JP2016092368A - 基板液処理装置の洗浄方法、記憶媒体及び基板液処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
また、本発明の他の実施形態によれば、基板液処理装置の動作を制御するためのコンピュータにより実行されたときに、前記コンピュータが前記基板液処理装置を制御して上記の基板液処理装置の洗浄方法を実行させるプログラムが記録された記憶媒体が提供される。
812 処理液供給ライン
813、814,815 処理液供給部
816 ドレンライン
816a ドレンラインの開閉弁
900 液溜め(液受け皿)
Claims (12)
- 基板に向けて処理液を吐出するノズルに接続されて前記ノズルに処理液を供給する処理液供給ラインを洗浄する基板液処理装置の洗浄方法において、
処理液供給ラインを洗浄するための前記処理液と異なる洗浄液を、前記処理液供給ラインを通して流すことと、前記処理液供給ラインを通して流した前記処理液を前記基板に供給しないことにより、前記処理液供給ラインを洗浄する洗浄方法。 - 前記処理液が有機系液体及び無機系液体のうちの一方であり、前記洗浄液が他方である、請求項1記載の基板液処理装置の洗浄方法。
- 前記洗浄液を前記ノズル及び前記処理液供給ラインを通して流すことは、液溜めに貯留された洗浄液に前記ノズルの吐出口を浸漬した状態で、前記液溜めに貯留された洗浄液を前記吐出口を介して前記処理液供給ライン内に吸引することと、前記処理液供給ラインに設けられた排液部から吸引した洗浄液を前記処理液供給ライン外に排出することにより行われる、請求項1または2記載の基板液処理装置の洗浄方法。
- 前記排液部は、前記処理液供給ラインから分岐するドレンラインと、前記ドレンラインに介設された開閉弁とを有し、前記ドレンラインの開閉弁は前記ノズルの吐出口よりも低い位置に配置され、前記処理液供給ラインへの洗浄液の吸引は、前記ノズルの吐出口と前記ドレンラインの開閉弁との間を液体で満たすことと、前記ドレンラインの開閉弁を開いて前記ドレンラインを大気開放することにより行われる、請求項3記載の基板液処理装置の洗浄方法。
- 前記処理液供給ラインへの処理液の吸引は、前記排液部を減圧吸引することにより行われる、請求項3記載の基板液処理装置の洗浄方法。
- 前記洗浄液を前記ノズル及び前記処理液供給ラインを通して流すことは、前記処理液供給ラインに設けられた洗浄液供給部から洗浄液を前記処理液供給ラインに供給することと、この洗浄液を前記ノズルの吐出口から吐出することにより行われる、請求項1または2記載の基板液処理装置の洗浄方法。
- 基板液処理装置の動作を制御するためのコンピュータにより実行されたときに、前記コンピュータが前記基板液処理装置を制御して請求項1から6のうちのいずれか一項に記載の基板液処理装置の洗浄方法を実行させるプログラムが記録された記憶媒体。
- 基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部により保持された基板に処理液を吐出するノズルと、
前記ノズルに前記処理液を供給する処理液供給ラインと、
基板を処理するための前記処理液を前記処理液供給ラインに供給する処理液供給部と、
前記処理液供給ラインを洗浄する洗浄液を、前記処理液供給ラインに供給する洗浄液供給部と、
を備え、
前記洗浄液は、前記処理液とは異なり、かつ前記ノズルから基板に供給されないことを特徴とする基板液処理装置。 - 前記処理液供給ラインに接続されたドレンラインと、
前記ドレンラインに介設された開閉弁と、
前記ノズルを保持するとともに、前記ノズルを基板の上方の処理位置と基板の外方の待機位置との間で移動させるノズルアームと、
前記待機位置にある前記ノズルの下方に設けられた液溜めと、をさらに備え、
前記液溜めは前記洗浄液供給部の少なくとも一部を構成し、前記液溜めに貯留された洗浄液により前記処理液供給ラインが洗浄される、請求項8記載の基板液処理装置。 - 前記基板液処理装置の動作を制御する制御装置をさらに備え、
前記制御装置は、前記処理液供給ラインを洗浄する際に、液溜めに洗浄液を貯留することと、液溜めに貯留された洗浄液に前記ノズルの吐出口を浸漬した状態で、前記液溜めに貯留された洗浄液を前記吐出口を介して前記処理液供給ライン内に吸引することと、前記処理液供給ラインに設けられた排液部から吸引した洗浄液を前記処理液供給ライン外に排出することが実行されるように、前記基板液処理装置を制御し、請求項9記載の基板液処理装置。 - 前記ノズルアームに設けられて前記液溜めに洗浄液を供給する別のノズルをさらに備え、当該別のノズルが前記洗浄液供給部の少なくとも一部を構成する、請求項9または10記載の基板液処理装置。
- 前記処理液供給部は、前記処理液供給ラインに接続されて前記処理液供給ラインに処理液を供給する処理液供給機構を含み、
前記基板液処理装置は、前記基板液処理装置の動作を制御する制御装置をさらに備え、前記制御装置は、前記処理液供給ラインを洗浄する際に、前記処理液供給部と前記処理液供給ラインとを遮断した状態で、前記洗浄液供給部から前記処理液供給ラインに前記洗浄液を供給し、前記ノズルから吐出させる、請求項8記載の基板液処理装置。
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