JP2016124830A - 糖アミノ酸誘導体または糖ペプチド誘導体の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
<1> 糖アミノ酸誘導体または糖ペプチド誘導体の製造方法であって、
糖残基中の全ての官能基を、酸性条件下で除去可能なカルバメート系保護基で保護した糖誘導体または/および糖アミノ酸誘導体を原料として用いることを特徴とする製造方法。
A−X―Y (1)
(式(1)中、Aは、全ての官能基を酸性条件下で除去可能なカルバメート系保護基で保護した単糖もしくは糖鎖であり; Yは存在するか存在せず、Yが存在しない場合は、Xはアジド基、水酸基、または脱離能を有する基であり、Yが存在する場合は、Xは酸素、硫黄、またはセレンであり、Yはアシル基、炭素数1から20である飽和もしくは不飽和炭化水素基、または芳香族基である。)
A−Am (2)
(式(2)中、Aは、全ての官能基を酸性条件下で除去可能なカルバメート系保護基で保護した単糖もしくは糖鎖であり; Amは、アミノ酸またはアミノ酸誘導体であり、主鎖アミノ基は遊離または保護基で保護またはアジド基に変換されており、主鎖カルボキシル基は遊離または保護基で保護されており; A−Amの結合は、Amの側鎖とAの還元末端のアノマー炭素との間の結合である。)
本発明は、糖アミノ酸誘導体または糖ペプチド誘導体の製造方法であって、糖残基中の全ての官能基を、酸性条件下で除去可能なカルバメート系保護基で保護した糖誘導体または/および糖アミノ酸誘導体を原料として用いることを特徴とする製造方法である。
A−X―Y (1)
(式(1)中、Aは、全ての官能基を、酸性条件下で除去可能なカルバメート系保護基で保護した単糖もしくは糖鎖であり; Yは存在するか存在せず、Yが存在しない場合は、Xはアジド基、水酸基、またはハロゲン基、イミデート基、アセトキシ基等、脱離能を有する基であり、Yが存在する場合は、Xは酸素、硫黄、またはセレンであり、Yはアシル基、炭素数1から20である飽和もしくは不飽和炭化水素基、または芳香族基である。)
A−Am (2)
(式(2)中、Aは、全ての官能基を、酸性条件下で除去可能なカルバメート系保護基で保護した単糖もしくは糖鎖であり; Amは、アミノ酸またはアミノ酸誘導体であり、Amの主鎖アミノ基は遊離または保護基で保護またはアジド基に変換されており、主鎖カルボキシル基は遊離または保護基で保護されており; A−Amの結合は、Amの側鎖とAの還元末端のアノマー炭素との間での結合であり、アミド結合、エステル結合、エーテル結合、チオエーテル結合、アセタール結合、チオアセタール結合、炭素―炭素結合等を形成する。)
テトラヒドロフラン(60 mL)に2−デオキシ−2−アセトアミド−β−D−グルコピラノシル アジド(1)(1.03 g,4.17mmol)と二炭酸ジ−tert−ブチル(5.1 g, 23.4 mmol)とN,N−ジメチル−4−アミノピリジン(410 mg, 3.30 mmol)を加え、加熱還流下で90分攪拌した。溶媒を減圧留去後、得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒 n−ヘキサン:酢酸エチル=6:1)で精製し、無定形固体の化合物2(2.68g,quant.)を得た。
化合物2(93 mg, 0.14 mmol)とFmoc−Asp(OPfp)−OtBu (112 mg, 0.19 mmol)と3,4−ジヒドロ−3−ヒドロキシ−4−オキソ−1,2,3−ベンゾトリアジン(33 mg, 0.20 mmol)をアルゴン雰囲気中、水/THF(2/98 v/v)混合溶液(1.6 mL)に溶解させた後、トリブチルホスフィン(50 μL, 0.20 mmol)を加え、室温で4時間攪拌した。反応溶液に酢酸エチルを加え、有機相を飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウム上で乾燥させた。溶媒を減圧留去後、得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒 n−ヘキサン:酢酸エチル=3:1)で精製し、化合物3(148 mg,quant.)を得た。
化合物3(50.9 mg, 50 μmol)を80%TFA/塩化メチレン溶液(1 mL)に溶解させ、室温で3時間攪拌した。溶媒を減圧留去し得られた残査にエーテルを加え、生じた粉末を濾過し、化合物4(20.0 mg, 72%)を得た。
化合物2(94 mg, 0.15 mmol)とFmoc−Asp(OPfp)−OBn (124 mg, 0.20 mmol)と3,4−ジヒドロ−3−ヒドロキシ−4−オキソ−1,2,3−ベンゾトリアジン(35 mg, 0.22 mmol)をアルゴン雰囲気中、水/THF(2/98 v/v)混合溶液(1.6 mL)に溶解させた後、トリブチルホスフィン(52 μL, 0.21 mmol)を加え、室温で2時間攪拌した。反応溶液に酢酸エチルを加え、有機相を飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウム上で乾燥させた。溶媒を減圧留去後、得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒 n−ヘキサン:酢酸エチル=4:1)で精製し、化合物5(160 mg,quant.)を得た。
化合物5(115 mg, 0.11 mmol)を酢酸エチル(4 mL)とエタノール(2mL)の混合溶媒に溶解させ、10%パラジウム炭素(74 mg)を加え、水素ガスをバブリングしながら、室温で1時間攪拌した。不溶物をセライト濾過で除去し、溶媒を減圧留去後、得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒 クロロホルム:メタノール=30:1)で精製し、化合物6(84 mg,79%)を得た。
6.17−6.31(brm, 1H), 6.62(brm, 1H), 7.30 (t, 1.7H, J=6.9 Hz, conformer A), 7.38 (t, 1.7H, J=7.6 Hz, conformer A) , 7.45 (t, 0.3H, J=7.6 Hz, conformer B), 7.54(t, 0.3H, J=7.6 Hz, conformer B), 7.59 (d, 2H, J=6.9 Hz),7.74 (d, 1.7H, J=7.6 Hz, conformer A) , 7.81 (d, 0.3H, J=7.6 Hz, conformer B)
テトラヒドロフラン(20 mL)に化合物7(0.64 g,1.64mmol)と二炭酸ジ−tert−ブチル(6.01 g, 27.6 mmol)とN,N−ジメチル−4−アミノピリジン(160 mg, 1.31 mmol)を加え、加熱還流下で60分攪拌した。溶媒を減圧留去後、得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒 n−ヘキサン:酢酸エチル=6:1)で精製し、無定形固体の化合物8(1.44g,88%)を得た。
化合物8(299 mg, 0.30 mmol)とFmoc−Asp(OPfp)−OBn (257 mg, 0.42 mmol)と3,4−ジヒドロ−3−ヒドロキシ−4−オキソ−1,2,3−ベンゾトリアジン(74 mg, 0.45 mmol)をアルゴン雰囲気中、水/THF(2/98 v/v)混合溶液(5 mL)に溶解させた後、トリブチルホスフィン(104 μL, 0.42 mmol)を加え、室温で2時間攪拌した。反応溶液に水と酢酸エチルを加え、有機相を水と飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウム上で乾燥させた。溶媒を減圧留去後、得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒 n−ヘキサン:酢酸エチル=2:1)で精製し、化合物9(416 mg,99%)を得た。
化合物9(197 mg, 0.14 mmol)をTHF(10 mL)に溶解させ、パラジウム炭素− エチレンジアミン複合体(120 mg)を加え、水素ガスをバブリングしながら、室温で3時間攪拌した。不溶物をセライト濾過で除去し、溶媒を減圧留去後、得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒 クロロホルム:メタノール=9:1)で精製し、化合物10(170 mg,93%)を得た。
化合物8(107 mg, 0.11 mmol)とFmoc−Asp(OPfp)−OtBu (86 mg, 0.15 mmol)と3,4−ジヒドロ−3−ヒドロキシ−4−オキソ−1,2,3−ベンゾトリアジン(25 mg, 0.15 mmol)をアルゴン雰囲気中、水/THF(2/98 v/v)混合溶液(3 mL)に溶解させた後、トリブチルホスフィン(36 μL, 0.15 mmol)を加え、室温で2時間攪拌した。反応溶液に水と酢酸エチルを加え、有機相を水と飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウム上で乾燥させた。溶媒を減圧留去後、得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒 n−ヘキサン:酢酸エチル=2:1)で精製し、化合物11(135 mg,92%)を得た。
化合物11(107 mg, 77 μmol)を20%トリフルオロ酢酸/ジクロロメタン溶液(5 mL)に0℃で溶解させた後、4時間攪拌した。反応溶液にトルエン(10 mL)を加え、溶媒を減圧留去した。得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒 クロロホルム:メタノール=3:1)で精製し、化合物12(51 mg,91%)を得た。
化合物10(170 mg, 0.13 mmol)と;グリシン tert−ブチル塩酸塩(22 mg, 0.13 mmol)と1−ヒドロキシベンゾトリアゾール一水和物(24 mg, 0.16 mmol)をDMF(3 mL)に溶解させ、この溶液に塩酸1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド(30 mg, 0.16 mmol)とN,N−ジイソプロピルエチルアミン(46 μL, 0.26 mmol)を加え室温で2時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え、有機相を5%クエン酸水溶液、水飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウム上で乾燥させた。溶媒を減圧留去し、得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒 n−ヘキサン:酢酸エチル=1:1)で精製し、化合物16(167 mg,91%)を得た。得られた化合物16(167 mg,0.12 mmol)を20%トリフルオロ酢酸/ジクロロメタン溶液に0℃で溶解させ、0℃で4時間攪拌した。溶液にジエチルエーテルと20%アセトニトリル水溶液を加え、水相を分離し凍結乾燥させた。得られた残査(85mg)のうち56mgをHPLCにて精製を行い、化合物17(19 mg, 32%)を得た。
Claims (6)
- 糖アミノ酸誘導体または糖ペプチド誘導体の製造方法であって、
糖残基中の全ての官能基を、酸性条件下で除去可能なカルバメート系保護基で保護した糖誘導体または/および糖アミノ酸誘導体を原料として用いることを特徴とする製造方法。 - 前記糖残基中の全ての官能基を、酸性条件下で除去可能なカルバメート系保護基で保護した糖誘導体が、下記式(1)で表される糖誘導体である請求項1に記載の製造方法。
A−X―Y (1)
(式(1)中、Aは、全ての官能基を酸性条件下で除去可能なカルバメート系保護基で保護した単糖もしくは糖鎖であり; Yは存在するか存在せず、Yが存在しない場合は、Xはアジド基、水酸基、または脱離能を有する基であり、Yが存在する場合は、Xは酸素、硫黄、またはセレンであり、Yはアシル基、炭素数1から20である飽和もしくは不飽和炭化水素基、または芳香族基である。) - 前記糖残基中の全ての官能基を、酸性条件下で除去可能なカルバメート系保護基で保護した糖アミノ酸誘導体が、下記式(2)で表される糖アミノ酸誘導体である請求項1または2に記載の製造方法。
A−Am (2)
(式(2)中、Aは、全ての官能基を酸性条件下で除去可能なカルバメート系保護基で保護した単糖もしくは糖鎖であり; Amは、アミノ酸またはアミノ酸誘導体であり、主鎖アミノ基は遊離または保護基で保護またはアジド基に変換されており、主鎖カルボキシル基は遊離または保護基で保護されており; A−Amの結合は、Amの側鎖とAの還元末端のアノマー炭素との間の結合である。) - 前記酸性条件下で除去可能なカルバメート系保護基が、tert−ブトキシカルボニル(Boc)基である請求項1〜3に記載の製造方法。
- 下記式(3)で表される糖誘導体。
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