JP2016138312A - Mn−Zn−W−O系スパッタリングターゲット及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
<1> Mnと、Znと、Wと、Oとを成分組成に含むMn−Zn−W−O系スパッタリングターゲットであって、
Wに起因するピークの最大ピーク強度Pwに対するMn及びOのみから構成されるマンガン酸化物に起因するピークの最大ピーク強度PMnOの比PMnO/Pwが、0.027以下であることを特徴とするスパッタリングターゲットである。
該<1>に記載のMn−Zn−W−O系スパッタリングターゲットは、Mn及びOのみから構成されるマンガン酸化物が実質的に存在せず、耐割れ性に優れたMn−Zn−W−O系スパッタリングターゲットを提供することができる。
Mnを成分含有する粉末と、Znを成分含有する粉末と、Wを成分含有する粉末とを含む混合粉末を、12時間以上湿式混合する混合工程と、
該混合工程の後、前記混合粉末を700℃以上の温度で焼結する焼結工程と、を含むことを特徴とする製造方法である。
該<7>に記載の製造方法によれば、耐割れ性に優れたMn−Zn−W−O系スパッタリングターゲットの製造方法を提供することができる。
本発明のMn−Zn−W−O系スパッタリングターゲットは、Mnと、Znと、Wと、Oとを成分組成に含むMn−Zn−W−O系スパッタリングターゲットである。以下、本発明のMn−Zn−W−O系スパッタリングターゲットを単に「ターゲット」と称し、本発明に従うターゲットを詳細に説明する。
本発明の一実施形態に従うターゲットは、Mnと、Znと、Wと、Oとを成分組成に含み、さらに、必要に応じて、その他の成分組成を含む。
前記ターゲットのX線回折において、Wに起因するピークの最大ピーク強度Pwに対するMn及びOのみから構成されるマンガン酸化物に起因するピークの最大ピーク強度PMnOの比PMnO/Pwが、0.027以下である。
ここで、Mn及びOのみから構成されるマンガン酸化物とは、Mn3O4(酸化マンガン(II,III))及びMn2O3(酸化マンガン(III))などの、酸化マンガンであり、後述のWMnO4などの、Mn及びO以外の元素を含むマンガン複合酸化物は除外される。マンガン酸化物としては、他にMnO、MnO2、MnO3及びMn2O7なども挙げられる。以下、本明細書においては、マンガン酸化物のうち、Mn及びOのみから構成される酸化マンガンを単に「酸化マンガン」と称し、Mn及びO以外の元素を含む複合酸化物を「マンガン複合酸化物」と称し、両者を区分する。本実施形態において、酸化マンガンの結晶相がターゲットに実質的に存在しないことが肝要であり、その実質的な存否をX線回折におけるピーク強度を用いて特定する。
ターゲットのX線回折スペクトルの取得は、常法に従い行うことができ、例えばSmartlab;株式会社リガク製を用いて、ターゲット表面をθ−2θスキャンしてスペクトルを取得すればよい。本実施形態において、ターゲットの特性を特定するために、上記Wに起因するピークの最大ピーク強度Pwと、酸化マンガンに起因するピークの最大ピーク強度PMnOとを少なくとも測定し、必要に応じて、その他の結晶相に起因するピークのピーク強度を測定する。
X線回折の測定条件はターゲットに応じて適宜定まり、例えば以下の条件の範囲内から選択することができる。
X線源:Cu―Kα線
出力設定:20〜100kV、10〜100mA
測角範囲:2θ=5°〜80°
スキャン速度:1°〜4°(2θ/min)、連続スキャン
発散スリット:0.5°〜2°
散乱スリット:0.5°〜2°
受光スリット:0.1mm〜0.5mm
Wの回折ピークは、40.26°±0.3°、58.27°±0.3°などの範囲で検出され、これらのうちの最大値をWに起因するピークの最大ピーク強度Pw(単位:cps、以下同じ。)とし、本実施形態における基準強度とする。本実施形態に従うターゲットのX線回折スペクトルにおいて、Wに起因するピークの最大ピーク強度Pwが、ターゲット中の各成分のピークの最大ピーク強度のうち最大強度となることが多いためである。次に、酸化マンガンに起因するピークの最大ピーク強度PMnOについて説明する。例えばMn3O4の回折ピークは28.88°±0.3°、59.84°±0.3°などの範囲で検出され、Mn2O3の場合には32.98°±0.3°、55.24°±0.3°などの範囲で検出される。これらのうち、酸化マンガンの回折ピークが有意に検出される場合には、酸化マンガンに起因するピークのピーク強度の最大値を最大ピーク強度PMnOとし、酸化マンガンの回折ピークがX線回折スペクトルのバックグラウンドに埋没している場合(例えばバックグラウンド強度の1.1倍以下)には、回折ピークが検出されないとみなしてピーク強度PMnOを0(ゼロ)とする。
ここで、本実施形態に従うターゲットのX線回折において、ターゲットの耐割れ性をより確実に向上させるために、WMnO4結晶相が存在することが好ましい。酸化マンガンの形態ではなく、焼結が進むとWMnO4の形態になるからである。WMnO4結晶相の存在はWMnO4結晶相に起因するピークの存在により特定することができ、本実施形態においては、WMnO4結晶相に起因するピークが存在することが好ましい。なお、WMnO4結晶相に起因するピークが存在するとは、X線回折スペクトルにおけるバックグラウンドに対して有意なピークが検出されることを意味する。
WMnO4結晶相に起因する回折ピークは、29.80°±0.3°、30.23°±0.3°などの範囲で検出され、これらのピークのうちの最大強度となるピークの強度を最大ピーク強度PWMnOとすると、比PWMnO/Pwが0.02以上であれば、ターゲットの耐割れ性をより向上することができ、好ましい。さらに、比PWMnO/Pwが0.03以上であることがより好ましく、0.04以上であることが最も好ましい。
ここで、本実施形態に従うターゲットの成分比としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、Mnと、Znと、Wとの合計100原子%に対してMn:4〜40原子%、Zn:15〜60原子%、W:5〜40原子%であることが好ましい。
さらに、本実施形態に従うターゲットは、Cu、Mg、Ag、Ru、Ni、Zr、Mo、Sn、Bi、Ge、Co、Al、In、Pd、Ga、Te、V、Si、Ta、Cr、Tbからなる群より選択される1種単独又は2種以上の元素を成分組成に更に含むことが好ましい。例えば、本実施形態に従うターゲットを情報記録媒体の記録層形成に供する場合、これらの元素を更に成分組成に含むことにより透過率、反射率および記録感度を変化させて、多層構造の記録層とすることができ、有用である。
上記群より選択される1種単独又は2種以上の元素の含有率は、スパッタリングターゲットの構成元素のうち、O(酸素)を除いた合計100原子%に対して8〜70原子%とすることができる。
次に、図1を用いて、前述の本発明の一実施形態に従うターゲットの製造方法を説明する。本発明の一実施形態に従うターゲットの製造方法は、混合工程(S10)と、焼結工程(S20)と、を含み、さらに、必要に応じて適宜選択した、その他の工程を含む。
前記混合工程(S10)は、Mnを成分含有する粉末と、Znを成分含有する粉末と、Wを成分含有する粉末とを含む混合粉末を、12時間以上湿式混合する工程である。
前記湿式混合の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば従来公知のボールミル装置を用いた湿式混合方法、などが挙げられる。本工程で混合する前記混合粉末及び混合条件を以下に説明する。
前記Mnを成分含有する粉末としては、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Mnの単体からなる粉末、マンガン化合物粉末、マンガン酸化物(例えば、Mn3O4、Mn2O3、など)粉末、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
これらの中でも、マンガン酸化物粉末が好ましく、Mn3O4粉末がより好ましい。焼結温度と融点の関係のためである。
なお、前記Mnを成分含有する粉末の平均粒径としては、目的に応じて適宜選択することができる。また、前記Mn3O4粉末の平均粒径としては、市販の3μm〜7μm程度とすることもできる。
前記Znを成分含有する粉末としては、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Znの単体からなる粉末、亜鉛化合物粉末、亜鉛酸化物粉末、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
これらの中でも、亜鉛酸化物粉末が好ましく、ZnO粉末がより好ましい。焼結温度と融点の関係のためである。
なお、前記Znを成分含有する粉末の平均粒径としては、目的に応じて適宜選択することができる。また、前記ZnO粉末の平均粒径としては、市販の1μm〜3μm程度とすることができる。
前記Wを成分含有する粉末としては、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Wの単体からなる粉末、タングステン化合物粉末、タングステン酸化物粉末、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
これらの中でも、Wの単体からなる金属タングステン粉末が好ましい。導電性を持たせるためである。
なお、前記Wを成分含有する粉末の平均粒径としては、目的に応じて適宜選択することができる。また、前記W粉末の平均粒径としては、市販の2μm〜5μm程度とすることができる。
前記その他の粉末としては、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Cu、Mg、Ag、Ru、Ni、Zr、Mo、Sn、Bi、Ge、Co、Al、In、Pd、Ga、Te、V、Si、Ta、Cr、Tbからなる群より選択される1種単独又は2種以上の元素の単体又は化合物からなる粉末、などが挙げられる。ここで、製造するターゲットの所望の目的に応じて、かかる粉末を前記混合粉末に含ませてもよい。
ここで、前記混合粉末を12時間以上湿式混合することが本実施形態において肝要である。混合時間を12時間以上とすることにより、十分に混合粉末を混合することができるので、焼結中の酸化マンガンの固相反応を促進して、焼結後の酸化マンガン結晶相の残留を抑制することができる。また、上記範囲の中でも、混合時間を16時間以上とすることが好ましく、20時間以上とすることがより好ましく、24時間以上とすることが最も好ましい。24時間混合すると、混合の効果が飽和するものの、24時間以上混合しても構わず、上限を意図するものではないが、工業的な生産性を考慮し、上限を168時間と設定することができる。
前記焼結工程(S20)は、前記混合工程の後に行う工程であって、前記混合粉末を700℃以上の温度で焼結する焼結工程である。
前記焼結としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、不活性ガス雰囲気中でのホットプレス、熱間等方圧加圧法(HIP法;Hot Isostatic Pressing)、などが挙げられる。
前記その他の工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、混合粉末の成形工程、などが挙げられる。
なお、前記成形工程は、本発明において必須ではなく、ターゲットの形状を成形するために行われることがある。
(実施例1)
原料粉末として、以下の粉末を用意した。
純度:99.9%以上、平均粒径:5μm、Mn3O4粉末
純度:99.9%以上、平均粒径:1.4μm、ZnO粉末
純度:99.9%以上、平均粒径:3μm、W粉末
各金属元素の割合を、Mn:W:Zn=20:30:50(原子%)となるように、上記Mn3O4粉末、ZnO粉末及びW粉末を秤量した。秤量した各原料粉末と、各原料粉末の合計重量の3倍のジルコニアボール(直径5mm)と、アルコールとをポリ容器に入れ、ボールミル装置にて、湿式混合を24時間行った。混合粉末を乾燥後、目開き500μmのふるいにかけた。次いで、焼結温度:900℃、焼結時間:2時間、圧力:200kgf/cm2、不活性ガス雰囲気中でホットプレスを行い、実施例1に係るターゲットを作製した。
実施例1において、混合時間を24時間とする代わりに、混合時間を2時間とした以外は、実施例1と同様に比較例1に係るターゲットを作製した。
実施例1において、焼結温度を900℃とする代わりに、焼結温度を600℃とした以外は、実施例1と同様に比較例2に係るターゲットを作製した。
以上の実施例1及び比較例1、2で作製したターゲットについて、(A)成分評価及び(B)耐割れ性評価を行った。各評価は、次のように行った。
実施例1及び比較例1、2に係るターゲットについて、X線回折法により、ターゲット中の成分評価を行った。X線回折にあたっては、SmartLab;株式会社リガク製を用いて、θ−2θスキャンし、X線回折スペクトルを得た。実施例1に係るX線回折スペクトルを代表例として図2に示す。なお、強度は任意単位(a.u.)で示している。Wのピークの最大ピーク強度Pw、マンガン酸化物のピークの最大ピーク強度PMnO、WMnO4結晶相のピークの最大ピーク強度PWMnOとした時のピーク強度比を表1に示す。なお、ピークがバックグラウンドに埋没していた場合には、ピーク強度を0としている。試験条件は以下のとおりである。
X線源:Cu―Kα線
出力設定:30kV、15mA
測角範囲:2θ=15°〜70°
スキャン速度:2°(2θ/min)、連続スキャン
発散スリット:1°
散乱スリット:1°
受光スリット:0.3mm
実施例1及び比較例1、2に係るターゲットを、無酸素銅製のバッキングプレートにInはんだでボンディングを行った。ボンディング後のターゲットをスパッタリング装置に取り付けた。次に、スパッタリング装置内を1×10−4Pa以下まで真空排気し、ArガスとO2ガスを導入し、装置内圧力を0.3Paとした。酸素の分圧([O2]/[Ar+O2])を70%とした。DC電源にて電力5W/cm2を印加して、30分間スパッタリングを行い、その後スパッタリング装置からターゲットを取り出して、それぞれのターゲットに割れが発生しているかどうか目視で観察した。ターゲットの耐割れ性を、下記の評価基準に基づき評価した。
○:割れが観察されなかった
×:割れが観察された
結果を表1に示す。
実施例1では、割れが発生しなかった一方、比較例1、2では割れが発生した。ここで、実施例1ではWとZnOとWMnO4に起因するピークが観測されるが、Mn3O4のピークは検出されなかったので、原料粉末に由来するMn3O4結晶相が存在しないことがわかる。また、他の酸化マンガン結晶相起因のピークも検出されなかった。比較例1、2では、Mn3O4のピークが検出されたため、Mn3O4結晶相が残留していたことがわかった。比較例1、2で割れが発生したのは、混合又は焼結条件が不十分であったためにMn3O4結晶相が残留したからだと考えられる。
S20・・・焼結工程
Claims (9)
- Mnと、Znと、Wと、Oとを成分組成に含むMn−Zn−W−O系スパッタリングターゲットであって、
前記スパッタリングターゲットのX線回折において、Wに起因するピークの最大ピーク強度Pwに対するMn及びOのみから構成されるマンガン酸化物に起因するピークの最大ピーク強度PMnOの比PMnO/Pwが、0.027以下であることを特徴とするスパッタリングターゲット。 - 前記スパッタリングターゲットのX線回折において、WMnO4結晶相に起因するピークが存在する、請求項1に記載のスパッタリングターゲット。
- 前記最大ピーク強度Pwに対する前記WMnO4結晶相に起因するピークの最大ピーク強度PWMnOの比PWMnO/Pwが0.024以上である、請求項1又は2に記載のスパッタリングターゲット。
- Mnと、Znと、Wとの合計100原子%に対してMn:4〜40原子%、Zn:15〜60原子%、W:5〜40原子%である、請求項1〜3のいずれかに記載のスパッタリングターゲット。
- Cu、Mg、Ag、Ru、Ni、Zr、Mo、Sn、Bi、Ge、Co、Al、In、Pd、Ga、Te、V、Si、Ta、Cr、Tbからなる群より選択される1種単独又は2種以上の元素を前記成分組成に更に含む、請求項1〜4のいずれかに記載のスパッタリングターゲット。
- 前記群より選択される1種単独又は2種以上の元素の含有率は、前記スパッタリングターゲットの構成元素のうち、Oを除いた合計100原子%に対して8〜70原子%である、請求項5に記載のスパッタリングターゲット。
- 請求項1に記載のMn−Zn−W−O系スパッタリングターゲットを製造する方法であって、
Mnを成分含有する粉末と、Znを成分含有する粉末と、Wを成分含有する粉末とを含む混合粉末を、12時間以上湿式混合する混合工程と、
該混合工程の後、前記混合粉末を700℃以上の温度で焼結する焼結工程と、を含むことを特徴とする製造方法。 - 前記Mnを成分含有する粉末は、マンガン酸化物粉末からなり、前記Znを成分含有する粉末は、亜鉛酸化物粉末からなり、前記Wを成分含有する粉末は、金属タングステン粉末からなる、請求項7に記載の製造方法。
- 前記混合粉末は、Cu、Mg、Ag、Ru、Ni、Zr、Mo、Sn、Bi、Ge、Co、Al、In、Pd、Ga、Te、V、Si、Ta、Cr、Tbからなる群より選択される1種単独又は2種以上の元素の単体又は化合物からなる粉末を更に含む、請求項7又は8に記載の製造方法。
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