JP2016134802A - 圧電振動片および圧電振動子 - Google Patents
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Abstract
【課題】振動腕部を短縮することにより小型化を実現しつつ、共振周波数の調整が可能な圧電振動片を提供する。【解決手段】圧電振動片3は、長手方向Lに延在するとともに幅方向Wに並んで配置された第1振動腕部31および第2振動腕部32と、各振動腕部31,32の先端に形成され、幅方向Wにおける幅が各振動腕部31,32の本体部31A,32Aよりも広い錘部31B,32Bと、を備えている。錘部31B,32Bの表面には、重り金属膜40が形成されている。重り金属膜40は、第1金属膜41と第2金属膜42とを有し、第2金属膜42は、第1金属膜41よりも薄く形成され、第2金属膜42の一部は、第1金属膜41に重なるように、第1金属膜41の表面に形成されている。【選択図】図5
Description
本発明は、圧電振動片および圧電振動子に関するものである。
例えば、携帯電話や携帯情報端末機器等の電子機器には、時刻源や制御信号等のタイミング源、リファレンス信号源等に用いられるデバイスとして、水晶等を利用した圧電振動子が用いられる。この種の圧電振動子として、キャビティが形成されたパッケージ内に圧電振動片を気密封止したものが知られている。近年では、電子機器の小型化に伴い、圧電振動子および圧電振動片の小型化への要求が益々高まりつつある。
ところで、圧電振動片の共振周波数は、一般に振動腕部の長さの2乗に反比例して上昇する。このため、振動腕部を短縮することで圧電振動片を小型化すると、共振周波数が上昇する。そこで、振動腕部を短縮しつつ、振動腕部の先端の質量を増加させて、共振周波数の上昇を抑制する方法が知られている。
振動腕部の先端の質量を増加させる方法として、振動腕部の先端に錘部を設ける方法が知られている。例えば、特許文献1に記載の圧電振動片は、基部と、基部の一端部分から延出された振動腕と、を有し、振動腕は、基部側に設けられた腕部と、腕部よりも先端側に設けられ腕部よりも幅が広い錘部と、を有している。
また、振動腕部の先端の質量を増加させる方法として、振動腕部の先端に重り金属膜を形成する方法が知られている。重り金属膜を備えた圧電振動片では、重り金属膜をレーザー等により局所的に除去することで、振動腕部の先端の質量が調整され、共振周波数の調整が行われる(以下、この共振周波数の調整を「レーザートリミング」という場合がある。)。
しかしながら、振動腕部の先端の質量を増加させるにあたって、錘部の幅を広くすることは、圧電振動片の寸法が錘部の幅方向に増加することとなるため、圧電振動片の小型化において限界がある。また、重り金属膜を厚膜化すると、レーザーによる重り金属膜の除去が困難となり、共振周波数の調整が困難となる。したがって、振動腕部を短縮することにより圧電振動片の小型化を実現しつつ、共振周波数の調整を可能とする点で課題がある。
そこで本発明は、振動腕部を短縮することにより小型化を実現しつつ、共振周波数の調整が可能な圧電振動片およびこの圧電振動片を備えた圧電振動子を提供するものである。
本発明の圧電振動片は、第1方向に延在するとともに前記第1方向と交差する第2方向に並んで配置された一対の振動腕部と、前記一対の振動腕部の先端に形成され、前記第2方向における幅が前記振動腕部の本体部よりも広い錘部と、を備え、前記錘部の表面には、重り金属膜が形成され、前記重り金属膜は、第1金属膜と第2金属膜とを有し、前記第2金属膜は、前記第1金属膜よりも薄く形成され、前記第2金属膜の一部は、前記第1金属膜の少なくとも一部に重なるように前記第1金属膜の表面に形成されている、ことを特徴とする。
本発明によれば、重り金属膜には、第2金属膜単層の膜厚が薄い領域と、第1金属膜と第2金属膜とが重なる膜厚が厚い領域と、が設けられる。これにより、第1金属膜と第2金属膜とが重なる膜厚が厚い領域において、重り金属膜の質量を大きくして共振周波数の上昇を抑制しつつ、第2金属膜単層の膜厚が薄い領域において、レーザートリミングを行うことが可能となる。したがって、振動腕部を短縮することにより小型化を実現しつつ、共振周波数の調整が可能な圧電振動片とすることができる。
本発明によれば、重り金属膜には、第2金属膜単層の膜厚が薄い領域と、第1金属膜と第2金属膜とが重なる膜厚が厚い領域と、が設けられる。これにより、第1金属膜と第2金属膜とが重なる膜厚が厚い領域において、重り金属膜の質量を大きくして共振周波数の上昇を抑制しつつ、第2金属膜単層の膜厚が薄い領域において、レーザートリミングを行うことが可能となる。したがって、振動腕部を短縮することにより小型化を実現しつつ、共振周波数の調整が可能な圧電振動片とすることができる。
上記の圧電振動片において、前記第1金属膜は、前記錘部の先端に形成されている、ことが望ましい。
本発明によれば、第1金属膜と第2金属膜とが重なる膜厚が厚い領域が、振動腕部の先端に設けられるため、振動腕部の振動時の慣性モーメントを容易に増加させることができる。これにより、振動腕部の長さが短い場合であっても、共振周波数を低下させることができる。したがって、共振周波数の上昇を抑制しつつ、振動腕部を短縮することにより圧電振動片の小型化を実現できる。
本発明によれば、第1金属膜と第2金属膜とが重なる膜厚が厚い領域が、振動腕部の先端に設けられるため、振動腕部の振動時の慣性モーメントを容易に増加させることができる。これにより、振動腕部の長さが短い場合であっても、共振周波数を低下させることができる。したがって、共振周波数の上昇を抑制しつつ、振動腕部を短縮することにより圧電振動片の小型化を実現できる。
上記の圧電振動片において、前記第1金属膜は、前記錘部の前記第1方向における中間部よりも基端側の領域に形成されている、ことが望ましい。
本発明によれば、第1金属膜を錘部の第1方向における中間部よりも基端側の領域に形成することにより、第1方向における第1金属膜よりも先端側の領域に第2金属膜単層の膜厚が薄い領域を設けることができる。振動腕部の振動時の慣性モーメントは、振動腕部の基端部から先端部に向かうにしたがい、重り金属膜の質量の変化に対して敏感になる。このため、第2金属膜単層の膜厚が薄い領域を振動腕部の先端寄りに設けてレーザートリミングを行うことで、共振周波数の調整を効率よく行うことが可能となる。したがって、圧電振動片の製造効率を向上させることができる。
本発明によれば、第1金属膜を錘部の第1方向における中間部よりも基端側の領域に形成することにより、第1方向における第1金属膜よりも先端側の領域に第2金属膜単層の膜厚が薄い領域を設けることができる。振動腕部の振動時の慣性モーメントは、振動腕部の基端部から先端部に向かうにしたがい、重り金属膜の質量の変化に対して敏感になる。このため、第2金属膜単層の膜厚が薄い領域を振動腕部の先端寄りに設けてレーザートリミングを行うことで、共振周波数の調整を効率よく行うことが可能となる。したがって、圧電振動片の製造効率を向上させることができる。
上記の圧電振動片において、前記振動腕部の前記第1方向における前記第1金属膜の寸法をL1とし、前記振動腕部の前記第1方向における前記錘部の寸法をL2としたとき、前記第1金属膜の寸法L1および前記錘部の寸法L2は、0<L1/L2<1/2を満足するように形成されている、ことが望ましい。
本発明によれば、第2金属膜単層の膜厚が薄い領域を大きく形成することができる。したがって、レーザートリミングを容易に行うことができる。
本発明によれば、第2金属膜単層の膜厚が薄い領域を大きく形成することができる。したがって、レーザートリミングを容易に行うことができる。
本発明の圧電振動子は、上記の圧電振動片を備えることを特徴とする。
本発明によれば、上述の圧電振動片を備えているため、共振周波数の調整が可能な小型の圧電振動子が得られる。
本発明によれば、上述の圧電振動片を備えているため、共振周波数の調整が可能な小型の圧電振動子が得られる。
本発明によれば、重り金属膜には、第2金属膜単層の膜厚が薄い領域と、第1金属膜と第2金属膜とが重なる膜厚が厚い領域と、が設けられる。これにより、第1金属膜と第2金属膜とが重なる膜厚が厚い領域において、重り金属膜の質量を大きくして共振周波数の上昇を抑制しつつ、第2金属膜単層の膜厚が薄い領域において、レーザートリミングを行うことが可能となる。したがって、振動腕部を短縮することにより小型化を実現しつつ、共振周波数の調整が可能な圧電振動片とすることができる。
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
[第1実施形態]
(圧電振動子)
図1は、第1実施形態に係る圧電振動子の外観斜視図である。図2は、第1実施形態に係る圧電振動子の内部構成図である。図3は、図2のIII−III線における断面図である。図4は、第1実施形態に係る圧電振動子の分解斜視図である。
[第1実施形態]
(圧電振動子)
図1は、第1実施形態に係る圧電振動子の外観斜視図である。図2は、第1実施形態に係る圧電振動子の内部構成図である。図3は、図2のIII−III線における断面図である。図4は、第1実施形態に係る圧電振動子の分解斜視図である。
図1〜4に示すように、本実施形態の圧電振動子1は、内部に気密封止されたキャビティCを有するパッケージ2と、キャビティC内に収容された圧電振動片3と、を備えたセラミックパッケージタイプの表面実装型振動子とされている。
なお、圧電振動子1は、概略直方体状に形成されており、本実施形態では平面視において圧電振動子1の長手方向を長手方向Lといい、短手方向を幅方向Wといい、これら長手方向Lおよび幅方向Wに対して直交する方向を厚み方向Tという。
なお、圧電振動子1は、概略直方体状に形成されており、本実施形態では平面視において圧電振動子1の長手方向を長手方向Lといい、短手方向を幅方向Wといい、これら長手方向Lおよび幅方向Wに対して直交する方向を厚み方向Tという。
パッケージ2は、パッケージ本体5と、パッケージ本体5に対して接合されるとともに、パッケージ本体5との間にキャビティCを形成する封口板6と、を備えている。
パッケージ本体5は、互いに重ね合わされた状態で接合された第1ベース基板10および第2ベース基板11と、第2ベース基板11上に接合されたシールリング12と、を備えている。
パッケージ本体5は、互いに重ね合わされた状態で接合された第1ベース基板10および第2ベース基板11と、第2ベース基板11上に接合されたシールリング12と、を備えている。
第1ベース基板10および第2ベース基板11の四隅には、平面視1/4円弧状の切欠部15が、両ベース基板10,11の厚み方向の全体に亘って形成されている。これら第1ベース基板10および第2ベース基板11は、例えばウエハ状のセラミック基板を2枚重ねて接合した後、両セラミック基板を貫通する複数のスルーホールを行列状に形成し、その後、各スルーホールを基準としながら両セラミック基板を格子状に切断することで作製される。その際、スルーホールが4分割されることで、切欠部15となる。
なお、第1ベース基板10および第2ベース基板11はセラミックス製としたが、その具体的なセラミックス材料としては、例えばアルミナ製のHTCC(High Temperature Co−Fired Ceramic)や、ガラスセラミックス製のLTCC(Low Temperature Co−Fired Ceramic)等が挙げられる。
第1ベース基板10の上面は、キャビティCの底面に相当する。
第2ベース基板11は、第1ベース基板10に重ねられており、第1ベース基板10に対して焼結などにより結合されている。すなわち、第2ベース基板11は、第1ベース基板10と一体化されている。
第2ベース基板11は、第1ベース基板10に重ねられており、第1ベース基板10に対して焼結などにより結合されている。すなわち、第2ベース基板11は、第1ベース基板10と一体化されている。
第2ベース基板11には、貫通部11aが形成されている。貫通部11aは、四隅が丸みを帯びた平面視長方形状に形成されている。貫通部11aの内側面は、キャビティCの側壁の一部を構成している。貫通部11aの幅方向W両側の内側面には、内方に突出する実装部14A,14Bが設けられている。実装部14A,14Bは、貫通部11aの長手方向Lの略中央に形成されている。
シールリング12は、第1ベース基板10および第2ベース基板11の外形よりも一回り小さい導電性の枠状部材であり、第2ベース基板11の上面に接合されている。具体的には、シールリング12は、銀ロウ等のロウ材や半田材等による焼付けによって第2ベース基板11上に接合、あるいは、第2ベース基板11上に形成(例えば、電解メッキや無電解メッキの他、蒸着やスパッタリング等により)された金属接合層に対する溶着等によって接合されている。
シールリング12の材料としては、例えばニッケル基合金等が挙げられ、具体的にはコバール、エリンバー、インバー、42−アロイ等から選択すれば良い。特に、シールリング12の材料としては、セラミックス製とされている第1ベース基板10および第2ベース基板11に対して熱膨張係数が近いものを選択することが好ましい。例えば、第1ベース基板10および第2ベース基板11として、熱膨張係数6.8×10-6/℃のアルミナを用いる場合には、シールリング12としては、熱膨張係数5.2×10-6/℃のコバールや、熱膨張係数4.5〜6.5×10-6/℃の42−アロイを用いることが好ましい。
封口板6は、シールリング12上に重ねられた導電性基板であり、シールリング12に対する接合によってパッケージ本体5に対して気密に接合されている。封口板6、シールリング12、第2ベース基板11の貫通部11a、および第1ベース基板10の上面により画成された空間は、気密に封止されたキャビティCとして機能する。
封口板6の溶接方法としては、例えばローラ電極を接触させることによるシーム溶接や、レーザー溶接、超音波溶接等が挙げられる。また、封口板6とシールリング12との溶接をより確実なものとするため、互いになじみの良いニッケルや金等の接合層を、少なくとも封口板6の下面と、シールリング12の上面とにそれぞれ形成することが好ましい。
第2ベース基板11の実装部14A,14Bの上面には、圧電振動片3との接続電極である一対の電極パッド20A,20Bが形成されている。また、第1ベース基板10の下面には、一対の外部電極21A,21Bが長手方向Lに間隔をあけて形成されている。電極パッド20A,20Bおよび外部電極21A,21Bは、例えば蒸着やスパッタリング等で形成された単一金属による単層膜、または異なる金属が積層された積層膜であり、不図示の配線を介して互いにそれぞれ導通している。
(圧電振動片)
図5は、第1実施形態に係る圧電振動片の平面図である。
図5に示すように、圧電振動片3は、水晶やタンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウム等の圧電材料から形成された振動片であり、所定の電圧が印加されたときに振動するものである。なお、圧電振動子1の長手方向L、幅方向Wおよび厚み方向Tは、圧電振動片3の長手方向(請求項における「第1方向」に相当。)、幅方向(請求項における「第2方向」に相当。)および厚み方向と一致している。したがって、以下の説明では、圧電振動片3の長手方向、幅方向および厚み方向の各方向について、圧電振動子1の長手方向L、幅方向Wおよび厚み方向Tの各方向と同一の符号を付して説明する。
図5は、第1実施形態に係る圧電振動片の平面図である。
図5に示すように、圧電振動片3は、水晶やタンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウム等の圧電材料から形成された振動片であり、所定の電圧が印加されたときに振動するものである。なお、圧電振動子1の長手方向L、幅方向Wおよび厚み方向Tは、圧電振動片3の長手方向(請求項における「第1方向」に相当。)、幅方向(請求項における「第2方向」に相当。)および厚み方向と一致している。したがって、以下の説明では、圧電振動片3の長手方向、幅方向および厚み方向の各方向について、圧電振動子1の長手方向L、幅方向Wおよび厚み方向Tの各方向と同一の符号を付して説明する。
圧電振動片3は、一対の振動腕部(第1振動腕部31および第2振動腕部32)と、基部35と、一対の支持腕部(第1支持腕部33および第2支持腕部34)と、を備えている。
各振動腕部31,32は、長手方向Lに延在するとともに幅方向Wに並んで配置されている。各振動腕部31,32は、基端部31b,32bを固定端として、先端部31a,32aを自由端として振動する。各振動腕部31,32は、基端に形成された本体部31A,32Aと、先端に形成された錘部31B,32Bと、を有している。
各振動腕部31,32は、長手方向Lに延在するとともに幅方向Wに並んで配置されている。各振動腕部31,32は、基端部31b,32bを固定端として、先端部31a,32aを自由端として振動する。各振動腕部31,32は、基端に形成された本体部31A,32Aと、先端に形成された錘部31B,32Bと、を有している。
各振動腕部31,32の本体部31A,32Aは、それぞれ各振動腕部31,32の基端部31b,32bから長手方向Lに沿って延出している。本体部31A,32Aには、溝部37が形成されている。溝部37は、本体部31A,32Aの両主面上において、厚み方向Tに凹むとともに、長手方向Lに沿って延在している(図6参照)。溝部37は、各振動腕部31,32の基端部31b,32bから、本体部31A,32Aの先端に亘って形成されている。
各振動腕部31,32の本体部31A,32Aの表面上には、これら各振動腕部31,32を幅方向Wに振動させる2系統の励振電極(不図示)が設けられている。各励振電極は、互いに電気的に絶縁された状態でパターニングされ、各振動腕部31,32を所定の周波数で振動させることができるように配設されている。
各振動腕部31,32の錘部31B,32Bは、それぞれ本体部31A,32Aの先端から長手方向Lに沿って延出している。錘部31B,32Bは、平面視矩形状であって、幅方向Wにおける幅が本体部31A,32Aよりも広くなっている。これにより、各振動腕部31,32の先端の質量および振動時の慣性モーメントを増大させることができるので、錘部31B,32Bを有しない圧電振動片と比較して各振動腕部31,32を短縮することができる。
錘部31B,32Bの表面には、重り金属膜40が形成されている。重り金属膜40は、各振動腕部31,32の先端における質量を増加させるとともに、各振動腕部31,32を短縮したときに、共振周波数の上昇を抑制するために設けられている。重り金属膜40は、第1金属膜41と第2金属膜42とを有する。なお、重り金属膜40は、一対の錘部31B,32Bにそれぞれ同様に形成されているため、以下の説明では錘部31Bに形成された重り金属膜40について説明し、錘部32Bに形成された重り金属膜40の説明は省略する。
図6は、図5のVI−VI線における断面図である。
図6に示すように、第1金属膜41は、錘部31Bの一方主面上に形成されている。第1金属膜41は、例えば金により形成されている。なお、第1金属膜41を形成する材料は、金に限定されず、酸化等の変質が生じにくい性質を有することが望ましく、例えば白金や銀等の金属材料を用いることができる。
図6に示すように、第1金属膜41は、錘部31Bの一方主面上に形成されている。第1金属膜41は、例えば金により形成されている。なお、第1金属膜41を形成する材料は、金に限定されず、酸化等の変質が生じにくい性質を有することが望ましく、例えば白金や銀等の金属材料を用いることができる。
第1金属膜41は、錘部31Bの先端(第1振動腕部31の先端部31a)から基端側に向かって形成されている。図5に示すように、第1金属膜41は、錘部31Bの一方主面上において、幅方向Wの全体に亘って形成されている。長手方向Lにおける第1金属膜41の寸法L1、および長手方向Lにおける錘部31Bの寸法L2は、
0<L1/L2<1/2・・・(1)
を満足するように形成されている。また、第1金属膜41の膜厚は、例えば数10μm程度になっている。
0<L1/L2<1/2・・・(1)
を満足するように形成されている。また、第1金属膜41の膜厚は、例えば数10μm程度になっている。
図6に示すように、第2金属膜42は、錘部31Bの一方主面上に形成されている。第2金属膜42は、第1金属膜41と同様に、例えば金等の金属材料により形成されている。
第2金属膜42は、錘部31Bの先端(第1振動腕部31の先端部31a)から基端側に向かって形成されている。第2金属膜42は、その一部が第1金属膜41の全体に重なるように第1金属膜41の表面に形成されている。図5に示すように、第2金属膜42は、錘部31Bの一方主面上において、幅方向Wの全体に亘って形成されている。長手方向Lにおける第2金属膜42の寸法L3、および長手方向Lにおける第1金属膜41の寸法L1は、
L1<L3・・・(2)
を満足するように形成されている。また、第2金属膜42は、第1金属膜41よりも薄く、かつ励振電極(不図示)よりも厚く形成されている。第2金属膜42の膜厚は、例えば数μm程度になっている。
第2金属膜42は、錘部31Bの先端(第1振動腕部31の先端部31a)から基端側に向かって形成されている。第2金属膜42は、その一部が第1金属膜41の全体に重なるように第1金属膜41の表面に形成されている。図5に示すように、第2金属膜42は、錘部31Bの一方主面上において、幅方向Wの全体に亘って形成されている。長手方向Lにおける第2金属膜42の寸法L3、および長手方向Lにおける第1金属膜41の寸法L1は、
L1<L3・・・(2)
を満足するように形成されている。また、第2金属膜42は、第1金属膜41よりも薄く、かつ励振電極(不図示)よりも厚く形成されている。第2金属膜42の膜厚は、例えば数μm程度になっている。
第1金属膜41および第2金属膜42は、この順に、例えばマスク蒸着により成膜される。第2金属膜42は、第1金属膜41の全体に重なるように形成されているため、第2金属膜42の成膜時において、第1金属膜41はメタルマスクの開口内部に位置する。これにより、第1金属膜41が、第2金属膜42の成膜時にメタルマスクから損傷を受けることを防止できる。
基部35は、各振動腕部31,32の基端部31b,32b同士を一体に接続している。基部35は、各振動腕部31,32よりも外側まで幅方向Wに延在している。
各支持腕部33,34は、基部35の幅方向W両端部にそれぞれ一体に接続されている。各支持腕部33,34は、長手方向Lに沿って互いに平行に延在している。
各支持腕部33,34は、基部35の幅方向W両端部にそれぞれ一体に接続されている。各支持腕部33,34は、長手方向Lに沿って互いに平行に延在している。
各支持腕部33,34の表面には、圧電振動片3をパッケージ2に実装する際のマウント部として、不図示のマウント電極がそれぞれ設けられている。各マウント電極は、各支持腕部33,34の先端付近に配置されている。
2系統のマウント電極と、2系統の励振電極とは、不図示の引き回し電極によりそれぞれ導通されている。引き回し電極は、各支持腕部33,34のそれぞれから、基部35を経由して各振動腕部31,32に至る経路に形成されている。
2系統のマウント電極と、2系統の励振電極とは、不図示の引き回し電極によりそれぞれ導通されている。引き回し電極は、各支持腕部33,34のそれぞれから、基部35を経由して各振動腕部31,32に至る経路に形成されている。
図2〜4に示すように、上記のように構成された圧電振動片3は、気密封止されたパッケージ2のキャビティC内に収容されている。圧電振動片3の各マウント電極(不図示)は、パッケージ2の実装部14A,14Bに設けられた2つの電極パッド20A,20Bにそれぞれ導電性接着剤を介して電気的および機械的に接合されている。これにより、圧電振動片3は、基部35を介して、各振動腕部31,32の基端部31b,32bが片持ち支持される。
なお、各マウント電極を電極パッド20A,20Bに接合する導電性接合材として、導電性接着剤の代わりに金属バンプを使用することも可能である。導電性接着剤と金属バンプの共通点は、接合初期の段階において流動性を持ち、接合後期の段階において固化して接合強度を発現する性質の導電性接合材であるということである。
外部電極21A,21B(図3参照)に所定の電圧が印加されると、各励振電極に電流が流れ、各励振電極間に電界が発生する。各振動腕部31,32は、各励振電極間に発生する電界による逆圧電効果によって例えば互いに接近、離間する方向(幅方向W)に所定の共振周波数で振動する。各振動腕部31,32の振動は、時刻源、制御信号のタイミング源やリファレンス信号源などとして用いられる。
圧電振動片3の共振周波数は、振動腕部の長さや質量等により決まる。しかしながら、共振周波数は、各振動腕部31,32の形状や重り金属膜40の形状のバラツキにより、所望の共振周波数が得られない場合がある。この場合には、重り金属膜40に対してレーザーを照射し、重り金属膜40を局所的に除去して各振動腕部31,32の質量を調整することで、共振周波数を所望の値に調整する。
ところで、重り金属膜は、質量を増加させるために厚く形成する必要があるが、厚膜化された重り金属膜は、レーザーにより除去することができない。このため、本実施形態の重り金属膜40のように、第1金属膜41単層のみの膜厚が薄い領域を設けることで、レーザートリミングを行うことが可能となっている(図6参照)。
このように、本実施形態の圧電振動片3は、長手方向Lに延在するとともに幅方向Wに並んで配置された第1振動腕部31および第2振動腕部32と、各振動腕部31,32の先端に形成され、幅方向Wにおける幅が各振動腕部31,32の本体部31A,32Aよりも広い錘部31B,32Bと、を備えている。錘部31B,32Bの表面には、重り金属膜40が形成されている。重り金属膜40は、第1金属膜41と第2金属膜42とを有し、第2金属膜42は、第1金属膜41よりも薄く形成され、第2金属膜42の一部は、第1金属膜41に重なるように、第1金属膜41の表面に形成されている。
この構成によれば、重り金属膜40には、第2金属膜42単層の膜厚が薄い領域と、第1金属膜41と第2金属膜42とが重なる膜厚が厚い領域と、が設けられる。これにより、第1金属膜41と第2金属膜42とが重なる膜厚が厚い領域において、重り金属膜40の質量を大きくして共振周波数の上昇を抑制しつつ、第2金属膜42単層の膜厚が薄い領域において、レーザートリミングを行うことが可能となる。したがって、各振動腕部31,32を短縮することにより小型化を実現しつつ、共振周波数の調整が可能な圧電振動片3とすることができる。
この構成によれば、重り金属膜40には、第2金属膜42単層の膜厚が薄い領域と、第1金属膜41と第2金属膜42とが重なる膜厚が厚い領域と、が設けられる。これにより、第1金属膜41と第2金属膜42とが重なる膜厚が厚い領域において、重り金属膜40の質量を大きくして共振周波数の上昇を抑制しつつ、第2金属膜42単層の膜厚が薄い領域において、レーザートリミングを行うことが可能となる。したがって、各振動腕部31,32を短縮することにより小型化を実現しつつ、共振周波数の調整が可能な圧電振動片3とすることができる。
また、第1金属膜41が錘部31B,32Bの先端に形成されているため、第1金属膜41と第2金属膜42とが重なる膜厚が厚い領域が各振動腕部31,32の先端に設けられる。このため、各振動腕部31,32の振動時の慣性モーメントを容易に増加させることができる。これにより、各振動腕部31,32の長さが短い場合であっても、共振周波数を低下させることができる。したがって、共振周波数の上昇を抑制しつつ、各振動腕部31,32を短縮することにより圧電振動片3の小型化を実現できる。
また、長手方向Lにおける第1金属膜41の寸法L1、および長手方向Lにおける錘部31Bの寸法L2は、式(1)を満足するように形成されているため、第2金属膜42単層の膜厚が薄い領域を大きく形成することができる。したがって、レーザートリミングを容易に行うことができる。
本実施形態の圧電振動子1は、圧電振動片3を備えているため、共振周波数の調整が可能な小型な圧電振動子1が得られる。
[第1実施形態の変形例]
(圧電振動片)
図7は、第1実施形態の変形例に係る圧電振動片の説明図であり、図5のVI−VI線に相当する部分における断面図である。
図5および図6に示す第1実施形態では、重り金属膜40は、錘部31B,32Bの一方主面上のみに形成されていた。これに対して、図7に示す変形例では、重り金属膜140は、錘部31Bの一方主面上および錘部31Bの先端面(第1振動腕部31の先端部31a)に形成されている点で、第1実施形態と異なっている。なお、第1実施形態と同様の構成については、同一符号を付して詳細な説明を省略する。また、重り金属膜140は、一対の錘部31B,32Bにそれぞれ同様に形成されているため、以下の説明では錘部31Bに形成された重り金属膜140について説明し、錘部32Bに形成された重り金属膜140の説明は省略する。
(圧電振動片)
図7は、第1実施形態の変形例に係る圧電振動片の説明図であり、図5のVI−VI線に相当する部分における断面図である。
図5および図6に示す第1実施形態では、重り金属膜40は、錘部31B,32Bの一方主面上のみに形成されていた。これに対して、図7に示す変形例では、重り金属膜140は、錘部31Bの一方主面上および錘部31Bの先端面(第1振動腕部31の先端部31a)に形成されている点で、第1実施形態と異なっている。なお、第1実施形態と同様の構成については、同一符号を付して詳細な説明を省略する。また、重り金属膜140は、一対の錘部31B,32Bにそれぞれ同様に形成されているため、以下の説明では錘部31Bに形成された重り金属膜140について説明し、錘部32Bに形成された重り金属膜140の説明は省略する。
図7に示すように、重り金属膜140は、第1金属膜141と第2金属膜142とを有する。第1金属膜141は、錘部31Bの先端面(第1振動腕部31の先端部31a)から錘部31Bの一方主面に亘って形成されている。第2金属膜142は、錘部31Bの先端面(第1振動腕部31の先端部31a)から錘部31Bの一方主面に亘って形成されている。第2金属膜142は、錘部31Bの一方主面上において、第1金属膜141よりも基端側の領域まで形成されている。
このように、本実施形態の圧電振動片103では、第1金属膜141および第2金属膜142を、錘部31B,32Bの先端面(各振動腕部31,32の先端部31a,32a)から錘部31B,32Bの一方主面に亘って設けている。これにより、重り金属膜140は、錘部31B,32Bの異なる2面に接触するため、膜剥がれ等に対する強度を向上させることができる。
[第2実施形態]
(圧電振動片)
図8は、第2実施形態に係る圧電振動片の説明図であり、図5のVI−VI線に相当する部分における断面図である。
図5および図6に示す第1実施形態では、第1金属膜41は、錘部31B,32Bの先端に形成されていた。これに対して、図8に示す第2実施形態では、第1金属膜241は、錘部31Bの長手方向Lにおける中間部よりも基端側の領域に形成されている点で、第1実施形態と異なっている。なお、第1実施形態と同様の構成については、同一符号を付して詳細な説明を省略する。また、重り金属膜240は、一対の錘部31B,32Bにそれぞれ同様に形成されているため、以下の説明では錘部31Bに形成された重り金属膜240について説明し、錘部32Bに形成された重り金属膜240の説明は省略する。
(圧電振動片)
図8は、第2実施形態に係る圧電振動片の説明図であり、図5のVI−VI線に相当する部分における断面図である。
図5および図6に示す第1実施形態では、第1金属膜41は、錘部31B,32Bの先端に形成されていた。これに対して、図8に示す第2実施形態では、第1金属膜241は、錘部31Bの長手方向Lにおける中間部よりも基端側の領域に形成されている点で、第1実施形態と異なっている。なお、第1実施形態と同様の構成については、同一符号を付して詳細な説明を省略する。また、重り金属膜240は、一対の錘部31B,32Bにそれぞれ同様に形成されているため、以下の説明では錘部31Bに形成された重り金属膜240について説明し、錘部32Bに形成された重り金属膜240の説明は省略する。
図8に示すように、重り金属膜240は、第1金属膜241と第2金属膜242とを有する。第1金属膜241は、錘部31Bの一方主面上の、長手方向Lにおける中間部よりも基端側の領域に形成されている。第2金属膜242は、錘部31Bの一方主面上において、錘部31Bの先端から、第1金属膜241よりも基端側の領域まで形成されている。
このように、本実施形態の圧電振動片203では、第1金属膜241が錘部31B,32Bの長手方向Lにおける中間部よりも基端側の領域に形成されている。これにより、長手方向Lにおける第1金属膜241よりも先端側の領域に第2金属膜242単層の膜厚が薄い領域を設けることができる。各振動腕部31,32の振動時の慣性モーメントは、各振動腕部31,32の基端部31b,32bから先端部31a,32aに向かうにしたがい、重り金属膜240の質量の変化に対して敏感になる。このため、第2金属膜242単層の膜厚が薄い領域を各振動腕部31,32の先端寄りに設けてレーザートリミングを行うことで、共振周波数の調整を効率よく行うことが可能となる。したがって、圧電振動片203の製造効率を向上させることができる。
なお、本発明は、図面を参照して説明した上述の実施形態に限定されるものではなく、その技術的範囲において様々な変形例が考えられる。
例えば、上記実施形態において、圧電振動片3,103,203は、各支持腕部33,34が各振動腕部31,32の外側に配置された、いわゆるサイドアーム型の振動片であった。しかしながらこれに限定されず、圧電振動片は、例えば1つの支持腕部が一対の振動腕部の間に配置された、いわゆるセンターアーム型の振動片や、支持腕部を備えていない、いわゆる音叉型の振動片であってもよい。
例えば、上記実施形態において、圧電振動片3,103,203は、各支持腕部33,34が各振動腕部31,32の外側に配置された、いわゆるサイドアーム型の振動片であった。しかしながらこれに限定されず、圧電振動片は、例えば1つの支持腕部が一対の振動腕部の間に配置された、いわゆるセンターアーム型の振動片や、支持腕部を備えていない、いわゆる音叉型の振動片であってもよい。
また、上記実施形態において、重り金属膜40,140,240は、錘部31B,32Bの一方主面上および先端面に形成されていた。しかしながらこれに限定されず、重り金属膜は、錘部31B,32Bの両主面上に形成される構成であってもよいし、幅方向Wに面する側面上に形成される構成であってもよい。
また、上記実施形態においては、圧電振動片3を用いた圧電振動子1として、セラミックパッケージタイプの表面実装型振動子について説明したが、圧電振動片3を、ガラス材によって形成されるベース基板およびリッド基板が陽極接合によって接合されるガラスパッケージタイプの圧電振動子に適用することも可能である。
その他、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上記した実施の形態における構成要素を周知の構成要素に置き換えることは適宜可能である。
1…圧電振動子 3,103,203…圧電振動片 31…第1振動腕部(振動腕部) 32…第2振動腕部(振動腕部) 31B,32B…錘部 40,140,240…重り金属膜 41,141,241…第1金属膜 42,142,242…第2金属膜 L…長手方向(第1方向) W…幅方向(第2方向)
Claims (5)
- 第1方向に延在するとともに前記第1方向と交差する第2方向に並んで配置された一対の振動腕部と、
前記一対の振動腕部の先端に形成され、前記第2方向における幅が前記振動腕部の本体部よりも広い錘部と、
を備え、
前記錘部の表面には、重り金属膜が形成され、
前記重り金属膜は、第1金属膜と第2金属膜とを有し、
前記第2金属膜は、前記第1金属膜よりも薄く形成され、
前記第2金属膜の一部は、前記第1金属膜の少なくとも一部に重なるように前記第1金属膜の表面に形成されている、
ことを特徴とする圧電振動片。 - 前記第1金属膜は、前記錘部の先端に形成されている、
ことを特徴とする請求項1に記載の圧電振動片。 - 前記第1金属膜は、前記錘部の前記第1方向における中間部よりも基端側の領域に形成されている、
ことを特徴とする請求項1に記載の圧電振動片。 - 前記振動腕部の前記第1方向における前記第1金属膜の寸法をL1とし、
前記振動腕部の前記第1方向における前記錘部の寸法をL2としたとき、
前記第1金属膜の寸法L1および前記錘部の寸法L2は、
0<L1/L2<1/2
を満足するように形成されている、
ことを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の圧電振動片。 - 請求項1から4のいずれか1項に記載の圧電振動片を備えることを特徴とする圧電振動子。
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