JP2016103504A - エッチングシステム - Google Patents

エッチングシステム Download PDF

Info

Publication number
JP2016103504A
JP2016103504A JP2014239619A JP2014239619A JP2016103504A JP 2016103504 A JP2016103504 A JP 2016103504A JP 2014239619 A JP2014239619 A JP 2014239619A JP 2014239619 A JP2014239619 A JP 2014239619A JP 2016103504 A JP2016103504 A JP 2016103504A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
etching
filtration device
etching solution
circulation line
membrane
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2014239619A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6300707B2 (ja
Inventor
雄三 三好
Yuzo Miyoshi
雄三 三好
銀兵 山崎
Gimpei Yamazaki
銀兵 山崎
暢規 石垣
Masaki Ishigaki
暢規 石垣
和哉 島田
Kazuya Shimada
和哉 島田
家田 智之
Tomoyuki Ieda
智之 家田
晴香 西川
Haruka Nishikawa
晴香 西川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Corp
NSC Co Ltd
Original Assignee
Panasonic Corp
NSC Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Corp, NSC Co Ltd filed Critical Panasonic Corp
Priority to JP2014239619A priority Critical patent/JP6300707B2/ja
Priority to PCT/JP2015/083143 priority patent/WO2016084871A1/ja
Priority to TW104139435A priority patent/TWI661483B/zh
Publication of JP2016103504A publication Critical patent/JP2016103504A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6300707B2 publication Critical patent/JP6300707B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/08Cleaning involving contact with liquid the liquid having chemical or dissolving effect
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/10Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
    • B08B3/14Removing waste, e.g. labels, from cleaning liquid; Regenerating cleaning liquids
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/302Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
    • H01L21/306Chemical or electrical treatment, e.g. electrolytic etching

Abstract

【課題】循環ラインにて加圧式濾過装置を効率的に使用し、コストを抑えつつエッチング液の清浄化を行うことが可能なエッチングシステムを提供する。【解決手段】エッチングシステムは、エッチング装置、循環ライン、膜式濾過装置、および加圧式濾過装置を備える。エッチング装置は、少なくともエッチング液槽を備え、エッチング液槽に収容されたエッチング液をガラス基板に接触させることによりエッチング処理を行うように構成される。循環ラインは、エッチング液槽のエッチング液を外部に取り出すとともに、濾過してエッチング液槽に返送するように構成される。膜式濾過装置は、循環ラインに配置され、導入されたエッチング液を濾過する浸漬膜を備える。加圧式濾過装置は、循環ラインにおける膜式濾過装置の後段に配置され、浸漬膜にて捕捉されたスラリーを受け入れて固液分離するように構成される。【選択図】図2

Description

本発明は、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板に対してエッチング処理を実行するエッチングシステムに関し、特に循環ラインに加圧濾過装置を効果的に配置して、低コストにエッチング液の循環を行うことが可能なエッチングシステムに関する。
液晶ディスプレイ等のフラットパネルディスプレイに利用されるガラス基板は、薄型化の要請がある。フラットパネルディスプレイ用ガラス基板を薄型化する処理として、一般的にフッ酸を含むエッチング液をガラス基板に接触させるエッチング処理が広く用いられてきた。このようなエッチング処理としては、処理すべきガラス基板をエッチング液が入れられた槽に浸漬したり、エッチング液を処理すべきガラス基板に吹き付けたりする方法がある。
上述のガラス基板に対するエッチング処理を行う場合、発生する排液の処理が重要となる。従来は、排液ライン上にフィルタープレス等の加圧式濾過装置を配置して、排液の固液分離や脱水を適切に行うことによって産廃処理が行われることが多かった(例えば、特許文献1参照。)。その理由は、加圧式濾過装置は、一般的に大きな濾過面積があるため、処理能力が高く大量の排水を処理することが可能であるからである。また、加圧式濾過装置は、濾過圧力が高いため、低含水率のケーキを得ることができ、かつ、浸漬膜方式に比較してイニシャルコストやランニングコストを低く抑えることが可能になるというメリットもある、と言われている。
特許5143440号
しかしながら、加圧式濾過装置は、排液ラインにて使用するには適しているが、循環ラインにて使用するには不都合があった。その理由は、加圧式濾過装置にて効率的に固液分離を行うためには、一般的に導入される使用済エッチング液に凝集剤を添加する手段が用いられるからである。凝集剤を添加してしまうと、固液分離を効果的に行うことが可能になる反面、濾過後のエッチング液にエッチングに悪影響を与える可能性がある成分が溶解する可能性が高くなり、濾過後のエッチング液を再利用しにくくなるという不都合がある。一方で、凝集剤を用いることなく循環ラインにて加圧式濾過装置を使用した場合、濾過効率が悪くなり循環ラインにおいて十分な濾過を行うことが困難になることがあった。
この発明の目的は、循環ラインにて加圧式濾過装置を効率的に使用し、コストを抑えつつエッチング液の清浄化を行うことが可能なエッチングシステムを提供することである。
本発明に係るエッチングシステムは、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板に対してエッチング処理を実行するように構成される。このエッチングシステムは、エッチング装置、循環ライン、膜式濾過装置、および加圧式濾過装置を少なくとも備える。
エッチング装置は、少なくともエッチング液槽を備え、エッチング液槽に収容されたエッチング液をガラス基板に接触させることによりエッチング処理を行うように構成される。循環ラインは、エッチング液槽のエッチング液を外部に取り出すとともに、濾過してエッチング液槽に返送するように構成される。膜式濾過装置は、循環ラインに配置され、導入されたエッチング液を濾過する浸漬膜を備える。加圧式濾過装置は、循環ラインにおける膜式濾過装置の後段に配置され、浸漬膜にて捕捉されたスラリーを受け入れて固液分離するように構成される。
この構成においては、循環ラインに配置された加圧式濾過装置に直接エッチング液が導入されるのではなく、その前段に配置された膜式濾過装置にて捕捉されたスラリーが加圧式濾過装置に導入される。つまり、スラッジ等の不要物の濃度が高くなった状態で加圧式濾過装置に導入されるため、凝集剤を用いることなく効率的に固液分離をすることが可能となる。加圧式濾過装置では、高い濾過圧力を加えることが可能になるため、低含水率のケーキを得ることにより、廃棄物の処理も行い易くなる。
上記の構成において、膜式濾過装置および加圧式濾過装置で濾過されたエッチング液が、それぞれエッチング液槽に返送されるように構成されることが好ましい。この構成によれば、膜式濾過装置および加圧式濾過装置の双方から再利用可能なエッチング液が回収されるため、エッチング液の利用効率が高まる。
また、加圧式濾過装置で濾過されたエッチング液が、循環ラインにおける膜式濾過装置の前段に返送されるようにしても良い。この構成を採用する場合には、加圧式濾過装置にて回収されたエッチング液がさらに膜式濾過装置を経由することになるため、循環ラインからエッチング液槽に返送されるエッチング液の清浄性をより一層向上させることが可能になる。
膜式濾過装置としてはMF膜濾過装置を用い、加圧式濾過装置としてはフィルタープレスを用いることが好ましい。この構成であれば、MF膜濾過装置およびフィルタープレスの相乗効果にて循環ラインにおける濾過コストを抑えつつ、濾過効率を高めることが可能になる。
本発明によれば、循環ラインにて加圧式濾過装置を効率的に使用し、コストを抑えつつエッチング液の清浄化を行うことが可能になる。
本発明の一実施形態に係るエッチングシステムの概略を示す図である。 エッチングシステムにおける濾過処理の一例を示す図である。 エッチングシステムにて使用されるMF濾過装置の概略図である。 本発明の他の実施形態に係るエッチングシステムの概略を示す図である。
図1(A)および図1(B)を用いて、本発明のエッチングシステムの一実施形態に係るエッチングシステム10を説明する。エッチングシステム10は、液晶ディスプレイや有機ELディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板に対してエッチング処理を実行するように構成される。エッチングシステム10は、エッチング装置14、循環ライン15、および濾過処理部16を少なくとも備える。エッチング装置14は、エッチング液槽145を有するエッチング液供給部144と、エッチング液をガラス基板に接触させることによりエッチング処理を行うように構成されたエッチング処理部142とを備える。エッチング液槽145は、エッチング装置14にて使用されるエッチング液を収容するように構成される。この実施形態では、5〜25重量%のフッ酸を含むエッチング液を用いているが、エッチング液の組成はこれには限定されない。
エッチング液供給部144は、エッチング液槽145内のエッチング液をエッチング処理部142に供給するように構成される。エッチング装置14として、この実施形態では、1または複数のエッチング処理部142に対して1枚ずつ連続的にガラス基板100を搬送しつつ、エッチング処理部142にてエッチング液をガラス基板100に対して噴射するように構成された枚葉式のエッチング装置14を採用している。このエッチング装置14においては、エッチング液槽145からポンプ等の公知の液送手段によってエッチング液がエッチング処理部142に供給される。エッチング処理部142ではガラス基板100の上面、下面、または上下両面にエッチング液が噴射される。
ガラス基板100に噴射されガラス基板と接触したエッチング液は、エッチング処理部142の底部に流れ落ちてエッチング液槽145に回収される。この回収されたエッチング液にはガラス基板100から溶解したケイ素系化合物やアルミ系の化合物が含まれる。このため、エッチングシステム10は、エッチング液槽145のエッチング液を外部に取り出すとともに、濾過してエッチング液槽145に返送するように構成された循環ライン15を備えている。そして、エッチングシステム10では、随時、エッチング液槽145から循環ライン15を介して濾過処理部16にエッチング液を送り出し、濾過されたエッチング液をエッチング液槽145に戻すことによってエッチング液の品質が維持される。
続いて図2(A)を用いて濾過処理部16における処理の一例を説明する。濾過処理部16は、循環ライン15に配置され、導入されたエッチング液を濾過する浸漬膜を備えたMF濾過装置18、および循環ライン15におけるMF濾過装置18の後段に配置され、浸漬膜にて捕捉されたスラリーを受け入れて固液分離するように構成されたフィルタープレス20を備えている。MF濾過装置18は、本発明の膜式濾過装置に対応し、フィルタープレス20は本発明の加圧式濾過装置に対応する。ただし、膜式濾過装置として、RO膜、NF膜、UF膜等のMF膜以外の浸漬膜を用いた装置を適用することが可能であり、加圧式濾過装置として、密閉式リーフフィルタ、密閉式多段フィルタ等のフィルタープレス以外の装置を適用することも可能である。
濾過処理部16は、エッチング装置14で使用中のエッチング液を清浄化するように構成されている。濾過処理部16は、汚泥収容槽22に接続されている。汚泥収容槽22は、フィルタープレス20にて圧力を加えられて脱水されたケーキを収容するように構成される。汚泥収容槽22に収容されたケーキは産業廃棄物として適切に処理される。
ここで、図3を用いて、MF濾過装置18について説明する。MF濾過装置18はエッチング供給部144より使用中のエッチング液が供給され、MF濾過装置濾過タンク182に貯められるよう構成される。供給されたエッチング液はマイクロフィルタ184によって吸引濾過され、濾液はエッチング供給部144へと戻される。一方、マイクロフィルタ184の表面にてスラリーが捕捉される。捕捉されたスラリーは、フィルタの目詰まり防止のために底部に配置された散気管装置186から発生させているバブリングによる圧力によりフィルタ表面から剥がれ落ちてスラリー収容槽188へと沈殿する。スラリー収容槽188は底面が中央に向かって傾斜するように構成されており、スラリーを効率よく回収している。スラリー収容槽188は底面にて回収されたスラリーは、公知のスラリーポンプ(ワーマンポンプ等)や配管を介してフィルタープレス20へと送られる。
MF濾過装置18は複数のマイクロフィルタ184を浸透させ吸引することで濾過しており、排液の処理量に応じ、マイクロフィルタ184の数を増減させることで処理効率を調整することが容易である。
スラリー収容槽188より運ばれたスラリーは、フィルタープレス20によって濾過される。通常、フィルタープレス20は、濾過すべき液体に対して凝集剤を添加することで効率的に固液分離を行っている。そのため、この実施形態のように使用中のエッチング液を清浄化するための循環ライン15に配置するのではなく、使用済のエッチング液を排出するための排液ラインに配置されていた。その理由は、循環ライン15にて凝集剤を用いると濾過後のエッチング液にエッチング処理に悪影響(ガラス基板100の突起、白濁化等)を与える成分が溶解する可能性が高いからである。この実施形態では、MF濾過装置18によって捕捉されたスラリーをフィルタープレス20に導入するため凝集剤を用いることなく効率的に固液分離を行うことが可能になるため、循環ライン15にてフィルタープレス20を効率的に稼働させることができる。
この実施形態では、MF濾過装置18およびフィルタープレス20にて濾過されたエッチング液は、図2(A)に示すように、それぞれエッチング液供給部144のエッチング液槽145に返送しているが、この構成には限定されない。例えば、図2(B)に示すように、フィルタープレス20で濾過されたエッチング液が、循環ライン15におけるMF濾過装置18の前段に返送するように構成しても良い。この構成を採用する場合、フィルタープレス20にて回収したエッチング液をさらにMF濾過装置18にて濾過した上でエッチング液供給部144のエッチング液槽145に返送するため、エッチング液の清浄性をより一層向上させることが可能である。
フィルタープレス20は導入される薬液中にスラリーやスラッジを含めば含むほど効率がよく濾過することができる。本来であれば濾過前タンクに凝集剤を添加する手段が用いられるが、マイクロフィルタ184により捕捉された汚泥はスラリー状で、凝集剤を添加せずともフィルタープレス20にとって最適な汚泥が回収される。よって、上述したように、凝集剤を用いない循環ライン15においても効率の良い濾過を行うことができる。また、フィルタープレス20は、濾過圧力が高いため、低含水率のケーキを得ることができる。そのためエッチング液をより多く再利用できる他に、汚泥等の産廃費用を低く抑えることができる。
さらには、膜式濾過装置のみを用いてエッチング液の清浄化および汚泥の処理を行う場合、高価な膜式濾過装置を多段に配置する等の構成が必要になるが、本実施形態のように膜式濾過装置および加圧式濾過装置を効果的に組み合わせて配置することにより、膜式濾過装置のみで構成する場合に比較してコストを大幅に削減することが可能になる。
上述の実施形態では、枚葉搬送方式でかつエッチング液をガラス基板に対してスプレーする方式エッチング装置14の例を説明したが、エッチング装置14の例はこれには限定されない。例えば、図4(A)および図4(B)に示すように、複数のガラス基板100を一度に処理するバッチ方式でかつエッチング液に浸漬させてエッチングを行うディップ方式のエッチング装置においても本発明を適用することが可能である。
上述の実施形態の説明は、すべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上述の実施形態ではなく、特許請求の範囲によって示される。さらに、本発明の範囲には、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
10−エッチングシステム
14−エッチング装置
16−濾過処理部
18−MF濾過装置
20−フィルタープレス
22−汚泥収容槽
100−ガラス基板
142−エッチング処理部
144−エッチング液供給部
182−MF濾過タンク
184−マイクロフィルタ
186−散気管装置
188−スラリー収容槽

Claims (4)

  1. フラットパネルディスプレイ用ガラス基板に対してエッチング処理を実行するエッチングシステムであって、
    少なくともエッチング液槽を備え、エッチング液槽に収容されたエッチング液をガラス基板に接触させることによりエッチング処理を行うように構成されたエッチング装置と、
    前記エッチング液槽のエッチング液を外部に取り出すとともに、濾過して前記エッチング液槽に返送するように構成された循環ラインと、
    前記循環ラインに配置され、導入されたエッチング液を濾過する浸漬膜を備えた膜式濾過装置と、
    前記循環ラインにおける前記膜式濾過装置の後段に配置され、前記浸漬膜にて捕捉されたスラリーを受け入れて固液分離するように構成された加圧式濾過装置と、
    を備えたエッチングシステム。
  2. 前記膜式濾過装置および前記加圧式濾過装置で濾過されたエッチング液が、それぞれ前記エッチング液槽に返送されることを特徴とする請求項1に記載のエッチングシステム。
  3. 前記加圧式濾過装置で濾過されたエッチング液が、前記循環ラインにおける前記膜式濾過装置の前段に返送されることを特徴とする請求項1に記載のエッチングシステム。
  4. 前記膜式濾過装置がMF膜濾過装置であり、前記加圧式濾過装置がフィルタープレスであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のエッチングシステム。
JP2014239619A 2014-11-27 2014-11-27 エッチングシステム Active JP6300707B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014239619A JP6300707B2 (ja) 2014-11-27 2014-11-27 エッチングシステム
PCT/JP2015/083143 WO2016084871A1 (ja) 2014-11-27 2015-11-26 エッチングシステム
TW104139435A TWI661483B (zh) 2014-11-27 2015-11-26 Etching system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014239619A JP6300707B2 (ja) 2014-11-27 2014-11-27 エッチングシステム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016103504A true JP2016103504A (ja) 2016-06-02
JP6300707B2 JP6300707B2 (ja) 2018-03-28

Family

ID=56074423

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014239619A Active JP6300707B2 (ja) 2014-11-27 2014-11-27 エッチングシステム

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP6300707B2 (ja)
TW (1) TWI661483B (ja)
WO (1) WO2016084871A1 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107540233A (zh) * 2017-09-07 2018-01-05 凯盛科技股份有限公司 一种顶喷式蚀刻系统的储酸循环装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005342574A (ja) * 2004-06-01 2005-12-15 Sanyo Electric Co Ltd 処理装置およびそれを用いた被処理水の処理方法
JP2008127585A (ja) * 2006-11-16 2008-06-05 Kurita Water Ind Ltd エッチング方法およびエッチング装置
JP2009016648A (ja) * 2007-07-06 2009-01-22 Dainippon Screen Mfg Co Ltd ガラス基板処理装置
JP2013107380A (ja) * 2011-10-28 2013-06-06 Fujifilm Corp 平版印刷版用支持体の製造方法及び製造装置
WO2014181552A1 (ja) * 2013-05-10 2014-11-13 パナソニック株式会社 ガラス研磨液の再生方法とガラス研磨装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005342574A (ja) * 2004-06-01 2005-12-15 Sanyo Electric Co Ltd 処理装置およびそれを用いた被処理水の処理方法
JP2008127585A (ja) * 2006-11-16 2008-06-05 Kurita Water Ind Ltd エッチング方法およびエッチング装置
JP2009016648A (ja) * 2007-07-06 2009-01-22 Dainippon Screen Mfg Co Ltd ガラス基板処理装置
JP2013107380A (ja) * 2011-10-28 2013-06-06 Fujifilm Corp 平版印刷版用支持体の製造方法及び製造装置
WO2014181552A1 (ja) * 2013-05-10 2014-11-13 パナソニック株式会社 ガラス研磨液の再生方法とガラス研磨装置

Also Published As

Publication number Publication date
TWI661483B (zh) 2019-06-01
JP6300707B2 (ja) 2018-03-28
WO2016084871A1 (ja) 2016-06-02
TW201631651A (zh) 2016-09-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6690197B2 (ja) 有機物を含む廃水の処理方法及び処理システム
JP2007130523A (ja) 水処理システムにおける膜洗浄方法
RU2010101629A (ru) Способ переработки моющих жидкостей и устройство для этой цели
JP2009262124A (ja) 金属成分含有水の浄化処理方法及び浄化処理装置
JP6300707B2 (ja) エッチングシステム
JP2014000559A (ja) 濁水処理システムおよび濁水処理方法
JP5120106B2 (ja) 有機アルカリ排水の処理方法及び処理装置
JPH05131191A (ja) 洗浄排水の処理方法
JP3965570B2 (ja) 膜分離方法および膜分離装置洗浄方法
JP2016185514A (ja) 透過膜の洗浄方法及び洗浄剤
JP2003340245A (ja) 膜処理装置とその洗浄方法
WO2010087412A1 (ja) 電着塗料回収システム
CN210286847U (zh) 插片机用水系统及硅片清洗系统
CN105683092B (zh) 用于对含有ipa的废水进行ipa的浓缩及废水处理的复合膜分离方法
EP3725393A1 (en) Filtering membrane cleaning method
CN101684025A (zh) 一种含碱含油废水处理工艺
JP4156984B2 (ja) 分離膜モジュールの洗浄方法
JP5100678B2 (ja) 水処理方法および水処理装置
JPH11176794A (ja) 電子材料用ウェット洗浄装置
JP5700080B2 (ja) カチオン界面活性剤含有排水の処理方法及び処理装置
JP2011099158A (ja) 電着塗料の回収システム
JP2002112800A (ja) デンプン糖化液精製装置
JPH10137755A (ja) 排水の膜処理装置
JPH1157710A (ja) 排水の膜処理装置
JP3223568B2 (ja) 水処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160229

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160819

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20161005

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20161115

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20170201

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170201

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20170209

A912 Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20170303

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20171122

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180227

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6300707

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250