JP2016125091A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018025637A1 (ja) * 2016-08-02 2018-02-08 株式会社アルバック 真空蒸着装置
TWI580807B (zh) * 2016-10-28 2017-05-01 財團法人工業技術研究院 蒸鍍設備與利用此設備之蒸鍍方法
KR102716685B1 (ko) * 2016-12-09 2024-10-14 주식회사 선익시스템 증발원용 도가니
WO2019064426A1 (ja) * 2017-09-28 2019-04-04 シャープ株式会社 蒸着源および蒸着装置並びに蒸着膜製造方法
CN111148860B (zh) * 2017-09-28 2022-02-11 夏普株式会社 蒸镀粒子射出装置及蒸镀装置、以及蒸镀膜制造方法
CN108570645B (zh) * 2017-11-30 2023-09-29 上海微电子装备(集团)股份有限公司 真空蒸镀装置及其蒸发头、真空蒸镀方法
JP6941547B2 (ja) * 2017-12-06 2021-09-29 長州産業株式会社 蒸着装置、蒸着方法及び制御板
JP6931599B2 (ja) 2017-12-06 2021-09-08 長州産業株式会社 蒸着装置及び蒸着方法
JP6983096B2 (ja) * 2018-03-30 2021-12-17 株式会社アルバック 真空蒸着装置用の蒸着源
CN111206207A (zh) * 2018-11-02 2020-05-29 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 沉积腔室、镀膜设备及镀膜方法
CN111206205A (zh) * 2018-11-02 2020-05-29 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 沉积腔室、镀膜设备及镀膜方法
CN111206221A (zh) * 2018-11-02 2020-05-29 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 一种镀膜设备及镀膜方法
CN111206224A (zh) * 2018-11-02 2020-05-29 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 沉积腔室、镀膜设备及镀膜方法
CN111206203A (zh) * 2018-11-02 2020-05-29 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 沉积腔室、镀膜设备及镀膜方法
CN111206220A (zh) * 2018-11-02 2020-05-29 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 一种镀膜设备及镀膜方法
CN111206219A (zh) * 2018-11-02 2020-05-29 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 沉积腔室、镀膜设备及镀膜方法
CN109666898A (zh) * 2019-01-03 2019-04-23 福建华佳彩有限公司 一种用于点蒸发源的坩埚
JP7217635B2 (ja) * 2019-01-11 2023-02-03 株式会社アルバック 蒸着源、成膜装置、及び蒸着方法
CN113039306B (zh) * 2019-04-19 2023-06-06 株式会社爱发科 蒸镀源以及蒸镀装置
CN110791731B (zh) * 2019-11-20 2022-05-06 信利(仁寿)高端显示科技有限公司 一种蒸发源组件
CN114657504A (zh) * 2020-12-24 2022-06-24 上海升翕光电科技有限公司 蒸发源
CN114657505A (zh) * 2020-12-24 2022-06-24 上海升翕光电科技有限公司 蒸发源
CN114318237A (zh) * 2021-12-29 2022-04-12 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种蒸镀装置
WO2024153969A1 (en) * 2023-01-17 2024-07-25 Applied Materials, Inc. Material deposition assembly, vacuum deposition system and method of manufacturing a device
CN116180018A (zh) * 2023-02-14 2023-05-30 上海升翕光电科技有限公司 一种共蒸方法及共蒸设备

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100623730B1 (ko) * 2005-03-07 2006-09-14 삼성에스디아이 주식회사 증발원 어셈블리 및 이를 구비한 증착 장치
JP4831841B2 (ja) * 2009-07-10 2011-12-07 三菱重工業株式会社 真空蒸着装置及び方法
KR20120061394A (ko) * 2010-12-03 2012-06-13 삼성모바일디스플레이주식회사 증발원 및 유기물 증착 방법
KR102046440B1 (ko) * 2012-10-09 2019-11-20 삼성디스플레이 주식회사 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시장치의 제조방법
CN104099570B (zh) * 2013-04-01 2016-10-05 上海和辉光电有限公司 单点线性蒸发源系统
CN104099571A (zh) * 2013-04-01 2014-10-15 上海和辉光电有限公司 蒸发源组件和薄膜沉积装置和薄膜沉积方法

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