JP2018056574A - 基板処理システム - Google Patents
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
Description
30 現像処理装置
31 下部反射防止膜形成装置
32 レジスト塗布装置
33 上部反射防止膜形成装置
40 熱処理装置
41 アドヒージョン装置
42 周辺露光検査装置
70 ウェハ搬送装置
110 処理容器
150 撮像部
200 制御装置
210 特徴量抽出部
211 記憶部
212 レシピ選択部
213 欠陥判定部
214 画像保管部
215 画像分類部
216 基準画像生成部
217 検査レシピ生成部
218 差分画像生成部
230.231、232 検査レシピ
W ウェハ
Claims (7)
- 複数枚の基板を収容するカセットに対して基板の搬入出を行う搬送装置を有するカセットステーションと、基板に対して液処理を行う複数の液処理装置を有する処理ステーションとを備えた基板処理システムであって、
前記カセットステーションに隣接して設けられ、前記液処理装置で処理する前の基板、及び前記液処理装置で処理した後の基板を撮像する検査装置と、
前記液処理装置で処理する前の基板の基板画像から、所定の特徴量を抽出する特徴量抽出部と、
それぞれ異なる範囲の前記特徴量に対応して設定された複数の検査レシピが記憶された記憶部と、
前記記憶部に記憶された前記検査レシピから、前記特徴量抽出部で抽出された特徴量に対応する検査レシピを選択するレシピ選択部と、
前記選択された検査レシピに基づいて、前記液処理装置で処理された後の基板の基板画像を取得して、前記液処理装置で処理された後の基板の基板画像における欠陥の有無を判定する欠陥判定部と、
を有することを特徴とする、基板処理システム。 - 前記カセットステーションの搬送装置によって、前記液処理装置で処理する前の基板を前記検査装置に搬入し、前記液処理装置で処理した後の基板を前記検査装置から搬出することを特徴とする、請求項1に記載の基板処理システム。
- 露光装置と接続されるインターフェイスステーションを有し、液処理装置によって処理された後の基板は、前記露光装置によって露光処理されることを特徴とする、請求項1または2のいずれか一項に記載の基板処理システム。
- 前記処理ステーションには、基板に対して熱処理を行う熱処理装置が設けられていることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の基板処理システム。
- 前記複数の液処理装置では、基板の表面に塗布液を供給して塗布膜を形成すること、及び露光処理後の基板に対して現像処理が行われることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の基板処理システム。
- 前記検査装置は、前記液処理装置で処理する前の基板を撮像する第1の検査装置と、前記液処理装置で処理した後の基板を撮像する第2の検査装置とからなることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一項に記載の基板処理システム。
- 前記検査装置は、装置の側面一端側に設けられた基板の撮像装置を有し、基板を前記側面一端側との間で移動させながら、前記撮像装置で当該基板の表面を撮像することを特徴とする、請求項1〜6のいずれか一項に記載の基板処理システム。
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