JP2016114444A - 光断層画像装置用サンプルクロック発生装置、および光断層画像装置 - Google Patents
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Abstract
Description
1/8波長板を光学位相シフタとして用いることにより、第1の光路の入力光は光学位相シフタを往復して通過するため、実質的には1/4波長板の効果と同等となる。そのため、位相のシフト量が90°となり、サンプルクロック信号の周波数を2倍とすることができる。また、1/4波長板と同等とすることにより、45°の傾きを有する入力光の周波数の影響を受けにくい。
以下、本発明の第1の実施形態に係るSS−OCTついて図1から図4を参照して説明する。本実施形態では、本願発明の光断層画像装置をSS−OCT1に適用し、本願発明の光断層画像装置用サンプルクロック発生装置を、マイケルソン干渉計を用いたサンプルクロック発生装置100(以下、「k−clock発生装置100」とも表記する。)に適用して説明する。本実施形態のSS−OCT1は、例えば、眼科医療等においてサンプル(被検物)60の断層像を撮影に用いて好適なものである。
k−clock発生装置100には、図2に示すように、光源10から出射され入力光が、SMFC11を介して入力される。入力光は、光ファイバ122により干渉光学系110に導かれる。干渉光学系110に導かれる際、偏光コントローラ125により偏光の状態が制御される。干渉光学系110に導かれた入力光は直線偏光子123へ入射される。直線偏光子123では、入射された入力光のうち、傾きが45°の直線偏光のみが透過する。
次に、本発明の第2の実施形態に係るSS−OCTついて図5を参照しながら説明する。
本実施形態のSS−OCTの基本構成は、第1の実施形態と同様であるが、第1の実施形態とは、k−clock発生装置の構成が異なっている。よって、本実施形態においては、図5を用いてk−clock発生装置についてのみを説明し、その他の構成要素等の説明を省略する。
Claims (6)
- 光源から出射された周波数が掃引された入力光を受けてサンプルクロック信号を生成する光断層画像装置用サンプルクロック発生装置であって、
前記入力光の一部が導かれる第1の光路と、前記入力光の別の一部が導かれる第2の光路と、前記第1の光路で導かれる前記入力光の位相をシフトさせる光学位相シフタと、前記第1の光路および前記第2の光路には、導かれる光を折返し反射させる第1の反射部および第2の反射部がそれぞれ設けられ、前記第1の反射部で反射され再度前記光学位相シフタにより位相シフトされた前記第1の光路の前記入力光および前記第2の反射部で反射された前記第2の光路の前記入力光を合成してサンプルクロック用干渉光を生成する干渉光生成部と、前記サンプルクロック用干渉光を位相の異なる一方の分離光および他方の分離光に分離する分離部と、を少なくとも備えた干渉光学系と、
前記一方の分離光を少なくとも受光する一方の受光部と、前記他方の分離光を少なくとも受光する他方の受光部と、前記一方の受光部および前記他方の受光部から出力された信号に基づいて前記サンプルクロック信号を生成する信号生成部と、を少なくとも備えた演算部と、
が設けられていることを特徴とする光断層画像装置用サンプルクロック発生装置。 - 前記第1の光路及び第2の光路に入射する前記入力光は、+45°または−45°の傾きを有する直線偏光であることを特徴とする請求項1記載の光断層画像装置用サンプルクロック発生装置。
- 前記第1の光路及び第2の光路の光入射側には、前記直線偏光を透過する直線偏光子が配置されていることを特徴とする請求項2記載の光断層画像装置用サンプルクロック発生装置。
- 前記光学位相シフタは1/8波長板であることを特徴とする請求項2から3のいずれか1項に記載の光断層画像装置用サンプルクロック発生装置。
- 前記干渉光生成部は、少なくとも、前記第1の光路で導かれ前記第1の反射部で反射され、位相シフトされた前記入力光および前記第2の光路に導かれ前記第2の反射部で反射された前記入力光を合成して前記サンプルクロック用干渉光を生成するビームスプリッタであり、
前記分離部は、少なくとも、前記サンプルクロック用干渉光を互いに直交する一方の直線偏光および他方の直線偏光に分離する偏光ビームスプリッタであることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の光断層画像装置用サンプルクロック発生装置。 - 周波数が掃引された入力光を出射する光源と、
出射された前記入力光から分岐された入力光を被検物に照射し、かつ、前記被検物から反射した反射光を導く測定光学系と、
分岐された他の光を参照光とする参照光学系と、
前記測定光学系から導かれた前記反射光、および、前記参照光学系からの前記参照光を合成した測定用干渉光を受光し、測定用干渉信号を出力する受光部と、
請求項1から請求項5のいずれかに記載のサンプルクロック発生装置と、
前記信号生成部により生成された前記サンプルクロック信号に基づいてサンプリングした前記測定用干渉信号をフーリエ解析し前記被検物の断層画像を演算処理により求める信号処理部と、
が設けられていることを特徴とする光断層画像装置。
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