JP2016094576A - ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体及びそれを用いた位相差フィルム - Google Patents

Abstract

【課題】 フィルムの厚み方向の屈折率、面外位相差が大きく、薄膜においても高い面外位相差を有する等の光学特性に優れた位相差フィルムとすることが期待される新規なｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体を提供する。
【解決手段】 ｔｒａｎｓ−スチルベン残基単位、Ｎ−置換マレイミド残基単位及びケイ皮酸エステル残基単位を含むことを特徴とするｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体。
【選択図】 なし

Description

本発明は、新規なｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体及びそれを用いた位相差フィルムに関するものであり、さらに詳細には、薄膜においても高い面外位相差を有する位相差フィルム、特に液晶表示素子用の光学補償フィルムに適した新規なｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体及びそれを用いた位相差フィルムに関するものである。

液晶ディスプレイは、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、携帯電話、コンピュータ用モニター、ノートパソコン、テレビまで幅広く使用されている。

液晶ディスプレイには表示特性向上のため多くの光学フィルムが用いられており、特に位相差フィルムは正面や斜めから見た場合のコントラストの向上、色調の補償など大きな役割を果たしている。従来の位相差フィルムとしては、ポリカーボネートや環状ポリオレフィンが使用されており、これらの高分子はいずれも正の複屈折を有する高分子である。ここで、複屈折の正負は下記に示すように定義される。

延伸等で分子配向した高分子フィルムの光学異方性は、フィルムを延伸した場合のフィルム面内の進相軸方向の屈折率をｎｘ、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をｎｙ、フィルムの厚み方向の屈折率をｎｚとした屈折率楕円体で表すことができる。なお、進相軸とはフィルム面内における屈折率の低い軸方向を指す。

そして、負の複屈折とは延伸方向が進相軸方向となるものであり、正の複屈折とは延伸方向と垂直方向が進相軸方向となるものである。

つまり、負の複屈折を有する高分子の一軸延伸では延伸軸方向の屈折率が小さく（進相軸：延伸方向）、正の複屈折を有する高分子の一軸延伸では延伸軸と直交する軸方向の屈折率が小さい（進相軸：延伸方向と垂直方向）。

多くの高分子は正の複屈折を有する。負の複屈折を有する高分子としてはアクリル樹脂やポリスチレンがあるが、アクリル樹脂は位相差が小さく、位相差フィルムとしての特性は十分でない。ポリスチレンは、低温領域での光弾性係数が大きいためにわずかな応力で位相差が変化するなど位相差の安定性の課題、さらに耐熱性が低いという実用上の課題があり、現状用いられていない。

負の複屈折を示す高分子の延伸フィルムではフィルムの厚み方向の屈折率が高く、従来にない位相差フィルムとなるため、例えば、スーパーツイストネマチック型液晶ディスプレイ（ＳＴＮ−ＬＣＤ）や垂直配向型液晶ディスプレイ（ＶＡ−ＬＣＤ）、面内配向型液晶ディスプレイ（ＩＰＳ−ＬＣＤ）、反射型液晶ディスプレイ（反射型ＬＣＤ）などのディスプレイの視角特性の補償用位相差フィルムや偏向板の視野角補償フィルムとして有用であり、負の複屈折を有する位相差フィルムに対して市場の要求は強い。

正の複屈折を有する高分子を用いてフィルムの厚み方向の屈折率を高めたフィルムの製造方法が提案されている。ひとつは高分子フィルムの片面または両面に熱収縮性フィルムを接着し、その積層体を加熱延伸処理して、高分子フィルムのフィルム厚み方向に収縮力をかける処理方法（例えば、特許文献１〜３参照）である。また、高分子フィルムに電場を印加しながら面内に一軸延伸する方法が提案されている（例えば、特許文献４参照）。

それ以外にも負の光学異方性を有する微粒子とマレイミド系共重合体等の透明性高分子からなる位相差フィルムが提案されている（例えば、特許文献５参照）。また、負の光学異方性を有する微粒子を添加する必要のない位相差フィルムとして、特定のα−オレフィン残基単位とＮ−置換マレイミドからなる共重合体及びアクリロニトリル−スチレン系共重合体からなる光学フィルム用樹脂組成物を用いて得られる位相差フィルムが提案されている（例えば、特許文献６参照）。

これらとは別に、位相差フィルムの作製の際に、位相差を付与する位相差付与剤としてスチルベンを用いることが提案されている（例えば、特許文献７参照）。

しかし、特許文献１〜４において提案された方法は、製造工程が非常に複雑になるために生産性が劣る課題がある。また位相差の均一性などの制御も従来の延伸による制御と比べると著しく難しくなる。

ベースフィルムとしてポリカーボネートを使用した場合には室温での光弾性係数が大きくわずかな応力によって位相差が変化することから、位相差の安定性に課題がある。さらに位相差の波長依存性が大きい課題も抱えている。

特許文献５で得られる位相差フィルムは、負の光学異方性を有する微粒子を添加することによって負の複屈折を示す位相差フィルムであり、製造方法の簡便化や経済性の観点から、微粒子を添加する必要のない位相差フィルムが求められている。

特許文献６で得られるフィルムは、延伸することにより負の複屈性を発現させており、延伸工程の必要のない負の複屈折性を有する位相差フィルムが求められている。

特許文献７では、スチルベンを位相差付与剤として用いることについて提案されているが、スチルベンを共重合体における単量体単位として用いることについて何らの記載がないものである。

特許２８１８９８３号公報 特開平０５−２９７２２３号公報 特開平０５−３２３１２０号公報 特開平０６−８８９０９号公報 特開２００５−１５６８６２号公報 特開２００４−３１５７８８号公報 特開２００６−２４１１９７号公報

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、Ｎ−置換マレイミド及びスチルベンを共重合体における単量体単位とすることで、未延伸で負の複屈折性を発現させる重合体及びそれを用いて得られる位相差特性に優れた光学補償フィルムを提供することにある。

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定のｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体が上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明は、ｔｒａｎｓ−スチルベン残基単位、Ｎ−置換マレイミド残基単位及びケイ皮酸エステル残基単位を含むことを特徴とする位相差特性及び強度に優れるｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体並びにそれを用いた位相差フィルムに関するものである。

以下、本発明の位相差フィルムに適したｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体について詳細に説明する。

本発明のｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体は、ｔｒａｎｓ−スチルベン残基単位、一般式（１）で表されるＮ−置換マレイミド残基単位、及び一般式（２）で表されるケイ皮酸エステル残基単位を含むｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体である。そして、本発明のｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体は、該ｔｒａｎｓ−スチルベン残基単位及び該Ｎ−置換マレイミド残基単位を含んでなることにより、未延伸で負の複屈折性を発現させるものである。また、本発明のｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステルは、これら残基単位とともに該ケイ皮酸エステル残基単位を含んでなることより、位相差フィルムとした際に、負の複屈折性を損なうことなく、実用的な強度を有する位相差フィルムが得られることを特徴とするものである。

（ここで、Ｒ_１は炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基もしくは分岐状アルキル基、炭素数３〜６の環状アルキル基、または芳香族環を示す。）

（ここで、Ｒ_２は炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基または分岐状アルキル基を示し、Ｒ_３は炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基を示し、ｎは０〜５の整数を示す。）
本発明の一般式（１）におけるＲ_１は、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、炭素数３〜６の環状アルキル基、または置換基を有していてもよい芳香族環を示し、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられ、炭素数３〜６の環状アルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、芳香族環としては、例えば、フェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基等が挙げられる。これらの中でも、高い面外位相差を発現するフィルムが得られることから、シクロヘキシル基、フェニル基が好ましい。

そして、具体的な一般式（１）で表されるＮ−置換マレイミド残基単位としては、例えば、Ｎ−メチルマレイミド残基単位、Ｎ−エチルマレイミド残基単位、Ｎ−プロピルマレイミド残基単位、Ｎ−ブチルマレイミド残基単位、Ｎ−ペンチルマレイミド残基単位、Ｎ−ヘキシルマレイミド残基単位、Ｎ−イソプロピルマレイミド残基単位、Ｎ−イソブチルマレイミド残基単位、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルマレイミド残基単位、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルマレイミド残基単位、Ｎ−シクロプロピルマレイミド残基単位、Ｎ−シクロブチルマレイミド残基単位、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド残基単位、Ｎ−フェニルマレイミド残基単位、Ｎ−２−メチルフェニルマレイミド残基単位等が挙げられる。これらの中でも、高い面外位相差を発現するため、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド残基単位、Ｎ−フェニルマレイミド残基単位が好ましい。

本発明において、一般式（２）におけるＲ_２は炭素数１〜６の直鎖状または分岐状のアルキル基を示し、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプピル基、ヘキシル基等が挙げられ、ｎは０〜５の整数である。

また、本発明の一般式（２）におけるＲ_３は、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基を示し、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基等が挙げられ、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソアミル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基等が挙げられ、炭素数３〜６の環状アルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。これらの中でも、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体のフィルムが高い強度を示すことから、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソアミル基、ｎ−へキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルへキシル基が好ましい。

そして、具体的な一般式（２）で表されるケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、ケイ皮酸メチル残基単位、ケイ皮酸エチル残基単位、ケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、ケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、ケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、ケイ皮酸イソアミル残基単位、ケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、ケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、ケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、ケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、ケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、メトキシケイ皮酸エステル残基単位、エトキシケイ皮酸エステル残基単位等が挙げられる。メトキシケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、２−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、２−メトキシケイ皮酸エチル残基単位、２−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２−メトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２−メトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、２−メトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、２−メトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、２−メトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、２−メトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、２−メトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、２−メトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、３−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、３−メトキシケイ皮酸エチル残基単位、３−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３−メトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、３−メトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、３−メトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、３−メトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、３−メトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、３−メトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、３−メトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、３−メトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、４−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸エチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、４−メトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、４−メトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、４−メトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、４−メトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３−ジメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３−ジメトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３−ジメトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、２，３−ジメトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、２，３−ジメトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、２，３−ジメトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、２，３−ジメトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、２，３−ジメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、２，３−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，４−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，４−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，４−ジメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，４−ジメトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，４−ジメトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、２，４−ジメトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、２，４−ジメトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、２，４−ジメトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、２，４−ジメトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、２，４−ジメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、２，４−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，５−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，５−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，５−ジメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，５−ジメトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，５−ジメトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、２，５−ジメトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、２，５−ジメトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、２，５−ジメトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、２，５−ジメトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、２，５−ジメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、２，５−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，６−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，６−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，６−ジメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，６−ジメトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，６−ジメトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、２，６−ジメトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、２，６−ジメトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、２，６−ジメトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、２，６−ジメトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、２，６−ジメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、２，６−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、３，４−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、３，４−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、３，４−ジメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，４−ジメトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、３，４−ジメトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、３，４−ジメトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、３，４−ジメトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、３，４−ジメトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、３，４−ジメトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、３，４−ジメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、３，４−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、３，５−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、３，５−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、３，５−ジメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，５−ジメトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、３，５−ジメトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、３，５−ジメトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、３，５−ジメトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、３，５−ジメトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、３，５−ジメトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、３，５−ジメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、３，５−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，４−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，４−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，４−トリメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，４−トリメトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，４−トリメトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、２，３，４−トリメトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、２，３，４−トリメトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、２，３，４−トリメトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、２，３，４−トリメトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、２，３，４−トリメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、２，３，４−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，５−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，５−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，５−トリメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，５−トリメトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，５−トリメトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、２，３，５−トリメトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、２，３，５−トリメトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、２，３，５−トリメトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、２，３，５−トリメトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、２，３，５−トリメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、２，３，５−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，６−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，６−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，６−トリメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，６−トリメトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，６−トリメトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、２，３，６−トリメトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、２，３，６−トリメトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、２，３，６−トリメトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、２，３，６−トリメトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、２，３，６−トリメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、２，３，６−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，４，５−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，４，５−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，４，５−トリメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，４，５−トリメトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，４，５−トリメトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、２，４，５−トリメトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、２，４，５−トリメトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、２，４，５−トリメトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、２，４，５−トリメトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、２，４，５−トリメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、２，４，５−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，４，６−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，４，６−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，４，６−トリメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，４，６−トリメトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，４，６−トリメトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、２，４，６−トリメトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、２，４，６−トリメトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、２，４，６−トリメトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、２，４，６−トリメトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、２，４，６−トリメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、２，４，６−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、３，４，５−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、３，４，５−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、３，４，５−トリメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，４，５−トリメトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、３，４，５−トリメトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、３，４，５−トリメトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、３，４，５−トリメトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、３，４，５−トリメトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、３，４，５−トリメトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、３，４，５−トリメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、３，４，５−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，４，５−テトラメトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，４，５−テトラメトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，４，５−テトラメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，４，５−テトラメトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，４，５−テトラメトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、２，３，４，５−テトラメトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、２，３，４，５−テトラメトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、２，３，４，５−テトラメトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、２，３，４，５−テトラメトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、２，３，４，５−テトラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、２，３，４，５−テトラメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，４，６−テトラメトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，４，６−テトラメトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，４，６−テトラメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，４，６−テトラメトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，４，６−テトラメトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、２，３，４，６−テトラメトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、２，３，４，６−テトラメトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、２，３，４，６−テトラメトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、２，３，４，６−テトラメトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、２，３，４，６−テトラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、２，３，４，６−テトラメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，５，６−テトラメトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，５，６−テトラメトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，５，６−テトラメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，５，６−テトラメトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，５，６−テトラメトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、２，３，５，６−テトラメトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、２，３，５，６−テトラメトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、
２，３，５，６−テトラメトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、２，３，５，６−テトラメトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、２，３，５，６−テトラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、２，３，５，６−テトラメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸メチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸エチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位が挙げられ、エトキシケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、２−エトキシケイ皮酸メチル残基単位、２−エトキシケイ皮酸エチル残基単位、２−エトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２−エトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２−エトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、２−エトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、２−エトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、２−エトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、２−エトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、２−エトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、２−エトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、３−エトキシケイ皮酸メチル残基単位、３−エトキシケイ皮酸エチル残基単位、３−エトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３−エトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、３−エトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、３−エトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、３−エトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、３−エトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、３−エトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、３−エトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、３−エトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、４−エトキシケイ皮酸メチル残基単位、４−エトキシケイ皮酸エチル残基単位、４−エトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、４−エトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、４−エトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、４−エトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、４−エトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、４−エトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、４−エトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、４−エトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、４−エトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３−ジエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３−ジエトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３−ジエトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、２，３−ジエトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、２，３−ジエトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、２，３−ジエトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、２，３−ジエトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、２，３−ジエトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、２，３−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，４−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，４−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，４−ジエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，４−ジエトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，４−ジエトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、２，４−ジエトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、２，４−ジエトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、２，４−ジエトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、２，４−ジエトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、２，４−ジエトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、２，４−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，５−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，５−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，５−ジエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，５−ジエトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，５−ジエトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、２，５−ジエトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、２，５−ジエトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、２，５−ジエトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、２，５−ジエトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、２，５−ジエトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、２，５−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，６−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，６−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，６−ジエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，６−ジエトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，６−ジエトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、２，６−ジエトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、２，６−ジエトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、２，６−ジエトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、２，６−ジエトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、２，６−ジエトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、２，６−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、３，４−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、３，４−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、３，４−ジエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，４−ジエトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、３，４−ジエトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、３，４−ジエトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、３，４−ジエトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、３，４−ジエトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、３，４−ジエトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、３，４−ジエトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、３，４−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、３，５−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、３，５−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、３，５−ジエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，５−ジエトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、３，５−ジエトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、３，５−ジエトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、３，５−ジエトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、３，５−ジエトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、３，５−ジエトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、３，５−ジエトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、３，５−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，４−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，４−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，４−トリエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，４−トリエトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，４−トリエトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、２，３，４−トリエトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、２，３，４−トリエトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、２，３，４−トリエトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、２，３，４−トリエトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、２，３，４−トリエトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、２，３，４−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，５−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，５−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，５−トリエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，５−トリエトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，５−トリエトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、２，３，５−トリエトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、２，３，５−トリエトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、２，３，５−トリエトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、２，３，５−トリエトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、２，３，５−トリエトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、２，３，５−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，６−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，６−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，６−トリエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，６−トリエトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，６−トリエトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、２，３，６−トリエトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、２，３，６−トリエトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、２，３，６−トリエトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、２，３，６−トリエトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、２，３，６−トリエトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、２，３，６−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，４，５−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，４，５−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，４，５−トリエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，４，５−トリエトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，４，５−トリエトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、２，４，５−トリエトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、２，４，５−トリエトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、２，４，５−トリエトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、２，４，５−トリエトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、２，４，５−トリエトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、２，４，５−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，４，６−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，４，６−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，４，６−トリエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，４，６−トリエトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，４，６−トリエトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、２，４，６−トリエトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、２，４，６−トリエトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、２，４，６−トリエトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、２，４，６−トリエトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、２，４，６−トリエトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、２，４，６−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、３，４，５−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、３，４，５−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、３，４，５−トリエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，４，５−トリエトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、３，４，５−トリエトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、３，４，５−トリエトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、３，４，５−トリエトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、３，４，５−トリエトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、３，４，５−トリエトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、３，４，５−トリエトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、３，４，５−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，４，５−テトラエトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，４，５−テトラエトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，４，５−テトラエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，４，５−テトラエトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，４，５−テトラエトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、２，３，４，５−テトラエトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、２，３，４，５−テトラエトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、２，３，４，５−テトラエトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、２，３，４，５−テトラエトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、２，３，４，５−テトラエトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、２，３，４，５−テトラエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，４，６−テトラエトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，４，６−テトラエトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，４，６−テトラエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，４，６−テトラエトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，４，６−テトラエトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、２，３，４，６−テトラエトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、２，３，４，６−テトラエトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、２，３，４，６−テトラエトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、２，３，４，６−テトラエトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、２，３，４，６−テトラエトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、２，３，４，６−テトラエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，５，６−テトラエトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，５，６−テトラエトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，５，６−テトラエトキシケイ皮酸ｎ−プロピ
ル残基単位、２，３，５，６−テトラエトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，５，６−テトラエトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、２，３，５，６−テトラエトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、２，３，５，６−テトラエトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、２，３，５，６−テトラエトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、２，３，５，６−テトラエトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、２，３，５，６−テトラエトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、２，３，５，６−テトラエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸メチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸エチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位等が挙げられる。これらの中でも、高い強度を示すフィルムが得られることから、ケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、ケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、ケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、ケイ皮酸イソアミル残基単位、ケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、ケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、ケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、ケイ皮酸２−エチルへキシル残基単位、４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、４−メトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、４−メトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、４−メトキシケイ皮酸２−エチルへキシル残基単位が好ましい。

本発明におけるｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体は、ｔｒａｎｓ−スチルベン残基単位、一般式（１）で表されるＮ−置換マレイミド残基単位及び一般式（２）で表されるケイ皮酸エステル残基単位を含む限り特に制限はないが、薄膜とした際に位相差に優れるフィルムがより容易に得られることから、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−フェニルマレイミド−ケイ皮酸ｎ−プロピル共重合体、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−フェニルマレイミド−ケイ皮酸ｎ−ブチル共重合体、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−フェニルマレイミド−ケイ皮酸ｎ−ペンチル共重合体、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−フェニルマレイミド−ケイ皮酸イソアミル共重合体、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−フェニルマレイミド−ケイ皮酸ｎ−へキシル共重合体、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−フェニルマレイミド−ケイ皮酸ｎ−ヘプチル共重合体、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−フェニルマレイミド−ケイ皮酸ｎ−オクチル共重合体、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−フェニルマレイミド−ケイ皮酸２−エチルヘキシル共重合体、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−フェニルマレイミド−４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル共重合体、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−フェニルマレイミド−４−メトキシケイ皮酸ｎ−ブチル共重合体、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−フェニルマレイミド−４−メトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル共重合体、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−フェニルマレイミド−４−メトキシケイ皮酸イソアミル共重合体、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−フェニルマレイミド−４−メトキシケイ皮酸ｎ−へキシル共重合体、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−フェニルマレイミド−４−メトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル共重合体、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−フェニルマレイミド−４−メトキシケイ皮酸ｎ−オクチル共重合体、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−フェニルマレイミド−４−メトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル共重合体、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−シクロヘキシルマレイミド−ケイ皮酸ｎ−プロピル共重合体、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−シクロヘキシルマレイミド−ケイ皮酸ｎ−ブチル共重合体、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−シクロヘキシルマレイミド−ケイ皮酸ｎ−ペンチル共重合体、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−シクロヘキシルマレイミド−ケイ皮酸イソアミル共重合体、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−シクロヘキシルマレイミド−ケイ皮酸ｎ−へキシル共重合体、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−シクロヘキシルマレイミド−ケイ皮酸ｎ−ヘプチル共重合体、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−シクロヘキシルマレイミド−ケイ皮酸ｎ−オクチル共重合体、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−シクロヘキシルマレイミド−ケイ皮酸２−エチルヘキシル共重合体、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−シクロヘキシルマレイミド−４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル共重合体、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−シクロヘキシルマレイミド−４−メトキシケイ皮酸ｎ−ブチル共重合体、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−シクロヘキシルマレイミド−４−メトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル共重合体、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−シクロヘキシルマレイミド−４−メトキシケイ皮酸イソアミル共重合体、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−シクロヘキシルマレイミド−４−メトキシケイ皮酸ｎ−へキシル共重合体、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−シクロヘキシルマレイミド−４−メトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル共重合体、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−シクロヘキシルマレイミド−４−メトキシケイ皮酸ｎ−オクチル共重合体、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−シクロヘキシルマレイミド−４−メトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル共重合体が好ましい。

該ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体は、本発明の範囲を超えない限り、他の単量体残基単位を含有していてもよく、他の単量体残基単位としては、例えば、スチレン残基単位、α−メチルスチレン残基単位等のスチレン類残基単位；（メタ）アクリル酸残基単位；（メタ）アクリル酸メチル残基単位、（メタ）アクリル酸エチル残基単位、（メタ）アクリル酸ブチル残基単位等の（メタ）アクリル酸エステル残基単位；酢酸ビニル残基単位、プロピオン酸ビニル残基単位等のビニルエステル類残基単位；アクリロニトリル残基単位；メタクリロニトリル残基単位；メチルビニルエーテル残基単位、エチルビニルエーテル残基単位、ブチルビニルエーテル残基単位等のビニルエーテル類残基単位；エチレン残基単位、プロピレン残基単位等のオレフィン類残基単位；フマル酸ジｎ−ブチル残基単位、フマル酸ビス（２−エチルヘキシル）残基単位等のフマル酸ジエステル類残基単位より選ばれる１種又は２種以上を挙げることができる。

本発明のｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体の組成は、位相差フィルムとしたときの位相差特性や強度が優れたものとなることから、ｔｒａｎｓ−スチルベン残基単位１０〜５０モル％、Ｎ−置換マレイミド残基単位４０〜７０モル％及びケイ皮酸エステル１〜４０モル％が好ましく、ｔｒａｎｓ−スチルベン残基単位２０〜４５モル％、Ｎ−置換マレイミド残基単位４５〜６５モル％及びケイ皮酸エステル５〜３０モル％がさらに好ましい。

本発明のｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体は、機械特性、フィルムとした際の強度、靭性に優れたものとなることから、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量が３００００以上であることが好ましく、５００００〜５０００００であることがさらに好ましい。

本発明のｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体の製造方法としては、該ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体が得られる限りにおいて如何なる方法でもよく、例えば、ｔｒａｎｓ−スチルベン、Ｎ−置換マレイミド及びケイ皮酸エステルのラジカル重合を行うことにより製造することができる。

前記ラジカル重合は公知の重合方法、例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法のいずれも採用可能である。

ラジカル重合を行う際の重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート等の有機過酸化物；２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−ブチロニトリル）、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル−２，２’−アゾビスイソブチレート、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）等のアゾ系開始剤などが挙げられる。

そして、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法において使用可能な溶媒として特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族溶媒；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール系溶媒；シクロヘキサン；ジオキサン；テトラヒドロフラン；アセトン；メチルエチルケトン；ジメチルホルムアミド；酢酸イソプロピル；水などが挙げられ、これらの混合溶媒も挙げられる。

また、ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、一般的には３０〜１５０℃の範囲で行うことが好ましい。

本発明のｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体を光学フィルムとして用いる場合、薄膜においても高い面外位相差を有し光学特性に優れることから、位相差フィルムとすることが好ましい。

本発明のｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体を用いた位相差フィルムは、フィルム面内の進相軸方向の屈折率をｎｘ、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をｎｙ、フィルムの厚み方向の屈折率をｎｚとした場合のそれぞれの関係がｎｘ≒ｎｙ＜ｎｚであることを特徴とする位相差フィルムであり、前記ｎｘ≒ｎｙ＜ｎｚを満たすことによりＳＴＮ−ＬＣＤ、ＩＰＳ−ＬＣＤ、反射型ＬＣＤや半透過型ＬＣＤ等の視野角補償性能に優れた位相差フィルムとなるものである。なお、一般的にフィルムの３次元屈折率の制御はフィルムの延伸などによって行われるため製造工程や品質の管理が複雑になるが、該位相差フィルムは未延伸でフィルム厚み方向の屈折率が高いという特異な挙動を示すことを見出している。

本発明のｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体を用いた位相差フィルムの製造方法としては、特に制限はなく、例えば、溶液キャスト法、溶融キャスト法等の方法により製造することができる。

溶液キャスト法は、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体を溶媒に溶解した溶液（以下、ドープと称する。）を支持基板上に流延した後、加熱等により溶媒を除去してフィルムを得る方法である。その際ドープを支持基板上に流延する方法としては、例えば、Ｔダイ法、ドクターブレード法、バーコーター法、ロールコーター法、リップコーター法等が用いられる。特に、工業的にはダイからドープをベルト状又はドラム状の支持基板に連続的に押し出す方法が一般的である。用いられる支持基板としては、例えば、ガラス基板、ステンレスやフェロタイプ等の金属基板、ポリエチレンテレフタレート等のフィルムなどがある。溶液キャスト法において、高い透明性を有し、かつ厚み精度、表面平滑性に優れたフィルムを製膜する際には、ドープの溶液粘度は極めて重要な因子であり、１０〜２００００ｃＰｓが好ましく、１００〜１００００ｃＰｓであることがさらに好ましい。

この際のｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体の塗布厚は、優れた表面平滑性、光学特性が得られることから、乾燥後１〜２００μｍが好ましく、さらに好ましくは５〜１００μｍ、特に好ましくは１０〜５０μｍである。

また、溶融キャスト法は、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体を押出機内で溶融し、Ｔダイのスリットからフィルム状に押出した後、ロールやエアーなどで冷却しつつ引き取る成形法である。

本発明のｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体を用いた位相差フィルムは、基材のガラス基板や他の光学フィルムから剥離して用いることが可能であり、基材のガラス基板や他の光学フィルムとの積層体としても用いることができる。

また、本発明のｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体を用いた位相差フィルムは、偏光板と積層して円または楕円偏光板として用いることが可能であり、ポリビニルアルコール／ヨウ素等を含む偏光子と積層して偏光板とすることも可能である。さらに、該位相差フィルム同士又は他の位相差フィルムと積層することもできる。

本発明のｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体を用いた位相差フィルムは、フィルム成形時又は位相差フィルム自体の熱安定性を高めるために酸化防止剤が配合されていることが好ましい。該酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、その他酸化防止剤が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独又は併用して用いても良い。そして、相乗的に酸化防止作用が向上することから、ヒンダード系酸化防止剤とリン系酸化防止剤を併用して用いることが好ましく、その際には、ヒンダード系酸化防止剤１００重量部に対して、リン系酸化防止剤を１００〜５００重量部で混合して使用することがさらに好ましい。また、酸化防止剤の添加量としては、高い酸化防止効果が得られることから、該位相差フィルムを構成するｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体１００重量部に対して、０．０１〜１０重量部が好ましく、０．５〜１重量部がさらに好ましい。

また、紫外線吸収剤として、例えば、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエート等を必要に応じて配合してもよい。

本発明のｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体を用いた位相差フィルムは、発明の主旨を超えない範囲で、その他高分子、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、無機フィラー、顔料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等が配合されていてもよい。

本発明によると、液晶ディスプレイのコントラストや視野角特性の補償フィルムや反射防止フィルムとして有用となるフィルムの厚み方向の屈折率が大きく、面内位相差が大きく、波長依存性が小さい等の光学特性に優れた位相差フィルムに適したｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体を提供することができる。

本発明のｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体は、薄膜においても高い面外位相差を有し、フィルムの厚み方向の屈折率が大きい等の光学特性に優れる位相差フィルムに適したｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体であり、特に液晶表示素子用の光学補償フィルム用として適したものである。

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

なお、実施例により示す諸物性は、以下の方法により測定した。

＜ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体の組成＞
核磁気共鳴測定装置（日本電子製、商品名ＪＮＭ−ＧＸ２７０）を用い、プロトン核磁気共鳴分光（^１Ｈ−ＮＭＲ）スペクトル分析より求めた。

＜数平均分子量の測定＞
ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（東ソー製、商品名Ｃ０−８０１１（カラムＧＭＨ_ＨＲ―Ｈを装着））を用い、テトラヒドロフランを溶媒として、４０℃で測定し、標準ポリスチレン換算値として求めた。

＜フィルムの三次元屈折率の測定＞
全自動複屈折計（王子計測機器製、商品名ＫＯＢＲＡ−ＷＲ）を用いて測定した。

実施例１
容量１００ｍｌのガラスアンプルにｔｒａｎｓ−スチルベン７．５ｇ（０．０４モル）、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド１０ｇ（０．０６モル）、ケイ皮酸イソアミル３ｇ（０．０１モル）、重合溶媒としてトルエン３０ｍｌおよび重合開始剤であるｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート０．１２ｇ（０．０００７モル）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、１０時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、１リットルのメタノール中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体１６ｇを得た。

得られたｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体の数平均分子量は７２０００であり、^１Ｈ−ＮＭＲ測定により、共重合体組成はｔｒａｎｓ−スチルベン残基単位／Ｎ−置換マレイミド残基単位／ケイ皮酸エステル残基単位＝３８／５５／７（モル％）であることを確認した。

得られたｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体をトルエンに溶解し、溶液をコーターによりガラス基板上に流延し、１１０℃で１０分乾燥することにより良好なフィルムが得られた。得られたフィルムの三次元屈折率の測定をおこなったところ、ｎｘ＝１．５８９、ｎｙ＝１．５８９、ｎｚ＝１．５９７であり、ｎｘ≒ｎｙ＜ｎｚであった。

実施例２
容量１００ｍｌのガラスアンプルにｔｒａｎｓ−スチルベン７．５ｇ（０．０４モル）、Ｎ−フェニルマレイミド１０ｇ（０．０６モル）、４−メトキシケイ皮酸２−イソアミル３ｇ（０．０１モル％）、重合溶媒としてトルエン３０ｍｌおよび重合開始剤であるｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート０．１２ｇ（０．０００７モル）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、１０時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、２リットルのメタノール中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体１０．６ｇを得た。

得られたｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体の数平均分子量は５６０００であり、^１Ｈ−ＮＭＲ測定により、共重合体組成はｔｒａｎｓ−スチルベン残基単位／Ｎ−置換マレイミド残基単位／ケイ皮酸エステル残基単位＝３７／５３／１０（モル％）であることを確認した。

得られたｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体をトルエンに溶解し、溶液をコーターによりガラス基板上に流延し、１１０℃で１０分乾燥することにより良好なフィルムが得られた。得られたフィルムの三次元屈折率の測定をおこなったところ、ｎｘ＝１．６２７、ｎｙ＝１．６２７、ｎｚ＝１．６３４であり、ｎｘ≒ｎｙ＜ｎｚであった。

実施例３
容量１００ｍｌのガラスアンプルにｔｒａｎｓ−スチルベン５ｇ（０．０３モル）、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド１０ｇ（０．０６モル）、ケイ皮酸２−エチルヘキシル８ｇ（０．０２モル）、重合溶媒としてトルエン３０ｍｌおよび重合開始剤であるｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート０．１２ｇ（０．０００７モル）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、１０時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、２リットルのメタノール中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体１８ｇを得た。

得られたｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体の数平均分子量は８３０００であり、^１Ｈ−ＮＭＲ測定により、共重合体組成はｔｒａｎｓ−スチルベン残基単位／Ｎ−置換マレイミド残基単位／ケイ皮酸エステル残基単位＝２４／５５／２１（モル％）であることを確認した。

得られたｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体をトルエンに溶解し、溶液をコーターによりガラス基板上に流延し、１１０℃で１０分乾燥することにより良好なフィルムが得られた。得られたフィルムの三次元屈折率の測定をおこなったところ、ｎｘ＝１．５２３、ｎｙ＝１．５２３、ｎｚ＝１．５７９であり、ｎｘ≒ｎｙ＜ｎｚであった。

比較例１
容量１００ｍｌのガラスアンプルにｔｒａｎｓ−スチルベン１０ｇ（０．０６モル）、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド１０ｇ（０．０６モル）、重合溶媒としてトルエン３０ｍｌおよび重合開始剤であるｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート０．１２ｇ（０．０００７モル）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、１０時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、２リットルのメタノール中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド共重合体１５ｇを得た。

得られたｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド共重合体の数平均分子量は１１６０００であり、^１Ｈ−ＮＭＲ測定により、共重合体組成はｔｒａｎｓ−スチルベン残基単位／Ｎ−置換マレイミド残基単位＝４７／５３（モル％）であることを確認した。

得られたｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド共重合体をトルエンに溶解し、溶液をコーターによりガラス基板上に流延し、１１０℃で１０分乾燥することによりガラス基板上にフィルムを作製した。得られたフィルムはクラックが発生しており、位相差フィルム材料に適さないものであった。

比較例２
容量１００ｍｌのガラスアンプルにｔｒａｎｓ−スチルベン１０ｇ（０．０６モル）、Ｎ−フェニルマレイミド１０ｇ（０．０６モル）、重合溶媒としてトルエン３０ｍｌおよび重合開始剤であるｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート０．１２ｇ（０．０００７モル）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、１０時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、２リットルのメタノール中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド共重合体１３ｇを得た。

得られたｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド共重合体の数平均分子量は９４０００であり、^１Ｈ−ＮＭＲ測定により、共重合体組成はスチルベン残基単位／Ｎ−置換マレイミド残基単位＝４９／５１（モル％）であることを確認した。

得られたｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド共重合体をクロロホルムに溶解し、溶液をコーターによりガラス基板上に流延し、１１０℃で１０分乾燥することによりガラス基板上にフィルムを作製した。得られたフィルムはクラックが発生しており、位相差フィルム材料に適さないものであった。

本発明は、新規なｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体を提供するものであり、該ｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体はフィルム、特に位相差フィルム等としての利用が期待されるものである。

Claims (5)

1. ｔｒａｎｓ−スチルベン残基単位、一般式（１）で表されるＮ−置換−マレイミド残基単位及び一般式（２）で表されるケイ皮酸エステル残基単位を含むことを特徴とするｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体。
   

   

   （ここで、Ｒ_１は炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基もしくは分岐状アルキル基、炭素数３〜６の環状アルキル基、または芳香族環を示す。）
   

   

   （ここで、Ｒ_２は炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基または分岐状アルキル基を示し、Ｒ_３は炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基を示し、ｎは０〜５の整数を示す。）
2. ｔｒａｎｓ−スチルベン残基単位１０〜５０モル％、一般式（１）で表されるＮ−置換−マレイミド残基単位４０〜７０モル％及び一般式（２）で表されるケイ皮酸エステル残基単位１〜４０モル％を含むことを特徴とする請求項１に記載のｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体。
3. 標準ポリスチレン換算の数平均分子量が３００００〜５０００００であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体。
4. 請求項１〜請求項３のいずれかに記載のｔｒａｎｓ−スチルベン−Ｎ−置換マレイミド−ケイ皮酸エステル共重合体を用いたことを特徴とする位相差フィルム。
5. フィルム面内の進相軸方向の屈折率をｎｘ、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をｎｙ、フィルムの厚み方向の屈折率をｎｚとした場合のそれぞれの関係がｎｘ≒ｎｙ＜ｎｚであることを特徴とする請求項４に記載の位相差フィルム。