）を用いる代わりに、フタル酸ジブチル（沸点３４０℃）を用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表２に示す。
（比較例８）
実施例３において、溶剤として、エチルカルビトール（沸点２０２℃）のみ（エチルカルビトール１００質量％）を用いる代わりに、エチルカルビトール５０質量％とメチルイソブチルケトン（沸点１１６℃）５０質量％との混合溶媒を用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表２に示す。
実施例３において、溶剤として、エチルカルビトール（沸点２０２℃）のみ（エチルカルビトール１００質量％）を用いる代わりに、エチルカルビトール５０質量％とメチルイソブチルケトン（沸点１１６℃）５０質量％との混合溶媒を用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表２に示す。
（実施例９）
実施例３において、溶剤として、エチルカルビトール（沸点２０２℃）のみ（エチルカルビトール１００質量％）を用いる代わりに、主溶剤としてのエチルカルビトール６０質量％と副溶剤としてのメチルイソブチルケトン（沸点１１６℃）４０質量％との混合溶媒を用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表２に示す。
実施例３において、溶剤として、エチルカルビトール（沸点２０２℃）のみ（エチルカルビトール１００質量％）を用いる代わりに、主溶剤としてのエチルカルビトール６０質量％と副溶剤としてのメチルイソブチルケトン（沸点１１６℃）４０質量％との混合溶媒を用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表２に示す。
（比較例９）
実施例３において、主溶剤として、エチルカルビトール（沸点２０２℃）を用いる代わりに、純水を用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表２に示す。
実施例３において、主溶剤として、エチルカルビトール（沸点２０２℃）を用いる代わりに、純水を用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表２に示す。
（比較例１０）
実施例３において、溶剤として、エチルカルビトール（沸点２０２℃）のみ（エチルカルビトール１００質量％）を用いる代わりに、エチルカルビトール５０質量％と純水５０質量％との混合溶媒を用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表２に示す。
実施例３において、溶剤として、エチルカルビトール（沸点２０２℃）のみ（エチルカルビトール１００質量％）を用いる代わりに、エチルカルビトール５０質量％と純水５０質量％との混合溶媒を用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表２に示す。
（実施例１０）
実施例３において、溶剤として、エチルカルビトール（沸点２０２℃）のみ（エチルカルビトール１００質量％）を用いる代わりに、エチルカルビトール７０質量％と純水３０質量％との混合溶媒を用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表２に示す。
実施例３において、溶剤として、エチルカルビトール（沸点２０２℃）のみ（エチルカルビトール１００質量％）を用いる代わりに、エチルカルビトール７０質量％と純水３０質量％との混合溶媒を用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表２に示す。
（実施例１１）
実施例３において、基材として、ＰＥＮフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製、商品名：「Ｑ６５ＨＡ」、厚み１２５ｕｍ）を用いる代わりに、ＰＥＴフィルム（東レ株式会社製、商品名：「ルミラーＵ３４」、厚み１２５ｕｍ）を用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表２に示す。
実施例３において、基材として、ＰＥＮフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製、商品名：「Ｑ６５ＨＡ」、厚み１２５ｕｍ）を用いる代わりに、ＰＥＴフィルム（東レ株式会社製、商品名：「ルミラーＵ３４」、厚み１２５ｕｍ）を用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表２に示す。
（実施例１２）
実施例３において、基材として、ＰＥＮフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製、商品名：「Ｑ６５ＨＡ」、厚み１２５ｕｍ）を用いる代わりに、ガラス板（日本電気硝子株式会社製、商品名：「無アルカリガラスＯＡ−１０Ｇ」、厚み７００ｕｍ）を用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表２に示す。
実施例３において、基材として、ＰＥＮフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製、商品名：「Ｑ６５ＨＡ」、厚み１２５ｕｍ）を用いる代わりに、ガラス板（日本電気硝子株式会社製、商品名：「無アルカリガラスＯＡ−１０Ｇ」、厚み７００ｕｍ）を用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表２に示す。
（実施例１３）
実施例３において、ＰＥＮフィルム上に印刷する代わりに、下記方法により、ＰＥＮフィルム上にアンカー層を形成し、該アンカー層上に印刷したこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表２に示す。
＜アンカー層及び銀ナノワイヤー層の形成方法＞
ＰＥＮフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製、商品名：「Ｑ６５ＨＡ」、厚み１２５ｕｍ）上に、パーヒドロポリシラザン（ＡＺエレクトロニック マテリアルズ社製ＮＮ１２０Ａ）をスピンコート法（１，０００ｒｐｍ／２０秒間）にて塗布した後に、１００℃／３０秒間焼成して、パーヒドロポリシラザン膜（アンカー層）を形成した。パーヒドロポリシラザンの反応率（アンカー層反応率）が６０％のときに、銀ナノワイヤーインクをスピンコート法（７００ｒｐｍ／２０秒間）により塗布した後に、１２０℃で２分間焼成して、銀ナノワイヤー層を形成した。
＜アンカー層反応率の算出方法＞
前記アンカー層反応率は、測定対象となるサンプルの赤外分光法（ＩＲ）スペクトルを用いて算出した割合（％）であり、反応前のアンカー層におけるパーヒドロポリシラザンのＳｉ−Ｎ基の吸収ピークの高さを１００％とした場合の、反応後のアンカー層におけるパーヒドロポリシラザンのＳｉ−Ｎ基の吸収ピークの高さの割合（％）である。
実施例３において、ＰＥＮフィルム上に印刷する代わりに、下記方法により、ＰＥＮフィルム上にアンカー層を形成し、該アンカー層上に印刷したこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表２に示す。
＜アンカー層及び銀ナノワイヤー層の形成方法＞
ＰＥＮフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製、商品名：「Ｑ６５ＨＡ」、厚み１２５ｕｍ）上に、パーヒドロポリシラザン（ＡＺエレクトロニック マテリアルズ社製ＮＮ１２０Ａ）をスピンコート法（１，０００ｒｐｍ／２０秒間）にて塗布した後に、１００℃／３０秒間焼成して、パーヒドロポリシラザン膜（アンカー層）を形成した。パーヒドロポリシラザンの反応率（アンカー層反応率）が６０％のときに、銀ナノワイヤーインクをスピンコート法（７００ｒｐｍ／２０秒間）により塗布した後に、１２０℃で２分間焼成して、銀ナノワイヤー層を形成した。
＜アンカー層反応率の算出方法＞
前記アンカー層反応率は、測定対象となるサンプルの赤外分光法（ＩＲ）スペクトルを用いて算出した割合（％）であり、反応前のアンカー層におけるパーヒドロポリシラザンのＳｉ−Ｎ基の吸収ピークの高さを１００％とした場合の、反応後のアンカー層におけるパーヒドロポリシラザンのＳｉ−Ｎ基の吸収ピークの高さの割合（％）である。
（実施例１４）
実施例１３において、アンカー層反応率が６０％のときに銀ナノワイヤーインクを塗布する代わりに、アンカー層反応率が８５％のときに銀ナノワイヤーインクを塗布したこと以外は、実施例１３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表２に示す。
実施例１３において、アンカー層反応率が６０％のときに銀ナノワイヤーインクを塗布する代わりに、アンカー層反応率が８５％のときに銀ナノワイヤーインクを塗布したこと以外は、実施例１３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表２に示す。
（実施例１５）
実施例１３において、アンカー層反応率が６０％のときに銀ナノワイヤーインクを塗布する代わりに、アンカー層反応率が９５％のときに銀ナノワイヤーインクを塗布したこと以外は、実施例１３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表２に示す。
実施例１３において、アンカー層反応率が６０％のときに銀ナノワイヤーインクを塗布する代わりに、アンカー層反応率が９５％のときに銀ナノワイヤーインクを塗布したこと以外は、実施例１３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表２に示す。
（実施例１６）
実施例３において、１８０線／インチのアニロックスロールを用いる代わりに、１２０線／インチのアニロックスロールを用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表３に示す。
実施例３において、１８０線／インチのアニロックスロールを用いる代わりに、１２０線／インチのアニロックスロールを用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表３に示す。
（実施例１７）
実施例３において、１８０線／インチのアニロックスロールを用いる代わりに、１５０線／インチのアニロックスロールを用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表３に示す。
実施例３において、１８０線／インチのアニロックスロールを用いる代わりに、１５０線／インチのアニロックスロールを用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表３に示す。
（実施例１８）
実施例３において、１８０線／インチのアニロックスロールを用いる代わりに、２００線／インチのアニロックスロールを用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表３に示す。
実施例３において、１８０線／インチのアニロックスロールを用いる代わりに、２００線／インチのアニロックスロールを用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表３に示す。
（実施例１９）
実施例３において、１８０線／インチのアニロックスロールを用いる代わりに、３００線／インチのアニロックスロールを用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表３に示す。
実施例３において、１８０線／インチのアニロックスロールを用いる代わりに、３００線／インチのアニロックスロールを用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表３に示す。
（実施例２０）
実施例３において、１８０線／インチのアニロックスロールを用いる代わりに、４００線／インチのアニロックスロールを用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表３に示す。
実施例３において、１８０線／インチのアニロックスロールを用いる代わりに、４００線／インチのアニロックスロールを用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表３に示す。
（実施例２１）
実施例３において、１８０線／インチのアニロックスロールを用いる代わりに、５００線／インチのアニロックスロールを用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表３に示す。
実施例３において、１８０線／インチのアニロックスロールを用いる代わりに、５００線／インチのアニロックスロールを用いたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表３に示す。
（実施例２２）
実施例３において、印刷速度を１５ｍ／ｍｉｎとする代わりに、印刷速度を３ｍ／ｍｉｎとしたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表３に示す。
実施例３において、印刷速度を１５ｍ／ｍｉｎとする代わりに、印刷速度を３ｍ／ｍｉｎとしたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表３に示す。
（実施例２３）
実施例３において、印刷速度を１５ｍ／ｍｉｎとする代わりに、印刷速度を５ｍ／ｍｉｎとしたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表３に示す。
実施例３において、印刷速度を１５ｍ／ｍｉｎとする代わりに、印刷速度を５ｍ／ｍｉｎとしたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表３に示す。
（実施例２４）
実施例３において、印刷速度を１５ｍ／ｍｉｎとする代わりに、印刷速度を１０ｍ／ｍｉｎとしたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表３に示す。
実施例３において、印刷速度を１５ｍ／ｍｉｎとする代わりに、印刷速度を１０ｍ／ｍｉｎとしたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表３に示す。
（実施例２５）
実施例３において、印刷速度を１５ｍ／ｍｉｎとする代わりに、印刷速度を３０ｍ／ｍｉｎとしたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表３に示す。
実施例３において、印刷速度を１５ｍ／ｍｉｎとする代わりに、印刷速度を３０ｍ／ｍｉｎとしたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表３に示す。
（実施例２６）
実施例３において、印刷速度を１５ｍ／ｍｉｎとする代わりに、印刷速度を４５ｍ／ｍｉｎとしたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表３に示す。
実施例３において、印刷速度を１５ｍ／ｍｉｎとする代わりに、印刷速度を４５ｍ／ｍｉｎとしたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表３に示す。
（実施例２７）
実施例３において、印刷速度を１５ｍ／ｍｉｎとする代わりに、印刷速度を６０ｍ／ｍｉｎとしたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表３に示す。
実施例３において、印刷速度を１５ｍ／ｍｉｎとする代わりに、印刷速度を６０ｍ／ｍｉｎとしたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表３に示す。
（比較例１１）
実施例３において、溶剤としてエチルカルビト―ル（沸点２０２℃）のみを含み、粘度が１５０ｍＰａ・ｓである銀ナノワイヤーインクを用いる代わりに、主溶剤としてエチルラクテート（沸点１５５℃）を含み、粘度が２９Ｐａ・ｓである銀ナノワイヤーインクとしたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表３に示す。
実施例３において、溶剤としてエチルカルビト―ル（沸点２０２℃）のみを含み、粘度が１５０ｍＰａ・ｓである銀ナノワイヤーインクを用いる代わりに、主溶剤としてエチルラクテート（沸点１５５℃）を含み、粘度が２９Ｐａ・ｓである銀ナノワイヤーインクとしたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表３に示す。
（比較例１２）
実施例３において、溶剤としてエチルカルビト―ル（沸点２０２℃）のみを含み、粘度が１５０ｍＰａ・ｓである銀ナノワイヤーインクを用いる代わりに、主溶剤としてエチルラクテート（沸点１５５℃）を含み、粘度が４２１Ｐａ・ｓである銀ナノワイヤーインクとしたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表３に示す。
実施例３において、溶剤としてエチルカルビト―ル（沸点２０２℃）のみを含み、粘度が１５０ｍＰａ・ｓである銀ナノワイヤーインクを用いる代わりに、主溶剤としてエチルラクテート（沸点１５５℃）を含み、粘度が４２１Ｐａ・ｓである銀ナノワイヤーインクとしたこと以外は、実施例３と同様にして、透明電極を作製し、作製した透明電極について、抵抗値の測定、面内分布σの評価、環境試験（抵抗値変化の評価）、及び印刷膜外観の評価を行った。評価結果を表３に示す。
表１〜３から、基材の一部に金属ナノワイヤー分散液がフレキソ印刷法により塗布され、前記塗布された金属ナノワイヤー分散液が乾燥されて金属ナノワイヤー層が形成され、前記ナノワイヤー分散液の粘度が４０ｍＰａ・ｓ〜３００ｍＰａ・ｓであり、かつ、前記金属ナノワイヤー分散液中に、沸点が１６０℃以上の主溶剤を６０質量％以上含有する実施例１〜２７は、低抵抗な金属ナノワイヤー層（導電膜）を容易に形成することができ、且つ、基材の一部のみに金属ナノワイヤー層を形成することができることが分かる。
本発明の電極は、ノートパソコン、スマートフォン、タッチパネル、ＬＥＤ、液晶パネル等の電子機器に用いられているインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）等の金属酸化物を用いた導電膜が形成された電極の代替物として、多岐に渡って適用可能であるが、特に、タッチパネル、有機ＥＬ照明素子に好適に用いることができる。
１ ドクターブレード
２ インク
３ アニロックスロール
４ 版胴
５ フレキソ樹脂版
６ 印刷ステージ（厚胴）
７ 基材
１１ 画像表示部材
１２ 光透過性硬化樹脂層
１３ 遮光層
１４ 光透過性カバー部材
２１ 基材
２２ 陽極
２３ 有機発光層
２４ 陰極
２５ 封止材
２６ 乾燥剤膜
２７ 接着剤
２００ タッチパネル
３００ 有機ＥＬ照明素子
２ インク
３ アニロックスロール
４ 版胴
５ フレキソ樹脂版
６ 印刷ステージ（厚胴）
７ 基材
１１ 画像表示部材
１２ 光透過性硬化樹脂層
１３ 遮光層
１４ 光透過性カバー部材
２１ 基材
２２ 陽極
２３ 有機発光層
２４ 陰極
２５ 封止材
２６ 乾燥剤膜
２７ 接着剤
２００ タッチパネル
３００ 有機ＥＬ照明素子
Claims (15)
- 基材の一部に金属ナノワイヤー分散液をフレキソ印刷法により塗布する塗布工程と、
前記基材上に形成された金属ナノワイヤー分散液からなる分散膜を乾燥して、前記基材上に金属ナノワイヤー層を形成する金属ナノワイヤー層形成工程とを含む電極の製造方法であって、
前記ナノワイヤー分散液の粘度が４０ｍＰａ・ｓ〜３００ｍＰａ・ｓであり、かつ、
前記金属ナノワイヤー分散液中に、沸点が１６０℃以上の主溶剤を６０質量％以上含有する、ことを特徴とする電極の製造方法。 - 前記主溶剤の沸点が２００℃以上かつ３００℃未満である、請求項１に記載の電極の製造方法。
- 前記金属ナノワイヤー分散液中における水の含有量が４０質量％以下である、請求項１又は２に記載の電極の製造方法。
- 前記基材はガラス転移温度が１５０℃以上の高分子フィルムである、請求項１から３のいずれかに記載の電極の製造方法。
- 前記基材がガラスである、請求項１から３のいずれかに記載の電極の製造方法。
- 前記基材の上にアンカー層を形成するアンカー層形成工程をさらに含み、
前記金属ナノワイヤー層形成工程において、前記金属ナノワイヤー層が前記アンカー層上に形成される、請求項１から５のいずれかに記載の電極の製造方法。 - 前記アンカー層形成工程において、前記基材の上にポリシラザンを塗布し、該塗布されたポリシラザンを反応させて、前記基材の上に前記アンカー層を形成する、請求項６に記載の電極の製造方法。
- 前記金属ナノワイヤー層形成工程において、前記アンカー層におけるポリシラザンの反応率が５０％〜９５％であるときに、前記アンカー層の上に前記金属ナノワイヤー層を形成する、請求項７に記載の電極の製造方法。
- 前記ポリシラザンがパーヒドロポリシラザンである、請求項７又は８に記載の電極の製造方法。
- 前記フレキソ印刷法において用いたアニロックスロールの線数が１５０線／インチ〜４００線／インチである、請求項１から９のいずれかに記載の電極の製造方法。
- 前記フレキソ印刷法における印刷速度が５ｍ／ｍｉｎ〜３０ｍ／ｍｉｎである、請求項１から１０のいずれかに記載の電極の製造方法。
- 前記金属ナノワイヤーが銀ナノワイヤーである、請求項１から１１のいずれかに記載の電極の製造方法。
- 請求項１から１２のいずれかに記載の電極の製造方法により製造されたことを特徴とする、電極。
- 請求項１３に記載の電極を備えることを特徴とする、タッチパネル。
- 請求項１３に記載の電極を備えることを特徴とする、有機ＥＬ照明素子。
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2022052693A (ja) * | 2020-09-23 | 2022-04-04 | カンブリオス フィルム ソリューションズ（シアメン） コーポレーション | 積層構造体の作製方法、積層構造体及びタッチセンサ |
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