JP2016121379A - ガス放出機構を備えたキャンローラ並びにこれを用いた長尺基板の処理装置及び処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】真空チャンバー内で搬送される長尺基板Fを外周面に巻き付けて冷媒で冷却しながら該外周面に対向して設けられた熱負荷のかかる処理手段で長尺基板Fを処理するキャンローラ56であって、その回転軸方向に延在する複数のガス導入路が周方向に等間隔に全周に亘って配設されており、各ガス導入路は該外周面においてその延在方向に等間隔に開口する複数のガス放出孔を有しており、該複数のガス導入路のうち、長尺基板Fが該外周面に接触し始める角度位置から該処理手段に対向する角度位置までの間の角度範囲内に位置する少なくとも1本のガス導入路にのみガス供給手段を介して真空チャンバー外部のガスが供給されるキャンローラ56。
【選択図】図6
Description
図1に示すような真空成膜装置(スパッタリングウェブコータ)50を用いて金属膜付長尺基板を作製した。長尺基板Fには、幅500mm、長さ800m、厚さ25μmの宇部興産株式会社製の耐熱性ポリイミド長尺基板「ユーピレックス(登録商標)」を使用した。キャンローラ56には、図2に示すようなジャケットロール構造のガス導入機構付きキャンローラを使用した。このキャンローラ56の円筒部材31には、直径900mm、幅750mmのアルミ製のものを使用し、その外周面にハードクロムめっきを施した。この円筒部材31内に、キャンローラ56の回転中心軸56aに平行に延在する内径4mmの360本のガス導入路35を周方向に均等な間隔をあけて全周に亘って形成した。なお、ガス導入路35は有底穴にすることで、先端部が円筒部材31を貫通しないようにした。
[参考例]
20、120、220 ガスロータリージョイント
21、121、221 回転リングユニット
21a、121a 摺接面
22、122、222 固定リングユニット
22a、122a 摺動面
23、123 ガス供給路
23a、123a 開口部
24、124 ガス分配路
24a、124a 開口部
25、125、225 接続管
26、126 供給配管
31、131、231 円筒部材
31a 外周面
32 冷媒循環部
33 回転シャフト
33a 内側配管
33b 外側配管
34 ベアリング
35、135、235 ガス導入路
36 ガス放出孔
140、240 ガス集合室
140a、240a ガス供給口
141、241 リング状部材
242 回転ガスリング室
243 開閉バルブ
50 真空成膜装置
51 真空チャンバー
52 巻出ローラ
53、63 フリーローラ
54、62 張力センサローラ
55、61 フィードローラ
56 キャンローラ
56a 回転中心軸
57、58、59、60 マグネトロンスパッタリングカソード
64 巻取ロール
Claims (11)
- 真空チャンバー内においてロールツーロールで搬送される長尺基板を外周面に部分的に巻き付けて内部を循環する冷媒で冷却しながら該外周面に対向して設けられた熱負荷のかかる処理手段により該長尺基板を処理するキャンローラであって、その回転軸方向に延在する複数のガス導入路が周方向に等間隔に全周に亘って配設されており、各ガス導入路は該外周面においてその延在方向に等間隔に開口する複数のガス放出孔を有しており、該複数のガス導入路のうち、長尺基板が該外周面に接触し始める角度位置から該処理手段に対向する角度位置までの間の角度範囲内に位置する少なくとも1本のガス導入路にのみガス供給手段を介して該真空チャンバー外部のガスが供給されることを特徴とするキャンローラ。
- 前記ガス供給手段が、それぞれの摺接面で互いに摺接する回転リングユニットと固定リングユニットとからなるロータリージョイントを有し、該回転リングユニットは前記複数のガス導入路にそれぞれ連通する複数のガス供給路を有し、各ガス供給路は連通するガス導入路と同じ角度位置で摺接面において開口しており、該固定リングユニットは前記真空チャンバー外部のガスの供給配管に連通するとともに摺動面において前記角度範囲内で開口するガス分配路を有していることを特徴とする、請求項1に記載のキャンローラ。
- 前記ガス供給手段が、前記複数のガス導入路にそれぞれ設けられた複数の開閉バルブを有し、各ガス導入路が前記角度範囲内に存在するか否かに応じて対応する開閉バルブの開閉動作が制御されていることを特徴とする、請求項1に記載のキャンローラ。
- 前記開閉バルブが往復動手段を備えたベローズバルブであることを特徴とする、請求項3に記載のキャンローラ。
- 前記往復動手段が電磁気的または磁気的に往復動する機構であることを特徴とする、請求項4に記載のキャンローラ。
- 前記熱負荷のかかる処理手段が、マグネトロンスパッタリング処理、プラズマ処理、またはイオンビーム処理であることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載のキャンローラ。
- 前記熱負荷のかかる処理手段が前記キャンローラの外周面で画定される搬送経路に対向して設けられていることを特徴とする、請求項6に記載のキャンローラ。
- 前記複数のガス導入路は、前記キャンロールの周方向に並ぶ複数本ごとに1つのガス集合室に連通しており、これら複数のガス集合室に前記ガス供給手段を介して前記真空チャンバー外部のガスが供給されることを特徴とする、請求項1に記載のキャンローラ。
- 真空チャンバーと、該真空チャンバー内においてロールツーロールで長尺基板を搬送する搬送機構と、長尺基板に対して熱負荷のかかる処理を施す処理手段とからなる長尺基板処理装置であって、該搬送機構が請求項1〜8のいずれか1項に記載のキャンローラを有しており、該キャンローラの外周面に該処理手段が対向して配置されていることを特徴とする長尺基板処理装置。
- 真空チャンバー内においてロールツーロールで搬送される長尺基板をキャンロールの外周面に部分的に巻き付けて内部を循環する冷媒で冷却しながら該外周面に対向して設けられた熱負荷のかかる処理手段により該長尺基板を熱処理する方法であって、該キャンロールはその回転軸方向に延在する複数のガス導入路が周方向に等間隔に全周に亘って配設されており、各ガス導入路は該外周面においてその延在方向に等間隔に開口する複数のガス放出孔を有しており、該複数のガス導入路のうち、長尺基板が該外周面に接触し始める角度位置から該処理手段に対向する角度位置までの間の角度範囲内に位置する少なくとも1本のガス導入路にのみ該真空チャンバー外部のガスを供給することを特徴とする長尺基板の熱処理方法。
- 真空チャンバー内においてロールツーロールで搬送される長尺基板をキャンロールの外周面に部分的に巻き付けて内部を循環する冷媒で冷却しながら該外周面に対向して設けられた熱負荷のかかる成膜手段により該長尺基板に成膜する方法であって、該キャンロールはその回転軸方向に延在する複数のガス導入路が周方向に等間隔に全周に亘って配設されており、各ガス導入路は該外周面においてその延在方向に等間隔に開口する複数のガス放出孔を有しており、該複数のガス導入路のうち、長尺基板が該外周面に接触し始める角度位置から該処理手段に対向する角度位置までの間の角度範囲内に位置する少なくとも1本のガス導入路にのみ該真空チャンバー外部のガスを供給することを特徴とする長尺基板の成膜方法。
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