JP2016111300A - レジスト膜除去方法、レジスト膜除去装置及び記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
Description
外周に切り欠きが各々形成されると共に表面に各々レジスト膜が形成された第1の基板及び
第2の基板のうちの第1の基板の第1の領域に、基板を局所的に露光するための光の照射領域を配置し、当該第1の領域を露光する工程と、
前記第1の基板を撮像して画像データを取得し、この画像データに基づいて当該基板が露光された位置と、前記切り欠きの位置と、基板の中心位置との関係についての位置データを取得する工程と、
前記第2の基板について、前記位置データに基づいて前記第1の領域に対応する領域からその位置が補正された第2の領域に前記照射領域を位置させる工程と、
前記第2の基板に対して前記照射領域を相対的に移動させて、前記第2の領域を含む直線領域を露光する工程と、
前記基板を現像し、前記直線領域のレジスト膜を除去する工程と、
を含むことを特徴とする。
前記基板を撮像して画像データを取得するための撮像部と、
前記基板に対して前記照射領域を相対的に移動させる移動機構と、
前記露光部により露光された基板を現像して、露光された領域のレジスト膜を除去するための現像モジュールと、
第1の基板における第1の領域を前記露光部により露光するステップと、前記第1の基板を撮像して画像データを取得し、この画像データに基づいて当該基板が露光された位置と、前記切り欠きの位置と、基板の中心位置との関係についての位置データを取得するステップと、後続の第2の基板について、前記位置データに基づいて前記第1の領域に対応する領域からその位置が補正された第2の領域に前記照射領域を位置させるステップと、前記第2の基板に対して前記照射領域を相対的に移動させて、前記第2の領域を含む直線領域を露光するステップと、前記基板を現像し、前記直線領域のレジスト膜を除去するステップと、が順に行われるように制御信号を出力する制御部と、
を含むことを特徴とする。
前記コンピュータプログラムは、上記のレジスト膜除去方法を実行するようにステップ群が組まれていることを特徴とする。
第2の実施形態について、第1の実施形態との差異点を中心に説明する。第2の実施形態は、選択的露光モジュール21の構成について第1の実施形態と異なっており、図13、図14は、当該第2の実施形態の選択的露光モジュール21の縦断側面図、横断平面図を夫々示している。
W ウエハ
P1 ウエハの中心
P2 照射領域の中心
P3 ステージの回転中心
1 塗布、現像装置
10 制御部
21 選択的露光モジュール
24 移動、回転機構
26 ステージ
31 露光部
33 マスク
41 検査モジュール
44 カメラ
100 メモリ
101 照射領域
102、103 仮想直線
Claims (12)
- 外周に切り欠きが各々形成されると共に表面に各々レジスト膜が形成された第1の基板及び
第2の基板のうちの第1の基板の第1の領域に、基板を局所的に露光するための光の照射領域を配置し、当該第1の領域を露光する工程と、
前記第1の基板を撮像して画像データを取得し、この画像データに基づいて当該基板が露光された位置と、前記切り欠きの位置と、基板の中心位置との関係についての位置データを取得する工程と、
前記第2の基板について、前記位置データに基づいて前記第1の領域に対応する領域からその位置が補正された第2の領域に前記照射領域を位置させる工程と、
前記第2の基板に対して前記照射領域を相対的に移動させて、前記第2の領域を含む直線領域を露光する工程と、
前記基板を現像し、前記直線領域のレジスト膜を除去する工程と、
を含むことを特徴とするレジスト膜除去方法。 - 前記第1の基板を撮像する前に、当該第1の基板を現像して第1の領域におけるレジスト膜を除去する工程を含むことを特徴とする請求項1記載のレジスト膜除去方法。
- 前記第2の領域に照射領域を位置させる前に、基板を露光するためのステージに載置された前記第2の基板の切り欠きの向き及び基準の位置に対するずれ量を求めるために、当該第2の基板の周端を光学的に検出する工程を含み、
前記第2の領域に照射領域を位置させる工程は、前記位置データと、検出された第2の基板の周端と、に基づいて行われることを特徴とする請求項1または2に記載のレジスト膜除去方法。 - 基板を露光するためのステージに載置された前記第1の基板の切り欠きの向き及び基準の位置に対するずれ量を求めるために、当該第1の基板の周端を光学的に検出する工程を含み、
前記第2の領域に照射領域を位置させる工程は、前記位置データと、検出された第1の基板の周端と、に基づいて行われることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一つに記載のレジスト膜除去方法。 - 前記画像データと、検出された前記第1の基板の周端と、に基づいて前記照射領域の基準の向きに対する傾きを検出する工程と、
前記第2の領域に照射領域を位置させる工程は、
前記基準の向きを向くように前記照射領域の向きを変更して前記直線領域を露光する工程を含むことを特徴とする請求項4記載のレジスト膜除去方法。 - 前記直線領域内の一の領域を露光後、他の領域を露光する前に前記照射領域の向きを変更する工程を含むことを特徴とする請求項5記載のレジスト膜除去方法。
- 前記照射領域の向きを変更するために、光源からの光を透過するための開口部を備えたマスクの向きを、当該光源に対して変更する工程を備えたことを特徴とする請求項5または6記載のレジスト膜除去方法。
- 外周に切り欠きが形成されると共に表面にレジスト膜が形成された基板を局所的に露光するために、当該基板に光の照射領域を配置して露光する露光部と、
前記基板を撮像して画像データを取得するための撮像部と、
前記基板に対して前記照射領域を相対的に移動させる移動機構と、
前記露光部により露光された基板を現像して、露光された領域のレジスト膜を除去するための現像モジュールと、
第1の基板における第1の領域を前記露光部により露光するステップと、前記第1の基板を撮像して画像データを取得し、この画像データに基づいて当該基板が露光された位置と、前記切り欠きの位置と、基板の中心位置との関係についての位置データを取得するステップと、後続の第2の基板について、前記位置データに基づいて前記第1の領域に対応する領域からその位置が補正された第2の領域に前記照射領域を位置させるステップと、前記第2の基板に対して前記照射領域を相対的に移動させて、前記第2の領域を含む直線領域を露光するステップと、前記基板を現像し、前記直線領域のレジスト膜を除去するステップと、が順に行われるように制御信号を出力する制御部と、
を含むことを特徴とするレジスト膜除去装置。 - 前記制御部は、
前記第1の基板を撮像する前に、当該第1の基板を現像して第1の領域におけるレジスト膜を除去するステップが行われるように制御信号を出力することを特徴とする請求項8記載のレジスト膜除去装置。 - 基板の周端を光学的に検出するための周端検出部が設けられ、
前記制御部は、
前記第2の領域に照射領域を位置させる前に、基板を露光するためのステージに載置された前記第2の基板の切り欠きの向き及び基準の位置に対するずれ量を求めるために、当該第2の基板の周端を光学的に検出するステップを行い、
前記第2の領域に照射領域を位置させるステップは、前記位置データと、検出された第2の基板の周端と、に基づいて行われるように制御信号を出力することを特徴とする請求項8または9記載のレジスト膜除去装置。 - 基板の周端を光学的に検出するための周端検出部が設けられ、
前記制御部は、
基板を露光するためのステージに載置された前記第1の基板の切り欠きの向き及び基準の位置に対するずれ量を求めるために当該第1の基板の周端を光学的に検出するステップを行い、
前記第1の領域に照射領域を位置させるステップは、前記位置データと、検出された第1の基板の周端と、に基づいて行われるように制御信号を出力することを特徴とする請求項8ないし10のいずれか一つに記載のレジスト膜除去装置。 - 表面にレジスト膜が形成された基板を局所的に露光し、露光された領域のレジスト膜を除去するレジスト膜除去装置に用いられるコンピュータプログラムを記憶する記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、請求項1ないし7のいずれか一つに記載されたレジスト膜除去方法を実行するようにステップ群が組まれていることを特徴とする記憶媒体。
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