JP6125981B2 - 光断層画像装置用サンプルクロック発生装置、および光断層画像装置 - Google Patents

光断層画像装置用サンプルクロック発生装置、および光断層画像装置 Download PDF

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Description

本発明は、光周波数掃引型光干渉断層計に用いて好適な光断層画像装置用サンプルクロック発生装置、および光断層画像装置に関する。
光干渉断層計(Optical Coherence Tomography、以下「OCT」と表記する。)は、生体の断層画像を光の干渉を利用して計測するものであり、特に眼科において角膜や網膜などの2次元・3次元断層画像を得るために広く用いられている手法である。上述のOCTにはいくつかの基本方式が存在しており、その中でも光周波数掃引型OCT(swept−source OCT、以下「SS−OCT」と表記する)と呼ばれる手法が注目されている。
SS−OCTでは、光源から光周波数が高速に掃引された光が出射され、その光を眼球などの被測定物に照射している。被測定物からは散乱光が反射し、干渉計を用いて散乱光を検出している。検出される生の信号(干渉信号)は干渉スペクトルであり、この干渉信号をフーリエ解析することで被測定物の深さ方向に分解された光散乱強度分布を得ることができる。この被測定物の深さ方向に分解された光散乱強度分布を一般にA−scanのOCT信号と呼んでいる。さらに被測定物に照射するビームを横方向にスキャンすることで、2次元の光散乱強度分布、または3次元の光散乱強度分布を得ることができる。
一般にSS−OCTでは、干渉信号のサンプリングが高速に行われている。このサンプリングは等光周波数間隔で行われることが望ましい。例えば、サンプリングが等光周波数間隔(光の周波数に対して均等な周波数間隔)に行われないと、A−scanのOCT信号に歪みが生じて分解能が大きく悪化することが知られている。
サンプリングを等光周波数間隔で行う方法として、光学的に生成したサンプルクロックを利用する方法が知られている。この方法では、OCTで用いられる干渉計とは別に、例えばマッハツェンダー(Mach−Zehnder)干渉計が構築されている(例えば、特許文献1および2参照。)。マッハツェンダー干渉計の出力は、入力される光の周波数に対して等間隔な正弦波となる。そのため、マッハツェンダー干渉計の出力(クロック用の干渉信号)は、上述のサンプルクロックとして利用することができる。このようなサンプルクロックはk−clockと呼ばれることが多い。
特開2013−181790号公報 特許第5269809号公報
SS−OCTでは、光周波数を掃引する波長掃引光源から出射された光を用いて、k−clockの元となるクロック用の干渉信号が生成される。そのため、k−clockは、波長掃引光源の性能の影響を直接的に受けることとなる。一般にSS−OCTの波長掃引光源を用いた場合、干渉計における光路長差が大きくなると干渉縞の振幅が小さくなるという性質がある。この性質はk−clockに入力されるクロック用の信号を生成する干渉計でも同様である。そのため、高周波のk−clockを生成しようとすると干渉縞の振幅が小さくなり、高周波のk−clock生成が難しくなるという問題があった。
上記の問題を解決するものとして、特許文献2に開示されているように、電気的にk−clockの周波数を倍にする方法が提案されている。この方法では電気的位相シフタを用いており、所定の周波数または所定範囲の周波数について電気的に周波数を倍にすることができる。
しかしながら、クロック用干渉信号の干渉縞には、上述の特定範囲を超えた広範囲の周波数が含まれている。電気的位相シフタによる位相シフト量は、クロック用干渉信号の周波数に依存するため、上述のように特定範囲を超えた広範囲の周波数を含む場合、電気的位相シフタでは、すべての周波数成分について同じ位相シフト量を与えることが困難となる。その結果、電気的位相シフタを用いてk−clockの周波数を倍にした場合、等間隔なk−clock周波数を生成することが難しいという問題があった。
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、サンプルクロックの周波数を逓倍化することができる光断層画像装置用サンプルクロック発生装置、および光断層画像装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明は、以下の手段を提供する。
本発明の光断層画像装置用サンプルクロック発生装置は、光源から出射された周波数が掃引された入力光を受けてサンプルクロック信号を生成する光断層画像装置用サンプルクロック発生装置であって、前記入力光の一部が導かれる第1の光路と、前記入力光の別の一部が導かれる第2の光路と、前記第1の光路で導かれる前記入力光の位相をシフトさせる光学位相シフタと、前記第1の光路で導かれ位相シフトされた前記入力光および前記第2の光路に導かれた前記入力光を合成してサンプルクロック用干渉光を生成する干渉光生成部と、前記サンプルクロック用干渉光を位相の異なる一方の分離光および他方の分離光に分離する分離部と、を少なくとも備えた干渉光学系と、前記一方の分離光を少なくとも受光する一方の受光部と、前記他方の分離光を少なくとも受光する他方の受光部と、前記一方の受光部および前記他方の受光部から出力された信号に基づいて前記サンプルクロック信号を生成する信号生成部と、を少なくとも備えた演算部と、が設けられていることを特徴とする。
本発明の光断層画像装置用サンプルクロック発生装置によれば、第1の光路で導かれる入力光の位相を光学位相シフタでシフトさせることにより、信号生成部で生成されるサンプルクロック信号の周波数における、入力光の周波数による影響を抑えつつ逓倍化させることができる。
光学位相シフタによってシフトされる入力光の位相は、電気的な処理で位相をシフトさせる方法と比較して、入力信号である入力光の周波数の影響を受けにくい。特に、光学位相シフタは、入力光における周波数変化が時間に対して線形であっても、非線形であっても位相をシフトさせる量に影響が出にくい。そのため、周波数が掃引された光が入力されても、信号生成部で生成されるサンプルクロック信号への影響を抑えられる。また、光学位相シフタにより位相をシフトさせる場合には、電気的な処理で生じるようなノイズが発生しにくくなる。そのため、前述のノイズがサンプルクロック信号に影響を与える可能性が低い。
サンプルクロック信号における周波数の増加程度は、光学位相シフタにおける位相のシフト量により調節することができる。例えば、位相のシフト量を90°とすることによりサンプルクロック信号の周波数を2倍にでき、位相のシフト量を45°とするとサンプルクロック信号の周波数を4倍にできる。
上記発明において前記光学位相シフタに入射する前記入力光は、+45°または−45°の傾きを有する第1の直線偏光であり、前記第2の光路から前記干渉光生成部に入射する前記入力光は、+45°または−45°の傾きを有する第2の直線偏光であることが好ましい。
このように光学位相シフタに入射する光を第1の直線偏光とし、第2の光路から干渉光生成部に入射する光を第1の直線偏光とは独立した第2の直線偏光とすることにより、サンプルクロック発生装置における構成の自由度が高くなる。
上記発明において前記第1の光路における前記光学位相シフタの光入射側には、前記第1の直線偏光を透過する第1の直線偏光子が配置され、前記第2の光路には、前記第2の直線偏光を透過して前記干渉光生成部に入射させる第2の直線偏光子が配置されていることが好ましい。
このように第1の光路に第1の直線偏光子を配置し、第2の光路に第2の直線偏光子を配置することにより、例えば、第1の光路および第2の光路に入力光を導く単一モードファイバを用いることができる。単一モードファイバは、偏波保存ファイバ等と比較して価格が安く扱いが容易となる。
上記発明においては、前記光源から出射された前記入力光を直線偏光状態にさせた後に分岐させ前記第1の直線偏光を前記第1の光路に導き、前記第2の直線偏光を前記第2の光路に導く偏波保存ファイバカプラが更に設けられ、前記第1の光路は、前記第1の直線偏光を前記光学位相シフタに入射させる第1の偏波保存ファイバを少なくとも備え、前記第2の光路は、前記第2の直線偏光を前記干渉光生成部に入射させる第2の偏波保存ファイバを少なくとも備えていることが好ましい。
このように偏波保存ファイバカプラ、第1の偏波保存ファイバおよび第2の偏波保存ファイバが設けられることにより、第1の光路および第2の光路に直線偏光子を配置する場合と比較して、サンプルクロック発生装置を形成する構成要素の点数を減らすことができると共に、光学的な調整も容易になる。
上記発明において前記光学位相シフタは1/4波長板であることが好ましい。
このようにする1/4波長板を光学位相シフタとして用いることにより、位相のシフト量を90°としてサンプルクロック信号の周波数を2倍とすることができる。さらに、1/4波長板による位相のシフト量は、入力光の周波数の影響を受けにくい。そのため、サンプルクロック信号の周波数は、入力光の周波数の影響を受けにくくなる。
上記発明においては、前記干渉光生成部から異なる二つの方向へ出射される前記サンプルクロック用干渉光のうちの第1のサンプルクロック用干渉光が入射され、前記第1のサンプルクロック用干渉光を位相の異なる第1の一方の分離光、および第1の他方の分離光に分離する第1の分離部と、第2のサンプルクロック用干渉光が入射され、前記第2のサンプルクロック用干渉光を位相の異なる第2の一方の分離光、および他方の分離光に分離する第2の分離部と、が設けられ、前記一方の受光部は、前記第1の分離部において分離された前記第1の一方の分離光、および前記第2の分離部において分離された前記第2の一方の分離光が入射されるバランス型光検出器であり、前記他方の受光部は、前記第1の分離部において分離された前記第1の他方の分離光、および前記第2の分離部において分離された前記第2の他方の分離光が入射されるバランス型光検出器であることが好ましい。
このように第1のサンプルクロック用干渉光および第2のサンプルクロック用干渉光を利用することにより、サンプルクロック信号を生成する際に利用される入力光の割合(利用効率)が高くなる。第1または第2のサンプルクロック用干渉光のみを利用する場合と比較して、サンプルクロック信号の生成に寄与する成分とそれ以外の成分の比であるSN比を高めることができる。
また、干渉生成部で生成され異なる二つの方向へ出射される第1および第2のサンプルクロック用干渉光は、互いに位相が180°異なる。この位相の異なる第1のサンプルクロック用干渉光は第1の分離部に入射され、第2のサンプルクロック用干渉光は第2の分離部に入射される。その結果、第1の分離部により分離された第1の一方の分離光と、第2の分離部により分離された第2の一方の分離光とは位相が180°異なり、第1の他方の分離光と、第2の他方の分離光とは位相が180°異なることになる。位相が180°異なる第1の一方の分離光および第2の一方の分離光は、バランス型光検出器である一方の受光部に入射され、同じく位相が180°異なる第1の他方の分離光および第2の他方の分離光は、バランス型光検出器である他方の受光部に入射される。つまり、位相が180°異なる分離光を用いた差分検出が可能となり、干渉縞(フリンジ)における明暗差を高めることができる。その他に、一方の受光部で受光される第1の一方の分離光および第2の一方の分離光に共通して含まれるノイズ(コモンノイズ)や、他方の受光部で受光される第1の他方の分離光および第2の他方の分離光に共通して含まれるノイズがキャンセルされる。
上記発明において前記干渉光生成部は、少なくとも、前記第1の光路で導かれ位相シフトされた前記入力光および前記第2の光路に導かれた前記入力光を合成して前記サンプルクロック用干渉光を生成するビームスプリッタであり、前記第1の分離部は、少なくとも、前記第1のサンプルクロック用干渉光を互いに直交する第1の一方の直線偏光および第1の他方の直線偏光に分離する第1の偏光ビームスプリッタであり、前記第2の分離部は、少なくとも、前記第2のサンプルクロック用干渉光を互いに直交する第2の一方の直線偏光および第2の他方の直線偏光に分離する第2の偏光ビームスプリッタであり、前記一方の受光部は、前記第1の分離部において分離された前記第1の一方の分離光、および前記第2の分離部において分離された前記第2の一方の分離光として、前記第1の偏光ビームスプリッタにおいて分離された前記第1の一方の直線偏光、および前記第2の偏光ビームスプリッタにおいて分離された前記第2の一方の直線偏光が入射されるバランス型光検出器であり、前記他方の受光部は、前記第1の分離部において分離された前記第1の他方の分離光、および前記第2の分離部において分離された前記第2の他方の分離光として、前記第1の偏光ビームスプリッタにおいて分離された前記第1の他方の直線偏光、および前記第2の偏光ビームスプリッタにおいて分離された前記第2の他方の直線偏光が入射されるバランス型光検出器であることが更に好ましい。
上記発明において前記一方の分離光が入射される前記一方の受光部、および、前記他方の分離光が入力される前記他方の受光部はバランス型光検出器であり、
前記一方の受光部および前記他方の受光部には、前記光源から出射された前記入力光も入射されていることが好ましい。
このように一方の受光部であるバランス型光検出器に、光源から出射された入力光と、一方の分離光とを入射させて両者の差分を計測する構成とすることにより、一方の受光部から出力される信号から、入力光と一方の分離光とに共通して含まれるノイズ(コモンノイズ)を取り除きやすくなる。また、他方の受光部であるバランス型光検出器に、入力光と他方の分離光とを入射させて両者の差分を計測する構成とすることにより、他方の受光部から出力される信号から、入力光と他方の分離光とに共通して含まれるノイズを取り除きやすくなる。
上述のように、バランス型光検出器である一方および他方の受光部に、入力光および分離光が入射される構成とすることにより、2つの分離部を採用する構成と比較して、簡単な構成で一方および他方の受光部から出力される信号から、上記の共通して含まれるノイズを低減することができる。
上記発明において前記第1の光路および前記第2の光路には、導かれる光を折返し反射させる第1の反射部および第2の反射部がそれぞれ設けられ、前記第1の光路および前記第2の光路は、前記干渉光生成部から前記第1の反射部および前記第2の反射部の側では分離し、前記光源、前記一方の受光部および前記他方の受光部の側では重複しており、前記分離部は、前記第1の光路および前記第2の光路の重複部分に配置され、前記光源から出射された前記入力光のうち、前記分離部を透過した光が前記干渉光生成部に入射され、前記干渉光生成部を透過した光を反射させる前記第1の反射部および前記干渉光生成部の間には前記光学位相シフタである1/8波長板が配置され、前記干渉光生成部により反射された光を反射させる前記第2の反射部および前記干渉光生成部の間には1/4波長板が配置され、前記一方の受光部は、少なくとも、前記第1の反射部および前記第2の反射部で反射され前記干渉光生成部で合成された前記サンプルクロック用干渉光が、前記分離部で分離された少なくとも前記一方の直線偏光を少なくとも受光し、前記他方の受光部は、少なくとも、前記第1の反射部および前記第2の反射部で反射され前記干渉光生成部で合成された前記サンプルクロック用干渉光が、前記分離部で分離された前記他方の直線偏光を少なくとも受光することが好ましい。このようにすることにより、干渉光学系をマイケルソン干渉計として構築することができる。
上記発明において前記干渉光生成部は、少なくとも、前記第1の光路で導かれ位相シフトされた前記入力光および前記第2の光路に導かれた前記入力光を合成して前記サンプルクロック用干渉光を生成するビームスプリッタであり、前記分離部は、少なくとも、前記サンプルクロック用干渉光を互いに直交する一方の直線偏光および他方の直線偏光に分離する偏光ビームスプリッタであり、前記一方の受光部は、前記一方の分離光として前記一方の直線偏光を受光し、前記他方の受光部は、前記他方の分離光として前記他方の直線偏光を受光することが好ましい。
本発明の光断層画像装置は、周波数が掃引された入力光を出射する光源と、出射された前記入力光から分岐された入力光を被検物に照射し、かつ、前記被検物から反射した反射光を導く測定光学系と、分岐された他の光を参照光とする参照光学系と、前記測定光学系から導かれた前記反射光、および、前記参照光学系からの前記参照光を合成した測定用干渉光を受光し、測定用干渉信号を出力する受光部と、上記本発明のサンプルクロック発生装置と、前記信号生成部により生成された前記サンプルクロック信号に基づいてサンプリングした前記測定用干渉信号をフーリエ解析し前記被検物の断層画像を演算処理により求める信号処理部と、が設けられていることを特徴とする。
本発明の光断層画像装置によれば、上記本発明のサンプルクロック発生装置が設けられているため、被検物の断層画像を求めるサンプリング周期を規定するサンプルクロックの周波数を逓倍化することができる。
本発明の光断層画像装置用サンプルクロック発生装置、および光断層画像装置によれば、第1の光路で導かれる入力光の位相を光学位相シフタでシフトさせることにより、入力光の周波数による影響を抑えつつサンプルクロックの周波数を逓倍化することができるという効果を奏する。
本発明の第1の実施形態に係るSS−OCTの構成を説明する模式図である。 図1のk−clock発生装置の構成を説明する模式図である。 図2の演算部の構成を説明するブロック図である。 垂直偏光信号、水平偏光信号およびサンプルクロック信号の対応を説明する図である。 本発明の第2の実施形態に係るk−clock発生装置の構成を説明する模式図である。 本発明の第3の実施形態に係るk−clock発生装置の構成を説明する模式図である。 本発明の第4の実施形態に係るk−clock発生装置の構成を説明する模式図である。 本発明の第5の実施形態に係るk−clock発生装置の構成を説明する模式図である。
〔第1の実施形態〕
以下、本発明の第1の実施形態に係るSS−OCTついて図1から図4を参照して説明する。本実施形態では、本願発明の光断層画像装置をSS−OCT1に適用し、本願発明の光断層画像装置用サンプルクロック発生装置を、マッハツェンダー干渉計を用いたサンプルクロック発生装置100(以下、「k−clock発生装置100」とも表記する。)に適用して説明する。本実施形態のSS−OCT1は、例えば、眼科医療等においてサンプル(被検物)60の断層像を撮影に用いて好適なものである。
SS−OCT1には、図1に示すように、周波数が掃引された入力光を出射する光源10と、サンプル60における断層像の撮影に用いられるOCT干渉系20と、断層像を取得するサンプリング周期を規定するサンプルクロック信号(以下、「k−clock信号」とも表記する。)を生成するk−clock発生装置100と、が主に設けられている。
光源10から出射される入力光は、例えば、単一モードファイバ(Single mode fiber)などの光ファイバにより導かれ、サンプル60の断層像撮影に利用されるとともに、サンプルクロック信号の生成にも利用されるものである。光源10とOCT干渉系20およびk−clock発生装置100との間には、出射された入力光を分岐させるSMFC(単一モードファイバカプラ、Single mode fiber coupler)11が設けられ、SMFC11により入力光は、OCT干渉系20およびk−clock発生装置100に向けて分岐される。
なお、光源10における入力光の周波数を掃引する方法は、公知の方法を用いることができ特に限定するものではない。また、周波数の掃引は時間に対して、周波数が線形に増減するものであってもよいし、非線形に増減するものであってもよい。
OCT干渉系20には、分岐された入力光を更に分岐させるSMFC21と、更に分岐された一方の入力光を用いてサンプル60の測定を行う測定光学系31と、更に分岐された他方の入力光を参照光とする参照光学系41と、サンプル60の反射光および参照光が構成した測定用干渉光を受光して測定用干渉信号を出力する受光部51と、測定用干渉信号に基づいてサンプル60の断層像を演算処理により求める信号処理部55と、が主に設けられている。
SMFC21は、SMFC11により分岐された入力光の一方が入射されるものであり、入射された入力光を更に測定光学系31に導かれるものと、参照光学系41に導かれるものに分岐するものである。
測定光学系31には、入力光をサンプル60に照射するとともにサンプル60から反射した反射光が入射する照射光学系32と、入力光を照射光学系32に導くとともに反射光を受光部51に導く測定側サーキュレータ(Circlator)33と、が主に設けられている。
照射光学系32は、サンプル60に入力光を照射するとともに、サンプル60からの反射光を導くための光学系である。照射光学系32は、レンズや反射ミラーやサンプル60の奥行き方向に対して垂直方向に入力光を走査可能なガルバノミラーなどの光学素子の組み合わせにより構成されるものであり、特にその構成を限定するものではない。
測定側サーキュレータ33は、SMFC21と照射光学系32と受光部51との間に配置された光学素子である。測定側サーキュレータ33により、SMFC21から導かれた入力光は照射光学系32へ導かれ、照射光学系32から導かれた反射光は受光部51へ導かれる。
参照光学系41には、入力光を参照光に変換する参照部42と、入力光を参照部42に導くとともに参照光を受光部51に導く参照側サーキュレータ43と、が主に設けられている。本実施形態において参照部42は、入射された入力光を参照光として出射するプリズムである。参照部42は、サンプル60を測定する前に測定光学系の光路長と参照光学系の光路長とを一致させるために移動可能とされている。サンプル60の測定中は、参照部42の位置は固定される。
参照側サーキュレータ43は、SMFC21と参照部42と受光部51との間に配置された光学素子である。参照側サーキュレータ43により、SMFC21から導かれた入力光は参照部42へ導かれ、参照部42から導かれた参照光は受光部51へ導かれる。
受光部51は、測定光学系31から導かれた反射光、および参照光学系41から導かれた参照光を合成した測定用干渉光を受光する光検出器であり、本実施形態ではバランス型光検出器が用いられたものである。測定光学系31および参照光学系41と、受光部51との間にはSMFC52が配置され、参照光学系41とSMFC52との間には偏光制御部である偏光コントローラ(Polarization controller)53が配置されている。
SMFC52は、測定光学系31から導かれた反射光と、参照光学系41から導かれた参照光とを合成して測定用干渉光を生成するものであり、かつ、合成された測定用干渉光を180°位相が異なる2つの測定用干渉用光に分岐させて受光部51に導くものでもある。
偏光コントローラ53は、参照光学系41からSMFC52に導かれる参照光の偏光を制御する素子である。偏光コントローラ53としては、インライン型やパドル型など、公知の形式のものを用いることができ特に限定するものではない。
信号処理部55は、受光部51から出力される測定用干渉信号に基づいてサンプル60の断層像を演算処理により求めるものであり、求められた断層像はディスプレイ(図示せず)により表示される。なお、信号処理部55において行われる処理としては、公知の処理を用いることができ、処理の内容を特に限定するものではない。
次に、本実施形態の特徴であるk−clock発生装置100について図2を参照しながら説明する。k−clock発生装置100は上述のように、SS−OCT1におけるサンプリング周期を規定するk−clock信号を生成するものである。本実施形態では、マッハツェンダー干渉計を用いたk−clock発生装置100の例に適用して説明する。
k−clock発生装置100には、図2に示すように、サンプルクロック用干渉光を生成する干渉光学系110と、サンプルクロック信号を生成する演算部160と、が主に設けられている。
干渉光学系110には、SMFC111と、第1の光ファイバ122、第1の直線偏光子123および1/4波長板(光学位相シフタ)124から主に構成される第1の光路121と、第2の光ファイバ132および第2の直線偏光子133から主に構成される第2の光路131と、ビームスプリッタ(干渉光生成部)141と、偏光ビームスプリッタ(分離部)151と、が主に設けられている。
SMFC111は、SMFC11により分岐された入力光を、第1の光路121および第2の光路131に更に分岐するものであり、分岐された入力光は第1の光路121の第1の光ファイバ122に導かれるとともに、第2の光路131の第2の光ファイバ132に導かれる。なお、SMFC11,SMFC21,SMFC52およびSMFC111としては、公知の構成のものを用いることができ、特に構成を限定するものではない。
第1の光ファイバ122は、第1の直線偏光子123および1/4波長板124とともに第1の光路121を構成する光学素子である。本実施形態において第1の光ファイバ122は、単一モードファイバから構成されている例に適用して説明する。
第1の光ファイバ122には、導かれる入力光の偏光を制御する第1の偏光コントローラ125が配置されている。第1の偏光コントローラ125によって入力光の偏光を制御することにより、後述する第1の直線偏光子123を透過する入力光の割合を増やすことができる。
また、第1の光ファイバ122と第1の直線偏光子123との間には、第1の光ファイバ122から出射された入力光を第1の直線偏光子123に導く第1のレンズ126が配置されている。第1のレンズ126は、例えば、第1の光ファイバ122から出射されて拡散する入力光を、平行光として第1の直線偏光子123等に入射させる役割も果たしている。
第1の直線偏光子123は、第1の光ファイバ122により導かれた入力光のうち、傾きが45°の直線偏光のみを透過させる光学素子である。1/4波長板124は、第1の直線偏光子123を透過した直線偏光の位相をシフトさせるものであり、具体的には1/4波長(90°)遅延させる光学素子である。
第2の光ファイバ132は、第2の直線偏光子133とともに第2の光路131を構成する光学素子である。本実施形態において第2の光ファイバ132は、第1の光ファイバ122と同様に、単一モードファイバから構成されている例に適用して説明する。
第2の光ファイバ132には、導かれる入力光の偏光を制御する第2の偏光コントローラ135が配置されている。第2の偏光コントローラ135は、第1の偏光コントローラ125と同様に、第2の直線偏光子133を透過する入力光の割合を増やすことができる。
また、第2の光ファイバ132と第2の直線偏光子133との間には、第2の光ファイバ132から出射された入力光を第2の直線偏光子133に導く第2のレンズ136が配置されている。第2のレンズ136は、第1のレンズ126と同様な役割を果たしている。
第2の直線偏光子133は、第2の光ファイバ132により導かれた入力光のうち、傾きが45°の直線偏光のみを透過させる光学素子である。なお、第1の直線偏光子123、第2の直線偏光子133および1/4波長板124としては、公知の光学素子を用いることができ、特に光学素子の形式などを限定するものではない。
ビームスプリッタ141は、第1の光路121で導かれた光と、第2の光路131で導かれた光とを合成してサンプルクロック用干渉光を生成する光学素子である。そのため、ビームスプリッタ141は、第1の光路121における1/4波長板124の光出射側であり、かつ、第2の光路131における第2の直線偏光子133の光出射側に配置されている。
偏光ビームスプリッタ151は、ビームスプリッタ141で生成されたサンプルクロック用干渉光を、互いに直交する直線偏光である、垂直偏光(一方の分離光、一方の直線偏光)および水平偏光(他方の分離光、他方の直線偏光)に分離する光学素子である。なお、垂直偏光および水平偏光の名称は、電気工学や光学などの分野において異なる複数の名称も存在するが、名称に違いがあっても同一の偏光を示すものである。
また、偏光ビームスプリッタ151は、ビームスプリッタ141から出射される2つのサンプルクロック用干渉光のうち、一方が入射される位置に配置されている。なお、ビームスプリッタ141および偏光ビームスプリッタ151としては、公知の光学素子を用いることができ、ビームスプリッタ141および偏光ビームスプリッタ151の形式などを特に限定するものではない。
演算部160には、図2および図3に示すように、垂直偏光の検知に関する垂直偏光受光部(一方の受光部)161V、バンドパスフィルタ162Vおよびコンパレータ163Vと、水平偏光の検知に関する水平偏光受光部(他方の受光部)161H、バンドパスフィルタ162Hおよびコンパレータ163Hと、XORゲート(信号生成部)164と、が主に設けられている。
垂直偏光受光部161Vおよび水平偏光受光部161Hは、それぞれ入射された垂直偏光および水平偏光に基づき垂直偏光信号および水平偏光信号を出力するセンサである。なお、垂直偏光受光部161Vおよび水平偏光受光部161Hとしては公知の光センサを用いることができる。垂直偏光受光部161Vおよび水平偏光受光部161Hと、偏光ビームスプリッタ151との間には、図2に示すように、それぞれ垂直偏光を導くレンズ152Vおよびファイバ153Vと、水平偏光を導くレンズ152Hおよびファイバ153Hとが配置されている。
バンドパスフィルタ162Vおよびバンドパスフィルタ162Hは、それぞれ垂直偏光信号および水平偏光信号に含まれるノイズをカットし、垂直偏光および水平偏光に関する部分のみを透過させるフィルタである。コンパレータ163Vおよびコンパレータ163Hは、バンドパスフィルタ162Vおよびバンドパスフィルタ162Hによりノイズをカットされたアナログ信号である垂直偏光信号および水平偏光信号を、デジタル信号に変換するものである。
XORゲート164は、コンパレータ163Vおよびコンパレータ163Hから出力された垂直偏光信号および水平偏光信号に基づきサンプルクロック信号を求め、信号処理部55へ出力するものである。具体的には、垂直偏光信号および水平偏光信号に基づく論理的排他和の演算処理によりサンプルクロック信号を算出するものである。なお、バンドパスフィルタ162V、バンドパスフィルタ162H、コンパレータ163V、コンパレータ163H、およびXORゲート164としては公知のものを用いることができる。
次に、本実施形態の特徴であるk−clock発生装置100の動作について説明する。
k−clock発生装置100には、図2に示すように、光源10から出射され入力光が、SMFC11を介して入力される。入力光は、SMFC111により2つに分岐され、一方は第1の光路121へ、他方は第2の光路131へと導かれる。
第1の光路121へ導かれた入力光は、第1の偏光コントローラ125により偏光の状態が制御された後に第1の直線偏光子123へ入射される。第1の直線偏光子123では、入射された入力光のうち、傾きが45°の直線偏光のみが透過する。透過した直線偏光は、1/4波長板124によって円偏光に変換される。
第2の光路131へ導かれた入力光は、第2の偏光コントローラ135により偏光の状態が制御された後に第2の直線偏光子133へ入射される。第2の直線偏光子133では、入射された入力光のうち、傾きが45°の直線偏光のみが透過する。
ビームスプリッタ141では、1/4波長板124によって変換された円偏光と、第2の直線偏光子133を透過した直線偏光とが合成されてサンプルクロック用干渉光が合成される。合成されたサンプルクロック用干渉光は、偏光ビームスプリッタ151に入射し、垂直偏光および水平偏光に分離される。
図3および図4に示すように、分離された垂直偏光は垂直偏光受光部161Vに入射し、垂直偏光受光部161Vは垂直偏光の明るさに応じてアナログ的に値が変動する垂直偏光信号SVを出力する。水平偏光についても同様に水平偏光受光部161Hに入射し、水平偏光受光部161Hは水平偏光の明るさに応じて値が変動する水平偏光信号SHを出力する。
ここで、図4(a)には、横軸を時間とし、縦軸を信号の値として表した垂直偏光信号SVおよび水平偏光信号SHが示されている。1/4波長板124により位相をシフトさせていることにより、垂直偏光信号SVおよび水平偏光信号SHの間にも1/4波長分の位相差が生じている。
垂直偏光信号SVおよび水平偏光信号SHは、それぞれバンドパスフィルタ162Vおよびバンドパスフィルタ162Hにおいてノイズ成分がカットされる。その後、コンパレータ163Vおよびコンパレータ163Hにより矩形波状に値が変動するデジタル的な信号に変換される。
具体的には、変換前の信号の値が0未満の場合には比較して低い値(例えば0)を持つ信号に変換し、変換前の信号の値が0を超える場合には比較して高い値(例えば1)を持つ信号に変換する処理が行われる。言い換えると、変換前の信号が0を超えて変化するたびに、変換後の信号の値を高い値から低い値へ、または、低い値から高い値へ変動させる変換が行われる。
図4(b)には、コンパレータ163Vおよびコンパレータ163Hにより変換された後の垂直偏光信号SVおよび水平偏光信号SHが示されている。変換後の垂直偏光信号SVおよび水平偏光信号SHにおいても、変換前と同様に、1/4波長分の位相差が生じている。
コンパレータ163Vおよびコンパレータ163Hにより変換された後の垂直偏光信号SVおよび水平偏光信号SHは、XORゲート164に入力される。XORゲート164は、入力された垂直偏光信号SVおよび水平偏光信号SHに基づいてサンプルクロック信号を求める処理を行う。図4(c)には、XORゲート164により求められたサンプルクロック信号が示されている。
上記の構成のk−clock発生装置100によれば、第1の光路121で導かれる入力光の位相を1/4波長板124でシフトさせることにより、XORゲート164で生成されるサンプルクロック信号の周波数における、入力光の周波数による影響を抑えつつ逓倍化させること(本実施形態では2倍にすること)ができる。
1/4波長板124によってシフトされる入力光の位相は、電気的な処理で位相をシフトさせる方法と比較して、入力信号である入力光の周波数の影響を受けにくい。特に、1/4波長板124は、入力光における周波数変化が時間に対して線形であっても、非線形であっても位相をシフトさせる量に影響が出にくい。そのため、周波数が掃引された光が入力されても、XORゲート164で生成されるサンプルクロック信号への影響を抑えられる。また、1/4波長板124により位相をシフトさせる場合には、電気的な処理で生じるようなノイズが発生しにくくなる。そのため、前述のノイズがサンプルクロック信号に影響を与える可能性が低い。
第1の光路121に第1の直線偏光子123を配置し、第2の光路131に第2の直線偏光子133を配置することにより、例えば、第1の光路121および第2の光路131に入力光を導く単一モードファイバを用いることができる。単一モードファイバは、偏波保存ファイバ等と比較して価格が安く扱いが容易となる。また、1/4波長板124を光学位相シフタとして用いることにより、位相のシフト量を90°としてサンプルクロック信号の周波数を2倍とすることができる。
なお、上述のサンプルクロック信号における周波数の増加程度は、第1の光路121における光の位相シフト量により調節することができる。例えば、上述の実施形態のように、1/4波長板124を用いて位相のシフト量を90°とすることによりサンプルクロック信号の周波数を2倍にできる。また、1/8波長板を用いて位相のシフト量を45°とするとサンプルクロック信号の周波数を4倍にできる。
なお、第1の直線偏光子123を透過した直線偏光と、第2の直線偏光子133を透過した直線偏光と、は互いに独立したものである。そのため、直線偏光の傾きは、上述の実施形態のように45°同士で同じでも良いし、一方が+45°他方が−45°であってもよいし、−45°同士で同じであってもよい。そのため、k−clock発生装置100における第1の直線偏光子123および第2の直線偏光子133の選択枝が広がり、構成の自由度が高くなる。
〔第2の実施形態〕
次に、本発明の第2の実施形態に係るSS−OCTついて図5を参照しながら説明する。本実施形態のSS−OCTの基本構成は、第1の実施形態と同様であるが、第1の実施形態とは、k−clock発生装置の構成が異なっている。よって、本実施形態においては、図5を用いてk−clock発生装置についてのみを説明し、その他の構成要素等の説明を省略する。
本実施形態のk−clock発生装置(サンプルクロック発生装置)200には、図5に示すように、サンプルクロック用干渉光を生成する干渉光学系210と、サンプルクロック信号を生成する演算部160と、が主に設けられている。
干渉光学系210には、PMFC(偏波保存ファイバカプラ)211と、第1の光ファイバ(第1の偏波保存ファイバ)222および1/4波長板124から主に構成される第1の光路221と、第2の光ファイバ(第2の偏波保存ファイバ)232から主に構成される第2の光路231と、ビームスプリッタ141と、偏光ビームスプリッタ151と、が主に設けられている。
PMFC211は、SMFC11により分岐された入力光を、第1の光路221および第2の光路231に更に分岐するものであり、かつ、入力光を直線偏光として第1の光路221および第2の光路231に導くものである。分岐された直線偏光は第1の光路221の第1の光ファイバ222に導かれるとともに、第2の光路231の第2の光ファイバ232に導かれる。なお、PMFC211としては、公知の構成のものを用いることができ、特に構成を限定するものではない。
SMFC11およびPMFC211の間には、導かれる入力光の偏光を制御する偏光コントローラ212が配置されている。偏光コントローラ212によって入力光の偏光を制御することにより、PMFC211から第1の光路221および第2の光路231に導かれる直線偏光の割合を増やすことができる。
第1の光ファイバ222は、1/4波長板124とともに第1の光路221を構成する光学素子である。第1の光ファイバ222は、1/4波長板124に向かって傾きが45°の直線偏光を出射するように配置されている。第2の光ファイバ232は、第2の光路231を構成する光学素子であり、ビームスプリッタ141に向かって傾きが45°の直線偏光を出射するように配置されている。
なお、本実施形態において第1の光ファイバ222および第2の光ファイバ232は、直線偏光の状態を保ちつつ光を導く偏波保存ファイバ(Polarization−maintaining fiber)から構成されている例に適用して説明する。
次に、本実施形態の特徴であるk−clock発生装置200の動作について説明する。
k−clock発生装置200には、図5に示すように、光源10から出射され入力光が、SMFC11を介して入力される。入力光は、PMFC211により2つに分岐され、一方は第1の光路221へ、他方は第2の光路231へと導かれる。
第1の光路221へ導かれた直線偏光は、傾きが45°の直線偏光として1/4波長板124に出射され、1/4波長板124によって円偏光に変換される。第2の光路231へ導かれた直線偏光は、傾きが45°の直線偏光としてビームスプリッタ141に向けて出射される。
ビームスプリッタ141では、1/4波長板124によって変換された円偏光と、第2の光路231により導かれた直線偏光とが合成されてサンプルクロック用干渉光が合成される。合成されたサンプルクロック用干渉光は、偏光ビームスプリッタ151に入射し、垂直偏光および水平偏光に分離される。以降については第1の実施形態と同様であるため、その説明を省略する。
上記の構成のk−clock発生装置200によれば、PMFC211、第1の光ファイバ222および第2の光ファイバ232が設けられることにより、第1の光路221および第2の光路231に直線偏光子を配置する第1の実施形態のような場合と比較して、k−clock発生装置200を形成する構成要素の点数を減らすことができる。
〔第3の実施形態〕
次に、本発明の第3の実施形態に係るSS−OCTついて図6を参照しながら説明する。本実施形態のSS−OCTの基本構成は、第2の実施形態と同様であるが、第2の実施形態とは、k−clock発生装置の構成が異なっている。よって、本実施形態においては、図6を用いてk−clock発生装置についてのみを説明し、その他の構成要素等の説明を省略する。
本実施形態のk−clock発生装置(サンプルクロック発生装置)300には、図6に示すように、サンプルクロック用干渉光を生成する干渉光学系310と、サンプルクロック信号を生成する演算部360と、が主に設けられている。
干渉光学系310には、PMFC211と、第1の光ファイバ222および1/4波長板124から主に構成される第1の光路221と、第2の光ファイバ232から主に構成される第2の光路231と、ビームスプリッタ141と、第1の偏光ビームスプリッタ351Aおよび第2の偏光ビームスプリッタ351Bと、が主に設けられている。
第1の偏光ビームスプリッタ351Aは、ビームスプリッタ141で生成された第1のサンプルクロック用干渉光を、互いに直交する直線偏光である垂直偏光(第1の一方の直線偏光)および水平偏光(第1の他方の直線偏光)に分離する光学素子である。第2の偏光ビームスプリッタ351Bは、ビームスプリッタ141で生成された第2のサンプルクロック用干渉光を、互いに直交する直線偏光である垂直偏光(第2の一方の直線偏光)および水平偏光(第2の他方の直線偏光)に分離する光学素子である。
第1の偏光ビームスプリッタ351Aは、ビームスプリッタ141から出射される2つのサンプルクロック用干渉光のうち、一方である第1のサンプルクロック用干渉光が入射される位置に配置され、第2の偏光ビームスプリッタ351Bは他方である第2のサンプルクロック用干渉光が入射される位置に配置されている。なお、第1の偏光ビームスプリッタ351Aおよび第2の偏光ビームスプリッタ351Bとしては、公知のものを用いることができる。
演算部360は、垂直偏光受光部161Vおよび水平偏光受光部161Hの代わりに、垂直偏光受光部(一方の受光部)361Vおよび水平偏光受光部(他方の受光部)361Hが用いられている点を除き、第1の実施形態における演算部160と同一の構成を有している。
垂直偏光受光部361Vはバランス型光検出器であり、第1の偏光ビームスプリッタ351Aおよび第2の偏光ビームスプリッタ351Bにより分離された垂直偏光が入力されるものである。水平偏光受光部361Hはバランス型光検出器であり、第1の偏光ビームスプリッタ351Aおよび第2の偏光ビームスプリッタ351Bにより分離された水平偏光が入力されるものである。
垂直偏光受光部361Vおよび水平偏光受光部361Hと、第1の偏光ビームスプリッタ351Aとの間には、それぞれ垂直偏光を導く第1のレンズ352AVおよび第1のファイバ353AVと、水平偏光を導く第1のレンズ352AHおよび第1のファイバ353AHとが配置されている。
また、垂直偏光受光部361Vおよび水平偏光受光部361Hと、第2の偏光ビームスプリッタ351B151との間には、それぞれ垂直偏光を導く第2のレンズ352BVおよび第2のファイバ353BVと、水平偏光を導く第2のレンズ352BHおよび第2のファイバ353BHとが配置されている。
次に、本実施形態の特徴であるk−clock発生装置300の動作について説明する。光源10から出射された入力光がk−clock発生装置300に入力されてから、ビームスプリッタ141において第1および第2のサンプルクロック用干渉光が合成されるまでは第2の実施形態と同様な動作を行うため、その説明を省略する。
ビームスプリッタ141で合成された第1および第2のサンプルクロック用干渉光は、異なる2つの方向に向かって出射され、両者の間には180°の位相差が含まれる。その一方のサンプルクロック用干渉光は、第1の偏光ビームスプリッタ351Aに入射され、垂直偏光および水平偏光に分離される。他方のサンプルクロック用干渉光は、第2の偏光ビームスプリッタ351Bに入射され、垂直偏光および水平偏光に分離される。
第1の偏光ビームスプリッタ351Aおよび第2の偏光ビームスプリッタ351Bで分離された垂直偏光は垂直偏光受光部361Vに入射される。その一方で、第1の偏光ビームスプリッタ351Aおよび第2の偏光ビームスプリッタ351Bで分離された水平偏光は水平偏光受光部361Hに入射される。垂直偏光受光部361Vは、入射された位相が180°異なる2つの垂直偏光を用いた差分検出を行い、垂直偏光信号SVを出力する。水平偏光受光部361Hは、入射された位相が180°異なる2つの水平偏光を用いた差分検出を行い、垂直偏光信号SVを出力する。以降の動作については第1の実施形態と同様であるため、その説明を省略する。
上記の構成のk−clock発生装置300によれば、位相が180°異なる2つのサンプルクロック用干渉光を利用することにより、サンプルクロック信号を生成する際に利用される入力光の割合(利用効率)が高くなる。サンプルクロック用干渉光の一方または他方のみを利用する場合と比較して、サンプルクロック信号の生成に寄与する成分とそれ以外の成分の比であるSN比を高めることができる。
また、垂直偏光受光部361Vおよび水平偏光受光部361Hはバランス型光検出器であるため、上述のように、位相が180°異なる直線偏光を用いた差分検出が可能となり、干渉縞(フリンジ)における明暗差を高めることができる。その他に、垂直偏光受光部361Vで受光される2つの垂直偏光に共通して含まれるノイズ(コモンノイズ)や、水平偏光受光部361Hで受光される2つの水平偏光に共通して含まれるノイズをキャンセルすることができる。
〔第4の実施形態〕
次に、本発明の第4の実施形態に係るSS−OCTついて図7を参照しながら説明する。
本実施形態のSS−OCTの基本構成は、第3の実施形態と同様であるが、第3の実施形態とは、k−clock発生装置の構成が異なっている。よって、本実施形態においては、図7を用いてk−clock発生装置についてのみを説明し、その他の構成要素等の説明を省略する。
本実施形態のk−clock発生装置(サンプルクロック発生装置)400には、図7に示すように、サンプルクロック用干渉光を生成する干渉光学系410と、サンプルクロック信号を生成する演算部360と、が主に設けられている。
干渉光学系410には、SMFC411と、PMFC211と、第1の光ファイバ222および1/4波長板124から主に構成される第1の光路221と、第2の光ファイバ232から主に構成される第2の光路231と、ビームスプリッタ141と、偏光ビームスプリッタ151と、が主に設けられている。
SMFC411は、光源10から出射された入力光をPMFC211と、垂直偏光受光部361Vおよび水平偏光受光部361Hとに向けて分岐するものである。SMFC411と、垂直偏光受光部361Vおよび水平偏光受光部361Hとの間には、入力光を更に分岐するSMFC412が配置されている。SMFC412で分岐された一方の入力光は、光ファイバ453Vに導かれて垂直偏光受光部361Vに入射され、他方の入力光は、光ファイバ453Hに導かれて水平偏光受光部361Hに入射されている。
次に、本実施形態の特徴であるk−clock発生装置400の動作について説明する。光源10から出射された入力光がk−clock発生装置400に入力されてから、偏光ビームスプリッタ151で分離された垂直偏光が垂直偏光受光部361Vに入射され、水平偏光が水平偏光受光部361Hに入射されるまでは、第3の実施形態と同様な動作を行うため、その説明を省略する。
SMFC411により分岐されSMFC412に入射された入力光は、更に分岐されて光ファイバ453Vを介して垂直偏光受光部361Vに入射されるとともに、光ファイバ453Hを介して水平偏光受光部361Hに入射される。垂直偏光受光部361Vは、入射された垂直偏光および入力光を用いた差分検出を行い、垂直偏光信号SVを出力する。水平偏光受光部361Hは、入射された水平偏光および入力光を用いた差分検出を行い、垂直偏光信号SVを出力する。以降の動作については第1の実施形態と同様であるため、その説明を省略する。
上記の構成のk−clock発生装置400によれば、バランス型光検出器である垂直偏光受光部361Vを用いて入力光および垂直偏光の差分を検出する構成とし、同じくバランス型光検出器である水平偏光受光部361Hを用いて入力光および水平偏光の差分を検出する構成としたことにより、入力光および垂直偏光に共通して含まれるノイズ(コモンノイズ)、入力光および水平偏光に共通して含まれるノイズを低減することができる。
上述のように、垂直偏光受光部361Vに入力光および垂直偏光を入射し、水平偏光受光部361Hに入力光および水平偏光を入射する構成とすることにより、第3の実施形態の構成と比較して、簡単な構成で、上述した共通して含まれるノイズ等を低減できると共に、光軸合わせ等の光学調整も容易となる。
〔第5の実施形態〕
次に、本発明の第5の実施形態に係るSS−OCTついて図8を参照しながら説明する。
本実施形態のSS−OCTの基本構成は、第1の実施形態と同様であるが、第1の実施形態とは、k−clock発生装置の構成が異なっている。よって、本実施形態においては、図8を用いてk−clock発生装置についてのみを説明し、その他の構成要素等の説明を省略する。
本実施形態では、マイケルソン干渉計を用いたk−clock発生装置500の例に適用して説明する。k−clock発生装置100には、図8に示すように、サンプルクロック用干渉光を生成する干渉光学系510と、サンプルクロック信号を生成する演算部360と、が主に設けられている。
干渉光学系510には、SMFC111と、偏光ビームスプリッタ(分離部)551と、ビームスプリッタ(干渉光生成部)541と、1/8波長板(光学位相シフタ)524および第1のミラー(第1の反射部)525から少なくとも構成される第1の光路521と、1/4波長板534および第2のミラー(第2の反射部)535から少なくとも構成される第2の光路531と、が主に設けられている。
SMFC111は、SMFC11により分岐された入力光を、偏光ビームスプリッタ551およびSMFC412に向けて更に分割するものである。SMFC111と偏光ビームスプリッタ551との間には、偏光コントローラ512と、サーキュレータ513とが配置されている。
偏光コントローラ512は、SMFC111から偏光ビームスプリッタ551に導かれる入力光の偏光の状態を制御するものである。入力光の偏光の状態を制御することにより、偏光ビームスプリッタ551を透過する偏光の割合を増やすことができる。
サーキュレータ513は、SMFC111から偏光ビームスプリッタ551に向かって入力光を導くとともに、偏光ビームスプリッタ551から垂直偏光受光部361Vに向かって垂直偏光を導くものである。
偏光ビームスプリッタ551は、SMFC111から導かれた入力光のうち垂直偏光のみを透過し、ビームスプリッタ541へ出射する光学素子である。また、ビームスプリッタ541から出射されたサンプルクロック用干渉光を、互いに直交する直線偏光である、垂直偏光および水平偏光に分離する光学素子でもある。
偏光ビームスプリッタ551におけるSMFC111側にはレンズ552が配置され、水平偏光受光部361H側にはレンズ553が配置されている。レンズ552は、SMFC111から光ファイバを介して導かれた光を平行光として偏光ビームスプリッタ551に入射させるものであり、かつ、偏光ビームスプリッタ551で分離された垂直偏光を光ファイバに入射させるものである。レンズ553は、偏光ビームスプリッタ551で分離された水平偏光を光ファイバに入射させるものである。
ビームスプリッタ541は、偏光ビームスプリッタ551から導かれる垂直偏光を2つに分離する光学素子であり、かつ、1/8波長板524から出射される円偏光および1/4波長板534から出射される傾きが45°の直線偏光を合成してサンプルクロック用干渉光を生成する光学素子である。
ビームスプリッタ541における垂直偏光が出射する2つ面の一方には、1/8波長板524および第1のミラー525が隣接して配置され、他方には1/4波長板534および第2のミラー535が隣接して配置されている。1/8波長板524は入射された光の位相を1/8波長だけ遅らせる光学素子であり、1/4波長板534は入射された光の位相を1/4波長だけ遅らせる光学素子である。
第1のミラー525は、1/8波長板524を透過した光が入射される反射鏡であり、反射された光は1/8波長板524に入射される。また、1/8波長板524と第1のミラー525との間には、第1のレンズ526が配置されている。
第2のミラー535は、1/4波長板534を透過した光が入射される反射鏡であり、反射された光は1/4波長板534に入射される。また、1/4波長板534と第2のミラー535との間には、第2のレンズ536が配置されている。
次に、本実施形態の特徴であるk−clock発生装置500の動作について説明する。
k−clock発生装置500のSMFC111には、図8に示すように、入力光が入力される。入力光は、SMFC111により2つに分岐され、一方は偏光ビームスプリッタ551に向けて導かれ、他方はSMFC412に向けて導かれる。
偏光ビームスプリッタ551に向けて導かれた入力光は、偏光コントローラ512により偏光の状態が制御された後、サーキュレータ513を介して偏光ビームスプリッタ551に入射される。偏光ビームスプリッタ551では入力光が垂直偏光と水平偏光に分離され、垂直偏光はビームスプリッタ541に向けて出射される。
ビームスプリッタ541では垂直偏光を2つに分岐させ、一方を1/8波長板524に向けて出射し、他方を1/4波長板534に向けて出射する。1/8波長板524では、入射した垂直偏光が1/8波長板524を透過し、第1のミラー525で反射されて再び1/8波長板524を透過することにより円偏光に変換される。1/4波長板534では、入射した直線偏光が1/4波長板534を透過し、第2のミラー535で反射されて再び1/4波長板534を透過することにより傾きが45°の直線偏光に変換される。
1/8波長板524により変換された円偏光、および、1/4波長板534により変換された傾きが45°の直線偏光は、ビームスプリッタ541において合成されてサンプルクロック用干渉光となる。サンプルクロック用干渉光は、偏光ビームスプリッタ551に入射して垂直偏光および水平偏光に分離される。分離された垂直偏光は、サーキュレータ513を介して垂直偏光受光部361Vに入射される。その一方、分離された水平偏光は、水平偏光受光部361Hに入射される。
SMFC111で分岐されSMFC412に導かれた入力光は、SMFC412において更に分岐され、一方は垂直偏光受光部361Vに入射され、他方は水平偏光受光部361Hに入射される。垂直偏光受光部361Vは、入射された垂直偏光および入力光を用いた差分検出を行い、垂直偏光信号SVを出力する。水平偏光受光部361Hは、入射された水平偏光および入力光を用いた差分検出を行い、垂直偏光信号SVを出力する。以降の動作については第1の実施形態と同様であるため、その説明を省略する。
上記の構成のk−clock発生装置500によれば、第1の実施形態から第4の実施形態のようにマッハツェンダー干渉計を用いるだけでなく、マイケルソン干渉計を用いたk−clock発生装置500を構成することができる。
なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。例えば、本発明を上記の実施形態に適用したものに限られることなく、これらの実施形態を適宜組み合わせた実施形態に適用してもよく、特に限定するものではない。
1…SS−OCT(光断層画像装置)、10…光源、31…測定光学系、41…参照光学系、51…受光部、55…信号処理部、60…サンプル(被検物)、100,200,300,400,500…k−clock発生装置(サンプルクロック発生装置)、110,210,310,410,510…干渉光学系、121,221,521…第1の光路、123…第1の直線偏光子、124…1/4波長板(光学位相シフタ)、131,231,531…第2の光路、133…第2の直線偏光子、141,541…ビームスプリッタ(干渉光生成部)、151,551…偏光ビームスプリッタ(分離部)、160,360…演算部、161V,361V…垂直偏光受光部(一方の受光部)、161H,361H…水平偏光受光部(他方の受光部)、164…XORゲート(信号生成部)、211…PMFC(偏波保存ファイバカプラ)、222…第1の光ファイバ(第1の偏波保存ファイバ)、232…第2の光ファイバ(第2の偏波保存ファイバ)、351A…第1の偏光ビームスプリッタ、351B…第2の偏光ビームスプリッタ、524…1/8波長板(光学位相シフタ)、525…第1のミラー(第1の反射部)、534…1/4波長板、535…第2のミラー(第2の反射部)

Claims (11)

  1. 光源から出射された周波数が掃引された入力光を受けてサンプルクロック信号を生成する光断層画像装置用サンプルクロック発生装置であって、
    前記入力光の一部が導かれる第1の光路と、前記入力光の別の一部が導かれる第2の光路と、前記第1の光路で導かれる前記入力光の位相をシフトさせる光学位相シフタと、前記第1の光路で導かれ位相シフトされた前記入力光および前記第2の光路に導かれた前記入力光を合成してサンプルクロック用干渉光を生成する干渉光生成部と、前記サンプルクロック用干渉光を位相の異なる一方の分離光および他方の分離光に分離する分離部と、を少なくとも備えた干渉光学系と、
    前記一方の分離光を少なくとも受光する一方の受光部と、前記他方の分離光を少なくとも受光する他方の受光部と、前記一方の受光部および前記他方の受光部から出力された信号に基づいて前記サンプルクロック信号を生成する信号生成部と、を少なくとも備えた演算部と、
    が設けられていることを特徴とする光断層画像装置用サンプルクロック発生装置。
  2. 前記光学位相シフタに入射する前記入力光は、+45°または−45°の傾きを有する第1の直線偏光であり、
    前記第2の光路から前記干渉光生成部に入射する前記入力光は、+45°または−45°の傾きを有する第2の直線偏光であることを特徴とする請求項1記載の光断層画像装置用サンプルクロック発生装置。
  3. 前記第1の光路における前記光学位相シフタの光入射側には、前記第1の直線偏光を透過する第1の直線偏光子が配置され、
    前記第2の光路には、前記第2の直線偏光を透過して前記干渉光生成部に入射させる第2の直線偏光子が配置されていることを特徴とする請求項2記載の光断層画像装置用サンプルクロック発生装置。
  4. 所定の方向に直線偏光させる偏光制御部を透過した前記光源から出射された前記入力光を分岐させ前記第1の直線偏光を前記第1の光路に導き、前記第2の直線偏光を前記第2の光路に導く偏波保存ファイバカプラが更に設けられ、
    前記第1の光路は、前記第1の直線偏光を前記光学位相シフタに入射させる第1の偏波保存ファイバを少なくとも備え、
    前記第2の光路は、前記第2の直線偏光を前記干渉光生成部に入射させる第2の偏波保存ファイバを少なくとも備えていることを特徴とする請求項2記載の光断層画像装置用サンプルクロック発生装置。
  5. 前記光学位相シフタは1/4波長板であることを特徴とする請求項2から4のいずれか1項に記載の光断層画像装置用サンプルクロック発生装置。
  6. 前記干渉光生成部から異なる二つの方向へ出射される前記サンプルクロック用干渉光のうちの第1のサンプルクロック用干渉光が入射され、前記第1のサンプルクロック用干渉光を位相の異なる第1の一方の分離光、および第1の他方の分離光に分離する第1の分離部と、第2のサンプルクロック用干渉光が入射され、前記第2のサンプルクロック用干渉光を位相の異なる第2の一方の分離光、および他方の分離光に分離する第2の分離部と、が設けられ、
    前記一方の受光部は、前記第1の分離部において分離された前記第1の一方の分離光、および前記第2の分離部において分離された前記第2の一方の分離光が入射されるバランス型光検出器であり、
    前記他方の受光部は、前記第1の分離部において分離された前記第1の他方の分離光、および前記第2の分離部において分離された前記第2の他方の分離光が入射されるバランス型光検出器であることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の光断層画像装置用サンプルクロック発生装置。
  7. 前記干渉光生成部は、少なくとも、前記第1の光路で導かれ位相シフトされた前記入力光および前記第2の光路に導かれた前記入力光を合成して前記サンプルクロック用干渉光を生成するビームスプリッタであり、
    前記第1の分離部は、少なくとも、前記第1のサンプルクロック用干渉光を互いに直交する第1の一方の直線偏光および第1の他方の直線偏光に分離する第1の偏光ビームスプリッタであり、
    前記第2の分離部は、少なくとも、前記第2のサンプルクロック用干渉光を互いに直交する第2の一方の直線偏光および第2の他方の直線偏光に分離する第2の偏光ビームスプリッタであり、
    前記一方の受光部は、前記第1の分離部において分離された前記第1の一方の分離光、および前記第2の分離部において分離された前記第2の一方の分離光として、前記第1の偏光ビームスプリッタにおいて分離された前記第1の一方の直線偏光、および前記第2の偏光ビームスプリッタにおいて分離された前記第2の一方の直線偏光が入射されるバランス型光検出器であり、
    前記他方の受光部は、前記第1の分離部において分離された前記第1の他方の分離光、および前記第2の分離部において分離された前記第2の他方の分離光として、前記第1の偏光ビームスプリッタにおいて分離された前記第1の他方の直線偏光、および前記第2の偏光ビームスプリッタにおいて分離された前記第2の他方の直線偏光が入射されるバランス型光検出器であることを特徴とする請求項6記載の光断層画像装置用サンプルクロック発生装置。
  8. 前記一方の分離光が入射される前記一方の受光部、および、前記他方の分離光が入力される前記他方の受光部はバランス型光検出器であり、
    前記一方の受光部および前記他方の受光部には、前記光源から出射された前記入力光も入射されていることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の光断層画像装置用サンプルクロック発生装置。
  9. 前記第1の光路および前記第2の光路には、導かれる光を折返し反射させる第1の反射部および第2の反射部がそれぞれ設けられ、
    前記第1の光路および前記第2の光路は、前記干渉光生成部から前記第1の反射部および前記第2の反射部の側では分離し、前記光源、前記一方の受光部および前記他方の受光部の側では重複しており、
    前記分離部は、前記第1の光路および前記第2の光路の重複部分に配置され、
    前記光源から出射された前記入力光のうち、前記分離部を透過した光が前記干渉光生成部に入射され、
    前記干渉光生成部を透過した光を反射させる前記第1の反射部および前記干渉光生成部の間には前記光学位相シフタである1/8波長板が配置され、
    前記干渉光生成部により反射された光を反射させる前記第2の反射部および前記干渉光生成部の間には1/4波長板が配置され、
    前記一方の受光部は、少なくとも、前記第1の反射部および前記第2の反射部で反射され前記干渉光生成部で合成された前記サンプルクロック用干渉光が、前記分離部で分離された少なくとも前記一方の直線偏光を少なくとも受光し、
    前記他方の受光部は、少なくとも、前記第1の反射部および前記第2の反射部で反射され前記干渉光生成部で合成された前記サンプルクロック用干渉光が、前記分離部で分離された前記他方の直線偏光を少なくとも受光することを特徴とする請求項1記載の光断層画像装置用サンプルクロック発生装置。
  10. 前記干渉光生成部は、少なくとも、前記第1の光路で導かれ位相シフトされた前記入力光および前記第2の光路に導かれた前記入力光を合成して前記サンプルクロック用干渉光を生成するビームスプリッタであり、
    前記分離部は、少なくとも、前記サンプルクロック用干渉光を互いに直交する一方の直線偏光および他方の直線偏光に分離する偏光ビームスプリッタであり、
    前記一方の受光部は、前記一方の分離光として前記一方の直線偏光を受光し、
    前記他方の受光部は、前記他方の分離光として前記他方の直線偏光を受光することを特徴とする請求項1から5、8、および、9のいずれか1項に記載の光断層画像装置用サンプルクロック発生装置。
  11. 周波数が掃引された入力光を出射する光源と、
    出射された前記入力光から分岐された入力光を被検物に照射し、かつ、前記被検物から反射した反射光を導く測定光学系と、
    分岐された他の光を参照光とする参照光学系と、
    前記測定光学系から導かれた前記反射光、および、前記参照光学系からの前記参照光を合成した測定用干渉光を受光し、測定用干渉信号を出力する受光部と、
    請求項1から請求項10のいずれかに記載のサンプルクロック発生装置と、
    前記信号生成部により生成された前記サンプルクロック信号に基づいてサンプリングした前記測定用干渉信号をフーリエ解析し前記被検物の断層画像を演算処理により求める信号処理部と、
    が設けられていることを特徴とする光断層画像装置。
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Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5987186B1 (ja) * 2015-06-17 2016-09-07 学校法人北里研究所 波長走査型光干渉断層撮影装置及び断層撮影方法
JP6767762B2 (ja) * 2016-03-29 2020-10-14 キヤノン株式会社 情報処理装置、情報処理装置の制御方法、及び該制御方法の実行プログラム
JP2017201257A (ja) * 2016-05-06 2017-11-09 株式会社トーメーコーポレーション 光断層像撮影装置
AU2017382218B2 (en) 2016-12-21 2023-05-11 Acucela Inc. Miniaturized mobile, low cost optical coherence tomography system for home based ophthalmic applications
DE102017204478A1 (de) 2017-03-17 2018-09-20 Jenoptik Laser Gmbh Verfahren zum Betreiben eines oberflächenemittierenden Halbleiterlasers mit veränderlicher Wellenzahl
CN108174122A (zh) * 2017-11-28 2018-06-15 武汉华之洋科技有限公司 一种基于光纤传感的多路图像采集装置及方法
WO2019246412A1 (en) 2018-06-20 2019-12-26 Acucela Inc. Miniaturized mobile, low cost optical coherence tomography system for home based ophthalmic applications
JP7199172B2 (ja) * 2018-07-19 2023-01-05 株式会社トプコン 眼科装置、及びその制御方法
JP7444422B2 (ja) 2019-02-18 2024-03-06 株式会社トーメーコーポレーション 光干渉断層装置
WO2021134087A1 (en) 2019-12-26 2021-07-01 Acucela Inc. Optical coherence tomography patient alignment system for home based ophthalmic applications
US10959613B1 (en) 2020-08-04 2021-03-30 Acucela Inc. Scan pattern and signal processing for optical coherence tomography
WO2022035809A1 (en) 2020-08-14 2022-02-17 Acucela Inc. System and method for optical coherence tomography a-scan decurving
US11393094B2 (en) 2020-09-11 2022-07-19 Acucela Inc. Artificial intelligence for evaluation of optical coherence tomography images
AU2021352417A1 (en) 2020-09-30 2023-04-06 Acucela Inc. Myopia prediction, diagnosis, planning, and monitoring device
CN112782093A (zh) * 2020-12-31 2021-05-11 威海鸣川汽车技术有限公司 具有反射式传感器的集成终端及载具
US11497396B2 (en) 2021-03-24 2022-11-15 Acucela Inc. Axial length measurement monitor

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5883717A (en) * 1996-06-04 1999-03-16 Northeastern University Optical quadrature interferometry utilizing polarization to obtain in-phase and quadrature information
US6020963A (en) * 1996-06-04 2000-02-01 Northeastern University Optical quadrature Interferometer
ES2534572T3 (es) * 2007-01-10 2015-04-24 Lightlab Imaging, Inc. Métodos y aparato para tomografía de coherencia óptica de fuente de barrido
US7936462B2 (en) * 2007-01-19 2011-05-03 Thorlabs, Inc. Optical coherence tomography imaging system and method
EP2171396B1 (en) * 2007-07-12 2020-05-13 Volcano Corporation Apparatus and methods for uniform frequency sample clocking
JP5686684B2 (ja) * 2011-07-19 2015-03-18 株式会社日立製作所 光学装置
JP2013181790A (ja) * 2012-02-29 2013-09-12 Systems Engineering Inc 周波数走査型oct用サンプリングクロック発生装置の使用方法、周波数走査型oct用サンプリングクロック発生装置
US9243885B2 (en) * 2012-04-12 2016-01-26 Axsun Technologies, LLC Multi-speed OCT swept source with optimized k-clock
CA2895989A1 (en) * 2012-12-20 2014-07-10 Nathaniel J. Kemp Optical coherence tomography system that is reconfigurable between different imaging modes

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